JP3654001B2 - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、データ用大容量追記光ディスク（大容量追記型コンパクトディスク、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ）の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体レーザを用いた記録再生可能な光記録媒体が求められている。従来提案されている光記録媒体としては、光磁気記録媒体、相変化記録媒体、カルコゲン酸化物系記録媒体、有機色素光記録媒体がある。これらの中で有機色素光記録媒体は安価であり、その製造プロセスも簡単である点において、他の光記録媒体に比べて有利なものと考えられる。現在、記録再生可能な有機色素光記録媒体として、いわゆるＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒが開発されている。
【０００３】
記録再生可能な有機色素光記録媒体は、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン等の透明樹脂基板上に有機色素情報記録層を形成し、さらに必要に応じて金属反射層、保護層等を形成した構成となっている。情報記録層（以下、記録層という）の形成方法としては、コスト低減のために、有機色素を混合又は単一の有機溶媒に溶解してから、基板上にスピンコーティングするものが一般的である。使用する有機溶媒には、これが透明樹脂基板を損傷しないことが求められる。そのための適当な溶媒としてはアルコールやセロソルブ等が挙げられるが、しかし、これらの溶剤は色素を良く溶解するものではない。
【０００４】
従来、基板を浸食することなく色素を溶解することができる溶剤として、多種類の溶剤を微妙な比率で混合した混合溶剤や、フッ素アルコールが使用されている。
【０００５】
ところが、混合溶剤では各成分の混合比が変わると良好な記録層を形成することができないため、品質の管理に重大な費用がかかっていた。一方、フッ素アルコールは他の溶剤に比べて極めて高価である。また、フッ素アルコールは単一成分でスピンコーティングが可能な優れた溶剤ではあるものの、溶解できる色素の種類が極めて少ない。さらに、フッ素アルコールは相溶性が極めて低く、他の溶剤との混合には不向きである。さらに極めて高粘度であるため、スピンコート法による記録層の形成する場合には、極めて多くの色素を消費することになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたもので、その目的は、有機色素の溶解性が高く、しかも他の溶剤と任意の割合で混合できる溶剤を使用することで、充分な記録再生特性を有し、しかもその特性を長期にわたって安定に維持しうる光記録媒体を安価に提供することにあり、具体的には基板上への有機色素記録層の形成方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、種々検討の結果、有機色素を溶解するための溶剤の一部又は全部にアミン溶剤を使用することで、有機色素を充分に溶解すると同時に、射出成形ポリカーボネート基板を損傷することなく記録層を形成できることを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
請求項１に係る光記録媒体の製造方法は、基板上に記録材料のアミン溶剤溶液を用いて記録層を形成する光記録媒体の製造方法であって、
前記アミン溶剤としてジイソブチルアミン、ブチルメチルアミン、ブチルエチルアミン、ジブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ヘキシルメチルアミン、トリプロピルアミン、エチル−２−プロピルアリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、ジブチルエチルアミン、エチル−２−メチルアリルアミン、メチルプルパージルアミン、トリイソプロピルアミン、１，１−ジメトキシトリメチルアミン、１，１−ジシクロヘキシルオキシトリメチルアミン、１，１−ジエトキシトリメチルアミン、ジメチルヘキシルアミン、アリルシクロペンチルアミン、ジエチル−（２−ビニルオキシエチル）−アミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ビス（２−メトキシエチル）アミン、ｔ−ブチルシクロヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリイソブチルアミン、２，２−ジエトキシトリエチルアミン、ジペンチルアミン、ジイソプロパノールアミンおよび、ジシクロヘキシルアミンからなる群より任意に選択される一種または二種以上の溶剤を用いることを特徴とする。
本発明の典型例では、有機色素記録材料をアミン溶剤に溶解した溶液を基板上に、これと接して又は他の層を介して、スピンコーティングすることにより記録層を形成する。
【０００９】
請求項２に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１において、アミン溶剤として沸点が８０℃〜１８０℃のもの、好ましくは１００℃〜１５０℃のものを用いることを特徴とする。これらのアミン溶剤を用いることで、断面形状が屈曲のない水平な記録層を形成することができ、その反射率が高まる。請求項３に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１または２において前記記録材料が有機色素であることを特徴とする。１級アミン溶剤は、ポリカーボネートを容易に溶解するため、ポリカーボネート製基板による光記録媒体製造には不向きであるが、本発明に係るアミン溶剤ではこのようなことがない。
【００１０】
請求項４に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１〜３のいずれか一つの項において、記録材料がアゾ化合物であるか、又はアゾ化合物と金属もしくはその塩とから合成されるアゾ金属キレート化合物であることを特徴とする。
【００１１】
請求項５に係る光記録媒体の製造方法は、請求項４において、アゾ化合物は一般式が下記［化３］で示されるものであることを特徴とする。
【００１２】
【化３】
【００１３】
（上記［化３］において、Ａはこれが結合している炭素原子及び窒素原子と一緒になってピラゾール、２−ピラゾリン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、１，３，４−チアジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ｓ−トリアジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キノキサリン、アクリジン、１，１０−フェナントロリンからなる群より選択された複素環を形成する残基を表す。Ｂはこれが結合している２つの炭素原子と一緒になって芳香族を形成する残基を表す。Ｘは−ＯＬ，−ＣＯＯＬ，−ＳＯ3 Ｌ又は−ＮＲＬを表し、Ｌは水素原子、アルキル基又はカチオンを表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）
【００１４】
請求項６に係る光記録媒体の製造方法は、請求項４において、アゾ化合物は一般式が下記［化４］で示されるものであることを特徴とする。
【００１５】
【化４】
【００１６】
（上記［化４］においてＣ及びＤは、それぞれ独立にそれが結合している２つの炭素原子と一緒になって芳香族を形成する残基を表す。Ｙ及びＺはそれぞれ独立に−ＯＬ，−ＣＯＯＬ，−ＳＯ3 Ｌ又は−ＮＲＬを表し、Ｌは水素原子、アルキル基又はカチオンを表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）
【００１７】上記アゾ金属キレート化合物を構成する金属種としては遷移金属が挙げられ、コバルト、ニッケル、銅が最適である。
【００１８】
請求項７に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１〜６のいずれか一つの項において、第１基板上に直接又は下引き層を介して記録層を形成し、さらに反射層、保護層又は第２基板を設けることを特徴とする。
請求項８に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１〜７６のいずれか一つの項において、前記記録材料のアミン溶剤溶液をスピンコーティングにより塗布することを特徴とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
［記録体の構成］
本発明の光記録媒体は、断面構造が図１〜図４に示されるような通常の追記型光ディスクとすることができるし、これらを２枚貼り合わせた、いわゆるエアーサンドイッチ構造、又は密着貼合わせ構造とすることもできる。また、断面構造が図５〜図７に示されるようなＣＤ−Ｒ用メディアの構造としてもよい。さらに本発明では、図８〜図９に示すようなＤＶＤ−Ｒ用の断面構造とすることもできる。なお、図５と同一構造のＤＶＤ−Ｒとしてもよい。
【００２０】
すなわち、図１の光記録媒体では、基板１上に記録層２のみが積層されている。図２の光記録媒体では、基板１上に下引き層３を介して記録層２が積層されている。図３の光記録媒体では、図２のものにおいて記録層２上に保護層４が積層されている。図４の光記録媒体では、図３のものにおいて基板１下にハードコート層５が積層されている。
【００２１】
図５の光記録媒体では、基板１上に記録層２、金属反射層６、保護層４の順に積層されている。図６の光記録媒体では、基板１上に下引き層３、記録層２、金属反射層６、保護層４の順に積層されている。図７の光記録媒体では、図６のものにおいて基板１下にハードコート層５を積層した形態になっている。
【００２２】
図８の光記録媒体では、基板１上に記録層２、金属反射層６、保護層４、接着層８、保護基板７の順に積層されている。図９の光記録媒体では、基板１上に下引き層３、記録層２、金属反射層６、保護層４、接着層８、保護基板７の順に積層され、基板１下にハードコート層５が積層されている。
【００２３】
［各層の必要特性及び構成材料例］
本発明に係る記録媒体では、第１基板上に直接又は下引き層を介して記録層を設け、さらに反射層、保護層又は第２基板を設けたもの、例えば図８，９に示すような、第１基板（基板１）と第２基板（保護基板７）とを、記録層２を介して接着剤（接着層８）で貼り合わせた構造を基本構造とする。記録層２は有機色素層単層でもよく、反射率を高めるため有機色素層と金属反射層との積層でも良い。記録層２と基板１とは、下引き層３あるいは保護層４を介して層成してもよく、機能向上のためそれらを積層化した構成でも良い。最も普通に用いられる構造は、第１基板／有機色素層／金属反射層／保護層／接着層／第２基板である。
【００２４】
＜基板＞
基板側より記録再生を行う場合にのみ、基板は使用レーザ光に対して透明でなければならず、記録層側から記録再生を行う場合には、透明である必要はない。従って本発明では、基板を１層しか用いない場合は、上記第２基板のみが透明であればよく、上記第１基板の透明、不透明は問わない。
【００２５】
基板材料としては例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド等のプラスチック、ガラス、セラミックあるいは金属等を用いることができる。尚、基板を１層しか用いない場合、あるいは基板２枚をサンドイッチ状で用いる場合は、上記第１基板の表面にトラッキング用の案内溝や案内ピット、さらにアドレス信号等のプレフォーマットが形成されている必要がある。
【００２６】
＜中間層＞
下引き層等を含め基板、記録層、反射層、保護層以外に設けられた層をここでは中間層と呼ぶことにする。この中間層は（ａ）接着性の向上、（ｂ）水、又はガス等のバリアー、（ｃ）記録層の保存安定性の向上、（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤からの基板や記録層の保護、（ｆ）案内溝・案内ピット・プレフォーマット等の形成等を目的として使用される。
【００２７】
（ａ）の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の高分子物質、シランカップリング剤等を用いることができる。（ｂ）（ｃ）の目的に対しては、前記高分子材料以外に無機化合物として、例えばＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＳｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯ，ＴｉＮ，ＳｉＮ等が用いられる。金属又は半金としては例えばＺｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｇｅ，Ｓｅ，Ａｕ，Ａｇ，Ａｌ等を用いることができる。
【００２８】
また、（ｄ）の目的に対しては金属、例えばＡｌ，Ａｇ等や、金属光沢を有する有機薄膜、例えばメチン染料、キサンテン系染料等を用いることができる。（ｅ）（ｆ）の目的に対しては紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。下引き層の膜厚は０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍとする。
【００２９】
＜記録層＞
記録層はレーザ光の照射により何らかの光学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録できるものであって、この記録層中には本発明の色素が含有されていることが必要で、記録層の形成にあたって本発明の色素を１種、又は２種以上の組合わせで用いてもよい。さらに、本発明の前記色素は光学特性、記録感度、信号特性等の向上の目的で他の有機色素及び金属、金属化合物と混合又は積層化しても良い。
【００３０】
有機色素の具体例としては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、アントレキノン（インダンスレン）系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、テトレヒドロコリン系、フェナンスレン系、トリフェノチアジン系染料、及び金属キレート化合物等が挙げられ、前記の染料を単独で用いてもよいし、２種以上の組み合わせにしてもよい。
【００３１】
また、前記染料中に金属又は金属化合物、例えばＩｎ，Ｔｅ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｓｂ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ａｌ，Ｂｅ，ＴｅＯ2 ，ＳｎＯ，Ａｓ，Ｃｄ等を分散混合あるいは積層の形態で用いることもできる。さらに、前記染料中に高分子材料例えば、アイオノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の材料又はシランカップリング剤等を分散混合して用いてもよいし、あるいは特性改良の目的で安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等と併用することもできる。
【００３２】
記録層の形成は蒸着、スパッタリング、ＣＶＤまたは溶剤塗布等の通常の手段によって行うことができる。塗布法を用いる場合には前記染料等を有機溶媒等に溶解してスプレー、ローラーコーティング、ディッピング又はスピンコーティング等の慣用のコーティング法によって行われる。
【００３３】
本発明に使用でき、しかも入手容易なアミン溶剤としては、下記［表１］に示すものが挙げられる。
【００３４】
【表１】
【００３５】
上記アミン溶剤と混合して使用される有機溶剤としては一般に、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭素、トリクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、あるいはベンゼン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類、メトキシエタノール、エトキシエタノール等のセロソルブ類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素類等を用いることができる。
【００３６】
記録層の膜厚は１００Å〜１０μｍ、好ましくは２００Å〜２０００Åとする。
【００３７】
＜金属反射層＞
反射層の材料としては単体で高反射率が得られ、かつ腐蝕されにくい金属、半金属等が挙げられる。材料例としてはＡｕ，Ａｇ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｌ，Ｆｅ，Ｓｎ等が挙げられるが、反射率・生産性の点からＡｕ，Ａｇ，Ａｌが最も好ましく、これらの金属、半金属は単独で使用しても良く、２種の合金としても良い。膜形成法としては蒸着、スパッタリング等が挙げられ、膜厚は５０Å〜５０００Å、好ましくは１００Å〜３０００Åとする。
【００３８】
＜保護層、基板表面ハードコート層＞
保護層、又は基板面ハードコート層は（ａ）記録層（反射吸収層）を傷、ホコリ、汚れ等から保護する、（ｂ）記録層（反射吸収層）の保存安定性の向上、（ｃ）反射率の向上等を目的として使用される。これらの目的に対しては、前記中間層に示した材料を用いることができる。また、無機材料として、ＳｉＯ，ＳｉＯ2 等も用いることができ、有機材料としてポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、芳香族炭化水素樹脂、天然ゴム、スチレンブタジエン樹脂、クロロプレンゴム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。
【００３９】
上記材料のうち保護層、又は基板表面ハードコート層に最も好ましい例としては、生産性に優れた紫外線硬化樹脂が挙げられる。保護層又は基板面ハードコート層の膜厚は０．０１〜３０μｍが適当で、より好ましくは０．０５〜１０μｍである。本発明において、前記下中間層、保護層、及び基板面ハードコート層には記録層の場合と同様に安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有させることができる。
【００４０】
【実施例】
実施例１
フォトポリマーにて深さ１６００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．１による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．１をジブチルエチルアミン／メチルセロソルブ（５０／５０）の混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ８００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４１】
実施例２
フォトポリマーにて深さ１６００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリメチルメタクリレート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．２による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．２のジブチルアミン溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ８００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４２】
参考例１
フォトポリマーにて深さ１８００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．３による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．３をジプロピルアミン／１，２−ジクロロエタン（７０／３０）の混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４３】
実施例３
フォトポリマーにて深さ１８００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．４による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．４をエチル−２−メチルアリルアミン／メチルセロソルブ／クロロホルム（３５／５０／１５）の混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４４】
比較例１
フォトポリマーにて深さ１８００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．３による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．３をテトラフルオロプロパノールに溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４５】
比較例２
フォトポリマーにて深さ１８００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．４による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．４をオクタフルオロペンタノールに溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４６】
比較例３
フォトポリマーにて深さ１４００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．１による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．１をメチルセロソルブ／ブタノール（７０／３０）混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ６００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４７】
比較例４
フォトポリマーにて深さ１４００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．２による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．２をテトラフルオロプロパノール／メチルエチルケトン（５０／５０）混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ８００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４８】
実施例１〜３、参考例１及び比較例１〜４で作製した光記録媒体の反射率（％）及びＣ／Ｎ比（ｄＢ）について下記条件で評価した。評価結果を下記［表２］に示す。
【００４９】
＜記録条件＞
・レーザ発振波長 ：６３５ｎｍ
・記録周波数 ：１．２５ＭＨｚ
・記録線速 ：３．０ｍ／ｓｅｃ
＜再生条件＞
・レーザ発振波長 ：６５０ｎｍ
・再生パワー ：０．６〜０．９ｍＷの連続光
・スキャニングバンド幅 ：３０ｋＨｚ
＜耐光テスト条件＞
・耐光テスト ：４万ＬｕｘのＸｅ光を２０時間連続照射
・保存テスト ：８５℃×８５％の雰囲気に５００時間放置
【００５０】
【表２】
【００５１】
実施例４
深さ１７００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．５のブチルメチルアミン溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５２】
参考例２
深さ１６００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．６のジプロピルアミン溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５３】
実施例５
深さ１５００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．７のジイソプロピルアミン溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５４】
比較例５
深さ１７００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．５のテトラフルオロプロパノール溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５５】
比較例６
深さ１６００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．６のテトラフルオロプロパノール溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５６】
比較例７
深さ１５００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．７のテトラフルオロプロパノール溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５７】
実施例４，５、参考例２及び比較例５〜７で作製した光記録媒体の反射率（％）及び再生波形について下記の記録条件で評価した。評価結果を下記［表３］に示す。
＜記録条件＞
発振波長６３５ｎｍ、ビーム径１．０μｍの半導体レーザ光を用い、トラッキングしながらＥＦＭ信号を記録し（線速３．０ｍ／ｓｅｃ、最短マーク長０．４μｍ）、発振波長６５０ｎｍの半導体レーザの連続光（再生パワー０．７ｍＷ）で再生し、再生波形を観察した。
【００５８】
【表３】
【００５９】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、請求項１〜８に係る光記録媒体の製造方法で用いるアミン溶剤は２級アミン溶剤又は３級アミン溶剤であって、これらは他の溶剤との相溶性が良く、記録材料としての有機色素（請求項３）を上記アミン溶剤により、またはこれらアミン溶剤と他の溶剤との混合溶剤により、それぞれ充分に溶解した色素溶液を調製することができ（本発明の実施例を参照）、この色素溶液を基板上に適宜の方法で塗布することによって、長期にわたって高い記録再生特性を有する記録層を安価に、しかも射出成形ポリカーボネート基板を損傷することなく形成することができる。したがって、本発明で製造された光記録媒体は、データ用大容量追記光ディスク（大容量追記型コンパクトディスク、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ）として有利に応用ができるものである。
【００６０】
また、本発明の光記録媒体製造方法では、所定のアミン溶剤のうち、沸点が８０℃〜１８０℃のものを用いる（請求項２）ことにより、反射率の高い記録層を形成することができる。
【００６１】
請求項４〜６の光記録媒体製造方法では、有機色素としてアゾ化合物、又はアゾ化合物と金属もしくはその塩とから合成されるアゾ金属キレート化合物を用い、これら有機色素の溶剤として上記アミン溶剤を使用するため、また、請求項８の光記録媒体製造方法では、所定の記録材料溶液をスピンコーティングにより塗布するため、それぞれ優れた特性の光記録媒体を安価に、かつ生産性良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る追記型光記録媒体の構成例を示す模式断面図である。
【図２】 本発明に係る追記型光記録媒体の別の構成例を示す模式断面図である。
【図３】 本発明に係る追記型光記録媒体の更に別の構成例を示す模式断面図である。
【図４】 本発明に係る追記型光記録媒体の更に別の構成例を示す模式断面図である。
【図５】 本発明に係るＣＤ−Ｒ用光記録媒体の構成例を示す模式断面図である。
【図６】 本発明に係るＣＤ−Ｒ用光記録媒体の別の構成例を示す模式断面図である。
【図７】 本発明に係るＣＤ−Ｒ用光記録媒体の更に別の構成例を示す模式断面図である。
【図８】 本発明に係るＤＶＤ−Ｒ用光記録媒体の構成例を示す模式断面図である。
【図９】 本発明に係るＤＶＤ−Ｒ用光記録媒体の別の構成例を示す模式断面図である。
【図１０】 本発明の実施例１〜５、参考例１，２及び比較例１〜７において記録層形成に用いた有機色素の構造式を示す図である。
【符号の説明】
１ 基板
２ 記録層
３ 下引き層
４ 保護層
５ ハードコート層
６ 金属反射層
７ 保護基板
８ 接着層
【発明の属する技術分野】
本発明は、データ用大容量追記光ディスク（大容量追記型コンパクトディスク、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ）の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体レーザを用いた記録再生可能な光記録媒体が求められている。従来提案されている光記録媒体としては、光磁気記録媒体、相変化記録媒体、カルコゲン酸化物系記録媒体、有機色素光記録媒体がある。これらの中で有機色素光記録媒体は安価であり、その製造プロセスも簡単である点において、他の光記録媒体に比べて有利なものと考えられる。現在、記録再生可能な有機色素光記録媒体として、いわゆるＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒが開発されている。
【０００３】
記録再生可能な有機色素光記録媒体は、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン等の透明樹脂基板上に有機色素情報記録層を形成し、さらに必要に応じて金属反射層、保護層等を形成した構成となっている。情報記録層（以下、記録層という）の形成方法としては、コスト低減のために、有機色素を混合又は単一の有機溶媒に溶解してから、基板上にスピンコーティングするものが一般的である。使用する有機溶媒には、これが透明樹脂基板を損傷しないことが求められる。そのための適当な溶媒としてはアルコールやセロソルブ等が挙げられるが、しかし、これらの溶剤は色素を良く溶解するものではない。
【０００４】
従来、基板を浸食することなく色素を溶解することができる溶剤として、多種類の溶剤を微妙な比率で混合した混合溶剤や、フッ素アルコールが使用されている。
【０００５】
ところが、混合溶剤では各成分の混合比が変わると良好な記録層を形成することができないため、品質の管理に重大な費用がかかっていた。一方、フッ素アルコールは他の溶剤に比べて極めて高価である。また、フッ素アルコールは単一成分でスピンコーティングが可能な優れた溶剤ではあるものの、溶解できる色素の種類が極めて少ない。さらに、フッ素アルコールは相溶性が極めて低く、他の溶剤との混合には不向きである。さらに極めて高粘度であるため、スピンコート法による記録層の形成する場合には、極めて多くの色素を消費することになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたもので、その目的は、有機色素の溶解性が高く、しかも他の溶剤と任意の割合で混合できる溶剤を使用することで、充分な記録再生特性を有し、しかもその特性を長期にわたって安定に維持しうる光記録媒体を安価に提供することにあり、具体的には基板上への有機色素記録層の形成方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、種々検討の結果、有機色素を溶解するための溶剤の一部又は全部にアミン溶剤を使用することで、有機色素を充分に溶解すると同時に、射出成形ポリカーボネート基板を損傷することなく記録層を形成できることを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
請求項１に係る光記録媒体の製造方法は、基板上に記録材料のアミン溶剤溶液を用いて記録層を形成する光記録媒体の製造方法であって、
前記アミン溶剤としてジイソブチルアミン、ブチルメチルアミン、ブチルエチルアミン、ジブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ヘキシルメチルアミン、トリプロピルアミン、エチル−２−プロピルアリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、ジブチルエチルアミン、エチル−２−メチルアリルアミン、メチルプルパージルアミン、トリイソプロピルアミン、１，１−ジメトキシトリメチルアミン、１，１−ジシクロヘキシルオキシトリメチルアミン、１，１−ジエトキシトリメチルアミン、ジメチルヘキシルアミン、アリルシクロペンチルアミン、ジエチル−（２−ビニルオキシエチル）−アミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ビス（２−メトキシエチル）アミン、ｔ−ブチルシクロヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリイソブチルアミン、２，２−ジエトキシトリエチルアミン、ジペンチルアミン、ジイソプロパノールアミンおよび、ジシクロヘキシルアミンからなる群より任意に選択される一種または二種以上の溶剤を用いることを特徴とする。
本発明の典型例では、有機色素記録材料をアミン溶剤に溶解した溶液を基板上に、これと接して又は他の層を介して、スピンコーティングすることにより記録層を形成する。
【０００９】
請求項２に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１において、アミン溶剤として沸点が８０℃〜１８０℃のもの、好ましくは１００℃〜１５０℃のものを用いることを特徴とする。これらのアミン溶剤を用いることで、断面形状が屈曲のない水平な記録層を形成することができ、その反射率が高まる。請求項３に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１または２において前記記録材料が有機色素であることを特徴とする。１級アミン溶剤は、ポリカーボネートを容易に溶解するため、ポリカーボネート製基板による光記録媒体製造には不向きであるが、本発明に係るアミン溶剤ではこのようなことがない。
【００１０】
請求項４に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１〜３のいずれか一つの項において、記録材料がアゾ化合物であるか、又はアゾ化合物と金属もしくはその塩とから合成されるアゾ金属キレート化合物であることを特徴とする。
【００１１】
請求項５に係る光記録媒体の製造方法は、請求項４において、アゾ化合物は一般式が下記［化３］で示されるものであることを特徴とする。
【００１２】
【化３】
（上記［化３］において、Ａはこれが結合している炭素原子及び窒素原子と一緒になってピラゾール、２−ピラゾリン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、１，３，４−チアジアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ｓ−トリアジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キノキサリン、アクリジン、１，１０−フェナントロリンからなる群より選択された複素環を形成する残基を表す。Ｂはこれが結合している２つの炭素原子と一緒になって芳香族を形成する残基を表す。Ｘは−ＯＬ，−ＣＯＯＬ，−ＳＯ3 Ｌ又は−ＮＲＬを表し、Ｌは水素原子、アルキル基又はカチオンを表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）
【００１４】
請求項６に係る光記録媒体の製造方法は、請求項４において、アゾ化合物は一般式が下記［化４］で示されるものであることを特徴とする。
【００１５】
【化４】
（上記［化４］においてＣ及びＤは、それぞれ独立にそれが結合している２つの炭素原子と一緒になって芳香族を形成する残基を表す。Ｙ及びＺはそれぞれ独立に−ＯＬ，−ＣＯＯＬ，−ＳＯ3 Ｌ又は−ＮＲＬを表し、Ｌは水素原子、アルキル基又はカチオンを表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）
【００１７】上記アゾ金属キレート化合物を構成する金属種としては遷移金属が挙げられ、コバルト、ニッケル、銅が最適である。
【００１８】
請求項７に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１〜６のいずれか一つの項において、第１基板上に直接又は下引き層を介して記録層を形成し、さらに反射層、保護層又は第２基板を設けることを特徴とする。
請求項８に係る光記録媒体の製造方法は、請求項１〜７６のいずれか一つの項において、前記記録材料のアミン溶剤溶液をスピンコーティングにより塗布することを特徴とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
［記録体の構成］
本発明の光記録媒体は、断面構造が図１〜図４に示されるような通常の追記型光ディスクとすることができるし、これらを２枚貼り合わせた、いわゆるエアーサンドイッチ構造、又は密着貼合わせ構造とすることもできる。また、断面構造が図５〜図７に示されるようなＣＤ−Ｒ用メディアの構造としてもよい。さらに本発明では、図８〜図９に示すようなＤＶＤ−Ｒ用の断面構造とすることもできる。なお、図５と同一構造のＤＶＤ−Ｒとしてもよい。
【００２０】
すなわち、図１の光記録媒体では、基板１上に記録層２のみが積層されている。図２の光記録媒体では、基板１上に下引き層３を介して記録層２が積層されている。図３の光記録媒体では、図２のものにおいて記録層２上に保護層４が積層されている。図４の光記録媒体では、図３のものにおいて基板１下にハードコート層５が積層されている。
【００２１】
図５の光記録媒体では、基板１上に記録層２、金属反射層６、保護層４の順に積層されている。図６の光記録媒体では、基板１上に下引き層３、記録層２、金属反射層６、保護層４の順に積層されている。図７の光記録媒体では、図６のものにおいて基板１下にハードコート層５を積層した形態になっている。
【００２２】
図８の光記録媒体では、基板１上に記録層２、金属反射層６、保護層４、接着層８、保護基板７の順に積層されている。図９の光記録媒体では、基板１上に下引き層３、記録層２、金属反射層６、保護層４、接着層８、保護基板７の順に積層され、基板１下にハードコート層５が積層されている。
【００２３】
［各層の必要特性及び構成材料例］
本発明に係る記録媒体では、第１基板上に直接又は下引き層を介して記録層を設け、さらに反射層、保護層又は第２基板を設けたもの、例えば図８，９に示すような、第１基板（基板１）と第２基板（保護基板７）とを、記録層２を介して接着剤（接着層８）で貼り合わせた構造を基本構造とする。記録層２は有機色素層単層でもよく、反射率を高めるため有機色素層と金属反射層との積層でも良い。記録層２と基板１とは、下引き層３あるいは保護層４を介して層成してもよく、機能向上のためそれらを積層化した構成でも良い。最も普通に用いられる構造は、第１基板／有機色素層／金属反射層／保護層／接着層／第２基板である。
【００２４】
＜基板＞
基板側より記録再生を行う場合にのみ、基板は使用レーザ光に対して透明でなければならず、記録層側から記録再生を行う場合には、透明である必要はない。従って本発明では、基板を１層しか用いない場合は、上記第２基板のみが透明であればよく、上記第１基板の透明、不透明は問わない。
【００２５】
基板材料としては例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド等のプラスチック、ガラス、セラミックあるいは金属等を用いることができる。尚、基板を１層しか用いない場合、あるいは基板２枚をサンドイッチ状で用いる場合は、上記第１基板の表面にトラッキング用の案内溝や案内ピット、さらにアドレス信号等のプレフォーマットが形成されている必要がある。
【００２６】
＜中間層＞
下引き層等を含め基板、記録層、反射層、保護層以外に設けられた層をここでは中間層と呼ぶことにする。この中間層は（ａ）接着性の向上、（ｂ）水、又はガス等のバリアー、（ｃ）記録層の保存安定性の向上、（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤からの基板や記録層の保護、（ｆ）案内溝・案内ピット・プレフォーマット等の形成等を目的として使用される。
【００２７】
（ａ）の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の高分子物質、シランカップリング剤等を用いることができる。（ｂ）（ｃ）の目的に対しては、前記高分子材料以外に無機化合物として、例えばＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＳｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯ，ＴｉＮ，ＳｉＮ等が用いられる。金属又は半金としては例えばＺｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｇｅ，Ｓｅ，Ａｕ，Ａｇ，Ａｌ等を用いることができる。
【００２８】
また、（ｄ）の目的に対しては金属、例えばＡｌ，Ａｇ等や、金属光沢を有する有機薄膜、例えばメチン染料、キサンテン系染料等を用いることができる。（ｅ）（ｆ）の目的に対しては紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。下引き層の膜厚は０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍとする。
【００２９】
＜記録層＞
記録層はレーザ光の照射により何らかの光学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録できるものであって、この記録層中には本発明の色素が含有されていることが必要で、記録層の形成にあたって本発明の色素を１種、又は２種以上の組合わせで用いてもよい。さらに、本発明の前記色素は光学特性、記録感度、信号特性等の向上の目的で他の有機色素及び金属、金属化合物と混合又は積層化しても良い。
【００３０】
有機色素の具体例としては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、アントレキノン（インダンスレン）系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、テトレヒドロコリン系、フェナンスレン系、トリフェノチアジン系染料、及び金属キレート化合物等が挙げられ、前記の染料を単独で用いてもよいし、２種以上の組み合わせにしてもよい。
【００３１】
また、前記染料中に金属又は金属化合物、例えばＩｎ，Ｔｅ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｓｂ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ａｌ，Ｂｅ，ＴｅＯ2 ，ＳｎＯ，Ａｓ，Ｃｄ等を分散混合あるいは積層の形態で用いることもできる。さらに、前記染料中に高分子材料例えば、アイオノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の材料又はシランカップリング剤等を分散混合して用いてもよいし、あるいは特性改良の目的で安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等と併用することもできる。
【００３２】
記録層の形成は蒸着、スパッタリング、ＣＶＤまたは溶剤塗布等の通常の手段によって行うことができる。塗布法を用いる場合には前記染料等を有機溶媒等に溶解してスプレー、ローラーコーティング、ディッピング又はスピンコーティング等の慣用のコーティング法によって行われる。
【００３３】
本発明に使用でき、しかも入手容易なアミン溶剤としては、下記［表１］に示すものが挙げられる。
【００３４】
【表１】
上記アミン溶剤と混合して使用される有機溶剤としては一般に、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭素、トリクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、あるいはベンゼン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類、メトキシエタノール、エトキシエタノール等のセロソルブ類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素類等を用いることができる。
【００３６】
記録層の膜厚は１００Å〜１０μｍ、好ましくは２００Å〜２０００Åとする。
【００３７】
＜金属反射層＞
反射層の材料としては単体で高反射率が得られ、かつ腐蝕されにくい金属、半金属等が挙げられる。材料例としてはＡｕ，Ａｇ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｌ，Ｆｅ，Ｓｎ等が挙げられるが、反射率・生産性の点からＡｕ，Ａｇ，Ａｌが最も好ましく、これらの金属、半金属は単独で使用しても良く、２種の合金としても良い。膜形成法としては蒸着、スパッタリング等が挙げられ、膜厚は５０Å〜５０００Å、好ましくは１００Å〜３０００Åとする。
【００３８】
＜保護層、基板表面ハードコート層＞
保護層、又は基板面ハードコート層は（ａ）記録層（反射吸収層）を傷、ホコリ、汚れ等から保護する、（ｂ）記録層（反射吸収層）の保存安定性の向上、（ｃ）反射率の向上等を目的として使用される。これらの目的に対しては、前記中間層に示した材料を用いることができる。また、無機材料として、ＳｉＯ，ＳｉＯ2 等も用いることができ、有機材料としてポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、芳香族炭化水素樹脂、天然ゴム、スチレンブタジエン樹脂、クロロプレンゴム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。
【００３９】
上記材料のうち保護層、又は基板表面ハードコート層に最も好ましい例としては、生産性に優れた紫外線硬化樹脂が挙げられる。保護層又は基板面ハードコート層の膜厚は０．０１〜３０μｍが適当で、より好ましくは０．０５〜１０μｍである。本発明において、前記下中間層、保護層、及び基板面ハードコート層には記録層の場合と同様に安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有させることができる。
【００４０】
【実施例】
実施例１
フォトポリマーにて深さ１６００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．１による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．１をジブチルエチルアミン／メチルセロソルブ（５０／５０）の混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ８００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４１】
実施例２
フォトポリマーにて深さ１６００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリメチルメタクリレート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．２による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．２のジブチルアミン溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ８００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４２】
参考例１
フォトポリマーにて深さ１８００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．３による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．３をジプロピルアミン／１，２−ジクロロエタン（７０／３０）の混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４３】
実施例３
フォトポリマーにて深さ１８００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．４による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．４をエチル−２−メチルアリルアミン／メチルセロソルブ／クロロホルム（３５／５０／１５）の混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４４】
比較例１
フォトポリマーにて深さ１８００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．３による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．３をテトラフルオロプロパノールに溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４５】
比較例２
フォトポリマーにて深さ１８００Å、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．４による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．４をオクタフルオロペンタノールに溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４６】
比較例３
フォトポリマーにて深さ１４００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．１による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．１をメチルセロソルブ／ブタノール（７０／３０）混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ６００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４７】
比較例４
フォトポリマーにて深さ１４００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を形成した、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．２による有機色素層を形成した。この場合、化合物例Ｎｏ．２をテトラフルオロプロパノール／メチルエチルケトン（５０／５０）混合溶剤に溶解した溶液を上記基板上にスピンコーティングすることにより、厚さ８００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。
【００４８】
実施例１〜３、参考例１及び比較例１〜４で作製した光記録媒体の反射率（％）及びＣ／Ｎ比（ｄＢ）について下記条件で評価した。評価結果を下記［表２］に示す。
【００４９】
＜記録条件＞
・レーザ発振波長 ：６３５ｎｍ
・記録周波数 ：１．２５ＭＨｚ
・記録線速 ：３．０ｍ／ｓｅｃ
＜再生条件＞
・レーザ発振波長 ：６５０ｎｍ
・再生パワー ：０．６〜０．９ｍＷの連続光
・スキャニングバンド幅 ：３０ｋＨｚ
＜耐光テスト条件＞
・耐光テスト ：４万ＬｕｘのＸｅ光を２０時間連続照射
・保存テスト ：８５℃×８５％の雰囲気に５００時間放置
【００５０】
【表２】
実施例４
深さ１７００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．５のブチルメチルアミン溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５２】
参考例２
深さ１６００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．６のジプロピルアミン溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５３】
実施例５
深さ１５００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．７のジイソプロピルアミン溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５４】
比較例５
深さ１７００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．５のテトラフルオロプロパノール溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５５】
比較例６
深さ１６００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．６のテトラフルオロプロパノール溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５６】
比較例７
深さ１５００Å、トラックピッチ０．８０μｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、構造式が図１０に示される化合物例Ｎｏ．７のテトラフルオロプロパノール溶液をスピンコーティングすることにより、厚さ１０００Åの有機色素層（記録層）を形成した。ついで、スパッタ法により金２０００Åの反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて５μｍの保護層を設けて記録媒体とした。
【００５７】
実施例４，５、参考例２及び比較例５〜７で作製した光記録媒体の反射率（％）及び再生波形について下記の記録条件で評価した。評価結果を下記［表３］に示す。
＜記録条件＞
発振波長６３５ｎｍ、ビーム径１．０μｍの半導体レーザ光を用い、トラッキングしながらＥＦＭ信号を記録し（線速３．０ｍ／ｓｅｃ、最短マーク長０．４μｍ）、発振波長６５０ｎｍの半導体レーザの連続光（再生パワー０．７ｍＷ）で再生し、再生波形を観察した。
【００５８】
【表３】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、請求項１〜８に係る光記録媒体の製造方法で用いるアミン溶剤は２級アミン溶剤又は３級アミン溶剤であって、これらは他の溶剤との相溶性が良く、記録材料としての有機色素（請求項３）を上記アミン溶剤により、またはこれらアミン溶剤と他の溶剤との混合溶剤により、それぞれ充分に溶解した色素溶液を調製することができ（本発明の実施例を参照）、この色素溶液を基板上に適宜の方法で塗布することによって、長期にわたって高い記録再生特性を有する記録層を安価に、しかも射出成形ポリカーボネート基板を損傷することなく形成することができる。したがって、本発明で製造された光記録媒体は、データ用大容量追記光ディスク（大容量追記型コンパクトディスク、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ）として有利に応用ができるものである。
【００６０】
また、本発明の光記録媒体製造方法では、所定のアミン溶剤のうち、沸点が８０℃〜１８０℃のものを用いる（請求項２）ことにより、反射率の高い記録層を形成することができる。
【００６１】
請求項４〜６の光記録媒体製造方法では、有機色素としてアゾ化合物、又はアゾ化合物と金属もしくはその塩とから合成されるアゾ金属キレート化合物を用い、これら有機色素の溶剤として上記アミン溶剤を使用するため、また、請求項８の光記録媒体製造方法では、所定の記録材料溶液をスピンコーティングにより塗布するため、それぞれ優れた特性の光記録媒体を安価に、かつ生産性良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る追記型光記録媒体の構成例を示す模式断面図である。
【図２】 本発明に係る追記型光記録媒体の別の構成例を示す模式断面図である。
【図３】 本発明に係る追記型光記録媒体の更に別の構成例を示す模式断面図である。
【図４】 本発明に係る追記型光記録媒体の更に別の構成例を示す模式断面図である。
【図５】 本発明に係るＣＤ−Ｒ用光記録媒体の構成例を示す模式断面図である。
【図６】 本発明に係るＣＤ−Ｒ用光記録媒体の別の構成例を示す模式断面図である。
【図７】 本発明に係るＣＤ−Ｒ用光記録媒体の更に別の構成例を示す模式断面図である。
【図８】 本発明に係るＤＶＤ−Ｒ用光記録媒体の構成例を示す模式断面図である。
【図９】 本発明に係るＤＶＤ−Ｒ用光記録媒体の別の構成例を示す模式断面図である。
【図１０】 本発明の実施例１〜５、参考例１，２及び比較例１〜７において記録層形成に用いた有機色素の構造式を示す図である。
【符号の説明】
１ 基板
２ 記録層
３ 下引き層
４ 保護層
５ ハードコート層
６ 金属反射層
７ 保護基板
８ 接着層
Claims (8)
- 基板上に記録材料のアミン溶剤溶液を用いて記録層を形成する光記録媒体の製造方法であって、
前記アミン溶剤としてジイソブチルアミン、ブチルメチルアミン、ブチルエチルアミン、ジブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ヘキシルメチルアミン、トリプロピルアミン、エチル−２−プロピルアリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、ジブチルエチルアミン、エチル−２−メチルアリルアミン、メチルプルパージルアミン、トリイソプロピルアミン、１，１−ジメトキシトリメチルアミン、１，１−ジシクロヘキシルオキシトリメチルアミン、１，１−ジエトキシトリメチルアミン、ジメチルヘキシルアミン、アリルシクロペンチルアミン、ジエチル−（２−ビニルオキシエチル）−アミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ビス（２−メトキシエチル）アミン、ｔ−ブチルシクロヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリイソブチルアミン、２，２−ジエトキシトリエチルアミン、ジペンチルアミン、ジイソプロパノールアミンおよび、ジシクロヘキシルアミンからなる群より任意に選択される一種または二種以上の溶剤を用いることを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 請求項１において、アミン溶剤の沸点が８０℃〜１８０℃のものを用いることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
- 請求項１または２において前記記録材料が有機色素であることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
- 請求項１〜３のいずれか一つの項において、記録材料がアゾ化合物であるか、又はアゾ化合物と金属もしくはその塩とから合成されるアゾ金属キレート化合物であることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
- 請求項４において、アゾ化合物は一般式が下記［化１］で示されるものであることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
- 請求項４において、アゾ化合物は一般式が下記［化２］で示されるものであることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
- 請求項１〜６のいずれか一つの項において、第１基板上に直接又は下引き層を介して記録層を形成し、さらに反射層、保護層又は第２基板を設けることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
- 請求項１〜７のいずれか一つの項において、前記記録材料のアミン溶剤溶液を基板上に、スピンコーティングにより塗布することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
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