JP2011090003A - 欠陥候補の画像表示方法 - Google Patents
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Abstract
検査装置が出力する欠陥データは座標データ、面積、投影長などの特徴量データしか無く、欠陥位置に移動するための座標データしか有効に利用されていなかった。
【解決手段】
検査装置で欠陥データとして特徴量データのみならず、画像データを付加し、外部の結果確認装置で画像データの検索等を可能とする。複数枚の欠陥データの場合には、画像上で類似の欠陥を検索、検索結果をトレンド表示すること、トレンド上の1枚を指定することでその欠陥マップを表示し、欠陥マップ上の欠陥を指定することで検査時の欠陥画像の表示を可能とする。
【選択図】 図4
Description
陥保持手段206、及びのうち欠陥位置情報を欠陥マップ207、及び欠陥マップの特定の項目を選択する選択手段208、及び選択された欠陥情報の画像情報を画像形式で表示する画像表示手段209、表示画像に類似した欠陥画像を欠陥情報グループ中からの検索を指示する検索指示手段210、及び表示した画像に類似する画像情報を持った画像を検索する画像検索手段211より構成される。
第1の実施例の構成を、図6に示す。ネットワーク150上に配置された各種情報の管理保存をするサーバ151、及び対象物基板5を対象としてSEM式パターン検査装置、光学式パターン検査装置、異物検査装置、測長SEM等のパターンを検査したり寸法を測定する検査装置A152、及び検査装置B153、及び検査装置Aや検査装置Bより検査結果を受け取り指摘されている不良個所に対象物基板5を位置決めして目視で確認するレビュー装置154、及び検査時の検査又は計測データを受け取り確認する欠陥確認装置155で構成されている。各部は以下のように動作して機能を満足するものである。
(検査装置)
SEM式パターン検査装置の構成を図7に示す。電子線2を発生させる電子線源1、及び電子線源1からの電子線2を電極で加速して取出し静電又は磁界重畳レンズで一定場所に仮想光源40を作る電子銃41と仮想光源40よりの電子線2を一定場所に収束させるコンデンサレンズ42と電子銃41で収束した位置の近傍に設置し電子線2のON/OFFを制御をするブランキングプレート43と電子線2をXY方向に偏向する偏向器44と電子線2を対象物基板5上に収束させる対物レンズ4よりなる電子光学系45、及び対象物基板であるウェーハ31を真空に保持する試料室107、及びウェーハ31を搭載し任意の位置の画像検出を可能とするリターディング電圧108を印可したステージ6、及び対象物基板5からの二次電子等7を検出する検出器8、及び検出器8で検出した検出信号をA/D変換器しデジタル画像を得るA/D変換器9、及びデジタル画像を記憶しておくメモリ47、及びメモリ47に記憶した記憶画像とA/D変換したデジタル画像を比較して、差がある場所をパターン欠陥11として検出する画像処理回路10、及びパターン欠陥11の座標、投影長、面積、限界しきい値DD(しきい値がこの値以下の場合に欠陥と検出されるしきい値)、差画像平均値、差画像分散、最大画像差、欠陥画像テクスチャ、参照画像テクスチャ、欠陥部の画像、欠陥部と同一なパターンを持つ参照画像等の欠陥情報200を記憶するパターン欠陥記憶部201、及び保存した欠陥情報200をネットワーク又は記憶媒体等の情報を出力する情報出力手段203、装置全体の制御をする全体制御部110(全体制御部110からの制御線は図上では省略)、及び各種操作をする操作画面45、及び操作を指示するキーボード120とマウス121とつまみ122(いずれも非表示)、及びウェーハ31の高さを測定し対物レンズ4の電流値をオフセット112を加算して制御することで検出されるディジタル画像の焦点位置を一定に保つZセンサ113、及びカセット114内のウェーハ31を試料室107に出し入れするローダ116(非表示)、及びウェーハ31の外形形状を基準にウェーハ31を位置決めするオリフラ検出器117(非表示)、及びウェーハ31上のパターンを観察する為の光学式顕微鏡118、及びステージ6上に設けた標準試料片119よりなる。
(結果確認装置)
出力された欠陥情報200をネットワーク経由、又は記憶媒体より結果確認装置200の入力手段205で入力し、入力した欠陥情報のうち欠陥位置情報を欠陥マップ207に表示する。選択手段208で欠陥マップの特定の項目が選択されると欠陥情報の画像情報を画像表示手段209に画像形式で表示する。検索指示手段210で指示されると表示画像に類似した欠陥画像を欠陥情報グループ中から画像検索手段211で検索し、検索結果を欠陥マップ207に反映させる。必要に応じ、選択手段208で指示することで検索結果を確認できる。欠陥マップ207での表示形式を図5に示す時系列形式で表示することで類似欠陥の発生頻度を確認できる。これらにより、検査時に取得した画像情報を有効に利用できる。
Claims (8)
- 対象物基板のディジタル画像を同一のパターンであることが期待できるディジタル画像とを比較して差がある部分を欠陥として抽出し、抽出した欠陥部の検出画像データ、及び欠陥の位置を含む情報、及び欠陥分類ができる情報を記録媒体、又はネットワーク経由で入力し、該入力した情報のうちの前記欠陥の情報に基づいて前記対象物基板上の欠陥の分布を欠陥マップに表示し、前記入力した情報のうち該欠陥マップに表示した欠陥の中から指定した欠陥に対応する画像を表示し、該表示した画像と類似する画像を前期入力した欠陥分類ができる情報を参照して前記入力した画像データの中から検索し、該検索した結果に基づいて前記マップ状に表示した欠陥の分布情報の表示を更新することを特徴とするパターン検査方法。
- 前記欠陥分類ができる情報は、検出画像データ、又は画像処理の途中経過の画像データ、又は画像データより計算した特徴量情報であることを特徴とする請求項1に記載のパターン検査方法。
- 請求項2記載の検出画像データ、又は画像処理の途中経過の画像データは可逆圧縮した検出画像、又は可逆に近い圧縮をした画像データであることを特徴とするパターン検査方法。
- 前記検出画像データは、画像データそのもの、又は可逆圧縮した画像データ、又は非可逆圧縮をした画像データであることを特徴とする請求項1に記載のパターン検査方法。
- 検査装置を用いて対象物基板のディジタル画像を同一であることが期待できるディジタル画像とを比較して差がある部分を欠陥候補として抽出した欠陥候補部の画像データ及び欠陥候補の位置を含む情報を記録媒体、又はネットワーク経由で入力する入力手段と、該入力手段で入力した欠陥候補部の画像データ及び欠陥候補の位置を含む情報を記憶する記憶手段と、該記憶手段に記憶した欠陥候補の位置の情報をマップ形式で表示するマップ表示手段と、前記マップ表示手段上にマップ形式で表示された欠陥候補の中から特定の欠陥候補を指定する欠陥指定手段と、前記指定した前記欠陥候補に対応する画像を前記記憶手段に記憶した前記欠陥候補部の画像データの中から抽出して表示させる画像表示手段と、該欠陥指定手段で指定された欠陥と類似の欠陥を前記記憶手段に記憶した欠陥候補の中から検索して前記マップ表示手段上に表示されているマップ上に反映させる画像検索手段とを備えたことを特徴とする検査結果確認装置。
- 前記マップ表示手段は、前記表示する欠陥候補のマップの拡大倍率を変えることが可能であることを特徴とする請求項5記載の検査結果確認装置。
- 前記画像表示手段は、前記マップ表示手段上にマップ形式で表示された欠陥候補の中から前記欠陥指定手段で指定された欠陥候補の前記記憶手段に記憶されている画像を表示することを特徴とする請求項5記載の検査結果確認装置。
- 前記画像検索手段は、前記記憶手段に記憶した欠陥候補の中から検索した前記指定された欠陥と類似の欠陥を前記マップ表示手段上に表示されているマップ上に他の欠陥と識別可能に表示することを特徴とする請求項5記載の検査結果確認装置。
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CN116612113B (zh) * | 2023-07-17 | 2023-09-15 | 征图新视(江苏)科技股份有限公司 | 一种基于晶圆的多图像拼接检测方法 |
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