JP3619132B2 - 電子顕微鏡 - Google Patents
電子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3619132B2 JP3619132B2 JP2000260877A JP2000260877A JP3619132B2 JP 3619132 B2 JP3619132 B2 JP 3619132B2 JP 2000260877 A JP2000260877 A JP 2000260877A JP 2000260877 A JP2000260877 A JP 2000260877A JP 3619132 B2 JP3619132 B2 JP 3619132B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron microscope
- observation
- field
- defect
- view
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T1/00—General purpose image data processing
- G06T1/0007—Image acquisition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24571—Measurements of non-electric or non-magnetic variables
- H01J2237/24585—Other variables, e.g. energy, mass, velocity, time, temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/248—Components associated with the control of the tube
- H01J2237/2485—Electric or electronic means
- H01J2237/2487—Electric or electronic means using digital signal processors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2813—Scanning microscopes characterised by the application
- H01J2237/2817—Pattern inspection
Landscapes
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体用ウェハや半導体パターン露光用マスクの表面または内部の欠陥／異物を観測または検出する電子顕微鏡に係り、特に、他のウェハ／マスク検査装置で測定した欠陥／異物の座標を用いて、欠陥／異物の観測ができる電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体用ウェハや半導体パターン露光用マスクの欠陥または異物は、半導体の性能に致命的な障害を与えたり、半導体の生産効率に多大な影響を及ぼすことがある。
【０００３】
半導体の生産効率を向上させるためには、ウェハ／マスクに付着する異物や、ウェハ上の半導体パターンやマスクパターンの欠陥を、限りなく少なくする必要がある。そのため、半導体製造工程の途中でウェハ／マスクの欠陥や異物（以下、欠陥と異物とを併せて単に欠陥と云う）を検出，観測し、その発生原因を解析することが重要視されている。
【０００４】
近年、半導体は微細化が進み、０．１μｍ程度のウェハ上の欠陥が半導体の性能に重大な障害を与える可能性がある。そこで、通常、光学式欠陥検査装置あるいは光学式異物検査装置（以下、単に検査装置と云う）を用い、欠陥の発生個所を特定し、該検査装置により得られた欠陥座標等の情報に基づき、電子顕微鏡の視野を該欠陥が存在する位置に移動して観測し、その欠陥の種類を特定することが一般に行われている。
【０００５】
しかし、電子顕微鏡の表示画面サイズにもよるが、ある倍率で一度に観測できるウェハ／マスク上の範囲は決まっているため、他の検査装置で測定した欠陥座標に誤差が含まれていた場合には、欠陥を電子顕微鏡の観測視野内に捕捉することができない。
【０００６】
他の検査装置と電子顕微鏡の座標誤差を少なくするため種々の手法が提案されているが、全ての欠陥に対して電子顕微鏡の観測視野内に捕らえるに十分な座標精度を得ることはできない。そのような場合には、オペレータによる欠陥の検索作業が必要となる。
【０００７】
欠陥の検索は、ウェハマップ図やダイ／チップ図、あるいは、光学顕微鏡像などを別途表示して、他の検査装置で測定した欠陥座標と電子顕微鏡の観測視野の位置を確認しながら、ポインティングデバイス（マウス、トラックボールなど）により、電子顕微鏡の観測視野を徐々に移動させながら行う。また、電子顕微鏡の観測条件（観測倍率など）は、他の検査装置で得られたデータから適した条件を算出し、設定する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前記従来技術では、微小な欠陥を検出するために電子顕微鏡の観測倍率を、例えば、１０，０００倍と云うような高倍率にした場合、観測している位置や領域を明確に把握できず、移動させたい位置に電子顕微鏡の観測視野を移動させることも容易でなかった。
【０００９】
また、電子顕微鏡の観測視野を目的とする欠陥の検出や、観測に適した条件に設定する場合、他の検査装置で得られた数値データから、欠陥毎に倍率などの観測条件を計算しなければならなかった。
【００１０】
さらに、欠陥検索時の座標誤差を、他の欠陥の検索に容易に利用できないため、効率良く欠陥を検索できなかった。
【００１１】
さらにまた、電子顕微鏡で観測済みの領域と、未観測の領域とを区別して表示している場合、電子顕微鏡の観測条件を変更できなかったり、変更すると表示が初期化されたりした。
【００１２】
本発明の目的は、これら上記の問題を解決し、オペレータが容易かつ適正に、観測を目的とする欠陥部に、視野設定を行うことが可能な電子顕微鏡を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成する本発明の要旨は次のとおりである。
【００１４】
半導体用ウェハまたは半導体パターン露光用マスクの表面または内部の欠陥／異物を観測する電子顕微鏡において、
他のウェハ／マスク検査装置で観測した欠陥／異物の座標位置またはサイズの測定データを取り込み、前記欠陥／異物の存在部に電子顕微鏡の観測視野部を移動させ、
他のウェハ／マスク検査装置で得た欠陥／異物の座標と電子顕微鏡の観測視野部およびその周辺領域を図示する機能を有し、
ポインティングデバイスのスイッチは、前記図上にポインタで指定された位置に電子顕微鏡の観測視野部を移動させる機能を有し、
該観測視野部の移動に伴ない前記図の表示を変更する機能を備えたことを特徴とする電子顕微鏡にある。
【００１５】
即ち、他の検査装置で得られた欠陥座標、電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域などを図示し、ポインティングデバイスの操作や電子顕微鏡の観測視野の移動に伴って、その図を拡大／縮小したり、表示倍率を保ったまま図示する周辺領域を移動できるようにする。
【００１６】
また、図上の任意の位置をポインティングデバイスで指定すると、その位置に電子顕微鏡の観測視野を移動することができるようにする。
【００１７】
これらにより、電子顕微鏡で観測している位置や領域を明確に把握することができ、目的とする欠陥が存在する他の検査装置で得られた欠陥座標の周辺領域へ、観測視野を容易に移動することができる。
【００１８】
また、観測視野を示す図上に欠陥の形状を表示し、電子顕微鏡の観測条件の変更に伴って表示を変更する。
【００１９】
これにより、電子顕微鏡の観測視野を容易に欠陥の観測に適した条件に設定でき、また、欠陥の形状に基づき、観測視野内から容易に欠陥を検出できる。
【００２０】
さらに、他の検査装置で得られた欠陥座標と観測視野の距離を表示し、その値を保存したり、保存した距離だけ電子顕微鏡の観測視野を相対移動する機能を持たせる。
【００２１】
これにより、欠陥検索時の座標誤差を他の欠陥の検索に容易に利用でき、効率良く欠陥を検索できる。
【００２２】
さらに、観測した領域と未観測の領域を区別して表示し、電子顕微鏡の観測条件を変更した場合でも、それに応じて表示を変更する。
【００２３】
これにより、電子顕微鏡の観測条件によらず、未観測の領域のみを効率良く観測でき、観測の抜けも防ぐことができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一例を図面を用いて説明する。また、ポインティングデバイスに、３ボタン式のマウスを使用した例で説明するが、これに限定されるものではない。
【００２５】
図１は、走査電子顕微鏡を例にとった本発明の装置構成を示す概略図である。電子顕微鏡の電子銃１から放射された電子線２は、電子レンズ３で収束され、偏向器４で二次元的に走査偏向されて試料５に照射される。試料５に電子線２が照射されると、試料の形状や材質に従った反射電子や二次電子等の二次粒子が発生する。この二次粒子を検出器６で検出し、増幅器７で増幅する。
【００２６】
増幅器７から出力される信号を、画像処理プロセッサ８内でＡＤ変換し、デジタル画像データを作る。該画像データは、ワークステーション／パソコン９のＣＲＴにリアルタイムで表示する。
【００２７】
ところで、ワークステーション／パソコン９と、電子顕微鏡を制御する制御コンピュータ１０は通信媒体（図示省略）で接続され、ワークステーション／パソコン９の操作により、制御コンピュータ１０に各種命令を出すことで、電子顕微鏡の試料５を載せた試料ステージ１１を移動することができる。この試料ステージ１１の移動により、ワークステーション／パソコン９のＣＲＴに、表示される試料５の観測視野が移動する。
【００２８】
ウェハ／マスク１２は、まず光学式検査装置１３（他のウェハ／マスク検査装置）などに搬送して、ウェハ／マスク１２上の欠陥１４を検査する。その結果、ウェハ／マスク１２上の欠陥１４の存在座標やサイズなどの情報を検出し、検査結果に出力する。
【００２９】
次に、光学式検査装置１３により測定したウェハ／マスク１２を、前記電子顕微鏡の試料ステージ１１に搬送する。また同時に、光学式検査装置１３が測定した検査結果を、情報媒体１５（通信またはＦ／Ｄ，ＭＯなど）を介して電子顕微鏡装置のワークステーション／パソコン９に提供する。
【００３０】
ワークステーション／パソコン９は、前記検査結果に含まれる座標情報などを基に、電子顕微鏡の試料ステージ１１に対するウェハ／マスク１２の座標補正を行う。続いて、欠陥１４の存在する座標に電子顕微鏡の試料ステージ１１、即ち、観測視野を移動し、電子顕微鏡像をワークステーション／パソコン９のＣＲＴに表示する。
【００３１】
図２は、電子顕微鏡を操作するためのワークステーション／パソコン９の詳細と観測視野とその周辺領域を図示する例を示す模式図である。
【００３２】
本発明の表示画面であるＣＲＴ表示２１は、電子顕微鏡像およびオペレータが操作するためのＧＵＩを表示する。ＣＲＴ表示２１の構成は、電子顕微鏡像２２、ポインティングデバイス用のポインタ２３、電子顕微鏡の観測視野図２６、電子顕微鏡の観測視野の周辺領域図２４および座標中心２５を表す図、および、光学式検査装置１３で得られた欠陥の検査結果を欠陥毎に表示したリスト２７からなる。ここで、電子顕微鏡の観測視野図２６は、電子顕微鏡像２２で観測している領域を示す図である。
【００３３】
光学式検査装置で得られたデータは、欠陥毎の座標、サイズなどの情報であり、電子顕微鏡の観測視野の周辺領域図２４には、これらの情報に基づいて欠陥の位置やサイズが図示される。なお、光学式検査装置１３で得られたこれらの情報は、ワークステーション／パソコン９の記憶装置に保存されている。
【００３４】
ＣＲＴ表示２１のＧＵＩを操作するためのポインティングデバイスは、３ボタン式のマウス２８であり、左ボタン２９、中ボタン３０、右ボタン３１で構成される。
【００３５】
オペレータによる欠陥の検索は以下の手順で行われる。まず、欠陥の検査結果を欠陥毎に表示したリスト２７で観測を目的とする欠陥の項目を、マウス２８の左ボタン２９でクリックし、その欠陥の検査結果に含まれる欠陥座標に電子顕微鏡の観測視野を移動する。
【００３６】
電子顕微鏡像２２には、移動先の観測像が表示される。このとき、電子顕微鏡の観測視野の周辺領域図２４の座標中心２５に、指定された欠陥検査結果に含まれる欠陥座標を合わせ、さらに観測視野図２６を表示する。
【００３７】
ここで、光学式検査装置で得られた欠陥座標に信頼性が無い、電子顕微鏡のステージ誤差、光学顕微鏡と電子顕微鏡との観測倍率の格差などの要因により、光学式検査装置で得られた欠陥座標に移動直後の電子顕微鏡の観測視野内で目的とする欠陥が検出されない場合がある。この場合、オペレータは欠陥を検索するためにその周辺へ電子顕微鏡の観測視野を移動する。このとき、観測視野の移動に合わせて観測視野図２６を、光学式検査装置で得られた欠陥位置に合わせられた座標中心２５を基準として対応する位置に移動表示する。
【００３８】
これにより、オペレータは、光学式検査装置で得られた欠陥座標に対する現在の電子顕微鏡の観測視野の位置や領域を、視覚的に知ることができるため、欠陥が存在するはずの光学式検査装置で得られた欠陥座標の周辺を、高い倍率の電子顕微鏡像を見ながら容易に観測視野を移動できる。
【００３９】
〔実施例 １〕
本発明の電子顕微鏡の観測視野と、その周辺領域の図を拡大／縮小する実施例を示す。
【００４０】
図３は、電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図をマウスで拡大／縮小する処理を説明する説明図、図４は処理の流れを示すフロー図である。
【００４１】
光学式検査装置で得られた欠陥座標へ電子顕微鏡の観測視野を移動後、図３（ａ）に示すように、電子顕微鏡の観測視野図２６と周辺領域図２４および座標中心２５、周辺領域の実サイズ４１を表示する。
【００４２】
ここで、周辺領域図２４の任意位置で、マウスの中ボタン３０または右ボタン３１を押すと、周辺領域の実サイズ４１を変更するときのステップ値４２を取得する（Ｓ１１）。なお、この値はオペレータがいつでも任意の値を入力できる。
【００４３】
押されたボタンが、マウスの中ボタン３０の場合（Ｓ１２）は、現在の周辺領域の実サイズ４１から取得したステップ値４２を減算し、変更後の周辺領域のサイズを求める（Ｓ１３）。
【００４４】
次に、変更後の周辺領域２４に対する現在の電子顕微鏡の観測視野図２６の表示サイズを計算し（Ｓ１６）、図３（ｂ）に示すように、観測視野とその周辺領域の図を拡大表示する（Ｓ１７）。
【００４５】
押されたボタンがマウスの右ボタン３１の場合（Ｓ１４）は、現在の周辺領域の実サイズ４１に取得したステップ値４２を加算し、変更後の周辺領域のサイズを求める（Ｓ１５）。次に、変更後の電子顕微鏡の観測視野の周辺領域図２４に対する現在の観測視野図２６の表示サイズを計算し（Ｓ１６）、図３（ｃ）に示すように、観測視野とその周辺領域の図を縮小表示する（Ｓ１７）。
【００４６】
これによりオペレータは、他の検査装置で得られた欠陥座標の周辺領域の拡大／縮小の変更量を数値によって指定できるため、光学式検査装置の種類に応じてずれ量を予測できる場合や、ウェハ上の部位毎に欠陥座標のずれ量が予測できる場合など、効率良く周辺領域のサイズを変更し、目的とする欠陥を検索できる。
【００４７】
また、周辺領域に対する観測視野のサイズが視覚的に分かるため、欠陥を検索するために何視野分の観測が必要かなど、作業量を容易に知ることができる。
【００４８】
〔実施例 ２〕
本発明の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する第２の実施例を示す。図５は本発明の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を、観測視野の移動に伴って拡大／縮小する処理を説明する説明図、図６は処理の流れを示すフロー図である。
【００４９】
光学式検査装置で得られた欠陥座標へ電子顕微鏡の観測視野を移動後、図５（ａ）に示すように、電子顕微鏡の観測視野図２６と周辺領域図２４および座標中心２５、周辺領域の実サイズ４１を示す。
【００５０】
光学式検査装置１３で得られた欠陥座標に信頼性が無い、電子顕微鏡のステージ誤差、光学顕微鏡と電子顕微鏡との観測倍率の格差などの要因により、光学式検査装置で得られた欠陥座標へ、移動直後の電子顕微鏡の観測視野内に目的とする欠陥を検出できず、また、そのずれ量も予測できない場合がある。
【００５１】
本実施例の装置では、このような場合において、目的とする欠陥の電子顕微鏡像の観測を行うべく、観測視野図２６が周辺領域図２４内に表示される状態を維持しつつ、観測視野図２６の移動に伴って、周辺領域図２４を拡大／縮小する処理を行う。
【００５２】
オペレータによるポインティングデバイスの操作により観測視野が移動されると、まず、観測視野の周辺領域を拡大／縮小するときのステップ値４２を取得する（Ｓ２１）。なお、この値はオペレータがいつでも任意の値を入力できる。
【００５３】
次に、移動後の観測視野が周辺領域内にあるかを判断する（Ｓ２２）。図５（ｂ）に示すように、観測視野図２６が周辺領域内にない場合には、現在の周辺領域の実サイズ４１に取得したステップ値４２を加算し（Ｓ２３）、図５（ｃ）に示すように、この計算値を新たな周辺領域の実サイズ４１として（Ｓ２４）、観測視野とその周辺領域の図を縮小表示する（Ｓ２５）。
【００５４】
観測視野が周辺領域内の場合は、現在の周辺領域の実サイズ４１から取得したステップ値４２を減算する（Ｓ２６）。
【００５５】
次に、移動後の観測視野がこの計算値の領域内であるかを判断する（Ｓ２７）。図５（ｄ）に示すように、観測視野図２６が周辺領域内の場合には、図５（ｅ）に示すように、この計算値を新たな周辺領域の実サイズ４１として（Ｓ２４）、観測視野とその周辺領域の図を拡大表示する（Ｓ２５）。
【００５６】
上記以外の場合は、周辺領域の実サイズ４１を変更せず、観測視野とその周辺領域の図の拡大／縮小は行わない。
【００５７】
オペレータが目的とする欠陥を観測視野内に検出するためには、観測視野を移動する度に、これらの処理が繰り返される。
【００５８】
これにより、電子顕微鏡の観測視野を任意の位置に移動しても、観測視野が表示される状態が維持されたまま、欠陥座標の周辺領域が拡大／縮小されるため、予め、ずれ量が予測できない場合でも、オペレータは観測視野の移動操作のみで、他の検査装置で得た欠陥座標と観測視野の位置関係を、視覚的に把握することができ、他の検査装置で得られた欠陥座標の周辺にあるはずの欠陥を、容易に検索することができる。
【００５９】
〔実施例 ３〕
本発明の電子顕微鏡の観測視野と、その周辺領域の図の表示倍率を保ったまま図示し、周辺領域を移動する実施例を示す。図７は、観測視野の移動に伴って図示する周辺領域を移動する処理を説明する説明図、図８は処理の流れを示すフロー図である。
【００６０】
光学式検査装置で得られた欠陥座標へ電子顕微鏡の観測視野を移動後、図７（ａ）に示すように、電子顕微鏡の観測視野図２６、周辺領域図２４および座標中心２５、周辺領域の実サイズ４１を表示する。
【００６１】
前記実施例と同じく、光学式検査装置で得られた欠陥座標へ、移動直後の電子顕微鏡の観測視野内に目的とする欠陥を検出できず、また、そのずれ量も予測できない場合がある。
【００６２】
本実施例の装置では、このような場合において、目的とする欠陥の電子顕微鏡像の観測を行うべく、観測視野図２６が周辺領域図２４内に表示される状態を維持しつつ、観測視野図２６の移動に伴って、周辺領域図２４の座標中心２５を移動する処理を行う。
【００６３】
オペレータによるポインティングデバイスの操作により観測視野が移動されると、まず、移動後の観測視野が周辺領域内であるのかを判断する（Ｓ３１）。図７（ｂ）に示すように、観測視野図２６が周辺領域内に無い場合には、図７（ｃ）に示すように、その移動先に応じて、現在の座標中心２５を周辺領域の実サイズ４１分移動する（Ｓ３２）。
【００６４】
次に、座標中心２５に対する観測視野の位置を計算し（Ｓ３３）、座標中心２５が、他の検査装置で得られた欠陥座標と一致するかを判断する（Ｓ３４）。一致しない場合には、図７（ｄ）に示すように、座標中心２５を表す図を消去し（Ｓ３５）、光学式検査装置で得られた欠陥座標の方向を示す矢印４５を表示し（Ｓ３６）、観測視野２６の表示を更新する（Ｓ３７）。
【００６５】
さらに、図７（ｅ）に示すように、観測視野が移動されて、観測視野が周辺領域外となった場合は、図７（ｆ）に示すように、座標中心２５を周辺領域の実サイズ４１分移動する（Ｓ３２）。
【００６６】
その結果、座標中心２５が、他の検査装置で得られた欠陥座標と一致する場合には、図７（ｇ）に示すように、座標中心２５を表す図を表示し（Ｓ３８）、光学式検査装置で得られた欠陥座標の方向を示す矢印４５を消去し（Ｓ３９）、観測視野２６の表示を更新する（Ｓ３７）。
【００６７】
オペレータは、目的とする欠陥を、観測視野内に検出するために観測視野を移動する度に、これらの処理を繰り返す。
【００６８】
これにより、電子顕微鏡の観測視野を任意の位置に移動しても、観測視野が同じサイズで表示される状態が維持されたまま、座標中心が周辺領域のサイズ分ずつ移動表示される。また、光学顕微鏡で得られた欠陥座標の方向も表示されるため、オペレータが検索し易い特定のサイズの領域毎に、漏れなく欠陥を検索できる。
【００６９】
〔実施例 ４〕
本発明の観測視野を示す図上に、欠陥の形状を表示する例を図９に示す。
【００７０】
周辺領域図２４内の観測視野図２６内に、光学式検査装置１３で得られた欠陥の、Ｘ方向のサイズとＹ方向のサイズから、観測視野に対するサイズを計算し、欠陥の形状図５１を楕円形などで表示する。なお、このとき欠陥の形状図は四角形などで表示してもよい。
【００７１】
また、光学式検査装置１３から、形状や組成に関する情報が得られるならば、それらを模し、組成情報が判別できるように表示してもよい。
【００７２】
電子顕微鏡の観測画像の倍率を下げると、周辺領域図２４と観測視野図２６の表示比は同じのまま、周辺領域の実サイズ４１を観測倍率に反比例して大きくし、欠陥の形状図５１を観測倍率に比例して小さくする。
【００７３】
また、電子顕微鏡の観測画像の倍率を上げると、周辺領域図２４と観測視野図２６の表示比は同じにした状態で、周辺領域の実サイズ４１を観測倍率に反比例して小さくする。これに対して、欠陥の形状図５１を観測倍率に比例して大きくする。
【００７４】
上記により、電子顕微鏡の観測倍率に応じた観測領域に対する欠陥の大きさを知ることができるので、目的とする欠陥が観測視野内に無くとも、検索または観測するのに適した電子顕微鏡の倍率を容易に設定できる。
【００７５】
また、電子顕微鏡の観測視野に対する欠陥の形状が図示されるため、欠陥がパターンと区別しにくい場合や、同一視野に欠陥が複数存在する場合、目的とする欠陥を容易に認識することができる。
【００７６】
〔実施例 ５〕
図１０に、本発明の電子顕微鏡の観測視野の移動と、欠陥座標からの観測視野の距離表示の例を示す。
【００７７】
光学式検査装置１３で得られた欠陥座標へ電子顕微鏡の観測視野を移動後、観測視野図２６と周辺領域図２４および座標中心２５、欠陥座標からの観測視野の距離６１を表示する。
【００７８】
このとき、周辺領域図２４の座標中心２５と観測視野の座標中心は一致しているので、欠陥座標からの観測視野の距離６１は、Ｘ，Ｙともに０である。
【００７９】
ここで、周辺領域図２４内のオペレータが移動させたい任意の位置に、ポインティングデバイス用のポインタ２３を移動し、マウスの左ボタン２９をクリックすると、クリックされた座標に電子顕微鏡の観測視野が移動し、観測視野図２６も移動表示する。このとき、周辺領域図２４の座標中心２５の座標と、観測視野の座標中心６２の座標から２点間の距離を算出し、欠陥座標からの観測視野の距離６１に表示する。
【００８０】
また、保存ボタン６３を押すと、現在の欠陥座標からの観測視野の距離６１の値を保存する。次に、他の欠陥座標へ移動し、移動ボタン６４を押すと前回保存した距離分だけ電子顕微鏡の観測視野を相対移動する。
【００８１】
これにより、簡単なマウス操作によって、電子顕微鏡の観測視野を欠陥座標の周辺領域の任意位置への移動できるため、欠陥のずれ量が予想できる場合などに、その付近への電子顕微鏡の観測視野を容易に直接移動することができる。
【００８２】
また、光学式検査装置で得られた欠陥座標と、観測視野の距離が表示されることにより、観測視野内に欠陥を検出した場合には、光学式検査装置１３で得られた欠陥座標と、実際の欠陥座標とのずれを知ることができ、光学式検査装置１３で得られた欠陥座標に信頼性がないことや、ステージの誤差などに起因する光学式検査装置１３と本装置との総合的な座標誤差の補正に利用することができる。
【００８３】
さらに、他の欠陥が同じ程度のずれ量と予測される場合は、容易なボタン操作により、全く同じずれ量の位置に電子顕微鏡の観測視野を移動でき、効率的に欠陥を検索することができる。
【００８４】
〔実施例 ６〕
図１１に、本発明の観測済みの領域と未観測の領域とを区別して表示する例を示す。
【００８５】
電子顕微鏡の観測視野の移動に合わせ、周辺領域図２４内の観測視野図２６を移動表示するが、同時に、観測済み領域７１を色を変えて表示する。また、電子顕微鏡の観測視野を回転させるなどした場合も同様に表示する。
【００８６】
さらに、電子顕微鏡の観測視野の周辺領域を拡大／縮小した場合は、その周辺領域のサイズに応じて、観測済み領域７１の表示サイズを拡大／縮小する。
【００８７】
これにより、欠陥座標位置の周辺領域において、電子顕微鏡の観測視野を移動、回転、あるいは、観測視野の周辺領域を拡大／縮小しても、観測済みの領域と、未観測の領域を明確に区別できるため、観測済みの領域の再観測や、観測の漏れを防ぐことができる。
【００８８】
【発明の効果】
本発明によれば、光学式検査装置で検出される欠陥をレビューする電子顕微鏡において、異なる装置であるがゆえに発生する装置間での位置誤差などに係らず、容易、かつ、適正に観測対象欠陥部に視野設定を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】走査電子顕微鏡を一例とする本発明の装置の構成図である。
【図２】本発明の電子顕微鏡を操作するためのワークステーション／パソコンの詳細と観測視野とその周辺領域を図示した一例の説明図である。
【図３】実施例１の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する模式図である。
【図４】実施例１の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する行程を示すフロー図である。
【図５】実施例２の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する模式図である。
【図６】実施例２の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する行程を示すフロー図である。
【図７】実施例３の観測視野の移動に伴って図示する周辺領域を移動する模式図である。
【図８】実施例３の観測視野の移動に伴って図示する周辺領域を移動する際の行程を示すフロー図である。
【図９】実施例４の観測視野を示す図上に欠陥の形状を表示する模式図である。
【図１０】実施例５の電子顕微鏡の観測視野の移動と欠陥座標からの観測視野の距離表示の模式図である。
【図１１】実施例６の観測済みの領域と未観測の領域とを区別して表示する例を示す模式図である。
【符号の説明】
１…電子銃、２…電子線、３…電子レンズ、４…偏向器、５…試料、６…検出器、７…増幅器、８…画像処理プロセッサ、９…ワークステーション／パソコン、１０…制御コンピュータ、１１…試料ステージ、１２…ウェーハ／マスク、１３…光学式検査装置、１４…欠陥、１５…情報媒体、２１…ＣＲＴ表示、２２…電子顕微鏡像、２３…ポインティングデバイス用のポインタ、２４…周辺領域図、２５…座標中心、２６…観測視野図、２７…欠陥の検査結果を欠陥毎に表示したリスト、２８…３ボタン式のマウス、２９…マウスの左ボタン、３０…マウスの中ボタン、３１…マウスの右ボタン、４１…周辺領域の実サイズ、４２…ステップ値、４５…欠陥座標の方向を示す矢印、５１…欠陥の形状図、６１…欠陥座標からの観測視野の距離、６２…観測視野の座標中心、６３…保存ボタン、６４…移動ボタン、７１…観測済み領域。
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体用ウェハや半導体パターン露光用マスクの表面または内部の欠陥／異物を観測または検出する電子顕微鏡に係り、特に、他のウェハ／マスク検査装置で測定した欠陥／異物の座標を用いて、欠陥／異物の観測ができる電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体用ウェハや半導体パターン露光用マスクの欠陥または異物は、半導体の性能に致命的な障害を与えたり、半導体の生産効率に多大な影響を及ぼすことがある。
【０００３】
半導体の生産効率を向上させるためには、ウェハ／マスクに付着する異物や、ウェハ上の半導体パターンやマスクパターンの欠陥を、限りなく少なくする必要がある。そのため、半導体製造工程の途中でウェハ／マスクの欠陥や異物（以下、欠陥と異物とを併せて単に欠陥と云う）を検出，観測し、その発生原因を解析することが重要視されている。
【０００４】
近年、半導体は微細化が進み、０．１μｍ程度のウェハ上の欠陥が半導体の性能に重大な障害を与える可能性がある。そこで、通常、光学式欠陥検査装置あるいは光学式異物検査装置（以下、単に検査装置と云う）を用い、欠陥の発生個所を特定し、該検査装置により得られた欠陥座標等の情報に基づき、電子顕微鏡の視野を該欠陥が存在する位置に移動して観測し、その欠陥の種類を特定することが一般に行われている。
【０００５】
しかし、電子顕微鏡の表示画面サイズにもよるが、ある倍率で一度に観測できるウェハ／マスク上の範囲は決まっているため、他の検査装置で測定した欠陥座標に誤差が含まれていた場合には、欠陥を電子顕微鏡の観測視野内に捕捉することができない。
【０００６】
他の検査装置と電子顕微鏡の座標誤差を少なくするため種々の手法が提案されているが、全ての欠陥に対して電子顕微鏡の観測視野内に捕らえるに十分な座標精度を得ることはできない。そのような場合には、オペレータによる欠陥の検索作業が必要となる。
【０００７】
欠陥の検索は、ウェハマップ図やダイ／チップ図、あるいは、光学顕微鏡像などを別途表示して、他の検査装置で測定した欠陥座標と電子顕微鏡の観測視野の位置を確認しながら、ポインティングデバイス（マウス、トラックボールなど）により、電子顕微鏡の観測視野を徐々に移動させながら行う。また、電子顕微鏡の観測条件（観測倍率など）は、他の検査装置で得られたデータから適した条件を算出し、設定する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前記従来技術では、微小な欠陥を検出するために電子顕微鏡の観測倍率を、例えば、１０，０００倍と云うような高倍率にした場合、観測している位置や領域を明確に把握できず、移動させたい位置に電子顕微鏡の観測視野を移動させることも容易でなかった。
【０００９】
また、電子顕微鏡の観測視野を目的とする欠陥の検出や、観測に適した条件に設定する場合、他の検査装置で得られた数値データから、欠陥毎に倍率などの観測条件を計算しなければならなかった。
【００１０】
さらに、欠陥検索時の座標誤差を、他の欠陥の検索に容易に利用できないため、効率良く欠陥を検索できなかった。
【００１１】
さらにまた、電子顕微鏡で観測済みの領域と、未観測の領域とを区別して表示している場合、電子顕微鏡の観測条件を変更できなかったり、変更すると表示が初期化されたりした。
【００１２】
本発明の目的は、これら上記の問題を解決し、オペレータが容易かつ適正に、観測を目的とする欠陥部に、視野設定を行うことが可能な電子顕微鏡を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成する本発明の要旨は次のとおりである。
【００１４】
半導体用ウェハまたは半導体パターン露光用マスクの表面または内部の欠陥／異物を観測する電子顕微鏡において、
他のウェハ／マスク検査装置で観測した欠陥／異物の座標位置またはサイズの測定データを取り込み、前記欠陥／異物の存在部に電子顕微鏡の観測視野部を移動させ、
他のウェハ／マスク検査装置で得た欠陥／異物の座標と電子顕微鏡の観測視野部およびその周辺領域を図示する機能を有し、
ポインティングデバイスのスイッチは、前記図上にポインタで指定された位置に電子顕微鏡の観測視野部を移動させる機能を有し、
該観測視野部の移動に伴ない前記図の表示を変更する機能を備えたことを特徴とする電子顕微鏡にある。
【００１５】
即ち、他の検査装置で得られた欠陥座標、電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域などを図示し、ポインティングデバイスの操作や電子顕微鏡の観測視野の移動に伴って、その図を拡大／縮小したり、表示倍率を保ったまま図示する周辺領域を移動できるようにする。
【００１６】
また、図上の任意の位置をポインティングデバイスで指定すると、その位置に電子顕微鏡の観測視野を移動することができるようにする。
【００１７】
これらにより、電子顕微鏡で観測している位置や領域を明確に把握することができ、目的とする欠陥が存在する他の検査装置で得られた欠陥座標の周辺領域へ、観測視野を容易に移動することができる。
【００１８】
また、観測視野を示す図上に欠陥の形状を表示し、電子顕微鏡の観測条件の変更に伴って表示を変更する。
【００１９】
これにより、電子顕微鏡の観測視野を容易に欠陥の観測に適した条件に設定でき、また、欠陥の形状に基づき、観測視野内から容易に欠陥を検出できる。
【００２０】
さらに、他の検査装置で得られた欠陥座標と観測視野の距離を表示し、その値を保存したり、保存した距離だけ電子顕微鏡の観測視野を相対移動する機能を持たせる。
【００２１】
これにより、欠陥検索時の座標誤差を他の欠陥の検索に容易に利用でき、効率良く欠陥を検索できる。
【００２２】
さらに、観測した領域と未観測の領域を区別して表示し、電子顕微鏡の観測条件を変更した場合でも、それに応じて表示を変更する。
【００２３】
これにより、電子顕微鏡の観測条件によらず、未観測の領域のみを効率良く観測でき、観測の抜けも防ぐことができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一例を図面を用いて説明する。また、ポインティングデバイスに、３ボタン式のマウスを使用した例で説明するが、これに限定されるものではない。
【００２５】
図１は、走査電子顕微鏡を例にとった本発明の装置構成を示す概略図である。電子顕微鏡の電子銃１から放射された電子線２は、電子レンズ３で収束され、偏向器４で二次元的に走査偏向されて試料５に照射される。試料５に電子線２が照射されると、試料の形状や材質に従った反射電子や二次電子等の二次粒子が発生する。この二次粒子を検出器６で検出し、増幅器７で増幅する。
【００２６】
増幅器７から出力される信号を、画像処理プロセッサ８内でＡＤ変換し、デジタル画像データを作る。該画像データは、ワークステーション／パソコン９のＣＲＴにリアルタイムで表示する。
【００２７】
ところで、ワークステーション／パソコン９と、電子顕微鏡を制御する制御コンピュータ１０は通信媒体（図示省略）で接続され、ワークステーション／パソコン９の操作により、制御コンピュータ１０に各種命令を出すことで、電子顕微鏡の試料５を載せた試料ステージ１１を移動することができる。この試料ステージ１１の移動により、ワークステーション／パソコン９のＣＲＴに、表示される試料５の観測視野が移動する。
【００２８】
ウェハ／マスク１２は、まず光学式検査装置１３（他のウェハ／マスク検査装置）などに搬送して、ウェハ／マスク１２上の欠陥１４を検査する。その結果、ウェハ／マスク１２上の欠陥１４の存在座標やサイズなどの情報を検出し、検査結果に出力する。
【００２９】
次に、光学式検査装置１３により測定したウェハ／マスク１２を、前記電子顕微鏡の試料ステージ１１に搬送する。また同時に、光学式検査装置１３が測定した検査結果を、情報媒体１５（通信またはＦ／Ｄ，ＭＯなど）を介して電子顕微鏡装置のワークステーション／パソコン９に提供する。
【００３０】
ワークステーション／パソコン９は、前記検査結果に含まれる座標情報などを基に、電子顕微鏡の試料ステージ１１に対するウェハ／マスク１２の座標補正を行う。続いて、欠陥１４の存在する座標に電子顕微鏡の試料ステージ１１、即ち、観測視野を移動し、電子顕微鏡像をワークステーション／パソコン９のＣＲＴに表示する。
【００３１】
図２は、電子顕微鏡を操作するためのワークステーション／パソコン９の詳細と観測視野とその周辺領域を図示する例を示す模式図である。
【００３２】
本発明の表示画面であるＣＲＴ表示２１は、電子顕微鏡像およびオペレータが操作するためのＧＵＩを表示する。ＣＲＴ表示２１の構成は、電子顕微鏡像２２、ポインティングデバイス用のポインタ２３、電子顕微鏡の観測視野図２６、電子顕微鏡の観測視野の周辺領域図２４および座標中心２５を表す図、および、光学式検査装置１３で得られた欠陥の検査結果を欠陥毎に表示したリスト２７からなる。ここで、電子顕微鏡の観測視野図２６は、電子顕微鏡像２２で観測している領域を示す図である。
【００３３】
光学式検査装置で得られたデータは、欠陥毎の座標、サイズなどの情報であり、電子顕微鏡の観測視野の周辺領域図２４には、これらの情報に基づいて欠陥の位置やサイズが図示される。なお、光学式検査装置１３で得られたこれらの情報は、ワークステーション／パソコン９の記憶装置に保存されている。
【００３４】
ＣＲＴ表示２１のＧＵＩを操作するためのポインティングデバイスは、３ボタン式のマウス２８であり、左ボタン２９、中ボタン３０、右ボタン３１で構成される。
【００３５】
オペレータによる欠陥の検索は以下の手順で行われる。まず、欠陥の検査結果を欠陥毎に表示したリスト２７で観測を目的とする欠陥の項目を、マウス２８の左ボタン２９でクリックし、その欠陥の検査結果に含まれる欠陥座標に電子顕微鏡の観測視野を移動する。
【００３６】
電子顕微鏡像２２には、移動先の観測像が表示される。このとき、電子顕微鏡の観測視野の周辺領域図２４の座標中心２５に、指定された欠陥検査結果に含まれる欠陥座標を合わせ、さらに観測視野図２６を表示する。
【００３７】
ここで、光学式検査装置で得られた欠陥座標に信頼性が無い、電子顕微鏡のステージ誤差、光学顕微鏡と電子顕微鏡との観測倍率の格差などの要因により、光学式検査装置で得られた欠陥座標に移動直後の電子顕微鏡の観測視野内で目的とする欠陥が検出されない場合がある。この場合、オペレータは欠陥を検索するためにその周辺へ電子顕微鏡の観測視野を移動する。このとき、観測視野の移動に合わせて観測視野図２６を、光学式検査装置で得られた欠陥位置に合わせられた座標中心２５を基準として対応する位置に移動表示する。
【００３８】
これにより、オペレータは、光学式検査装置で得られた欠陥座標に対する現在の電子顕微鏡の観測視野の位置や領域を、視覚的に知ることができるため、欠陥が存在するはずの光学式検査装置で得られた欠陥座標の周辺を、高い倍率の電子顕微鏡像を見ながら容易に観測視野を移動できる。
【００３９】
〔実施例 １〕
本発明の電子顕微鏡の観測視野と、その周辺領域の図を拡大／縮小する実施例を示す。
【００４０】
図３は、電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図をマウスで拡大／縮小する処理を説明する説明図、図４は処理の流れを示すフロー図である。
【００４１】
光学式検査装置で得られた欠陥座標へ電子顕微鏡の観測視野を移動後、図３（ａ）に示すように、電子顕微鏡の観測視野図２６と周辺領域図２４および座標中心２５、周辺領域の実サイズ４１を表示する。
【００４２】
ここで、周辺領域図２４の任意位置で、マウスの中ボタン３０または右ボタン３１を押すと、周辺領域の実サイズ４１を変更するときのステップ値４２を取得する（Ｓ１１）。なお、この値はオペレータがいつでも任意の値を入力できる。
【００４３】
押されたボタンが、マウスの中ボタン３０の場合（Ｓ１２）は、現在の周辺領域の実サイズ４１から取得したステップ値４２を減算し、変更後の周辺領域のサイズを求める（Ｓ１３）。
【００４４】
次に、変更後の周辺領域２４に対する現在の電子顕微鏡の観測視野図２６の表示サイズを計算し（Ｓ１６）、図３（ｂ）に示すように、観測視野とその周辺領域の図を拡大表示する（Ｓ１７）。
【００４５】
押されたボタンがマウスの右ボタン３１の場合（Ｓ１４）は、現在の周辺領域の実サイズ４１に取得したステップ値４２を加算し、変更後の周辺領域のサイズを求める（Ｓ１５）。次に、変更後の電子顕微鏡の観測視野の周辺領域図２４に対する現在の観測視野図２６の表示サイズを計算し（Ｓ１６）、図３（ｃ）に示すように、観測視野とその周辺領域の図を縮小表示する（Ｓ１７）。
【００４６】
これによりオペレータは、他の検査装置で得られた欠陥座標の周辺領域の拡大／縮小の変更量を数値によって指定できるため、光学式検査装置の種類に応じてずれ量を予測できる場合や、ウェハ上の部位毎に欠陥座標のずれ量が予測できる場合など、効率良く周辺領域のサイズを変更し、目的とする欠陥を検索できる。
【００４７】
また、周辺領域に対する観測視野のサイズが視覚的に分かるため、欠陥を検索するために何視野分の観測が必要かなど、作業量を容易に知ることができる。
【００４８】
〔実施例 ２〕
本発明の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する第２の実施例を示す。図５は本発明の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を、観測視野の移動に伴って拡大／縮小する処理を説明する説明図、図６は処理の流れを示すフロー図である。
【００４９】
光学式検査装置で得られた欠陥座標へ電子顕微鏡の観測視野を移動後、図５（ａ）に示すように、電子顕微鏡の観測視野図２６と周辺領域図２４および座標中心２５、周辺領域の実サイズ４１を示す。
【００５０】
光学式検査装置１３で得られた欠陥座標に信頼性が無い、電子顕微鏡のステージ誤差、光学顕微鏡と電子顕微鏡との観測倍率の格差などの要因により、光学式検査装置で得られた欠陥座標へ、移動直後の電子顕微鏡の観測視野内に目的とする欠陥を検出できず、また、そのずれ量も予測できない場合がある。
【００５１】
本実施例の装置では、このような場合において、目的とする欠陥の電子顕微鏡像の観測を行うべく、観測視野図２６が周辺領域図２４内に表示される状態を維持しつつ、観測視野図２６の移動に伴って、周辺領域図２４を拡大／縮小する処理を行う。
【００５２】
オペレータによるポインティングデバイスの操作により観測視野が移動されると、まず、観測視野の周辺領域を拡大／縮小するときのステップ値４２を取得する（Ｓ２１）。なお、この値はオペレータがいつでも任意の値を入力できる。
【００５３】
次に、移動後の観測視野が周辺領域内にあるかを判断する（Ｓ２２）。図５（ｂ）に示すように、観測視野図２６が周辺領域内にない場合には、現在の周辺領域の実サイズ４１に取得したステップ値４２を加算し（Ｓ２３）、図５（ｃ）に示すように、この計算値を新たな周辺領域の実サイズ４１として（Ｓ２４）、観測視野とその周辺領域の図を縮小表示する（Ｓ２５）。
【００５４】
観測視野が周辺領域内の場合は、現在の周辺領域の実サイズ４１から取得したステップ値４２を減算する（Ｓ２６）。
【００５５】
次に、移動後の観測視野がこの計算値の領域内であるかを判断する（Ｓ２７）。図５（ｄ）に示すように、観測視野図２６が周辺領域内の場合には、図５（ｅ）に示すように、この計算値を新たな周辺領域の実サイズ４１として（Ｓ２４）、観測視野とその周辺領域の図を拡大表示する（Ｓ２５）。
【００５６】
上記以外の場合は、周辺領域の実サイズ４１を変更せず、観測視野とその周辺領域の図の拡大／縮小は行わない。
【００５７】
オペレータが目的とする欠陥を観測視野内に検出するためには、観測視野を移動する度に、これらの処理が繰り返される。
【００５８】
これにより、電子顕微鏡の観測視野を任意の位置に移動しても、観測視野が表示される状態が維持されたまま、欠陥座標の周辺領域が拡大／縮小されるため、予め、ずれ量が予測できない場合でも、オペレータは観測視野の移動操作のみで、他の検査装置で得た欠陥座標と観測視野の位置関係を、視覚的に把握することができ、他の検査装置で得られた欠陥座標の周辺にあるはずの欠陥を、容易に検索することができる。
【００５９】
〔実施例 ３〕
本発明の電子顕微鏡の観測視野と、その周辺領域の図の表示倍率を保ったまま図示し、周辺領域を移動する実施例を示す。図７は、観測視野の移動に伴って図示する周辺領域を移動する処理を説明する説明図、図８は処理の流れを示すフロー図である。
【００６０】
光学式検査装置で得られた欠陥座標へ電子顕微鏡の観測視野を移動後、図７（ａ）に示すように、電子顕微鏡の観測視野図２６、周辺領域図２４および座標中心２５、周辺領域の実サイズ４１を表示する。
【００６１】
前記実施例と同じく、光学式検査装置で得られた欠陥座標へ、移動直後の電子顕微鏡の観測視野内に目的とする欠陥を検出できず、また、そのずれ量も予測できない場合がある。
【００６２】
本実施例の装置では、このような場合において、目的とする欠陥の電子顕微鏡像の観測を行うべく、観測視野図２６が周辺領域図２４内に表示される状態を維持しつつ、観測視野図２６の移動に伴って、周辺領域図２４の座標中心２５を移動する処理を行う。
【００６３】
オペレータによるポインティングデバイスの操作により観測視野が移動されると、まず、移動後の観測視野が周辺領域内であるのかを判断する（Ｓ３１）。図７（ｂ）に示すように、観測視野図２６が周辺領域内に無い場合には、図７（ｃ）に示すように、その移動先に応じて、現在の座標中心２５を周辺領域の実サイズ４１分移動する（Ｓ３２）。
【００６４】
次に、座標中心２５に対する観測視野の位置を計算し（Ｓ３３）、座標中心２５が、他の検査装置で得られた欠陥座標と一致するかを判断する（Ｓ３４）。一致しない場合には、図７（ｄ）に示すように、座標中心２５を表す図を消去し（Ｓ３５）、光学式検査装置で得られた欠陥座標の方向を示す矢印４５を表示し（Ｓ３６）、観測視野２６の表示を更新する（Ｓ３７）。
【００６５】
さらに、図７（ｅ）に示すように、観測視野が移動されて、観測視野が周辺領域外となった場合は、図７（ｆ）に示すように、座標中心２５を周辺領域の実サイズ４１分移動する（Ｓ３２）。
【００６６】
その結果、座標中心２５が、他の検査装置で得られた欠陥座標と一致する場合には、図７（ｇ）に示すように、座標中心２５を表す図を表示し（Ｓ３８）、光学式検査装置で得られた欠陥座標の方向を示す矢印４５を消去し（Ｓ３９）、観測視野２６の表示を更新する（Ｓ３７）。
【００６７】
オペレータは、目的とする欠陥を、観測視野内に検出するために観測視野を移動する度に、これらの処理を繰り返す。
【００６８】
これにより、電子顕微鏡の観測視野を任意の位置に移動しても、観測視野が同じサイズで表示される状態が維持されたまま、座標中心が周辺領域のサイズ分ずつ移動表示される。また、光学顕微鏡で得られた欠陥座標の方向も表示されるため、オペレータが検索し易い特定のサイズの領域毎に、漏れなく欠陥を検索できる。
【００６９】
〔実施例 ４〕
本発明の観測視野を示す図上に、欠陥の形状を表示する例を図９に示す。
【００７０】
周辺領域図２４内の観測視野図２６内に、光学式検査装置１３で得られた欠陥の、Ｘ方向のサイズとＹ方向のサイズから、観測視野に対するサイズを計算し、欠陥の形状図５１を楕円形などで表示する。なお、このとき欠陥の形状図は四角形などで表示してもよい。
【００７１】
また、光学式検査装置１３から、形状や組成に関する情報が得られるならば、それらを模し、組成情報が判別できるように表示してもよい。
【００７２】
電子顕微鏡の観測画像の倍率を下げると、周辺領域図２４と観測視野図２６の表示比は同じのまま、周辺領域の実サイズ４１を観測倍率に反比例して大きくし、欠陥の形状図５１を観測倍率に比例して小さくする。
【００７３】
また、電子顕微鏡の観測画像の倍率を上げると、周辺領域図２４と観測視野図２６の表示比は同じにした状態で、周辺領域の実サイズ４１を観測倍率に反比例して小さくする。これに対して、欠陥の形状図５１を観測倍率に比例して大きくする。
【００７４】
上記により、電子顕微鏡の観測倍率に応じた観測領域に対する欠陥の大きさを知ることができるので、目的とする欠陥が観測視野内に無くとも、検索または観測するのに適した電子顕微鏡の倍率を容易に設定できる。
【００７５】
また、電子顕微鏡の観測視野に対する欠陥の形状が図示されるため、欠陥がパターンと区別しにくい場合や、同一視野に欠陥が複数存在する場合、目的とする欠陥を容易に認識することができる。
【００７６】
〔実施例 ５〕
図１０に、本発明の電子顕微鏡の観測視野の移動と、欠陥座標からの観測視野の距離表示の例を示す。
【００７７】
光学式検査装置１３で得られた欠陥座標へ電子顕微鏡の観測視野を移動後、観測視野図２６と周辺領域図２４および座標中心２５、欠陥座標からの観測視野の距離６１を表示する。
【００７８】
このとき、周辺領域図２４の座標中心２５と観測視野の座標中心は一致しているので、欠陥座標からの観測視野の距離６１は、Ｘ，Ｙともに０である。
【００７９】
ここで、周辺領域図２４内のオペレータが移動させたい任意の位置に、ポインティングデバイス用のポインタ２３を移動し、マウスの左ボタン２９をクリックすると、クリックされた座標に電子顕微鏡の観測視野が移動し、観測視野図２６も移動表示する。このとき、周辺領域図２４の座標中心２５の座標と、観測視野の座標中心６２の座標から２点間の距離を算出し、欠陥座標からの観測視野の距離６１に表示する。
【００８０】
また、保存ボタン６３を押すと、現在の欠陥座標からの観測視野の距離６１の値を保存する。次に、他の欠陥座標へ移動し、移動ボタン６４を押すと前回保存した距離分だけ電子顕微鏡の観測視野を相対移動する。
【００８１】
これにより、簡単なマウス操作によって、電子顕微鏡の観測視野を欠陥座標の周辺領域の任意位置への移動できるため、欠陥のずれ量が予想できる場合などに、その付近への電子顕微鏡の観測視野を容易に直接移動することができる。
【００８２】
また、光学式検査装置で得られた欠陥座標と、観測視野の距離が表示されることにより、観測視野内に欠陥を検出した場合には、光学式検査装置１３で得られた欠陥座標と、実際の欠陥座標とのずれを知ることができ、光学式検査装置１３で得られた欠陥座標に信頼性がないことや、ステージの誤差などに起因する光学式検査装置１３と本装置との総合的な座標誤差の補正に利用することができる。
【００８３】
さらに、他の欠陥が同じ程度のずれ量と予測される場合は、容易なボタン操作により、全く同じずれ量の位置に電子顕微鏡の観測視野を移動でき、効率的に欠陥を検索することができる。
【００８４】
〔実施例 ６〕
図１１に、本発明の観測済みの領域と未観測の領域とを区別して表示する例を示す。
【００８５】
電子顕微鏡の観測視野の移動に合わせ、周辺領域図２４内の観測視野図２６を移動表示するが、同時に、観測済み領域７１を色を変えて表示する。また、電子顕微鏡の観測視野を回転させるなどした場合も同様に表示する。
【００８６】
さらに、電子顕微鏡の観測視野の周辺領域を拡大／縮小した場合は、その周辺領域のサイズに応じて、観測済み領域７１の表示サイズを拡大／縮小する。
【００８７】
これにより、欠陥座標位置の周辺領域において、電子顕微鏡の観測視野を移動、回転、あるいは、観測視野の周辺領域を拡大／縮小しても、観測済みの領域と、未観測の領域を明確に区別できるため、観測済みの領域の再観測や、観測の漏れを防ぐことができる。
【００８８】
【発明の効果】
本発明によれば、光学式検査装置で検出される欠陥をレビューする電子顕微鏡において、異なる装置であるがゆえに発生する装置間での位置誤差などに係らず、容易、かつ、適正に観測対象欠陥部に視野設定を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】走査電子顕微鏡を一例とする本発明の装置の構成図である。
【図２】本発明の電子顕微鏡を操作するためのワークステーション／パソコンの詳細と観測視野とその周辺領域を図示した一例の説明図である。
【図３】実施例１の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する模式図である。
【図４】実施例１の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する行程を示すフロー図である。
【図５】実施例２の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する模式図である。
【図６】実施例２の電子顕微鏡の観測視野とその周辺領域の図を拡大／縮小する行程を示すフロー図である。
【図７】実施例３の観測視野の移動に伴って図示する周辺領域を移動する模式図である。
【図８】実施例３の観測視野の移動に伴って図示する周辺領域を移動する際の行程を示すフロー図である。
【図９】実施例４の観測視野を示す図上に欠陥の形状を表示する模式図である。
【図１０】実施例５の電子顕微鏡の観測視野の移動と欠陥座標からの観測視野の距離表示の模式図である。
【図１１】実施例６の観測済みの領域と未観測の領域とを区別して表示する例を示す模式図である。
【符号の説明】
１…電子銃、２…電子線、３…電子レンズ、４…偏向器、５…試料、６…検出器、７…増幅器、８…画像処理プロセッサ、９…ワークステーション／パソコン、１０…制御コンピュータ、１１…試料ステージ、１２…ウェーハ／マスク、１３…光学式検査装置、１４…欠陥、１５…情報媒体、２１…ＣＲＴ表示、２２…電子顕微鏡像、２３…ポインティングデバイス用のポインタ、２４…周辺領域図、２５…座標中心、２６…観測視野図、２７…欠陥の検査結果を欠陥毎に表示したリスト、２８…３ボタン式のマウス、２９…マウスの左ボタン、３０…マウスの中ボタン、３１…マウスの右ボタン、４１…周辺領域の実サイズ、４２…ステップ値、４５…欠陥座標の方向を示す矢印、５１…欠陥の形状図、６１…欠陥座標からの観測視野の距離、６２…観測視野の座標中心、６３…保存ボタン、６４…移動ボタン、７１…観測済み領域。
Claims (6)
- 半導体用ウェハまたは半導体パターン露光用マスクの表面または内部の欠陥／異物を観測する電子顕微鏡において、
他のウェハ／マスク検査装置で観測した欠陥／異物の座標位置の測定データを取り込み、前記欠陥／異物の座標位置に電子顕微鏡の観測視野部を移動させる機能と、
前記他のウェハ／マスク検査装置で得た欠陥／異物の座標と、前記観測視野部の電子顕微鏡像と、前記観測視野部を重ねた周辺領域の図とを画面上に表示する機能と、
前記画面上のポインタで指定された位置に前記電子顕微鏡の観測視野部を移動させるとともに、該観測視野部の移動に伴ない前記観測視野部が重ねられた周辺領域の図を任意に拡大または縮小できる機能と、を備えたことを特徴とする電子顕微鏡。 - 前記移動の後の観測視野部が前記周辺領域にあるか判断し、ない場合は前記観測視野部を重ねた周辺領域の図を縮小して表示し、ある場合は前記観測視野部を重ねた周辺領域の図を拡大して表示する請求項１に記載の電子顕微鏡。
- 前記観測視野部の移動に伴ない、前記移動の後の観測視野部が前記周辺領域にない場合に、前記観測視野部を重ねた周辺領域の図の座標中心を移動し、前記座標中心と欠陥座標が一致するとき前記観測視野部を更新する請求項１に記載の電子顕微鏡。
- 前記測定データに欠陥サイズを含んでいて、前記観測視野部に対する欠陥のサイズを計算して前記観測視野部に欠陥の形状を表示し、電子顕微鏡の倍率の変更に伴ない前記欠陥の形状を変更する請求項１に記載の電子顕微鏡。
- 前記他のウェハ／マスク検査装置で得た欠陥／異物の座標位置と電子顕微鏡の観測視野部との間の距離を表示し、前記距離の値を保存するとともに、前記保存した距離だけ電子顕微鏡の観測視野部を相対移動する請求項１に記載の電子顕微鏡。
- 前記観測視野部を重ねた周辺領域の図上に、観測領域と未観測領域とを区別して表示し、電子顕微鏡の観測条件の変更に伴ない前記表示を変更する請求項１に記載の電子顕微鏡。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000260877A JP3619132B2 (ja) | 2000-08-25 | 2000-08-25 | 電子顕微鏡 |
| US09/811,719 US20020024012A1 (en) | 2000-08-25 | 2001-03-19 | Electron microscope |
| US11/052,809 US7214937B2 (en) | 2000-08-25 | 2005-02-09 | Electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000260877A JP3619132B2 (ja) | 2000-08-25 | 2000-08-25 | 電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002071594A JP2002071594A (ja) | 2002-03-08 |
| JP3619132B2 true JP3619132B2 (ja) | 2005-02-09 |
Family
ID=18748818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000260877A Expired - Lifetime JP3619132B2 (ja) | 2000-08-25 | 2000-08-25 | 電子顕微鏡 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20020024012A1 (ja) |
| JP (1) | JP3619132B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003019523A1 (en) * | 2001-08-23 | 2003-03-06 | Fei Company | Graphical automated machine control and metrology |
| WO2005008228A1 (ja) * | 2003-07-22 | 2005-01-27 | Pony Industry Co.,Ltd. | 透過撮影装置 |
| US7241991B1 (en) * | 2005-08-30 | 2007-07-10 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Region-of-interest based electron beam metrology |
| CN101461026B (zh) * | 2006-06-07 | 2012-01-18 | Fei公司 | 与包含真空室的装置一起使用的滑动轴承 |
| ATE512457T1 (de) * | 2006-06-07 | 2011-06-15 | Fei Co | Gleitlager zur verwendung mit einer eine vakuumkammer umfassenden vorrichtung |
| JP5255319B2 (ja) | 2007-04-26 | 2013-08-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥観察装置、および欠陥観察方法 |
| JP5325522B2 (ja) * | 2008-10-15 | 2013-10-23 | 株式会社堀場製作所 | 複合型観察装置 |
| JP5066056B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2012-11-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察方法、及び電子顕微鏡 |
| JP5367665B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2013-12-11 | 日立建機株式会社 | 作業機械の表示システム |
| JP2012238401A (ja) * | 2011-05-10 | 2012-12-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥レビュー方法および装置 |
| JP2013134574A (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-08 | Canon Inc | 画像データ生成装置、画像データ表示システムおよび画像データ生成方法 |
| JP7042071B2 (ja) | 2016-12-20 | 2022-03-25 | エフ・イ－・アイ・カンパニー | ｅビーム操作用の局部的に排気された容積を用いる集積回路解析システムおよび方法 |
| DE102018207603B4 (de) * | 2018-05-16 | 2020-06-10 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Positionierung mikroskopischer Proben mit Hilfe einer zweidimensionalen Positionstabelle |
| CN110346394A (zh) * | 2019-07-22 | 2019-10-18 | 德淮半导体有限公司 | 缺陷检测方法及缺陷检测系统 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2611260B2 (ja) | 1987-09-26 | 1997-05-21 | 株式会社ニコン | 試料像表示装置 |
| US6185324B1 (en) * | 1989-07-12 | 2001-02-06 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor failure analysis system |
| JP2985568B2 (ja) | 1993-04-23 | 1999-12-06 | 株式会社日立製作所 | 走査形電子顕微鏡 |
| JPH07262950A (ja) * | 1994-03-18 | 1995-10-13 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡 |
| JPH09139406A (ja) * | 1995-11-16 | 1997-05-27 | Toshiba Corp | 電子顕微鏡システム |
| DE69738979D1 (de) * | 1996-03-19 | 2008-10-23 | Hitachi Ltd | Prozesssteuerungssystem |
| JPH09283582A (ja) * | 1996-04-17 | 1997-10-31 | Fujitsu Ltd | 異物組成自動分析装置及び異物組成自動分析方法 |
| US6259960B1 (en) * | 1996-11-01 | 2001-07-10 | Joel Ltd. | Part-inspecting system |
| JPH10172490A (ja) * | 1996-12-10 | 1998-06-26 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
| JPH11214462A (ja) * | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Hitachi Ltd | 回路パターン検査における欠陥致命性判定方法、レビュー対象とする欠陥選択方法、およびそれらに関連する回路パターンの検査システム |
| JPH11306697A (ja) | 1998-04-27 | 1999-11-05 | Toshiba Corp | 光ディスク装置 |
| US6476388B1 (en) * | 1998-10-19 | 2002-11-05 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope having magnification switching control |
| US6476913B1 (en) * | 1998-11-30 | 2002-11-05 | Hitachi, Ltd. | Inspection method, apparatus and system for circuit pattern |
| US6549222B1 (en) * | 2000-06-27 | 2003-04-15 | Chipworks | Lock-step cursors for feature alignment |
-
2000
- 2000-08-25 JP JP2000260877A patent/JP3619132B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-03-19 US US09/811,719 patent/US20020024012A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-02-09 US US11/052,809 patent/US7214937B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20050145793A1 (en) | 2005-07-07 |
| JP2002071594A (ja) | 2002-03-08 |
| US7214937B2 (en) | 2007-05-08 |
| US20020024012A1 (en) | 2002-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7214937B2 (en) | Electron microscope | |
| JP3788279B2 (ja) | パターン検査方法及び装置 | |
| US7049587B2 (en) | Apparatus for inspecting a specimen | |
| JP5081590B2 (ja) | 欠陥観察分類方法及びその装置 | |
| US6476913B1 (en) | Inspection method, apparatus and system for circuit pattern | |
| US9040937B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
| WO2011083540A1 (ja) | Ｓｅｍを用いた欠陥検査方法及び装置 | |
| JP2008147143A (ja) | Ｓｅｍ装置又はｓｅｍシステムにおける撮像レシピ生成方法及び計測レシピ生成方法並びにｓｅｍ装置又はｓｅｍシステム | |
| JPH1027833A (ja) | 異物分析方法 | |
| US8552371B2 (en) | Method for adjusting imaging magnification and charged particle beam apparatus | |
| JP2000193594A (ja) | 回路パターン検査方法およびその装置 | |
| JP4677701B2 (ja) | パターン検査方法及び検査結果確認装置 | |
| JP3665194B2 (ja) | 回路パターンの検査方法及び検査装置 | |
| JP5039594B2 (ja) | レビュー装置，検査領域設定支援システム、および、欠陥の画像得方法 | |
| JP2008147679A (ja) | 電子線応用装置 | |
| JP6138460B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP2011090003A (ja) | 欠陥候補の画像表示方法 | |
| JP2004260193A (ja) | 回路パターンの検査方法及び検査装置 | |
| JPH04149943A (ja) | パターン検査用走査電子顕微鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040426 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040713 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040910 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041102 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041111 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3619132 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071119 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081119 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091119 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101119 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101119 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111119 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111119 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121119 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121119 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119 Year of fee payment: 9 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |