KR102097712B1 - 기판 고정 및 회전 장치 - Google Patents

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Abstract

기판 고정 및 회전 장치는 자전부, 기판 고정부, 승강부를 갖는다. 자전부는 일측이 마스크 모듈의 일측에 선택적으로 결합하고, 자전하면서 마스크 모듈을 회전시킨다. 기판 고정부는 일측이 마스크 모듈의 타측에 선택적으로 결합하여 마스크 모듈을 자전부의 일측에 고정하고, 자전부의 자전에 연동하여 회전한다. 승강부는 일측이 기판 고정부의 타측에 결합하여 기판 고정부를 승강시킨다.

Description

기판 고정 및 회전 장치{Apparatus for Supporting and Rotating Substrate}
본 발명은 진공증착 장치에 관한 것으로, 상세하게는 기판을 고정 및 회전시키는 기판 고정 및 회전 장치에 관한 것이다.
진공증착 장치는, 챔버 내부를 진공 상태로 유지하면서, 아래쪽에는 증착물을 배치하고, 위쪽에는 유리패널과 같은 피코팅 기판을 배치하여, 기판 표면에 증착물을 코팅하는 장치이다.
진공증착 공정을 보면, 도가니 내의 증착물를 가열하여 챔버 내부로 공급하면, 증착물은 기판으로 이동한다. 기화된 기체 원자, 분자는 상대적으로 낮은 온도를 갖는 기판에서 응축하면서 박막을 형성한다.
이러한 진공증착에서, 피코팅 기판을 고정 및 회전시키는 장치는 증착물을 기판에 균일하게 코팅하는데 중요한 역할을 수행한다. 이와 관련한 선행기술을 보면, 특허공개 제2012-0065841호가 '기판 지지 유닛과 이를 이용한 박막 증착 장치'를 개시하고 있는데, 내용을 보면, 지지부의 상면 가장자리에 원주방향으로 배열된 기판들을 각각의 자기 중심축을 중심으로 자전하도록 구성하여 증착물의 균일한 코팅을 도모하고 있다.
그런데, 종래기술은 기판의 자전을 통해 증착물의 균일 코팅을 어느정도 달성할 수는 있으나, 기판을 견고하게 고정지지하거나 안정적으로 승강시키는데 어려움이 있어, 승강 등에서 기판에 휨이 발생할 수 있고, 그 결과 증착물의 균일 증착이 어려울 수 있고, 또한 장치의 내구성도 나빠질 수 있다.
본 발명은 이러한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로,
첫째, 기판을 안정적으로 고정 지지할 수 있고,
둘째, 기판을 흔들림없이 승강 및/또는 회전시킬 수 있는, 기판 고정 및 회전 장치를 제공하고자 한다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판 고정 및 회전 장치는 자전부, 기판 고정부, 승강부 등으로 구성할 수 있다.
자전부는 일측이 마스크 모듈의 일측에 선택적으로 결합할 수 있다. 자전부는 자전하면서 마스크 모듈을 회전시킬 수 있다.
기판 고정부는 일측이 마스크 모듈의 타측에 선택적으로 결합하여 마스크 모듈을 자전부의 일측에 고정할 수 있다. 기판 고정부는 자전부의 자전에 연동하여 회전할 수 있다.
승강부는 일측이 기판 고정부의 타측에 결합하여 기판 고정부를 승강시킬 수 있다.
본 발명의 기판 고정 및 회전 장치에서, 자전부는 자전축, 자전 기판부, 자전 구동부 등으로 구성할 수 있다.
자전축은 상하로 배치될 수 있다.
자전 기판부는 상측이 자전축의 하단에 결합하고 하측은 마스크 모듈의 상측에 선택적으로 결합할 수 있다.
자전 구동부는 자전축에 결합하여 자전축을 선택적으로 축회전시킬 수 있다.
본 발명의 기판 고정 및 회전 장치는 자전축의 외면에 결합하여 진공을 차폐하는 자성 유체를 포함할 수 있다.
본 발명의 기판 고정 및 회전 장치에서, 기판 고정부는 클램프 프레임, 클램프 팁 등으로 구성할 수 있다.
클램프 프레임은 상측 일부가 승강부의 하측에 결합하여 승강부의 승강에 연동하여 승강할 수 있다.
클램프 팁은 클램프 프레임의 하단 외측에서 내측으로 절곡 연장되는 형태로 구성할 수 있다. 클램프 팁은 중앙에 상하로 관통하는 증착물 통과홀을 구비할 수 있다. 클램프 팁은 내측 상면 가장자리에 함몰 형태의 마스크 안착홈을 구비할 수 있다.
본 발명의 기판 고정 및 회전 장치는 클램프 팁의 하측 가장자리를 따라 하방 및 측방으로 돌출하는 후드를 포함할 수 있다.
본 발명의 기판 고정 및 회전 장치에서, 승강부는 승강축, 하부 지지대, 승강 구동부 등으로 구성할 수 있다.
승강축은 상하로 배치될 수 있다.
하부 지지대는 일측이 승강축의 하측에 결합하고 타측은 기판 고정부의 상측에 결합할 수 있다.
승강 구동부는 승강축에 결합하여 승강축을 선택적으로 승강시킬 수 있다.
본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치의 승강부에서, 승강축은 다수가 원형으로 이격 배치될 수 있다. 이 경우, 승강부는 다수 승강축의 상단에 결합하는 링 형상의 상부 지지대를 포함할 수 있다.
하부 지지대도 링 형상으로 구성할 수 있다. 하부 지지대의 외측은 기판 고정부의 상측에 결합할 수 있다. 상부 지지대의 내측에는 자전축 통과홀을 구비할 수 있다.
본 발명의 기판 고정 및 회전 장치는 승강축을 내장하고 일측이 하부 지지대에 결합하는 승강 벨로우즈를 포함할 수 있다.
이러한 구성을 갖는 본 발명의 기판 고정 및 회전 장치에 의하면, 클램프 팁은 내측 상면 가장자리에 함몰 형태로 구성되는 마스크 안착홈을 갖는데, 이를 통해 마스크의 하측 가장자리를 전체적으로 지지할 수 있어, 기판의 안정적 지지가 가능하고, 이를 통해 기판이 휘는 것을 원천적으로 차단할 수 있다.
또한, 본 발명의 기판 고정 및 회전 장치에 의하면, 상부 지지대와 하부 지지대를 링 형상으로 구성하여 승강축이 승강할 때 기판 고정부를 틀어짐이 없이 안정적으로 승강 및/또는 회전시킬 수 있어, 기판에 대한 안정적인 지지가 가능하다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치를 적용한 증착장치의 단면도이다.
도 2a,2b는 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치의 승강부를 도시하는 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치에서 기판 고정부의 클램프 팁을 도시하는 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치에서 기판 고정부에 마스크 모듈을 장착하는 과정을 도시하고 있다.
도 6은 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치를 이용할 때 기판의 고정력이 강화됨을 보여주는 동작도이다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치를 적용한 증착장치의 단면도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 진공증착 장치는 챔버(100), 돔부(200), 공전 장치(300), 기판 고정 및 회전 장치(400), 도가니부(500) 등으로 구성할 수 있다.
챔버(100)는 내부를 진공으로 만들 수 있는 밀폐 공간을 구비할 수 있다. 챔버(100)는 기판이 출입하는 기판 출입구(미도시), 기화 증착물이 유입하는 증착물 유입홀(H1) 등을 구비할 수 있다.
돔부(200)는 챔버(100) 내에 구비할 수 있다. 돔부(200)는 상부 돔부(210)와 하부 돔부(220)로 분리하여, 챔버(100) 내의 상측과 하측 일부를 폐쇄하는 형태로 구성할 수 있다. 상측 돔부(210)는 공전 장치(300)에 결합하여 승강할 수 있다. 상부 돔부(210)는 기판 고정 및 회전 장치(400)의 하측으로 증착물을 공급하는 증착물 배출홀(H2)을 구비할 수 있다. 하부 돔부(220)는 상부 돔부(210)의 하부에 대칭되게 배치되는 것으로, 하부 일측이 챔버(100)의 내측 하면에 결합하여 고정될 수 있다. 챔버(100)의 내벽 일측에 내측으로 돌출하는 돔 지지부(110)를 구비하여, 하부 돔부(220)의 상측 가장자리를 지지할 수 있다.
공전 장치(300)는 일측이 챔버(100)의 상부 외측에 결합하고 타측은 챔버(100)의 상부벽을 관통하여 챔버(100)의 내부공간으로 삽입될 수 있다. 공전 장치(300)는 공전축(310), 공전 모터(320), 공전 프레임(330) 등으로 구성하여, 공전축(310)이 회전하면서 상부 돔부(210)를 회전시킬 수 있다. 공전축(310)은 승강하면서 상부 돔부(210)를 승강시킬 수도 있다.
공전 프레임(330)은 챔버(100)의 내부공간에서 공전축(310)에 수직으로 결합하고, 그 가장자리에는 다수의 기판 고정 및 회전 장치(400)를 결합 지지할 수 있다. 공전 프레임(330)은 공전축(310)의 회전에 따라 회전하면서 기판 고정 및 회전 장치(400)를 공전축(310)을 중심으로 공전시킬 수 있다. 공전 프레임(330)은 틸팅부(340)를 통해 다수의 기판 고정 및 회전 장치(400)를 개별적으로 틸팅시킬 수 있다. 틸팅부(340)는 틸팅 모터(341), 틸팅축(342) 등으로 구성할 수 있다.
기판 고정 및 회전 장치(400)는, 공전 프레임(330)에 대해 틸팅하면서, 상부 돔부(210)의 증착물 통과홀(H2)의 외측에서, 기판 고정부(420)를 승강/회전시킬 수 있다. 기판 고정 및 회전 장치(400)는 다수를 공전축(310)을 중심으로 대칭되게 배치하고 개별적으로 제어할 수 있다. 기판 고정 및 회전 장치(400)는 자전 제어부(C), 자전축(411), 자전 모터(415), 기판 고정부(420), 후드(440) 등으로 구성할 수 있다. 자전 제어부(C)는 박스 형태로 구성하여 자전 모터(415) 등을 내장하여 밀폐하는 것으로, 일측이 공전 프레임(330)에 축결합하여 틸팅할 수 있고, 타측에는 기판 고정부(420)가 하방으로 돌출되게 결합할 수 있다. 후드(440)는 증착물 배출홀(H2)을 둘러싸서 증착물이 기판(600)으로 용이하게 이동하게 할 수 있다. 기판 고정 및 회전 장치(400)는 추후 도 2a 등을 참조하여 상세히 설명한다.
도가니부(500)는 증착물을 기화시켜 챔버(100)의 내부, 정확하게는 돔부(200)의 내부로 공급할 수 있다. 도가니부(500)는 챔버(100)의 하부 외측에서 장공 형태를 갖는 증착물 유입홀(H1)을 따라 길이방향으로 이동할 수 있다. 도가니부(500)는 다수를 구비할 수 있다.
도 2a,2b는 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치의 단면도이다. 상세하게는, 도 2a는 승강부(430)이 상승하여 기판(600)를 갖는 마스크 모듈(710)이 자전부(410)의 자전 기판부(413)에 결합된 상태를, 도 2b는 증착이 완료된 후 승강부(430)가 하강하여 마스크 모듈(710)이 자전 기판부(413)에서 분리된 상태를 각각 도시하고 있다.
도 2a,2b에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치(400)는 자전부(410), 기판 고정부(420), 승강부(430), 후드(440) 등으로 구성할 수 있다.
자전부(410)는 하측이 마스크 모듈(710)의 상측에 선택적으로 결합하여 마스크 모듈(710)을 회전시키는 것으로, 자전축(411), 자전 기판부(413), 자전 모터(415) 등으로 구성할 수 있다.
자전축(411)은 상하로 배치될 수 있다. 자전축(411)은 회전, 즉 자전하면서 하부에 결합하는 자전 기판부(413)를 자전시키는 것으로, 상측은 자전 모터(415)에 결합할 수 있다. 자전축 자성유체(412)는 자전축(411)의 외면과 자전 프레임(414) 사이에 삽입되어 자전축(411)이 자전할 때 챔버(100)의 진공을 차폐할 수 있다.
자전 기판부(413)는 마스크 모듈(710)을 고정 지지하는 것으로, 하면에 마스크 모듈(710)이 삽입되는 함몰 형태의 마스크모듈 지지홈(R1)을 구비할 수 있다. 자전 기판부(413)의 상측은 자전축(411)의 하단에 결합하고, 그 하측의 마스크모듈 지지홈(R1)은 마스크 모듈(710)의 상측 일부를 내장 지지할 수 있다. 기판 고정부(413)는 자전축(411)의 자전에 따라 같이 회전, 즉 자전할 수 있다.
자전 모터(415)는 자전축(411)에 결합하여 자전축(411)을 선택적으로 축회전시킬 수 있다. 자전 모터(415)는 자전 제어부(C) 내에 위치할 수 있다.
기판 고정부(420)는 기판(600)을 선택적으로 고정 지지하는 것으로, 클램프 프레임(421), 클램프 팁(423) 등으로 구성할 수 있다.
클램프 프레임(421)은 상측 일부가 승강부(430), 정확하게는 하부 지지대(433)에 걸림 형태로 결합하여, 승강부(430)의 상하 이동에 따라 승강할 수 있다.
클램프 팁(423)은 클램프 프레임(421)의 하단 외측에서 내측으로 소정길이 절곡 연장하는 형태로 구성할 수 있다. 클램프 팁(423)은 중앙에 상하로 관통하는 증착물 통과홀(H3)을 구비할 수 있다. 클램프 팁(423)은 내측 상면 가장자리에 마스크 안착홈(R2)을 구비할 수 있다.
승강부(430)는 기판 고정부(420)를 선택적으로 승강시키는 것으로, 승강축(431), 하부 지지대(433), 승강 모터(435), 승강 벨로우즈(437) 등으로 구성할 수 있다.
승강축(431)은 상하로 배치할 수 있다.
하부 지지대(433)는 상측이 승강축(431)의 하단에 결합하고 측방은 기판 고정부(420)의 상측에 결합하여, 승강축(431)의 승강에 따라 기판 고정부(420)를 승강시킬 수 있다. 하부 지지대(433)는 플레이트 형상으로 구성할 수 있고, 상면 가장자리에서는 기판 고정부(420)의 상측 일부를 걸림 형태로 결합하여 지지할 수 있다.
승강 모터(435)는 승강축(431)에 결합하여 승강축(431)을 선택적으로 승강시키는 것으로, 유압기/실린더 등으로 대체하여 사용할 수 있다.
승강 벨로우즈(437)는 챔버(100)의 진공을 차폐하는 것으로, 상측은 자전 제어부(C)의 하면에 결합하고, 하측은 하부 지지대(433)의 상면에 결합할 수 있다. 승강 벨로우즈(437)는 내부에 승강축(431)의 일부를 내장할 수 있다.
후드(440)는 클램프 팁(423)의 하측 가장자리를 따라 하방 및 측방으로 돌출하는 형태로 구성할 수 있다. 후드(440)는 증착물 배출홀(H2)를 통과한 증착물이 돔부(200) 밖으로 이동하는 것을 차단하면서, 돔부(200) 내부에 양호한 기류를 형성하는데 기여할 수 있다.
본 발명에서, 승강부(430)는 다수의 승강축(431)을 원형으로 이격 배치할 수 있다. 이 경우, 다수 승강축(431)의 상단에는 상부 지지대(434)를 구비하여 다수 승강축(431)을 동시에 승강시키도록 구성할 수 있다. 상부 지지대(434)는 링 형태로 구성할 수 있다. 상부 지지대(434)의 중앙에는 자전축(411)이 통과할 수 있다.
링 형상의 상부 지지대(434)를 구비하는 경우, 하부 지지대(433)도 링 형상으로 구성할 수 있다.
도 2a,2b에서, 자전 제어부(C)와 승강축(431) 사이, 자전축(411)과 하부 지지대(433) 사이, 하부 지지대(433)와 클램프 프레임(421)의 상측 사이 등에는 베어링을 삽입하여 부드러운 회전이 가능하게 할 수 있다.
도 3은 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치의 승강부를 도시하는 사시도이다.
도 3에 도시한 바와 같이, 상부 지지대(434), 승강 모터(435), 승강축(431) 일부가 박스 형태의 자전 제어부(C) 내에 위치할 수 있다.
상부 지지대(434)는 링 형상의 플레이트로 구성할 수 있다. 상부 지지대(434)는 강성 보강을 위해 상면 중앙을 두껍게 구성할 수 있다. 상부 지지대(434)는 중앙에 자전축(411)이 통과하는 자전축 통과홀(H4)을 구비할 수 있다.
승강 모터(435)는 다수가 상부 지지대(434)의 하면에 원형으로 이격 배치될 수 있다. 다수의 승강 모터(435)는 승강시 상부 지지대(434)의 수평 유지를 위해 통합적으로 제어될 수 있다.
승강축(431)은 다수가 상부 지지대(434)의 하면에 원형으로 이격 배치될 수 있다. 승강축(431)은 다수의 승강 모터(435)와 링형 상부 지지대(434)에 의해 동일 높이로 승강할 수 있다.
승강 벨로우즈(437)는 상측이 자전 제어부(C)의 하부면에 밀착 결합하여 자전 제어부(C) 하면의 수평방향을 밀폐하고, 하부 지지대(433)의 상면에도 밀착 결합하여 하부 지지대(433) 상면의 수평방향을 밀폐할 수 있다. 승강 벨로우즈(437)는 하부 지지대(433)의 승강에 따라 압축 또는 신장할 수 있다.
하부 지지대(433)는 링 형상의 플레이트로 구성할 수 있다. 하부 지지대(433)는 상면에서 다수의 승강축(431)과 결합하여 다수 승강축(431)의 승강에 따라 동일 높이로 승강할 수 있다.
하부 지지대(433)는 제1 베어링부(B1)과 제2 베어링부(B2)를 구비할 수 있다.
제1 베어링부(B1)는 하부 지지대(433)의 내측, 즉 자전축 통과홀(H5)의 수직 측면을 따라 구비할 수 있다. 제1 베어링부(B1)는 다수의 베어링을 이격 배치하여, 자전하는 자전축(411)이 고정된 하부 지지대(433)에 대해 원활하게 회전되게 할 수 있다.
제2 베어링부(B2)는 하부 지지대(433)의 상면 가장자리, 즉 클램프 프레임(421)의 상측 일부와 결합하는 부분에 구비할 수 있다. 제2 베어링부(B2)는 다수의 베어링을 이격 배치하여, 클램프 프레임(421)이 자전축(411)과 함께 회전할 때 고정된 하부 지지대(433)에 대해 원활하게 회전되게 할 수 있다.
이와 같이, 본 발명에 따른 승강부(430)는 상부 지지대(434)와 하부 지지대(433)를 동일 높이로 승강시킬 수 있어, 하부 지지대(433)에 결합된 클램프 프레임(421)를 항상 수평으로 유지할 수 있다. 그 결과, 기판(600)의 승강에서 기판(600)이 휘거나 틀어지는 것을 원천적으로 방지할 수 있다. 다수의 승강 모터(435)와 다수의 승강축(431)을 교대로 배치하면, 기판(600)의 수평유지 효과를 더 높일 수 있다.
도 4는 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치에서 기판 고정부의 클램프 팁의 사시도이다.
도 4에 도시한 바와 같이, 클램프 팁(423)은 중앙에 상하로 관통하는 증착물 통과홀(H3)을 구비할 수 있다. 증착물 통과홀(H3)에는 돔부(200) 내의 기화 증착물이 통과하여 기판(600)으로 이동하는 통로일 수 있다.
클램프 팁(423)은 마스크(713)의 하면 가장자리를 내장 지지하는 마스크 안착홈(R2)을 구비할 수 있다. 마스크 안착홈(R2)은 클램프 팁(423)의 내측 상면 가장자리에 함몰되는 형태, 예를들어 'ㄴ' 형상의 단턱으로 구성할 수 있다.
클램프 팁(423)은 로봇암(700)이 입출하는 로봇암 입출부(T)를 구비할 수 있다. 로봇암 입출부(T)는 클램프 팁(423)의 적어도 하나의 측방에 형성할 수 있는데, 측방의 중앙 영역에서 하방으로 '
Figure 112018072871525-pat00001
' 형태로 함몰되는 함몰부로 구성할 수 있다.
도 5는는 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치에서 기판 고정부에 마스크 모듈을 장착하는 과정을 도시하고 있다.
도 5에 도시한 바와 같이, 클램프 프레임(421)의 내부 공간에는 자전축(411)에 결합된 자전 기판부(413)가 내장된다. 자전 기판부(413)의 하면에는 마스크 모듈(710)의 상측이 삽입 고정되는 마스크모듈 지지홈(R1)이 형성되어 있다.
클램프 프레임(421)이 승강부(430)에 의해 하강한 상태에서, 로봇암(700)이 클램프 프레임(421)의 측면 개방구를 통해 마스크 모듈(710)을 클램프 프레임(421) 내로 삽입할 수 있다. 마스크 모듈(710)은 상측의 마스크 캐리어(711)와 그 하측 가장자리에 결합하는 마스크(713)로 구성되어 있다. 마스크(713)는 기판(600)의 하측 가장자리를 고정 지지할 수 있다.
로봇암(700)은 마스크 모듈(710)을 클램프 팁(423)의 마스크 안착홈(R2))에 위치시킨 후, 클램프 프레임(421)에서 빠져 나온다.
클램프 프레임(421)이 승강부(430)에 의해 상승하면, 클램프 팁(423)에 안착된 마스크 모듈(710)이 상승하여 마스크 모듈(710)의 상측, 즉 마스크 캐리어(711)의 상측 일부가 자전 기판부(413)의 마스크모듈 지지홈(R1)에 삽입 고정된다.
이후, 기판(600)은 자전축(411)의 자전에 따라 회전하고, 증착물은 증착물 통과홀(H3)을 통과하여 기판(600)에 증착될 수 있다.
도 6은 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치를 이용할 때 기판의 고정력이 강화됨을 보여주는 동작도이다.
도 6에 도시한 바와 같이, 진공증착 장치는 다수의 기판 고정 및 회전 장치(400)가 공전 장치(300)에 결합되어 공전할 수 있다. 이때, 기판 고정 및 회전 장치(400)는 틸팅 모터(341)에 의해 틸팅되어 공전하는데, 이러한 틸팅 공전은 기판 고정 및 회전 장치(400)에 공전 원심력(A)을 가할 수 있다. 공전 원심력(A)은 틸팅된 기판 고정 및 회전 장치(400)에 대해 하방에서 상방으로 향하는 힘을 생성시키고, 이러한 힘은 기판 고정 및 회전 장치(400)의 기판 고정력과 동일 방향으로 작용하여 기판 고정 및 회전 장치(400)의 기판 고정력을 강화시키는 쪽으로 기능하게 된다. 이와 같이, 본 발명에 따른 기판 고정 및 회전 장치(400)는 공전, 틸팅, 자전을 이용한 진공증착 장치에 사용될 경우, 기판(600)을 더욱 견고하게 고정 지지할 수 있다.
이상 본 발명을 여러 실시예에 기초하여 설명하였으나, 이는 본 발명을 예증하기 위한 것이다. 통상의 기술자라면, 이러한 실시예를 다양하게 변경하거나 수정할 수 있을 것이다. 그러나, 본 발명의 권리범위는 아래의 특허청구범위에 의해 정해지므로, 그러한 변경이나 수정은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석될 수 있다.
100 : 챔버 110 : 돔 지지부
200 : 돔부 210 : 상부 돔부
220 : 하부 돔부 300 : 공전 장치
310 : 공전축 311 : 공전축 자성유체
321 : 공전 모터 322 : 공전축 승강모터
323 : 공전 벨로우즈 330 : 공전 프레임
340 : 틸팅 장치 341 : 틸팅 모터
342 : 틸팅축 400 : 기판 고정 및 회전 장치
410 : 자전부 411 : 자전축
412 : 자전축 자성유체 413 : 자전 기판부
414 : 자전 프레임 415 : 자전 모터
420 : 기판 고정부 421 : 클램프 프레임
423 : 클램프 팁 430 : 승강부
431 : 승강축 433 : 하부 지지대
434 : 상부 지지대 435 : 승강 모터
437 : 승강 벨로우즈 440 : 후드
500 : 도가니부 600 : 기판
700 : 로봇암 710 : 마스크 모듈
711 : 마스크 캐리어 713 : 마스크
B1,B2 : 제1,2 베어링부 C : 자전 제어부
H1 : 증착물 유입홀 H2 : 증착물 배출홀
H3 : 증착물 통과홀 H4,H5 : 자전축 통과홀
R1 : 마스크모듈 지지홈 R2 : 마스크 안착홈
T : 로봇암 입출부

Claims (8)

  1. 기판 고정 및 회전 장치에 있어서,
    일측이 마스크 모듈의 일측에 선택적으로 결합하고, 자전하면서 상기 마스크 모듈을 회전시키는 자전부;
    일측이 상기 마스크 모듈의 타측에 선택적으로 결합하여 상기 마스크 모듈을 상기 자전부의 일측에 고정하고, 상기 자전부의 자전에 연동하여 회전하는 기판 고정부;
    일측이 상기 기판 고정부의 타측에 결합하여 상기 기판 고정부를 승강시키는 승강부를 포함하는, 기판 고정 및 회전 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 자전부는
    상하로 배치되는 자전축;
    상측은 상기 자전축의 하단에 결합하고, 하측은 상기 마스크 모듈의 상측에 선택적으로 결합하는 자전 기판부;
    상기 자전축에 결합하여 상기 자전축을 선택적으로 축회전시키는 자전 구동부를 포함하는, 기판 고정 및 회전 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 자전축의 외면에 결합하여 진공을 차폐하는 자성 유체를 포함하는, 기판 고정 및 회전 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 기판 고정부는
    상측 일부가 상기 승강부의 하측에 결합하여 상기 승강부의 승강에 연동하여 승강하는 클램프 프레임;
    상기 클램프 프레임의 하단 외측에서 내측으로 절곡 연장되고, 중앙에 상하로 관통하는 증착물 통과홀을 구비하며, 내측 상면 가장자리에 함몰 형태의 마스크 안착홈을 구비하는 클램프 팁을 포함하는, 기판 고정 및 회전 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 클램프 팁의 하측 가장자리를 따라 하방 및 측방으로 돌출하는 후드를 포함하는, 기판 고정 및 회전 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 승강부는
    상하로 배치되는 승강축;
    일측은 상기 승강축의 하측에 결합하고 타측은 상기 기판 고정부의 상측에 결합하는 하부 지지대;
    상기 승강축에 결합하여 상기 승강축을 선택적으로 승강시키는 승강 구동부를 포함하는, 기판 고정 및 회전 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 승강축은 다수가 원형으로 이격 배치되고,
    링 형상으로 구성되어 다수의 상기 승강축 상단에 결합하는 상부 지지대를 포함하고,
    상기 하부 지지대는, 링 형상으로 구성되고, 외측은 상기 기판 고정부의 상측에 결합하며, 내측에는 상기 자전부가 관통하는 자전축 통과홀을 구비하는, 기판 고정 및 회전 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 승강축의 일부를 내장하고 일측이 상기 하부 지지대에 결합하는 승강 벨로우즈를 포함하는, 기판 고정 및 회전 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3623292B2 (ja) * 1995-11-21 2005-02-23 株式会社アルバック 真空蒸着用基板傾斜自公転装置
KR20120033502A (ko) * 2010-09-30 2012-04-09 (주)울텍 진공증착장치
KR20120065841A (ko) * 2010-12-13 2012-06-21 삼성전자주식회사 기판 지지 유닛과, 이를 이용한 박막 증착 장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017155338A (ja) 2016-03-03 2017-09-07 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 有機発光素子の蒸着装置

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