JP3654785B2 - 積層セラミックコンデンサの製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、内部電極を有するセラミック焼結体を用いた積層セラミックコンデンサの製造方法に関し、より詳細には、内部電極をセラミック焼結体外表面に露出させる研磨工程が改良された積層セラミックコンデンサの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
積層コンデンサのように内部電極を有するセラミック電子部品の製造に際しては、最終的に内部電極が外部電極と確実に電気的に接続されることが必要である。ところで、セラミック焼結体を得るにあたっては、通常、内部電極を介して未焼成のセラミックスを積層してなる未焼成のセラミック積層体を得、該未焼成のセラミック積層体を焼成する。ところが、このようにして得られたセラミック焼結体では、内部電極とセラミックスの焼成に際しての収縮率の違いにより、内部電極がセラミック焼結体外表面に露出しないことがある。これを、図１０及び図１１に示す。
【０００３】
図１０は、積層コンデンサに用いられるセラミック焼結体を示す縦断面図である。セラミック焼結体５１内には、複数の内部電極５２ａ〜５２ｆが形成されている。この積層コンデンサでは、セラミック焼結体５１の端面５１ａ，５１ｂに、後工程において外部電極が形成される。従って、内部電極５２ａ，５２ｃ，５２ｅが確実に端面５１ａに露出しており、さらに内部電極５２ｂ，５２ｄ，５２ｆが端面５１ｂに確実に露出していることが必要である。
【０００４】
ところが、セラミック焼結体５１を得た場合、前述したようにセラミックスと内部電極材料との収縮率との違いにより、図１０の円Ａで示す部分を拡大して示す図１１から明らかなように、内部電極５２ａが端面５１ａから後退していることが多い。すなわち、内部電極５２ａ〜５２ｆは、焼成後に端面５１ａまたは５１ｂから後退し、端面５１ａ，５１ｂに露出されないことが多い。
【０００５】
そこで、従来、上記のようなセラミック焼結体５１を得た後に、内部電極５２ａ〜５２ｆを露出させるために、湿式研磨を用いて、セラミック焼結体５１を研磨していた。すなわち、バレル内に、多数のセラミック焼結体５１と、研磨剤と、水とを投入し、バレルを回転させることにより、セラミック焼結体５１を研磨し、内部電極５２ａ〜５２ｆの端面５１ａまたは端面５１ｂへの露出が図られていた。
【０００６】
上記のように水を用いた湿式バレル研磨を用いるのは、セラミック焼結体５１同士が衝突したり、研磨剤とセラミック焼結体５１の衝突によりセラミック焼結体５１の割れが生じることを防止するためである。すなわち、衝撃力を低めるために緩衝材として水が投入されていた。
【０００７】
他方、上記湿式バレル研磨の他に、サンドブラスト法によりセラミック焼結体５１の端面５１ａ，５１ｂを研磨する方法も用いられていた。サンドブラスト法では、多数のホルダー穴が整列されたホルダーにセラミック焼結体５１を保持させ、端面５１ａまたは５１ｂを露出させた状態で、端面５１ａ，５１ｂがサンドブラストされていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上述した湿式バレル研磨では、セラミック焼結体５１の端面５１ａ，５１ｂに内部電極５２ａ〜５２ｆが確実に露出されるものの、水を緩衝材として用いるため、セラミック焼結体５１内に水が侵入するという問題があった。すなわち、内部電極５２ａ〜５２ｆとセラミックスとの界面を通じて緩衝材としての水が侵入しがちであった。この水はセラミック焼結体５１から抜け難く、後で行われる外部電極焼成時に反応し、セラミックスと内部電極５２ａ〜５２ｆとの界面における剥離を促すという問題があった。
【０００９】
すなわち、従来の水を用いた湿式バレル研磨では、最終的に得られた積層コンデンサにおけるデラミネーションと称されている層間剥離現象が生じ易く、絶縁抵抗が低下し、良品率が低下するという問題があった。
【００１０】
他方、上述したサンドブラスト法を用いた場合には、セラミック焼結体の端面５１ａ，５１ｂに直接研磨剤を吐出して研磨を行うものであるため、水を必要としない。しかしながら、整列ホルダーに多数のセラミック焼結体を保持させるという煩雑な作業が必要であり、多くのセラミック焼結体を効率良く処理することができなかった。
【００１１】
本発明の目的は、水を用いない乾式バレル研磨によりセラミック焼結体の端面に内部電極を確実に露出させることができ、従ってデラミネーションや電気的特性の劣化が生じ難く、かつ上記セラミック焼結体の端面の研磨を効率良く行い得る、生産性に優れた積層セラミックコンデンサの製造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、セラミック焼結体内に内部電極が形成されており、セラミック焼結体の外表面に内部電極と電気的に接続される外部電極が形成されている積層セラミックコンデンサの製造方法であって、未焼成のセラミック積層体を得る工程と、該未焼成のセラミック積層体をバレル研磨することにより未焼成の積層体のコーナー部を丸める工程と、次に未焼成のセラミック積層体を焼成して、内部電極を有するセラミック焼結体を得る工程と、前記セラミック焼結体を乾式バレル研磨することにより、内部電極をセラミック焼結体外表面に露出させる工程とを備えることを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法のある特定の局面では、前記乾式バレル研磨に際し、回転軸を中心に回転される回転プレートと、前記回転プレートに連結されており、該回転プレートを回転駆動する第１の駆動源と、回転プレートの回転軸の周りに回転プレートと共に回転するように、かつ回転プレートとは独立にそれ自体が回転し得るように回転プレートに連結されており、セラミック焼結体が内部に収納されるバレルポットと、前記バレルポットに連結されており、該バレルポットを回転駆動する第２の駆動源とを備える乾式遠心バレル装置が用いられ、前記バレルポット内にセラミック焼結体が投入され、前記回転プレート及びバレルポットがそれぞれ回転されて研磨が行われる。
【００１４】
本発明の別の特定の局面では、前記乾式バレル研磨に際し、回転軸を中心として回転し得るように構成されており、かつ開口を有するバレルポットと、前記バレルポットの開口に向かって研磨剤を吐出するブラストノズルと、前記バレルポットに連結されており、該バレルポットを回転駆動する駆動源とを備えるバレル式ブラスト装置が用いられ、バレルポット内に複数のセラミック焼結体が投入され、該バレルポットを回転しつつブラストノズルから研磨剤を吐出することにより、乾式バレル研磨が行われる。
【００１５】
好ましくは上記バレルポットの少なくとも一部は、メッシュまたは多孔性部材により構成される。
【００１６】
上記未焼成のセラミック積層体をバレル研磨により該積層体のコーナー部を丸める工程は、好ましくは、上述した乾式遠心バレル装置を用いて行われる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施例を挙げることにより、本発明をより詳細に説明する。
【００１８】
（第１の実施例）
第１の実施例では、以下のようにして２．０×１．２×１．２ｍｍの寸法を有し、かつ静電容量が１μＦの積層コンデンサが製造される。
【００１９】
先ず、セラミックグリーンシート上に内部電極を印刷し、印刷されたセラミックグリーンシートを複数枚積層し、上下に無地のセラミックグリーンシートを積層し、マザーのセラミック積層体を得る。このマザーのセラミック積層体を厚み方向に加圧した後、厚み方向に切断し、個々の積層コンデンサ単位の未焼成のセラミック積層体を得る。
【００２０】
上記未焼成の積層セラミック積層体を、図１〜図５を参照して説明する遠心バレル研磨装置により研磨し、未焼成のセラミック積層体のコーナー部を丸める。このコーナー部を丸める工程は、主として未焼成セラミック積層体のバリ取りを狙ったもので、例えば焼結後のコーナー部の曲率半径Ｒが７０μｍとなるように行った。
【００２１】
図２は、遠心バレル研磨装置の正面図である。遠心バレル研磨装置１は、一対の回転プレート２，３を有する。図２では前方の回転プレート２のみが図示されている。図１は、前方の回転プレート２を取り去った状態を示す略図的正面図であり、ここでは後方の回転プレート３が図示されている。回転プレート２，３は、回転軸４により連結されている。回転軸４は、図２に略図的に示す回転駆動源Ｍに連結されている。回転駆動源Ｍは、モーターなどの適宜の回転駆動装置により構成されている。
【００２２】
回転プレート２，３は、回転軸４を中心として回転軸４の周りに回転し得るように構成されている。
回転プレート２，３間には、複数のバレルポット５〜８が配置されている。バレルポット５を例にとり、図３及び図４を参照してバレルポット５〜８の構造を説明する。
【００２３】
図４に示すように、バレルポット５は、八角筒状の形状を有する。図４ではハッチングを付して略図的に示されているが、バレルポット５は、多数の貫通孔を有するメッシュにより構成されている。もっとも、メッシュに代えて、多数の貫通孔を有する多孔性部材により構成されていてもよい。また、バレルポット５の全体がメッシュまたは多孔性部材で構成されている必要は必ずしもない。
【００２４】
バレルポット５の両端面５ａ，５ｂには、回転軸５ｃ，５ｄがバレルポット５の長さ方向外側に延びるように取り付けられている。
回転軸５ｃ，５ｄは、同心に配置されている。
【００２５】
他方、図３に示すように、回転プレート２，３に設けられた貫通孔２ａ，３ａに、上記回転軸５ｃ，５ｄが挿通されている。このようにして、バレルポット５が、回転プレート２，３に対して独立に回転し得るように、回転プレート２，３に取り付けられている。他方、回転軸５ｃの外側端には、歯車９が固定されている。歯車９は、図３に略図的に示す回転駆動源１０に連結されている。回転駆動源１０はモーターなどの適宜の回転駆動力を与える駆動装置により構成されており、回転駆動源１０を駆動することにより、歯車９が回転され、ひいてはバレルポット５が回転プレート２，３とは独立に回転される。
【００２６】
他のバレルポット６〜８についても、上記バレルポット５と同様に構成されている。
なお、バレルポット５〜８では、その一部が開閉可能とされており、それによって内部にセラミック積層体を投入し得るように構成されている。本実施例では、バレルポット５の端面５ａ側が筒状本体５ｅに対して開閉し得るように構成されている。
【００２７】
次に、上記バレルポット５〜８内に、前述した未焼成のセラミック積層体を投入し、バレルポットの回転速度を１５０ｒｐｍ、回転プレート２，３の回転速度を１５０ｒｐｍとし、バレルポット５〜８が一周する間に未焼成のセラミック積層体のコーナー部が前述した程度に丸められるようにして、バレル研磨を行った。
【００２８】
この場合、未焼成のセラミック積層体は、回転プレート２，３の回転につれて、図１に示すように、遠心力により各バレルポットの回転プレート２，３の径方向外側の面に押しつけられた状態で移動される。すなわち、図１の斜線のハッチングを付して示すＸから明らかなように、回転プレート３が矢印Ｙ方向に回転している間、投入されている研磨対象物であるセラミック積層体はバレルポット５〜８において回転プレート２，３の径方向外側の面に押しつけられた状態で移動する。そして、回転プレート２，３が一周する間に、バレルポット５〜８は、それ自体が矢印Ｚで示す方向、すなわち回転プレート２と同じ方向に１回転するように自転する。従って、矢印Ｘで示すセラミック積層体集合体は、各バレルポット５〜８の内面を一周することになり、それによって上記研磨が行われる。
【００２９】
次に、上記のようにしてコーナー部が丸められたセラミック積層体を焼成し、セラミック焼結体を得た。上記のようにして得られたセラミック焼結体について、再度上記遠心バレル研磨装置１を用い、セラミック焼結体を研磨した。この場合、バレルポット５〜８内に、セラミック焼結体を投入し、回転プレート２，３の回転速度については、１５０ｒｐｍとし、バレルポット５〜８の回転速度については１／６０ｒｐｍとし、６０分間研磨した。すなわち、６０分間の研磨時間において回転プレート２，３は１回転し、かつバレルポット５〜８は、その間に１回転する。この場合も、回転プレート３が矢印Ｙ方向に回転している間、投入されている研磨対象物であるセラミック積層体はバレルポット５〜８において回転プレート２，３の径方向外側の面に押しつけられた状態で移動する。そして、回転プレート２，３が一周する間に、矢印Ｘで示すセラミック積層体集合体は、各バレルポット５〜８の内面を一周することになり、それによって上記研磨が行われる。
【００３０】
上記のようにして、図６に示すセラミック焼結体１１を得た。セラミック焼結体１１においては、内部電極１２ａ〜１２ｆがセラミック層を介して厚み方向に重なり合うように配置されている。また、端面１１ａに、内部電極１２ａ，１２ｃ，１２ｅが露出しており、端面１１ｂに内部電極１２ｂ，１２ｄ，１２ｆが露出されている。この露出状態を、電子顕微鏡を用いて観察した。すなわち、セラミック焼結体１１の端面１１ａ，１１ｂを透過型電子顕微鏡を用いて観察したところ、内部電極１２ａ〜１２ｆが完全に端面１１ａまたは１１ｂに露出されていることを確認した。
【００３１】
次に、上記セラミック焼結体１１を研磨した後、図７に示すように、セラミック焼結体１１の端面１１ａ，１１ｂ上に外部電極１３，１４を形成し、積層コンデンサ１５とした。このようにして得られた積層コンデンサを切断し、外部電極と内部電極との接合状態を電子顕微鏡により観察したところ、相互拡散により外部電極と内部電極とが合金化し、確実に接続されていることが認められた。
【００３２】
また、上記のようにして得られた積層コンデンサについて、８５℃及び相対湿度８５％の条件の下で１ＷＶの電圧を１０００時間印加した。この電圧印加前後の絶縁抵抗の変化を測定し、絶縁抵抗の低下が１０6 Ω以下である場合に不良品とし、評価した。その結果、１００個の積層コンデンサにおいて、絶縁抵抗の劣化は認められなかった。
【００３３】
従って、本実施例の積層コンデンサの製造方法によれば、乾式遠心バレル装置１を用いて未焼成のセラミック積層体のコーナー部を丸め、さらに得られたセラミック焼結体の端面を研磨するため、内部電極がセラミック焼結体端面に確実に露出されて、外部電極との接続の信頼性を高めることができると共に、研磨に際して水を用いないため、絶縁抵抗の劣化が生じ難いことがわかる。また、複数のバレルポット５〜８内に多数のセラミック焼結体を投入して研磨し得るので、多数のセラミック焼結体を一度に処理し得ることがわかる。
【００３４】
（実施例２）
第２の実施例においても、２．０×１．２×１．２ｍｍの寸法の１μＦの静電容量の積層コンデンサを作製した。
【００３５】
第２の実施例においては、第１の実施例と同様にして、未焼成のセラミック積層体を得、第１の実施例と同様にして未焼成のセラミック積層体のコーナー部を丸めるように遠心バレル装置１を用いて、未焼成のセラミック積層体を研磨した。しかる後、第１の実施例の場合と同様にして焼成し、セラミック焼結体を得た。
【００３６】
第２の実施例では、上記のようにして得たセラミック焼結体を、バレル式ブラスト装置を用いて研磨した。バレル式ブラスト装置を、図８及び図９を参照して説明する。
【００３７】
図８に示すように、バレル式ブラスト装置２１では、開口２２ａを有するバレルポット２２が用いられる。このバレルポット２２を、図９に斜視図で示す。バレルポット２２は、上方に開口２２ａを有する。また、バレルポット２２は、側面が２個の円錐台曲面部２２ｂ，２２ｃを連結した形状を有する。すなわち、中間高さ位置において最も径が大きくなり、この最大径部よりも上方及び下方にいくにつれてその径が小さくなる形状とされている。バレルポット２２の底部２２ｄには回転軸２３が連結されている。回転軸２３は、回転駆動源２４に連結されている。回転駆動源２４はモーターなどの適宜の回転駆動機構により構成される。従って、バレルポット２２は、回転軸２３を中心に回転され得る。
【００３８】
他方、図８に示すように、開口２２ａの前方には、ブラストノズル２５が配置されている。ブラストノズル２５は、研磨剤を開口２２ａからバレルポット２２内に吐出するように構成されている。本実施例では、ブラストノズル２５の研磨剤吐出方向は、回転軸２３と平行ではなく、回転軸２３と交叉する方向とされている。また、回転軸２３は図８に示すように傾斜されており、従って、バレルポット２２内に投入されたセラミック焼結体１１が、バレルポット２２内において、図示のように側面２２ｃ側に堆積されるように構成されている。上記ブラストノズル２５による研磨剤吐出方向は、この堆積されているセラミック焼結体１１に向かって研磨剤が吐出される方向である。
【００３９】
また、図８及び図９では略図的に示してあるが、バレルポット２２は、その全体がメッシュにより構成されている。もっとも、バレルポット２２は、多数の貫通孔を有する多孔性部材により構成されていてもよく、また、バレルポット２２は、その一部がメッシュまたは多孔性部材により構成されていてもよい。
【００４０】
上記バレル式ブラスト装置２１のバレルポット２２内に、開口２２ａ側からセラミック焼結体１１を多数投入し、バレルポット２２を５ｒｐｍの速度で回転しつつ、ブラストノズル２５から研磨剤として＃１００メッシュ，ジルコニアパウダーを０．１ＭＰａの条件で投射し、１５分間研磨剤の投射及びバレルポット２２の回転を持続し、ブラスト式バレル研磨を施した。この場合、バレルポット２２がメッシュにより構成されているので、研磨剤及び研磨屑が、バレルポット２２の回転によりバレルポット２２外に排出されていた。
【００４１】
次に、上記のようにして得られたセラミック焼結体について、第１の実施例と同様に、端面１１ａ，１１ａに内部電極１２ａ〜１２ｆが露出しているか否かを電子顕微鏡を用いて確認した。その結果、内部電極１２ａ〜１２ｆが、端面１１ａまたは端面１１ｂに確実に露出していることが認められた。
【００４２】
また、上記のようにして得られたセラミック焼結体を用い、第１の実施例と同様にして積層コンデンサを得た。
上記のようにして得られた積層コンデンサについて、第１の実施例の場合と同様にして、外部電極と内部電極との接続状態を観察したところ、外部電極と内部電極とが相互拡散により完全に合金化して接続されていることが認められた。
【００４３】
また、上記積層コンデンサについて、第１の実施例と同様にして、耐候性を評価したところ、１００個の積層コンデンサにおいて絶縁抵抗の劣化は認められなかった。
【００４４】
従って、第２の実施例においても、バレル式ブラスト装置２１を用いてセラミック焼結体を研磨することにより、セラミック焼結体の端面１１ａまたは１１ｂに内部電極１２ａ〜１２ｆを確実に露出させることができ、外部電極と内部電極とを確実に電気的に接続し得ることがわかる。また、第２の実施例においても、水を用いずにバレル式ブラスト装置により研磨を行うため、絶縁抵抗の劣化を認められなかった。
【００４５】
さらに、第２の実施例においても、バレルポット２２内に多数のセラミック焼結体を投入してセラミック焼結体の研磨を行い得るので、一度に多数のセラミック焼結体の研磨を行うことができる。
【００４７】
また、本発明において、上記バレル式ブラスト装置を用いて研磨を行う場合、研磨剤としては、ジルコニアパウダーだけでなく、アルミナパウダーなどを用いてもよい。
【００４８】
【発明の効果】
本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、内部電極を有するセラミック焼結体を得た後に、該セラミック焼結体が水を用いない乾式バレル研磨により研磨されて、内部電極がセラミック焼結体外表面に露出される。従って、水を用いないので、外部電極とセラミックスとの界面からの水分の侵入に起因するデラミネーションや絶縁抵抗などの電気的特性の劣化が生じ難い。よって、信頼性に優れた積層セラミックコンデンサを提供することができる。
【００４９】
加えて、乾式バレル研磨を用いるので、一度に多数のセラミック焼結体を処理することができ、積層セラミックコンデンサの生産性を高めることができる。
本発明においては、セラミック焼結体を得る工程において、未焼成のセラミック積層体を乾式バレル研磨することにより、該未焼成の積層体のコーナー部を丸められるので、外部電極がコーナー部においても確実にかつ十分な厚みで形成される。従って、積層セラミックコンデンサをプリント回路基板などに実装した際の外部電極の部分的な断線が生じ難い。加えて、このバレル研磨に際し、水を用いないので、最終的に得られる積層セラミックコンデンサにおいて絶縁抵抗などの電気的特性が劣化したり、デラミネーションと称される層間剥離現象も生じ難い。
本発明において、遠心バレル装置を用いて、上記乾式バレル研磨を行う場合には、バレルポット内に多数のセラミック焼結体を投入して、乾式バレル研磨を行うことができるので、バレルポット内に多数のセラミック焼結体を投入し、遠心バレル装置を駆動するだけで、多数のセラミック焼結体を容易に研磨することができる。従って、積層セラミックコンデンサの生産性をより一層高めることができる。
【００５０】
本発明において、乾式バレル研磨を、上述したバレル式ブラスト装置を用いて行う場合、バレルポット内にセラミック焼結体を投入し、ブラストノズルから研磨剤を吐出させるだけで、容易にかつ確実にセラミック焼結体の端面を研磨することができる。この場合においても、セラミック焼結体の端面に内部電極が研磨により確実に露出され、しかも一度に多数のセラミック焼結体を処理することができるので、信頼性に優れた積層セラミックコンデンサを効率良く生産することが可能となる。
【００５１】
本発明において、バレルポットの少なくとも一部がメッシュまたは多孔性部材で構成されている場合には、メッシュ及び多孔性部材の貫通孔から研磨剤や研磨屑がバレルポット外に速やかに排出される。
【００５３】
未焼成のセラミック積層体を乾式バレル研磨する場合、上述した遠心バレル装置を用いた場合には、バレルポットに多数のセラミック積層体を投入して処理することができるので、積層セラミックコンデンサの生産性を低めることなく、信頼性に優れた積層セラミックコンデンサを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例において用いられる遠心バレル装置の模式的正面図。
【図２】図１に示した遠心バレル装置の正面図。
【図３】図２のＢ−Ｂ線に沿う部分の断面図。
【図４】遠心バレル装置に用いられるバレルポットを示す斜視図。
【図５】バレルポット内にセラミック焼結体が投入されている状態を示す縦断面図。
【図６】第１の実施例において用意されるセラミック焼結体を示す縦断面図。
【図７】第１の実施例により得られた積層コンデンサを示す縦断面図。
【図８】第２の実施例で用いられるバレル式ブラスト装置を説明するための部分切欠側面図。
【図９】第２の実施例で用いられるバレルポットを示す斜視図。
【図１０】従来の積層コンデンサの製造方法を説明するための図であり、焼結体の縦断面図。
【図１１】図１０の円Ａで示す部分を拡大して示す部分断面図。
【符号の説明】
１…遠心バレル装置
２，３…回転プレート
４…回転軸
５〜８…バレルポット
１０…歯車
１１…駆動源
１２…セラミック焼結体
１２ａ，１２ｂ…端面
１３ａ〜１３ｆ…内部電極
１４，１５…外部電極
２１…バレル式ブラスト装置
２２…バレルポット
２２ａ…開口
２３…回転軸
２４…駆動源
２５…ブラストノズル
Ｍ…駆動源
【発明の属する技術分野】
本発明は、内部電極を有するセラミック焼結体を用いた積層セラミックコンデンサの製造方法に関し、より詳細には、内部電極をセラミック焼結体外表面に露出させる研磨工程が改良された積層セラミックコンデンサの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
積層コンデンサのように内部電極を有するセラミック電子部品の製造に際しては、最終的に内部電極が外部電極と確実に電気的に接続されることが必要である。ところで、セラミック焼結体を得るにあたっては、通常、内部電極を介して未焼成のセラミックスを積層してなる未焼成のセラミック積層体を得、該未焼成のセラミック積層体を焼成する。ところが、このようにして得られたセラミック焼結体では、内部電極とセラミックスの焼成に際しての収縮率の違いにより、内部電極がセラミック焼結体外表面に露出しないことがある。これを、図１０及び図１１に示す。
【０００３】
図１０は、積層コンデンサに用いられるセラミック焼結体を示す縦断面図である。セラミック焼結体５１内には、複数の内部電極５２ａ〜５２ｆが形成されている。この積層コンデンサでは、セラミック焼結体５１の端面５１ａ，５１ｂに、後工程において外部電極が形成される。従って、内部電極５２ａ，５２ｃ，５２ｅが確実に端面５１ａに露出しており、さらに内部電極５２ｂ，５２ｄ，５２ｆが端面５１ｂに確実に露出していることが必要である。
【０００４】
ところが、セラミック焼結体５１を得た場合、前述したようにセラミックスと内部電極材料との収縮率との違いにより、図１０の円Ａで示す部分を拡大して示す図１１から明らかなように、内部電極５２ａが端面５１ａから後退していることが多い。すなわち、内部電極５２ａ〜５２ｆは、焼成後に端面５１ａまたは５１ｂから後退し、端面５１ａ，５１ｂに露出されないことが多い。
【０００５】
そこで、従来、上記のようなセラミック焼結体５１を得た後に、内部電極５２ａ〜５２ｆを露出させるために、湿式研磨を用いて、セラミック焼結体５１を研磨していた。すなわち、バレル内に、多数のセラミック焼結体５１と、研磨剤と、水とを投入し、バレルを回転させることにより、セラミック焼結体５１を研磨し、内部電極５２ａ〜５２ｆの端面５１ａまたは端面５１ｂへの露出が図られていた。
【０００６】
上記のように水を用いた湿式バレル研磨を用いるのは、セラミック焼結体５１同士が衝突したり、研磨剤とセラミック焼結体５１の衝突によりセラミック焼結体５１の割れが生じることを防止するためである。すなわち、衝撃力を低めるために緩衝材として水が投入されていた。
【０００７】
他方、上記湿式バレル研磨の他に、サンドブラスト法によりセラミック焼結体５１の端面５１ａ，５１ｂを研磨する方法も用いられていた。サンドブラスト法では、多数のホルダー穴が整列されたホルダーにセラミック焼結体５１を保持させ、端面５１ａまたは５１ｂを露出させた状態で、端面５１ａ，５１ｂがサンドブラストされていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上述した湿式バレル研磨では、セラミック焼結体５１の端面５１ａ，５１ｂに内部電極５２ａ〜５２ｆが確実に露出されるものの、水を緩衝材として用いるため、セラミック焼結体５１内に水が侵入するという問題があった。すなわち、内部電極５２ａ〜５２ｆとセラミックスとの界面を通じて緩衝材としての水が侵入しがちであった。この水はセラミック焼結体５１から抜け難く、後で行われる外部電極焼成時に反応し、セラミックスと内部電極５２ａ〜５２ｆとの界面における剥離を促すという問題があった。
【０００９】
すなわち、従来の水を用いた湿式バレル研磨では、最終的に得られた積層コンデンサにおけるデラミネーションと称されている層間剥離現象が生じ易く、絶縁抵抗が低下し、良品率が低下するという問題があった。
【００１０】
他方、上述したサンドブラスト法を用いた場合には、セラミック焼結体の端面５１ａ，５１ｂに直接研磨剤を吐出して研磨を行うものであるため、水を必要としない。しかしながら、整列ホルダーに多数のセラミック焼結体を保持させるという煩雑な作業が必要であり、多くのセラミック焼結体を効率良く処理することができなかった。
【００１１】
本発明の目的は、水を用いない乾式バレル研磨によりセラミック焼結体の端面に内部電極を確実に露出させることができ、従ってデラミネーションや電気的特性の劣化が生じ難く、かつ上記セラミック焼結体の端面の研磨を効率良く行い得る、生産性に優れた積層セラミックコンデンサの製造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、セラミック焼結体内に内部電極が形成されており、セラミック焼結体の外表面に内部電極と電気的に接続される外部電極が形成されている積層セラミックコンデンサの製造方法であって、未焼成のセラミック積層体を得る工程と、該未焼成のセラミック積層体をバレル研磨することにより未焼成の積層体のコーナー部を丸める工程と、次に未焼成のセラミック積層体を焼成して、内部電極を有するセラミック焼結体を得る工程と、前記セラミック焼結体を乾式バレル研磨することにより、内部電極をセラミック焼結体外表面に露出させる工程とを備えることを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法のある特定の局面では、前記乾式バレル研磨に際し、回転軸を中心に回転される回転プレートと、前記回転プレートに連結されており、該回転プレートを回転駆動する第１の駆動源と、回転プレートの回転軸の周りに回転プレートと共に回転するように、かつ回転プレートとは独立にそれ自体が回転し得るように回転プレートに連結されており、セラミック焼結体が内部に収納されるバレルポットと、前記バレルポットに連結されており、該バレルポットを回転駆動する第２の駆動源とを備える乾式遠心バレル装置が用いられ、前記バレルポット内にセラミック焼結体が投入され、前記回転プレート及びバレルポットがそれぞれ回転されて研磨が行われる。
【００１４】
本発明の別の特定の局面では、前記乾式バレル研磨に際し、回転軸を中心として回転し得るように構成されており、かつ開口を有するバレルポットと、前記バレルポットの開口に向かって研磨剤を吐出するブラストノズルと、前記バレルポットに連結されており、該バレルポットを回転駆動する駆動源とを備えるバレル式ブラスト装置が用いられ、バレルポット内に複数のセラミック焼結体が投入され、該バレルポットを回転しつつブラストノズルから研磨剤を吐出することにより、乾式バレル研磨が行われる。
【００１５】
好ましくは上記バレルポットの少なくとも一部は、メッシュまたは多孔性部材により構成される。
【００１６】
上記未焼成のセラミック積層体をバレル研磨により該積層体のコーナー部を丸める工程は、好ましくは、上述した乾式遠心バレル装置を用いて行われる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施例を挙げることにより、本発明をより詳細に説明する。
【００１８】
（第１の実施例）
第１の実施例では、以下のようにして２．０×１．２×１．２ｍｍの寸法を有し、かつ静電容量が１μＦの積層コンデンサが製造される。
【００１９】
先ず、セラミックグリーンシート上に内部電極を印刷し、印刷されたセラミックグリーンシートを複数枚積層し、上下に無地のセラミックグリーンシートを積層し、マザーのセラミック積層体を得る。このマザーのセラミック積層体を厚み方向に加圧した後、厚み方向に切断し、個々の積層コンデンサ単位の未焼成のセラミック積層体を得る。
【００２０】
上記未焼成の積層セラミック積層体を、図１〜図５を参照して説明する遠心バレル研磨装置により研磨し、未焼成のセラミック積層体のコーナー部を丸める。このコーナー部を丸める工程は、主として未焼成セラミック積層体のバリ取りを狙ったもので、例えば焼結後のコーナー部の曲率半径Ｒが７０μｍとなるように行った。
【００２１】
図２は、遠心バレル研磨装置の正面図である。遠心バレル研磨装置１は、一対の回転プレート２，３を有する。図２では前方の回転プレート２のみが図示されている。図１は、前方の回転プレート２を取り去った状態を示す略図的正面図であり、ここでは後方の回転プレート３が図示されている。回転プレート２，３は、回転軸４により連結されている。回転軸４は、図２に略図的に示す回転駆動源Ｍに連結されている。回転駆動源Ｍは、モーターなどの適宜の回転駆動装置により構成されている。
【００２２】
回転プレート２，３は、回転軸４を中心として回転軸４の周りに回転し得るように構成されている。
回転プレート２，３間には、複数のバレルポット５〜８が配置されている。バレルポット５を例にとり、図３及び図４を参照してバレルポット５〜８の構造を説明する。
【００２３】
図４に示すように、バレルポット５は、八角筒状の形状を有する。図４ではハッチングを付して略図的に示されているが、バレルポット５は、多数の貫通孔を有するメッシュにより構成されている。もっとも、メッシュに代えて、多数の貫通孔を有する多孔性部材により構成されていてもよい。また、バレルポット５の全体がメッシュまたは多孔性部材で構成されている必要は必ずしもない。
【００２４】
バレルポット５の両端面５ａ，５ｂには、回転軸５ｃ，５ｄがバレルポット５の長さ方向外側に延びるように取り付けられている。
回転軸５ｃ，５ｄは、同心に配置されている。
【００２５】
他方、図３に示すように、回転プレート２，３に設けられた貫通孔２ａ，３ａに、上記回転軸５ｃ，５ｄが挿通されている。このようにして、バレルポット５が、回転プレート２，３に対して独立に回転し得るように、回転プレート２，３に取り付けられている。他方、回転軸５ｃの外側端には、歯車９が固定されている。歯車９は、図３に略図的に示す回転駆動源１０に連結されている。回転駆動源１０はモーターなどの適宜の回転駆動力を与える駆動装置により構成されており、回転駆動源１０を駆動することにより、歯車９が回転され、ひいてはバレルポット５が回転プレート２，３とは独立に回転される。
【００２６】
他のバレルポット６〜８についても、上記バレルポット５と同様に構成されている。
なお、バレルポット５〜８では、その一部が開閉可能とされており、それによって内部にセラミック積層体を投入し得るように構成されている。本実施例では、バレルポット５の端面５ａ側が筒状本体５ｅに対して開閉し得るように構成されている。
【００２７】
次に、上記バレルポット５〜８内に、前述した未焼成のセラミック積層体を投入し、バレルポットの回転速度を１５０ｒｐｍ、回転プレート２，３の回転速度を１５０ｒｐｍとし、バレルポット５〜８が一周する間に未焼成のセラミック積層体のコーナー部が前述した程度に丸められるようにして、バレル研磨を行った。
【００２８】
この場合、未焼成のセラミック積層体は、回転プレート２，３の回転につれて、図１に示すように、遠心力により各バレルポットの回転プレート２，３の径方向外側の面に押しつけられた状態で移動される。すなわち、図１の斜線のハッチングを付して示すＸから明らかなように、回転プレート３が矢印Ｙ方向に回転している間、投入されている研磨対象物であるセラミック積層体はバレルポット５〜８において回転プレート２，３の径方向外側の面に押しつけられた状態で移動する。そして、回転プレート２，３が一周する間に、バレルポット５〜８は、それ自体が矢印Ｚで示す方向、すなわち回転プレート２と同じ方向に１回転するように自転する。従って、矢印Ｘで示すセラミック積層体集合体は、各バレルポット５〜８の内面を一周することになり、それによって上記研磨が行われる。
【００２９】
次に、上記のようにしてコーナー部が丸められたセラミック積層体を焼成し、セラミック焼結体を得た。上記のようにして得られたセラミック焼結体について、再度上記遠心バレル研磨装置１を用い、セラミック焼結体を研磨した。この場合、バレルポット５〜８内に、セラミック焼結体を投入し、回転プレート２，３の回転速度については、１５０ｒｐｍとし、バレルポット５〜８の回転速度については１／６０ｒｐｍとし、６０分間研磨した。すなわち、６０分間の研磨時間において回転プレート２，３は１回転し、かつバレルポット５〜８は、その間に１回転する。この場合も、回転プレート３が矢印Ｙ方向に回転している間、投入されている研磨対象物であるセラミック積層体はバレルポット５〜８において回転プレート２，３の径方向外側の面に押しつけられた状態で移動する。そして、回転プレート２，３が一周する間に、矢印Ｘで示すセラミック積層体集合体は、各バレルポット５〜８の内面を一周することになり、それによって上記研磨が行われる。
【００３０】
上記のようにして、図６に示すセラミック焼結体１１を得た。セラミック焼結体１１においては、内部電極１２ａ〜１２ｆがセラミック層を介して厚み方向に重なり合うように配置されている。また、端面１１ａに、内部電極１２ａ，１２ｃ，１２ｅが露出しており、端面１１ｂに内部電極１２ｂ，１２ｄ，１２ｆが露出されている。この露出状態を、電子顕微鏡を用いて観察した。すなわち、セラミック焼結体１１の端面１１ａ，１１ｂを透過型電子顕微鏡を用いて観察したところ、内部電極１２ａ〜１２ｆが完全に端面１１ａまたは１１ｂに露出されていることを確認した。
【００３１】
次に、上記セラミック焼結体１１を研磨した後、図７に示すように、セラミック焼結体１１の端面１１ａ，１１ｂ上に外部電極１３，１４を形成し、積層コンデンサ１５とした。このようにして得られた積層コンデンサを切断し、外部電極と内部電極との接合状態を電子顕微鏡により観察したところ、相互拡散により外部電極と内部電極とが合金化し、確実に接続されていることが認められた。
【００３２】
また、上記のようにして得られた積層コンデンサについて、８５℃及び相対湿度８５％の条件の下で１ＷＶの電圧を１０００時間印加した。この電圧印加前後の絶縁抵抗の変化を測定し、絶縁抵抗の低下が１０6 Ω以下である場合に不良品とし、評価した。その結果、１００個の積層コンデンサにおいて、絶縁抵抗の劣化は認められなかった。
【００３３】
従って、本実施例の積層コンデンサの製造方法によれば、乾式遠心バレル装置１を用いて未焼成のセラミック積層体のコーナー部を丸め、さらに得られたセラミック焼結体の端面を研磨するため、内部電極がセラミック焼結体端面に確実に露出されて、外部電極との接続の信頼性を高めることができると共に、研磨に際して水を用いないため、絶縁抵抗の劣化が生じ難いことがわかる。また、複数のバレルポット５〜８内に多数のセラミック焼結体を投入して研磨し得るので、多数のセラミック焼結体を一度に処理し得ることがわかる。
【００３４】
（実施例２）
第２の実施例においても、２．０×１．２×１．２ｍｍの寸法の１μＦの静電容量の積層コンデンサを作製した。
【００３５】
第２の実施例においては、第１の実施例と同様にして、未焼成のセラミック積層体を得、第１の実施例と同様にして未焼成のセラミック積層体のコーナー部を丸めるように遠心バレル装置１を用いて、未焼成のセラミック積層体を研磨した。しかる後、第１の実施例の場合と同様にして焼成し、セラミック焼結体を得た。
【００３６】
第２の実施例では、上記のようにして得たセラミック焼結体を、バレル式ブラスト装置を用いて研磨した。バレル式ブラスト装置を、図８及び図９を参照して説明する。
【００３７】
図８に示すように、バレル式ブラスト装置２１では、開口２２ａを有するバレルポット２２が用いられる。このバレルポット２２を、図９に斜視図で示す。バレルポット２２は、上方に開口２２ａを有する。また、バレルポット２２は、側面が２個の円錐台曲面部２２ｂ，２２ｃを連結した形状を有する。すなわち、中間高さ位置において最も径が大きくなり、この最大径部よりも上方及び下方にいくにつれてその径が小さくなる形状とされている。バレルポット２２の底部２２ｄには回転軸２３が連結されている。回転軸２３は、回転駆動源２４に連結されている。回転駆動源２４はモーターなどの適宜の回転駆動機構により構成される。従って、バレルポット２２は、回転軸２３を中心に回転され得る。
【００３８】
他方、図８に示すように、開口２２ａの前方には、ブラストノズル２５が配置されている。ブラストノズル２５は、研磨剤を開口２２ａからバレルポット２２内に吐出するように構成されている。本実施例では、ブラストノズル２５の研磨剤吐出方向は、回転軸２３と平行ではなく、回転軸２３と交叉する方向とされている。また、回転軸２３は図８に示すように傾斜されており、従って、バレルポット２２内に投入されたセラミック焼結体１１が、バレルポット２２内において、図示のように側面２２ｃ側に堆積されるように構成されている。上記ブラストノズル２５による研磨剤吐出方向は、この堆積されているセラミック焼結体１１に向かって研磨剤が吐出される方向である。
【００３９】
また、図８及び図９では略図的に示してあるが、バレルポット２２は、その全体がメッシュにより構成されている。もっとも、バレルポット２２は、多数の貫通孔を有する多孔性部材により構成されていてもよく、また、バレルポット２２は、その一部がメッシュまたは多孔性部材により構成されていてもよい。
【００４０】
上記バレル式ブラスト装置２１のバレルポット２２内に、開口２２ａ側からセラミック焼結体１１を多数投入し、バレルポット２２を５ｒｐｍの速度で回転しつつ、ブラストノズル２５から研磨剤として＃１００メッシュ，ジルコニアパウダーを０．１ＭＰａの条件で投射し、１５分間研磨剤の投射及びバレルポット２２の回転を持続し、ブラスト式バレル研磨を施した。この場合、バレルポット２２がメッシュにより構成されているので、研磨剤及び研磨屑が、バレルポット２２の回転によりバレルポット２２外に排出されていた。
【００４１】
次に、上記のようにして得られたセラミック焼結体について、第１の実施例と同様に、端面１１ａ，１１ａに内部電極１２ａ〜１２ｆが露出しているか否かを電子顕微鏡を用いて確認した。その結果、内部電極１２ａ〜１２ｆが、端面１１ａまたは端面１１ｂに確実に露出していることが認められた。
【００４２】
また、上記のようにして得られたセラミック焼結体を用い、第１の実施例と同様にして積層コンデンサを得た。
上記のようにして得られた積層コンデンサについて、第１の実施例の場合と同様にして、外部電極と内部電極との接続状態を観察したところ、外部電極と内部電極とが相互拡散により完全に合金化して接続されていることが認められた。
【００４３】
また、上記積層コンデンサについて、第１の実施例と同様にして、耐候性を評価したところ、１００個の積層コンデンサにおいて絶縁抵抗の劣化は認められなかった。
【００４４】
従って、第２の実施例においても、バレル式ブラスト装置２１を用いてセラミック焼結体を研磨することにより、セラミック焼結体の端面１１ａまたは１１ｂに内部電極１２ａ〜１２ｆを確実に露出させることができ、外部電極と内部電極とを確実に電気的に接続し得ることがわかる。また、第２の実施例においても、水を用いずにバレル式ブラスト装置により研磨を行うため、絶縁抵抗の劣化を認められなかった。
【００４５】
さらに、第２の実施例においても、バレルポット２２内に多数のセラミック焼結体を投入してセラミック焼結体の研磨を行い得るので、一度に多数のセラミック焼結体の研磨を行うことができる。
【００４７】
また、本発明において、上記バレル式ブラスト装置を用いて研磨を行う場合、研磨剤としては、ジルコニアパウダーだけでなく、アルミナパウダーなどを用いてもよい。
【００４８】
【発明の効果】
本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、内部電極を有するセラミック焼結体を得た後に、該セラミック焼結体が水を用いない乾式バレル研磨により研磨されて、内部電極がセラミック焼結体外表面に露出される。従って、水を用いないので、外部電極とセラミックスとの界面からの水分の侵入に起因するデラミネーションや絶縁抵抗などの電気的特性の劣化が生じ難い。よって、信頼性に優れた積層セラミックコンデンサを提供することができる。
【００４９】
加えて、乾式バレル研磨を用いるので、一度に多数のセラミック焼結体を処理することができ、積層セラミックコンデンサの生産性を高めることができる。
本発明においては、セラミック焼結体を得る工程において、未焼成のセラミック積層体を乾式バレル研磨することにより、該未焼成の積層体のコーナー部を丸められるので、外部電極がコーナー部においても確実にかつ十分な厚みで形成される。従って、積層セラミックコンデンサをプリント回路基板などに実装した際の外部電極の部分的な断線が生じ難い。加えて、このバレル研磨に際し、水を用いないので、最終的に得られる積層セラミックコンデンサにおいて絶縁抵抗などの電気的特性が劣化したり、デラミネーションと称される層間剥離現象も生じ難い。
本発明において、遠心バレル装置を用いて、上記乾式バレル研磨を行う場合には、バレルポット内に多数のセラミック焼結体を投入して、乾式バレル研磨を行うことができるので、バレルポット内に多数のセラミック焼結体を投入し、遠心バレル装置を駆動するだけで、多数のセラミック焼結体を容易に研磨することができる。従って、積層セラミックコンデンサの生産性をより一層高めることができる。
【００５０】
本発明において、乾式バレル研磨を、上述したバレル式ブラスト装置を用いて行う場合、バレルポット内にセラミック焼結体を投入し、ブラストノズルから研磨剤を吐出させるだけで、容易にかつ確実にセラミック焼結体の端面を研磨することができる。この場合においても、セラミック焼結体の端面に内部電極が研磨により確実に露出され、しかも一度に多数のセラミック焼結体を処理することができるので、信頼性に優れた積層セラミックコンデンサを効率良く生産することが可能となる。
【００５１】
本発明において、バレルポットの少なくとも一部がメッシュまたは多孔性部材で構成されている場合には、メッシュ及び多孔性部材の貫通孔から研磨剤や研磨屑がバレルポット外に速やかに排出される。
【００５３】
未焼成のセラミック積層体を乾式バレル研磨する場合、上述した遠心バレル装置を用いた場合には、バレルポットに多数のセラミック積層体を投入して処理することができるので、積層セラミックコンデンサの生産性を低めることなく、信頼性に優れた積層セラミックコンデンサを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例において用いられる遠心バレル装置の模式的正面図。
【図２】図１に示した遠心バレル装置の正面図。
【図３】図２のＢ−Ｂ線に沿う部分の断面図。
【図４】遠心バレル装置に用いられるバレルポットを示す斜視図。
【図５】バレルポット内にセラミック焼結体が投入されている状態を示す縦断面図。
【図６】第１の実施例において用意されるセラミック焼結体を示す縦断面図。
【図７】第１の実施例により得られた積層コンデンサを示す縦断面図。
【図８】第２の実施例で用いられるバレル式ブラスト装置を説明するための部分切欠側面図。
【図９】第２の実施例で用いられるバレルポットを示す斜視図。
【図１０】従来の積層コンデンサの製造方法を説明するための図であり、焼結体の縦断面図。
【図１１】図１０の円Ａで示す部分を拡大して示す部分断面図。
【符号の説明】
１…遠心バレル装置
２，３…回転プレート
４…回転軸
５〜８…バレルポット
１０…歯車
１１…駆動源
１２…セラミック焼結体
１２ａ，１２ｂ…端面
１３ａ〜１３ｆ…内部電極
１４，１５…外部電極
２１…バレル式ブラスト装置
２２…バレルポット
２２ａ…開口
２３…回転軸
２４…駆動源
２５…ブラストノズル
Ｍ…駆動源
Claims (6)
- セラミック焼結体内に内部電極が形成されており、セラミック焼結体の外表面に内部電極と電気的に接続される外部電極が形成されている積層セラミックコンデンサの製造方法であって、
未焼成のセラミック積層体を得る工程と、
該未焼成のセラミック積層体をバレル研磨することにより未焼成の積層体のコーナー部を丸める工程と、
次に未焼成の積層体を焼成して、内部電極を有するセラミック焼結体を得る工程と、
前記セラミック焼結体を乾式バレル研磨することにより、内部電極をセラミック焼結体外表面に露出させる工程とを備えることを特徴とする、積層セラミックコンデンサの製造方法。 - 前記乾式バレル研磨に際し、回転軸を中心に回転される回転プレートと、
前記回転プレートに連結されており、該回転プレートを回転駆動する第１の駆動源と、
回転プレートの回転軸の周りに回転プレートと共に回転するように、かつ回転プレートとは独立にそれ自体が回転し得るように回転プレートに連結されており、セラミック焼結体が内部に収納されるバレルポットと、
前記バレルポットに連結されており、該バレルポットを回転駆動する第２の駆動源とを備える乾式遠心バレル装置を用い、
前記バレルポット内にセラミック焼結体を投入し、前記回転プレート及びバレルポットをそれぞれ回転させることを特徴とする、請求項１に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。 - 前記乾式バレル研磨に際し、
回転軸を中心として回転し得るように構成されており、かつ開口を有するバレルポットと、
前記バレルポットの開口に向かって研磨剤を吐出するブラストノズルと、
前記バレルポットに連結されており、該バレルポットを回転駆動する駆動源とを備えるバレル式ブラスト装置を用い、
前記バレルポット内に複数のセラミック焼結体を投入し、前記バレルポットを回転しつつブラストノズルから研磨剤を吐出して乾式バレル研磨を行うことを特徴とする、請求項１に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。 - 前記バレルポットの少なくとも一部が、メッシュまたは多孔性部材により構成されている、請求項２に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。
- 前記未焼成のセラミック積層体をバレル研磨する工程が、前記回転プレートに連結されており、該回転プレートを回転駆動する第１の駆動源と、
回転プレートの回転軸の周りに回転プレートと共に回転するように、かつ回転プレートとは独立にそれ自体が回転し得るように回転プレートに連結されており、セラミック焼結体が内部に収納されるバレルポットと、
前記バレルポットに連結されており、該バレルポットを回転駆動する第２の駆動源とを備える乾式遠心バレル装置を用いることを特徴とする、請求項１に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。 - 前記回転プレートの回転方向と該バレルポットの回転方向が同一である、請求項２，４，５のいずれか１項に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。
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