JP3623292B2 - 真空蒸着用基板傾斜自公転装置 - Google Patents

真空蒸着用基板傾斜自公転装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空蒸着槽内に於いて蒸着処理される基板を自転及び公転させて成膜する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の装置として例えば図13に示すような、蒸発源aを内部に設けた真空槽b内に、蒸着を施される基板cが取り付けられて自転する自転板dと、該真空槽bを挿通した公転軸eにより回転されて該自転板dに公転を与える公転部材fを設けた装置が公知であり、該公転軸eが真空シールgを介して該真空槽bの外部のモーターhにより回転されると、公転部材fに取り付けた該自転板dの回転軸iと一体のローラーjが該真空槽b内に設けたレールkに接触回転し、該自転板dに設けた基板cに自転と公転が与えられて、これに形成される蒸着膜を均一な厚さにできる。該自転板dはその板面を下方の蒸発源aに向けて傾斜して回転自在に取り付けられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のものは、自転数と公転数の比がローラーjの径及びレールkの長さで決定されてしまうため、これらの部品の変更なしに自公転比を変化させることは出来ない不都合がある。また、蒸発源aに対する基板cの傾斜角度は固定であり、その角度を変更する場合には、部品の変更、組付け変更を伴うので、蒸着中に角度を変化させて蒸着物の入射角を変えることはできない。更に、自転板dへの基板cの取り付けは、真空槽b内を大気圧に戻し、人手により行われており、生産性が低い欠点がある。
【0004】
本発明は、このような蒸着装置に於ける自公転比を任意に変更できる基板傾斜自公転装置を提供すること、入射角の異なった蒸着を連続的に行え、更に自転板への基板の着脱を自動的に行える装置を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明では、蒸発源を内部に設けた真空槽内に、蒸着を施される基板が取り付けられて自転する自転板と該真空槽を挿通した公転軸により回転されて該自転板に公転を与える公転部材を設けた装置に於いて、該公転部材に該自転板を揺動部材により揺動自在に取り付けすると共に該自転板を該公転部材に取り付けた自転用モーターに連結してこれに自転を与え、該公転軸と共通の中心軸を有して該真空槽内へ延びて該公転軸と共に回転し且つ該中心軸方向へ該公転軸から独立して移動自在の摺動回転軸を設け、該揺動部材に該摺動回転軸を連結して該摺動回転軸の該中心軸方向への移動により該揺動部材及び該自転板を揺動させる構成として、上記の目的を達成するようにした。該摺動回転軸の真空槽内の端部に該回転軸と共に回転昇降する昇降板を一体に取り付け、該昇降板と揺動部材をカム機構等の該昇降板の昇降運動を揺動運動に変換する機構を介して連結することにより、該自転板が揺動される。また、該摺動回転軸の真空槽外部の端部に該回転軸の軸と直交方向に延びるガイド板を一体に取り付け、該回転軸と平行に該真空槽の外部に設けた昇降用モーターにより回転されるねじ桿に、該ガイド板の両面を挟んで回転する1対のローラーを取り付けた移動子を装着した構成とすることにより、該回転軸の軸方向の移動を行える。更に、該自転板に、バネに抗して該自転板の板面から離反する複数個の保持片を設けて該保持片と該板面の間に基板を保持し、上記真空槽の側壁に基板搬送ロボットの搬送腕が進入する基板出入口を設け、該真空槽内の基板出入口の両側に設けた回転軸を中心に揺動して上記自転板を挟むことにより所定位置に該自転板を停止させるスイングアームを設け、該スイングアームに該真空槽の内外に延びるプッシュロッドにより押され且つ該自転板の各保持片を押圧して該板面から離反させる基板解放用の押圧部材を設けることにより、該自転板を所定位置に停止させて基板の交換を自動的に行える。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図面に基づき説明すると、図1に於いて、符号1は内部に蒸発源2を設けた真空槽を示し、該真空槽1内の上方には蒸着処理を施される基板3を取り付けて自転する自転板4が設けられ、該真空槽1を内外に挿通して設けた公転軸5の真空槽1内の端部に公転部材6を固定し、該公転部材6に該自転板4を取り付けてこれに公転を与える。
【0007】
該公転軸5は中空部材で構成され、回転真空シール7を介して該真空槽1を内外に挿通し、該公転軸5の真空槽1外の端部に中空式直結型モーター8を直結して該公転軸5に回転を与えると共に公転部材6に公転を与えるようにした。自転板4は方形の板状材で構成され、図2乃至図4に示すように、その背面側の板面の中心に設けた自転軸9を、該公転部材6から垂下させた2本一対の支柱10、10間に回動自在に設けた略クランク形の揺動部材11に軸受12を介して回転自在に取り付け、該支柱10に取り付けた自転用モーター13の回転軸をフレキシブルカップリング14を介して該自転軸9に連結した。
【0008】
符号15は、該公転軸と共通の中心軸を有し、該公転軸5と共に回転し且つ該中心軸方向へ該公転軸5から独立して移動する中空の摺動回転軸で、該公転軸5の中空部内を挿通して該真空槽1内へと延び、該揺動部材11に昇降板16とロッド17を介して連結した。該揺動部材11のコ字状のクランク部11aにカム溝21を形成すると共に該ロッド17に該カム溝21と係合するカムローラー22を設けてカム機構23を構成させ、該摺動回転軸15の摺動で該昇降板16が昇降したとき、該カム機構23の作動により該揺動部材11が自転板4の板面を真空槽2の内方へ向けた状態から、図3及び図4に示すような下方へ向ける状態へと揺動するようにした。
【0009】
該摺動回転軸15の該摺動回転軸15の回転を可能にすること及びこれに移動を与えるために、該摺動回転軸15の該真空槽1の外部の端部にその軸方向と直交方向へ延びるガイド板18を一体に取り付けると共に、その側方に該回転軸15と平行に設けた昇降用モーター19により回転されるねじ桿20に移動子24を螺着し、該移動子24に該ガイド板18の上下の両面を挟んで回転する1対のローラー25、25を設けた。該ガイド板18には挿通孔26を形成し、これに該公転軸5の真空槽1外の端部に設けたフランジ5aから延びる連結桿27を挿通させ、該公転軸5の回転が該連結桿27を介して該ガイド板18に伝達され、該摺動回転軸15も回転されるようにした。この回転中に該昇降用モーター19でねじ桿20を回転させると、移動子24がそのローラー25、25間に回転するガイド板18を挟んで昇降し、該摺動回転軸15にその軸方向の移動が与えられて昇降板16が昇降し、カム機構23が作動して揺動部材11が揺動する。従って、該公転軸5により自転板4が公転中であっても任意に該自転板4の傾斜を変更できる。
【0010】
該基板3は、該自転板4の周縁の複数箇所に設けた保持片27により該自転板4の板面との間に挟んで保持し、各保持片27を該自転板4を挿通したピン28に取り付けて該自転板4の背面と該ピン28の間に介在させたバネ29により該基板3の保持力が生じるようにした。該基板3の自転板4への着脱の制御は、図5及び図6に示すように、各ピン28を一斉に押圧する長手の押圧部材30により行われ、基板3は該真空槽1の側壁1aに形成した基板出入口31から槽内へ進入する搬送ロボットの搬送腕32により外部との間で搬送される。
【0011】
該基板出入口31の両側には真空槽1の外部のモーター(図示してない)等により正逆に回転される回転軸33、33を設け、これに該押圧部材30及び位置決めローラー35を備えたスイングアーム34、34の根部を固定し、図7及び図8のように自転板4の公転が停止したとき両スイングアーム34が側壁1a付近の退去位置から旋回して該位置決めローラー35、35間に該自転板4の側縁を挟み、該基板出入口31の対向位置に該自転板4を位置させる。該押圧部材30はスイングアーム34の先端部に挿通して設けたバネ36を介在させた作動軸37に固定され、該真空槽1を内外へ延びるプッシュロッド38が該作動軸37をバネ36に抗して押圧すると、該押圧部材30がその下方に位置する自転板4の各ピン28を一斉に押し、保持片27が緩んで基板3を板面から解放する。この基板3の解放時には該自転板4が揺動部材11の作動によりその板面を下方に向けて停止し、搬送ロボットの搬送腕32は基板出入口31から進入して該板面の対向位置にこの解放に先立って待機する。尚、該基板3を自転板4の板面へ装着するときは、その板面を下面に向けると共に各保持片27を解放状態として自転板4を待機させ、該板面と保持片27の間へ基板3を載せた搬送腕32が進入すると、該保持片27に保持作動を行わせ、基板3が板面に装着される。39は公転軸5の内部の真空を維持するためのベローズ、40は摺動回転軸15の内部の真空を維持するためのキャップ、41は自転用モーター13に給電するスリップリングである。
【0012】
以上の構成に作動を説明すると、真空槽1内を適当な真空圧に排気し、蒸発源2を作動させ、公転軸5の回転により基板3を取り付けた自転板4を公転させると共に自転用モーター13の回転により該自転板4を自転させる。該自転板4は摺動回転軸15を適当な距離だけ移動させて蒸発物が所定の入射角で入射するように傾斜した状態で自公転し、その自転数と公転数の比は、公転用の中空式直結型モーター8の回転数と自転用モーター13の回転数を任意に設定することにより自在に変更できる。また、昇降用モーター19を適当数回転させて摺動回転軸15をその軸方向へ移動させると、昇降板16のロッド17がカム機構23を作動させて揺動部材11を揺動するので、自転板4の傾斜角度が変更され、移動子24のローラー25、25で該摺動回転軸15のガイド板18を挟む構成であるので、自公転中でも自由にその傾斜角度の変更を行える。その蒸着が終了すると、蒸発源2からの蒸気が基板3へ到達しないように例えばシャッターを閉じ、自公転を止め、該摺動回転軸15を移動させて自転板4の板面を下方に向け、スイングアーム34、34の進出により該自転板4を挟んで所定に位置に停止させ、基板出入口31から進入した搬送ロボットの搬送腕32が該自転板4の板面の対向位置にわずかな間隔を存して位置させたのちプッシュロッド38を下動させる。これにより該スイングアーム34の押圧部材30が自転板4の各ピン28を押し、これと一体の保持片27が該板面から離反すると保持されていた蒸着済みの基板3が該搬送腕32上へ僅か落下して受け渡され、真空槽1に仕切バルブを介して気密に接続した仕込取出室へ該搬送腕32により搬出される。該搬送腕32は、その外部で該蒸着済みの基板3を新たな基板と交換して再び真空槽1内の該板面と対向する位置へ進入し、このあと該プッシュロッド38を退去させると該保持片27がバネ29により基板3を該板面との間で狭持状態に復帰する。そして回転摺動軸15を上昇させて自転板4を所定の傾斜とし、中空式直結型モーター8及び自転用モーター13を所望の回転比で回転させながらシャッターを開いて蒸気を基板3に当て、蒸着が続行される。この蒸着中に仕込取出室との間の仕切バルブが閉じられ、蒸着された基板は外部へ搬出され、新たな蒸着されるべき基板が該仕込取出室内に用意される。尚、自転板4は、通常、公転部材6に複数設けられ、各自転板4の基板3は順次に該搬送腕32にて交換される。
【0013】
該昇降板16の昇降運動を揺動部材11の揺動運動に変換する機構は、カム機構23以外に、図9のようにロッド17に設けたリンク機構42により、或いは図10のようにロッド17に形成したラック43と噛合する揺動部材11に形成したピニオン44とで構成してもよい。また、自転用モーター13の回転を自転板4へ伝達するために、図12のように揺動部材11に傘歯車45を設け、これに自転用モーター13で回転される傘歯車46及び自転板4と一体の傘歯車47を咬み合わせるようにしてもよい。
【0014】
【発明の効果】
以上のように本発明によるときは、真空蒸着装置の真空槽内で基板に公転を与える公転部材に自転板を揺動部材により揺動自在に取り付けると共に該自転板を該公転部材に取り付けた自転用モーターに連結して該自転板に自転を与え、該公転部材に公転を与える公転軸と共に回転し且つ該公転軸から独立して移動自在の摺動回転軸を設け、該揺動部材と該摺動回転軸を連結して該摺動回転軸の移動により該揺動部材及び自転板を揺動するようにしたので、自公転比を任意に変更して蒸着を行えると共にその自公転中に該基板の蒸発源に対する傾斜角を任意に変更でき、入射角の異なった蒸着を連続して行え、請求項4の構成とすることにより、自転板から基板の着脱を自動的に行えるので生産性が向上する等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の要部の切断側面図
【図2】図1の要部の拡大側面図
【図3】図2の作動状態の説明図
【図4】図3の左側面図
【図5】図1の要部の切断平面図
【図6】図5の6−6線部分の断面図
【図7】基板の着脱状態の切断側面図
【図8】図7の作動状態の説明図
【図9】本発明の他の揺動構成の実施例の要部の拡大側面図
【図10】本発明の更に他の揺動構成の実施例の要部の拡大側面図
【図11】本発明の他の自転構成の実施例の側面図
【図12】本発明の更に他の自転構成の実施例の側面図
【図13】従来例の切断側面図
【符号の説明】
1 真空槽 1a 側壁 2 蒸発源
3 基板 4 自転板 5 公転軸
6 公転部材 9 自転軸 11 揺動部材
13 自転用モーター 15 摺動回転軸 16 昇降板
18 ガイド板 19 昇降用モーター 20 ねじ桿
23 カム機構 24 移動子 25 ローラー
27 保持片 29 バネ 30 押圧部材
31 基板出入口 32 搬送腕 33 回転軸
34 スイングアーム 38 プッシュロッド

Claims (4)

  1. 蒸発源を内部に設けた真空槽内に、蒸着を施される基板が取り付けられて自転する自転板と該真空槽を挿通した公転軸により回転されて該自転板に公転を与える公転部材を設けた装置に於いて、該公転部材に該自転板を揺動部材により揺動自在に取り付けすると共に該自転板を該公転部材に取り付けた自転用モーターに連結してこれに自転を与え、該公転軸と共通の中心軸を有して該真空槽内へ延びて該公転軸と共に回転し且つ該中心軸方向へ該公転軸から独立して移動自在の摺動回転軸を設け、該揺動部材に該摺動回転軸を連結して該摺動回転軸の該中心軸方向への移動により該揺動部材及び自転板を揺動することを特徴とする真空蒸着用基板傾斜自公転装置。
  2. 上記摺動回転軸の真空槽内の端部に該回転軸と共に回転昇降する昇降板を一体に取り付け、該昇降板と上記揺動部材をカム機構等の該昇降板の昇降運動を揺動運動に変換する機構を介して連結したことを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着用基板傾斜自公転装置。
  3. 上記摺動回転軸の真空槽外部の端部に該回転軸の軸と直交方向に延びるガイド板を一体に取り付け、該回転軸と平行に該真空槽の外部に設けた昇降用モーターにより回転されるねじ桿に、該ガイド板の両面を挟んで回転する1対のローラーを取り付けた移動子を装着したことを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着用基板傾斜自公転装置。
  4. 上記自転板に、バネに抗して該自転板の板面から離反する複数個の保持片を設けて該保持片と該板面の間に基板を保持し、上記真空槽の側壁に基板搬送ロボットの搬送腕が進入する基板出入口を設け、該真空槽内の基板出入口の両側に設けた回転軸を中心に揺動して上記自転板を挟むことにより所定位置に該自転板を停止させるスイングアームを設け、該スイングアームに該真空槽の内外に延びるプッシュロッドにより押され且つ該自転板の各保持片を押圧して該板面から離反させる基板解放用の押圧部材を設けたことを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着用基板傾斜自公転装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60038524D1 (de) * 1999-02-18 2008-05-21 Furukawa Electric Co Ltd Elektrode für halbleiteranordnung und verfahren zum herstellen
JP4835826B2 (ja) * 2005-04-25 2011-12-14 株式会社昭和真空 液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法
JP2007262445A (ja) * 2006-03-27 2007-10-11 Shin Meiwa Ind Co Ltd 基材保持装置
JP2008138276A (ja) * 2006-12-05 2008-06-19 Tsukishima Kikai Co Ltd 真空成膜装置
JP5098375B2 (ja) * 2007-03-12 2012-12-12 セイコーエプソン株式会社 液晶装置の製造方法
JP2009161843A (ja) * 2008-01-10 2009-07-23 Fujinon Corp ワーク支持部材、光学素子、位相差素子及び偏光ビームスプリッタ
CN101851742B (zh) * 2009-03-31 2012-07-04 比亚迪股份有限公司 一种化合物半导体薄膜的制备方法
JP2014122371A (ja) * 2012-12-20 2014-07-03 Mitsubishi Electric Corp 蒸着装置
CN104109841B (zh) * 2014-07-23 2016-08-24 中国科学院上海光学精密机械研究所 磁控溅射倾斜沉积镀膜装置
DE102015100062A1 (de) 2015-01-06 2016-07-07 Universität Paderborn Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen von Siliziumcarbid
JP2016169401A (ja) * 2015-03-11 2016-09-23 株式会社トプコン スパッタリング装置
JP6019310B1 (ja) * 2015-04-16 2016-11-02 ナルックス株式会社 蒸着装置及び蒸着装置による成膜工程を含む製造方法
DE102018100679A1 (de) 2018-01-12 2019-07-18 Universität Paderborn Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen von Siliziumcarbid
KR102097712B1 (ko) * 2018-07-24 2020-05-27 주식회사 넵시스 기판 고정 및 회전 장치
CN110629169B (zh) * 2019-10-29 2024-02-27 苏州华楷微电子有限公司 一种公转式半导体蒸发台
KR102453442B1 (ko) * 2021-12-29 2022-10-12 주식회사 메이 무기배향막 균일증착장치 및 이를 이용한 균일증착방법
CN217230906U (zh) * 2021-12-31 2022-08-19 华为数字能源技术有限公司 一种行星盘结构以及蒸镀设备

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