JPH07221163A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
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- JPH07221163A JPH07221163A JP3293994A JP3293994A JPH07221163A JP H07221163 A JPH07221163 A JP H07221163A JP 3293994 A JP3293994 A JP 3293994A JP 3293994 A JP3293994 A JP 3293994A JP H07221163 A JPH07221163 A JP H07221163A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スループットを向上し、安価でかつ、小型化
できるようにする。 【構成】 上下に平行に設けられた２本の搬送アーム２
０，２４を、処理室１の支点位置Ｄを回転支点として水
平方向に回転自在に設け、処理室１の待機位置Ｃから，
一方の搬送アーム２０の支持部１０を処理室１の処理位
置Ａに，他方の搬送アーム２４の支持部１０をロードロ
ック室３の着脱位置Ｂにそれぞれ同時に往復移行し，そ
の後一方の搬送アーム２０の支持部１０を前記着脱位置
Ｂに，他方の搬送アーム２４の支持部１０を前記処理位
置Ａにそれぞれ同時に往復移行する移行手段２５とを備
える。
できるようにする。 【構成】 上下に平行に設けられた２本の搬送アーム２
０，２４を、処理室１の支点位置Ｄを回転支点として水
平方向に回転自在に設け、処理室１の待機位置Ｃから，
一方の搬送アーム２０の支持部１０を処理室１の処理位
置Ａに，他方の搬送アーム２４の支持部１０をロードロ
ック室３の着脱位置Ｂにそれぞれ同時に往復移行し，そ
の後一方の搬送アーム２０の支持部１０を前記着脱位置
Ｂに，他方の搬送アーム２４の支持部１０を前記処理位
置Ａにそれぞれ同時に往復移行する移行手段２５とを備
える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板を搬送アームによ
り搬送する基板搬送装置に関する。
り搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種搬送装置は、図３及び図４
に示す構成になっている。それらの図において、１は処
理位置Ａで基板２に成膜等の処理を行う処理室、３は処
理室１の一側に隣接して設けられたロードロック室であ
り、着脱位置Ｂで基板２を交換する。４は処理室１とロ
ードロック室３との間に形成された開口、５は開口４を
開閉するゲートバルブ、６は磁気シール７を介して処理
室１に導入された上下方向の支軸、８は支軸６を回転す
るアーム用サーボモータ、９は基部が支軸６の上端部に
固着された水平方向の搬送アーム、１０は搬送アーム９
の先端部に形成されたＣ字形の支持部であり、アーム用
サーボモータ８の回転により支軸６，搬送アーム９を介
し、処理位置Ａと着脱位置Ｂとの間を往復移行する。
に示す構成になっている。それらの図において、１は処
理位置Ａで基板２に成膜等の処理を行う処理室、３は処
理室１の一側に隣接して設けられたロードロック室であ
り、着脱位置Ｂで基板２を交換する。４は処理室１とロ
ードロック室３との間に形成された開口、５は開口４を
開閉するゲートバルブ、６は磁気シール７を介して処理
室１に導入された上下方向の支軸、８は支軸６を回転す
るアーム用サーボモータ、９は基部が支軸６の上端部に
固着された水平方向の搬送アーム、１０は搬送アーム９
の先端部に形成されたＣ字形の支持部であり、アーム用
サーボモータ８の回転により支軸６，搬送アーム９を介
し、処理位置Ａと着脱位置Ｂとの間を往復移行する。
【０００３】１１は基板２を載置したトレイであり、支
持部１０の外径より大なる径を有し、底部に支持部１０
の内側に嵌合する突部が形成され、底面の中央に凹部が
形成されている。
持部１０の外径より大なる径を有し、底部に支持部１０
の内側に嵌合する突部が形成され、底面の中央に凹部が
形成されている。
【０００４】１２は処理位置Ａに設けられ，昇降装置１
３により上下動する処理用昇降軸、１４は処理用昇降軸
１２の上端に形成された処理用基板載置体であり、上面
の凸部がトレイ１１の下面の凹部に嵌合し、支持部１０
との間でトレイ１１を受け渡しする。
３により上下動する処理用昇降軸、１４は処理用昇降軸
１２の上端に形成された処理用基板載置体であり、上面
の凸部がトレイ１１の下面の凹部に嵌合し、支持部１０
との間でトレイ１１を受け渡しする。
【０００５】１５は着脱位置Ｂに設けられ，昇降装置１
６により上下動する着脱用昇降軸、１７は着脱用昇降軸
１５の上端に形成された着脱用基板載置体であり、底の
浅い有底円筒体からなり、その円筒部の内径が支持部１
０の外径より大きく、円筒部の上面の段部がトレイ１１
の底面外周部に嵌合し、円筒部の一側に支持部１０が出
入する欠如部が形成され、支持部１０との間でトレイ１
１を受け渡しする。１８はロードロック室３の蓋であ
る。
６により上下動する着脱用昇降軸、１７は着脱用昇降軸
１５の上端に形成された着脱用基板載置体であり、底の
浅い有底円筒体からなり、その円筒部の内径が支持部１
０の外径より大きく、円筒部の上面の段部がトレイ１１
の底面外周部に嵌合し、円筒部の一側に支持部１０が出
入する欠如部が形成され、支持部１０との間でトレイ１
１を受け渡しする。１８はロードロック室３の蓋であ
る。
【０００６】つぎに、基板２の移行について説明する。
まず、ゲートバルブ５が閉じられた状態でロードロック
室３の蓋１８が開けられ、上方に位置した着脱用基板載
置体１７上にトレイ１１とともに基板２が載置され、蓋
１８が閉められて真空排気される。
まず、ゲートバルブ５が閉じられた状態でロードロック
室３の蓋１８が開けられ、上方に位置した着脱用基板載
置体１７上にトレイ１１とともに基板２が載置され、蓋
１８が閉められて真空排気される。
【０００７】つぎに、ゲートバルブ５が開けられ、アー
ム用サーボモータ８が正回転し、搬送アーム９の支持部
１０が待機位置Ｃから、着脱用基板載置体１７の前記欠
如部を通ってロードロック室３の着脱位置Ｂに導入す
る。この状態で、着脱用昇降装置１６が駆動され、昇降
軸１５，着脱用基板載置体１７を介してトレイ１１が下
降し、トレイ１１が支持部１０に載置される。
ム用サーボモータ８が正回転し、搬送アーム９の支持部
１０が待機位置Ｃから、着脱用基板載置体１７の前記欠
如部を通ってロードロック室３の着脱位置Ｂに導入す
る。この状態で、着脱用昇降装置１６が駆動され、昇降
軸１５，着脱用基板載置体１７を介してトレイ１１が下
降し、トレイ１１が支持部１０に載置される。
【０００８】つぎに、アーム用サーボモータ８の逆回転
により搬送アーム９が逆回転し、開口４を通して支持部
１０が処理室１の処理位置Ａに移行され、処理用昇降装
置１３が駆動され、処理用昇降軸１２，処理用基板載置
体１４が上昇し、処理用基板載置体１４の上面の凸部が
トレイ１１の凹部に嵌合し、トレイ１１が押し上げら
れ、トレイ１１が支持部１０より離脱して処理用基板載
置体１４に載置され、サーボモータ８が正回転して搬送
アーム９が処理室１の待機位置Ｃに移行し、基板２に成
膜等の処理が行われる。
により搬送アーム９が逆回転し、開口４を通して支持部
１０が処理室１の処理位置Ａに移行され、処理用昇降装
置１３が駆動され、処理用昇降軸１２，処理用基板載置
体１４が上昇し、処理用基板載置体１４の上面の凸部が
トレイ１１の凹部に嵌合し、トレイ１１が押し上げら
れ、トレイ１１が支持部１０より離脱して処理用基板載
置体１４に載置され、サーボモータ８が正回転して搬送
アーム９が処理室１の待機位置Ｃに移行し、基板２に成
膜等の処理が行われる。
【０００９】つぎに、基板２の処理完了後、待機位置Ｃ
の搬送アーム９が処理位置Ａへ移行され、処理用昇降装
置１３の駆動により処理用基板載置体１４を介してトレ
イ１１が下降し、トレイ１１が支持部１０に載置され、
サーボモータ８の回転により搬送アーム９が着脱位置Ｂ
に移行され、着脱用基板載置体１７が上動し、トレイ１
１が着脱用基板載置体１７に載置される。そして、支持
部１０が着脱用載置体１７の欠如部より抜け出し、搬送
アーム９が待機位置Ｃに移行され、ゲートバルブ５が閉
じられる。つぎに、ロードロック室３を乾燥窒素等によ
りパージして大気圧に戻し、蓋１８を開け、交換手段に
より、処理後の基板２を取り出し、未処理の基板２と交
換し、蓋１８を閉じる。そして、基板２の前記移行が繰
り返される。しかし、前記装置の場合、スループット、
即ち単位時間当りの基板２の処理枚数が低いという問題
がある。
の搬送アーム９が処理位置Ａへ移行され、処理用昇降装
置１３の駆動により処理用基板載置体１４を介してトレ
イ１１が下降し、トレイ１１が支持部１０に載置され、
サーボモータ８の回転により搬送アーム９が着脱位置Ｂ
に移行され、着脱用基板載置体１７が上動し、トレイ１
１が着脱用基板載置体１７に載置される。そして、支持
部１０が着脱用載置体１７の欠如部より抜け出し、搬送
アーム９が待機位置Ｃに移行され、ゲートバルブ５が閉
じられる。つぎに、ロードロック室３を乾燥窒素等によ
りパージして大気圧に戻し、蓋１８を開け、交換手段に
より、処理後の基板２を取り出し、未処理の基板２と交
換し、蓋１８を閉じる。そして、基板２の前記移行が繰
り返される。しかし、前記装置の場合、スループット、
即ち単位時間当りの基板２の処理枚数が低いという問題
がある。
【００１０】そこで、スループットを向上した他の従来
例を、図５及び図６を参照して説明する。それらの図に
おいて、図３及び図４と同一符号は同一もしくは相当す
るものを示し、異なる点は、処理室１を大型にし、処理
室１の両側にロードロック室３を設け、搬送アーム９及
び搬送アーム９の駆動機構，着脱用基板載置体１７及び
着脱用基板載置体１７の駆動機構をそれぞれ２個ずつ設
けた点である。
例を、図５及び図６を参照して説明する。それらの図に
おいて、図３及び図４と同一符号は同一もしくは相当す
るものを示し、異なる点は、処理室１を大型にし、処理
室１の両側にロードロック室３を設け、搬送アーム９及
び搬送アーム９の駆動機構，着脱用基板載置体１７及び
着脱用基板載置体１７の駆動機構をそれぞれ２個ずつ設
けた点である。
【００１１】そして、両側のゲートバルブ５が閉じられ
た状態で、まず、右側のロードロック室３の蓋１８が開
けられ、着脱用基板載置体１７上にトレイ１１とともに
基板２が載置され、真空排気される。つぎに、ゲートバ
ルブ５が開けられ、待機位置Ｃの右側の搬送アーム９の
支持部１０が着脱位置Ｂに導入され、トレイ１１が支持
部１０に受け渡される。
た状態で、まず、右側のロードロック室３の蓋１８が開
けられ、着脱用基板載置体１７上にトレイ１１とともに
基板２が載置され、真空排気される。つぎに、ゲートバ
ルブ５が開けられ、待機位置Ｃの右側の搬送アーム９の
支持部１０が着脱位置Ｂに導入され、トレイ１１が支持
部１０に受け渡される。
【００１２】つぎに、右側の支持部１０が処理位置Ａに
移行され、処理用基板載置体１４にトレイ１１が受け渡
され、右側の支持部１０が待機位置Ｃに戻され、基板２
は処理用基板載置体１４において成膜等の処理が行われ
る。
移行され、処理用基板載置体１４にトレイ１１が受け渡
され、右側の支持部１０が待機位置Ｃに戻され、基板２
は処理用基板載置体１４において成膜等の処理が行われ
る。
【００１３】一方、前記処理中に左側のロードロック室
３の蓋１８が開けられ、左側の着脱用基板載置体１７上
にトレイ１１とともに基板２が載置され、真空排気さ
れ、左側のゲートバルブ５が開かれ、待機位置Ｃの左側
の搬送アーム９の支持部１０が左側の着脱位置Ｂに導入
され、トレイ１１が支持部１０に受け渡される。
３の蓋１８が開けられ、左側の着脱用基板載置体１７上
にトレイ１１とともに基板２が載置され、真空排気さ
れ、左側のゲートバルブ５が開かれ、待機位置Ｃの左側
の搬送アーム９の支持部１０が左側の着脱位置Ｂに導入
され、トレイ１１が支持部１０に受け渡される。
【００１４】つぎに、右側の基板２の処理の終了後、待
機位置Ｃの右側の支持部１０が処理位置Ａに移行され、
処理後の基板２が受け渡される。
機位置Ｃの右側の支持部１０が処理位置Ａに移行され、
処理後の基板２が受け渡される。
【００１５】そして、右側の支持部１０が右側の着脱位
置Ｂに移行され、トレイ１１が着脱用基板載置体１７に
受け渡されると同時に、左側の支持部１０が処理位置Ａ
に移行され、トレイ１１が処理用基板載置体１４に受け
渡され、左側の支持部１０が待機位置Ｃに戻され、基板
２が処理される。
置Ｂに移行され、トレイ１１が着脱用基板載置体１７に
受け渡されると同時に、左側の支持部１０が処理位置Ａ
に移行され、トレイ１１が処理用基板載置体１４に受け
渡され、左側の支持部１０が待機位置Ｃに戻され、基板
２が処理される。
【００１６】この左側の基板２の処理中、右側の支持部
１０が待機位置Ｃに戻され、右側のゲートバルブ５が閉
じられ、前記の通り、ロードロック室３の蓋１８が開け
られ、基板２が交換され、前記移行が繰り返される。し
たがって、スループットは、図３及び図４の場合の２倍
となる。
１０が待機位置Ｃに戻され、右側のゲートバルブ５が閉
じられ、前記の通り、ロードロック室３の蓋１８が開け
られ、基板２が交換され、前記移行が繰り返される。し
たがって、スループットは、図３及び図４の場合の２倍
となる。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】従来の前記図５及び図
６の装置の場合、スループットは向上されているが、ロ
ードロック室３，搬送アーム９及び搬送アーム９の駆動
機構，着脱用基板載置体１７及び着脱用基板載置体１７
の駆動機構が２倍必要となるため、装置が大型になり、
かつ、高価になるという問題点がある。
６の装置の場合、スループットは向上されているが、ロ
ードロック室３，搬送アーム９及び搬送アーム９の駆動
機構，着脱用基板載置体１７及び着脱用基板載置体１７
の駆動機構が２倍必要となるため、装置が大型になり、
かつ、高価になるという問題点がある。
【００１８】本発明は、前記の点に留意し、スループッ
トを向上し、安価で、かつ小型化が可能な基板搬送装置
を提供することを目的とする。
トを向上し、安価で、かつ小型化が可能な基板搬送装置
を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の基板搬送装置は、処理位置で基板に処理を
行う処理室と、処理室に隣接して設けられ着脱位置で基
板を交換するロードロック室と、処理室とロードロック
室との間に設けられたゲートバルブと、上下に平行に設
けられ，処理室の支点位置を回転支点として水平方向に
回転自在に設けられた２本の搬送アームと、両アームの
先端部に形成された基板の支持部と、処理室の待機位置
から，一方の支持部を前記処理位置に，他方の支持部を
前記着脱位置にそれぞれ同時に往復移行し，その後一方
の支持部を前記着脱位置に，他方の支持部を前記処理位
置にそれぞれ同時に往復移行する移行手段と、前記処理
位置及び前記着脱位置に上下動自在に設けられた昇降軸
と、両昇降軸の上端に形成され，支持部との間で基板を
受け渡しする基板載置体とを備えたものである。
に、本発明の基板搬送装置は、処理位置で基板に処理を
行う処理室と、処理室に隣接して設けられ着脱位置で基
板を交換するロードロック室と、処理室とロードロック
室との間に設けられたゲートバルブと、上下に平行に設
けられ，処理室の支点位置を回転支点として水平方向に
回転自在に設けられた２本の搬送アームと、両アームの
先端部に形成された基板の支持部と、処理室の待機位置
から，一方の支持部を前記処理位置に，他方の支持部を
前記着脱位置にそれぞれ同時に往復移行し，その後一方
の支持部を前記着脱位置に，他方の支持部を前記処理位
置にそれぞれ同時に往復移行する移行手段と、前記処理
位置及び前記着脱位置に上下動自在に設けられた昇降軸
と、両昇降軸の上端に形成され，支持部との間で基板を
受け渡しする基板載置体とを備えたものである。
【００２０】
【作用】前記のように構成された本発明の基板搬送装置
は、上下に平行に設けられた２本の搬送アームを、処理
室の支点位置を回転支点として水平方向に回転自在に設
け、移行手段により、処理室の待機位置から，一方の搬
送アームの支持部を処理室の処理位置に，他方の搬送ア
ームの支持部をロードロック室の着脱位置にそれぞれ同
時に往復移行し、その後一方の搬送アームの支持部を前
記着脱位置に，他方の搬送アームの支持部を前記処理位
置にそれぞれ同時に往復移行するようにしたため、スル
ープットが向上され、しかも、図５及び図６の従来例に
比して部品点数が少なく、装置が小型になり、安価にな
る。
は、上下に平行に設けられた２本の搬送アームを、処理
室の支点位置を回転支点として水平方向に回転自在に設
け、移行手段により、処理室の待機位置から，一方の搬
送アームの支持部を処理室の処理位置に，他方の搬送ア
ームの支持部をロードロック室の着脱位置にそれぞれ同
時に往復移行し、その後一方の搬送アームの支持部を前
記着脱位置に，他方の搬送アームの支持部を前記処理位
置にそれぞれ同時に往復移行するようにしたため、スル
ープットが向上され、しかも、図５及び図６の従来例に
比して部品点数が少なく、装置が小型になり、安価にな
る。
【００２１】
【実施例】１実施例について図１及び図２を参照して説
明する。それらの図において、図３及び図４と同一符号
は同一もしくは相当するものを示し、図３及び図４と異
なる点は、つぎの諸点である。
明する。それらの図において、図３及び図４と同一符号
は同一もしくは相当するものを示し、図３及び図４と異
なる点は、つぎの諸点である。
【００２２】１９は処理室１の支点位置Ｄに磁気シール
７を介して導入された上下方向のアーム用サーボモータ
８の回転軸であり、上端に下傘歯車が装着されている。
２０は回転軸１９の上端部に装着された水平方向の第１
の搬送アーム、２１は処理室１に立設された逆Ｌ字状の
支持杆、２２は支持杆２１の鉛直部の軸受に支持された
水平方向の水平軸であり、先端に前記下傘歯車に歯合し
た中歯車が装着されている。２３は支持杆２１の水平部
の軸受に支持され，前記支点位置Ｄの上方に位置した上
下方向の鉛直軸であり、下端に前記中歯車に歯合した上
歯車が装着されている。２４は鉛直軸２３に装着された
水平方向の第２の搬送アームであり、第１の搬送アーム
２０の上方に、かつ平行に設けられ、回転軸１９の回転
が、下傘歯車，中傘歯車及び上傘歯車を介して鉛直軸２
３に伝達され、回転軸１９の回転に対し鉛直軸２３が逆
方向に回転し、第１の搬送アーム２０の移行方向に対
し、第２の搬送アーム２４が逆方向に移行し、前記回転
軸１９，下傘歯車，水平軸２２，中傘歯車，鉛直軸２
３，上傘歯車により移行手段２５が構成されている。な
お、以下第１の搬送アーム２０の支持部１０を第１支持
部１０，第２の搬送アーム２４の支持部１０を第２支持
部１０と云う。
７を介して導入された上下方向のアーム用サーボモータ
８の回転軸であり、上端に下傘歯車が装着されている。
２０は回転軸１９の上端部に装着された水平方向の第１
の搬送アーム、２１は処理室１に立設された逆Ｌ字状の
支持杆、２２は支持杆２１の鉛直部の軸受に支持された
水平方向の水平軸であり、先端に前記下傘歯車に歯合し
た中歯車が装着されている。２３は支持杆２１の水平部
の軸受に支持され，前記支点位置Ｄの上方に位置した上
下方向の鉛直軸であり、下端に前記中歯車に歯合した上
歯車が装着されている。２４は鉛直軸２３に装着された
水平方向の第２の搬送アームであり、第１の搬送アーム
２０の上方に、かつ平行に設けられ、回転軸１９の回転
が、下傘歯車，中傘歯車及び上傘歯車を介して鉛直軸２
３に伝達され、回転軸１９の回転に対し鉛直軸２３が逆
方向に回転し、第１の搬送アーム２０の移行方向に対
し、第２の搬送アーム２４が逆方向に移行し、前記回転
軸１９，下傘歯車，水平軸２２，中傘歯車，鉛直軸２
３，上傘歯車により移行手段２５が構成されている。な
お、以下第１の搬送アーム２０の支持部１０を第１支持
部１０，第２の搬送アーム２４の支持部１０を第２支持
部１０と云う。
【００２３】つぎに動作について説明する。両搬送アー
ム２０，２４が待機位置Ｃに位置した状態において、ゲ
ートバルブ５が閉じられ、ロードロック室３を乾燥窒素
等によりパージして大気圧に戻し、蓋１８が開けられ、
着脱用基板載置体１７にトレイ１１とともに基板２が載
置され、蓋１８が閉められ、真空排気される。
ム２０，２４が待機位置Ｃに位置した状態において、ゲ
ートバルブ５が閉じられ、ロードロック室３を乾燥窒素
等によりパージして大気圧に戻し、蓋１８が開けられ、
着脱用基板載置体１７にトレイ１１とともに基板２が載
置され、蓋１８が閉められ、真空排気される。
【００２４】つぎに、ゲートバルブ５が開かれ、サーボ
モータ８の正回転及び移行手段２５により、待機位置Ｃ
から，第１支持部１０が処理位置Ａに，第２支持部１０
が着脱位置Ｂにそれぞれ同時に移行される。そして、第
２の支持部１０に着脱用基板載置体１７のトレイ１１が
受け渡され、サーボモータ８の逆回転により、第１支持
部１０が処理位置Ａから着脱位置Ｂに、第２支持部１０
が着脱位置Ｂから処理位置Ａに移行され、第２支持部１
０のトレイ１１が処理用基板載置体１４に載置され、そ
の後、両支持部１０が待機位置Ｃに戻り、ゲートバルブ
５が閉じられ、基板２に成膜等の処理が行われる。
モータ８の正回転及び移行手段２５により、待機位置Ｃ
から，第１支持部１０が処理位置Ａに，第２支持部１０
が着脱位置Ｂにそれぞれ同時に移行される。そして、第
２の支持部１０に着脱用基板載置体１７のトレイ１１が
受け渡され、サーボモータ８の逆回転により、第１支持
部１０が処理位置Ａから着脱位置Ｂに、第２支持部１０
が着脱位置Ｂから処理位置Ａに移行され、第２支持部１
０のトレイ１１が処理用基板載置体１４に載置され、そ
の後、両支持部１０が待機位置Ｃに戻り、ゲートバルブ
５が閉じられ、基板２に成膜等の処理が行われる。
【００２５】一方、前記処理中、ロードロック室３にお
いて、前記と同様、着脱用基板載置体１７にトレイ１１
とともに基板２が載置され、真空排気される。
いて、前記と同様、着脱用基板載置体１７にトレイ１１
とともに基板２が載置され、真空排気される。
【００２６】つぎに、前記処理の終了後、ゲートバルブ
５が開かれ、前記と同様、第１支持部１０が処理位置Ａ
に，第２支持部１０が着脱位置Ｂにそれぞれ同時に移行
され、処理後の基板２が第１支持部１０に受け渡され、
未処理の基板２が第２の支持部１０に受け渡される。
５が開かれ、前記と同様、第１支持部１０が処理位置Ａ
に，第２支持部１０が着脱位置Ｂにそれぞれ同時に移行
され、処理後の基板２が第１支持部１０に受け渡され、
未処理の基板２が第２の支持部１０に受け渡される。
【００２７】その後、アーム用サーボモータ８の逆回転
及び移行手段２５により、第１支持部１０が着脱位置Ｂ
に移行され、処理後の基板２がトレイ１１とともに着脱
用基板載置体１７に受け渡され、これと同時に第２支持
部１０が処理位置Ａに移行し、未処理の基板２が処理用
トレイ１１とともに基板載置体１４に受け渡され、両支
持部１０が待機位置Ｃに戻り、ゲートバルブ５が閉じら
れ、前記移行が繰り返される。
及び移行手段２５により、第１支持部１０が着脱位置Ｂ
に移行され、処理後の基板２がトレイ１１とともに着脱
用基板載置体１７に受け渡され、これと同時に第２支持
部１０が処理位置Ａに移行し、未処理の基板２が処理用
トレイ１１とともに基板載置体１４に受け渡され、両支
持部１０が待機位置Ｃに戻り、ゲートバルブ５が閉じら
れ、前記移行が繰り返される。
【００２８】したがって、図５及び図６の従来例と同じ
スループットが得られ、しかも前記従来例に比して部品
点数が少なく、装置も小型であり、安価である。
スループットが得られ、しかも前記従来例に比して部品
点数が少なく、装置も小型であり、安価である。
【００２９】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているため、つぎに記載する効果を奏する。本発明の基
板搬送装置は、上下に平行に設けられた２本の搬送アー
ム２０，２４を、処理室１の支点位置Ｄを回転支点とし
て水平方向に回転自在に設け、移行手段２５により、処
理室１の待機位置Ｃから，一方の搬送アーム２０の支持
部１０を処理室１の処理位置Ａに，他方の搬送アーム２
４の支持部１０をロードロック室３の着脱位置Ｂにそれ
ぞれ同時に往復移行し，その後一方の搬送アーム２０の
支持部を前記着脱位置Ｂに，他方の搬送アーム２４の支
持部１０を前記処理位置Ａにそれぞれ同時に往復移行す
るようにしたため、スループットを向上でき、しかも、
図５及び図６の従来例に比して部品点数が少なく、装置
を小型にし、かつ、安価にすることができる。
ているため、つぎに記載する効果を奏する。本発明の基
板搬送装置は、上下に平行に設けられた２本の搬送アー
ム２０，２４を、処理室１の支点位置Ｄを回転支点とし
て水平方向に回転自在に設け、移行手段２５により、処
理室１の待機位置Ｃから，一方の搬送アーム２０の支持
部１０を処理室１の処理位置Ａに，他方の搬送アーム２
４の支持部１０をロードロック室３の着脱位置Ｂにそれ
ぞれ同時に往復移行し，その後一方の搬送アーム２０の
支持部を前記着脱位置Ｂに，他方の搬送アーム２４の支
持部１０を前記処理位置Ａにそれぞれ同時に往復移行す
るようにしたため、スループットを向上でき、しかも、
図５及び図６の従来例に比して部品点数が少なく、装置
を小型にし、かつ、安価にすることができる。
【図１】本発明の１実施例の切断正面図である。
【図２】図１の切断平面図である。
【図３】従来例の切断正面図である。
【図４】図３の切断平面図である。
【図５】他の従来例の切断正面図である。
【図６】図５の切断平面図である。
１ 処理室 ２ 基板 ３ ロードロック室 ５ ゲートバルブ １０ 支持部 １２ 昇降軸 １４ 基板載置体 １５ 昇降軸 １７ 基板載置体 ２０ 搬送アーム ２４ 搬送アーム ２５ 移行手段 Ａ 処理位置 Ｂ 着脱位置 Ｃ 待機位置 Ｄ 支点位置
Claims (1)
- 【請求項１】 処理位置で基板に処理を行う処理室と、
該処理室に隣接して設けられ着脱位置で基板を交換する
ロードロック室と、前記処理室と前記ロードロック室と
の間に設けられたゲートバルブと、上下に平行に設けら
れ，前記処理室の支点位置を回転支点として水平方向に
回転自在に設けられた２本の搬送アームと、該両アーム
の先端部に形成された基板の支持部と、前記処理室の待
機位置から，一方の前記支持部を前記処理位置に，他方
の前記支持部を前記着脱位置にそれぞれ同時に往復移行
し，その後前記一方の支持部を前記着脱位置に，前記他
方の支持部を前記処理位置にそれぞれ同時に往復移行す
る移行手段と、前記処理位置及び前記着脱位置に上下動
自在に設けられた昇降軸と、該両昇降軸の上端に形成さ
れ，前記支持部との間で基板を受け渡しする基板載置体
とを備えた基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3293994A JPH07221163A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3293994A JPH07221163A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 基板搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07221163A true JPH07221163A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=12372925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3293994A Pending JPH07221163A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07221163A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0833374A2 (en) * | 1996-09-26 | 1998-04-01 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| EP0840355A1 (en) * | 1996-10-29 | 1998-05-06 | Nissin Electric Co., Ltd. | Apparatus and method for processing substrate |
| JP2006019639A (ja) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Tadamoto Tamai | 真空処理装置 |
| CN104752291A (zh) * | 2013-12-31 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种传输装置及等离子体加工设备 |
-
1994
- 1994-02-04 JP JP3293994A patent/JPH07221163A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0833374A2 (en) * | 1996-09-26 | 1998-04-01 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| EP0833374A3 (en) * | 1996-09-26 | 1998-05-13 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US6053980A (en) * | 1996-09-26 | 2000-04-25 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| EP0840355A1 (en) * | 1996-10-29 | 1998-05-06 | Nissin Electric Co., Ltd. | Apparatus and method for processing substrate |
| US6092485A (en) * | 1996-10-29 | 2000-07-25 | Nissin Electric Co., Ltd. | Apparatus and method for processing substrate |
| KR100413884B1 (ko) * | 1996-10-29 | 2004-04-28 | 닛신덴키 가부시키 가이샤 | 기판처리장치 및 방법 |
| JP2006019639A (ja) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Tadamoto Tamai | 真空処理装置 |
| CN104752291A (zh) * | 2013-12-31 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种传输装置及等离子体加工设备 |
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