JP3615672B2 - 半導体装置とそれに用いる配線基板 - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板の外部接続端子が形成された面の裏面に半導体素子を搭載して成る半導体装置とそれに使用される配線基板に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、配線基板の外部接続端子が形成された面の裏面に半導体素子を搭載して成る半導体装置としては、本願出願人が出願した特開平10−74861号に開示された半導体装置がある。
この半導体装置50の概要構造を図8を用いて説明する。
配線基板60は、貫通穴52を有すると共に、一方の面(図8中の下面)に、ランド部72と貫通穴52の開口縁部に形成された第1ボンディング部56とを備えた第1配線パターン58が形成されている。そしてこのランド部72に外部接続端子54が接合されている。
第1半導体素子64は、この配線基板60の他方の面(図8中の上面)に電極端子形成面を対向させて、この電極端子形成面に形成された第1電極端子62が貫通穴52の内側となるように接着剤(一例としてエポキシ系)74で接着されて搭載され、貫通穴52を通して第1電極端子62と第1ボンディング部56とが第1ボンディングワイヤ66により電気的に接続されている。
そして、貫通穴52内部およびボンディングワイヤ66がポッティング剤等の樹脂68を用いて封止されている。
なお、70は、配線基板60の外部接続端子54が形成された面に、この外部接続端子54を取り付けるランド部72と第1ボンディング部56のみが露出するように塗布形成されたソルダレジスト層である。また、第1半導体素子64は一例として、第1電極端子62が周縁部に形成されたペリフェラル型半導体素子である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、最近ではさらなる半導体素子の高密度実装化が半導体装置に対して望まれるようになってきており、上記構造の半導体装置では1つの半導体素子しか搭載できず、高密度化に対応できないという課題がある。
【0004】
従って、本発明は上記課題を解決すべくなされ、その目的とするところは、複数の半導体素子を配線基板に少ないスペースで搭載可能として、半導体素子の高密度実装が可能な半導体装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、請求項1記載の半導体装置は、貫通穴を有すると共に、ランド部と前記貫通穴の開口縁部に形成された第1ボンディング部とを備えた第1配線パターンが一方の面に形成された配線基板と、該配線基板の前記ランド部に接合された外部接続端子と、該配線基板の他方の面に電極端子形成面を対向させて、該電極端子形成面に形成された第1電極端子が前記貫通穴の内側となるように搭載され、貫通穴を通して第1電極端子と前記第1ボンディング部とが第1ボンディングワイヤにより電気的に接続された第1半導体素子と、前記貫通穴内部の第1ボンディングワイヤを封止する樹脂と、前記配線基板の他方の面に形成され、第2ボンディング部を備えると共に、配線基板を貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第2配線パターンと、前記第1半導体素子の背面に電極端子形成面を上にして搭載され、該電極端子形成面の周縁部に形成された第2電極端子と前記第2ボンディング部とが第2ボンディングワイヤにより電気的に接続された第2半導体素子とを有し、前記第1半導体素子、第2半導体素子および第2ボンディングワイヤを樹脂封止して成ることを特徴とする。
これによれば、第1半導体素子と第2半導体素子とが積層された構造で配線基板に搭載することができるから、2つの半導体素子を配線基板に少ないスペースで搭載可能として、半導体素子の高密度実装が可能となる。
【0006】
また、請求項2記載の半導体装置は、前記配線基板の他方の面に形成され、第3ボンディング部を備えると共に、配線基板を貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第3配線パターンと、前記第2半導体素子の電極端子形成面に、周縁部に第3電極端子が形成された電極端子形成面を上にして搭載され、該第3電極端子と前記第3ボンディング部とが第3ボンディングワイヤにより電気的に接続された第3半導体素子とを有し、前記第3ボンディングワイヤは、前記第1半導体素子、第2半導体素子および第2ボンディングワイヤと共に樹脂封止されていることを特徴とする。
これによれば、第1半導体素子、第2半導体素子および第3半導体素子が積層された構造で配線基板に搭載することができるから、3つの半導体素子を配線基板に少ないスペースで搭載可能として、半導体素子のさらなる高密度実装が可能となる。
【0007】
また、請求項3記載の配線基板は、貫通穴が形成され、一方の面に、外部接続端子接続用のランド部と前記貫通穴の開口縁部に形成された第1ボンディング部とを備えた第1配線パターンが形成され、他方の面に、第2ボンディング部を備えると共に、前記一方の面から前記他方の面に貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第2配線パターンが形成されて成ることを特徴とする。
この配線基板を用いることによって、複数の半導体素子を少ないスペースで搭載可能として、半導体素子のさらなる高密度実装が可能となる。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る半導体装置の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、従来例で説明した半導体装置50と同じ構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
(第1の実施の形態)
半導体装置10は、次の構成要素を有する。
第1半導体素子64は、図2に示すように外形が方形(正方形や直方形)に形成され、第1電極端子62が電極端子形成面A上の周縁部、具体的には4つの各縁部に列状(一例として2列)に配列されて形成されたペリフェラル型の半導体素子である。なお、第1電極端子62は1列でも良いし、また第1半導体素子64の対向する1組の縁部に形成されるものでも良い。また、後述するように電極端子形成面A上の中央部に形成されるものでも良い。
【0009】
第2半導体素子12は、基本構成は第1半導体素子64と同様であり、第2電極端子14が電極端子形成面に配列されて形成されている。しかしながら、後述するようにその第2電極端子14を第2ボンディングワイヤ16で配線基板60の第2ボンディング部18と電気的に接続させる必要があるため、第2電極端子14が周縁部に配列されたペリフェラル型の半導体素子が望ましい。中央部に第2電極端子14が形成されていると、ボンディング距離が長くなり、第2ボンディングワイヤ16を張ることが困難になるからである。
【0010】
配線基板60は図1や図3に示すように、第1半導体素子64に形成された第1電極端子62の位置に対応して貫通穴52が形成されている。
そして一方の面(図1中の下面、図3中の前面)には、ランド部72と貫通穴52の開口縁部に形成された第1ボンディング部56とを備えた第1配線パターン58が形成されている。このランド部72に外部接続端子54が接合されている。
そして、さらに本実施の形態の配線基板60の場合には、他方の面(図1中の上面、図3中の後面)に、第2ボンディンブ部18を備えると共に、配線基板60を貫通するスルーホールビア22によって第1配線パターン58、第1ボンディング部56または外部接続端子54と電気的に接続された第2配線パターン20が形成されている。
【0011】
そして半導体装置10は、図1に示すように、配線基板60の他方の面(図1中の上面)に、まず第1電極端子62を有する第1半導体素子64が、電極端子形成面Aを配線基板60の他方の面に対向させ、第1電極端子62が貫通穴52の内側となるように接着剤74で接着されて搭載される。そして、貫通穴52から覗く第1電極端子62と第1ボンディング部56とが貫通穴52を通して第1ボンディングワイヤ66により電気的に接続され、貫通穴52内部および第1ボンディングワイヤ66がポッティング剤等の樹脂材料68を用いて樹脂封止されている。
ここまでの構成は従来の半導体装置50と同様である。
【0012】
そして本実施の形態の特徴部分は、さらに第1半導体素子64の背面(図1中の上面)に、電極端子形成面の周縁部に第2電極端子14が形成された第2半導体素子12が、電極端子形成面を上にして、双方の半導体素子64,12の背面同士が接着剤24で接着されて搭載されている。また、第2半導体素子12の第2電極端子14は第2ボンディングワイヤ16で配線基板60の他方の面に形成された第2ボンディング部18に電気的に接続される。
そして、第1半導体素子64、第2半導体素子12および第2ボンディングワイヤ16が、モールド剤等の封止用の樹脂26を用いて封止される構造にある。なお、本実施の形態では配線基板60の他方の面が全体的に樹脂封止されているが、少なくとも第1半導体素子64、第2半導体素子12および第2ボンディングワイヤ16が封止される構造であれば良い。
【0013】
(第2の実施の形態)
本実施の形態の半導体装置28の基本的な構成は、第1の実施の形態の半導体装置10と略同様であり、同じ構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
相違する点は、図4に示すように第1半導体素子64の第1電極端子62が周縁部ではなく、中央部に形成されており、配線基板60の貫通穴52もそれに対応して配線基板60の中央部に形成され、その形成個数が図4や図5に示すように1個になっている点であり、他の構成は同じである。なお、図5は図4の配線基板60側から見た構成を説明するための説明図であり、図6は図4の第2半導体素子12側から見た構成を説明するための説明図である(なお、樹脂モールドされる前の状態を示す)。
【0014】
(第3の実施の形態)
本実施の形態の半導体装置30では、図7に示すように、第1の実施の形態の半導体装置10や第2の実施の形態の半導体装置28の第2半導体素子12上にさらにもう一つ、第3半導体素子32を搭載している。図7には、一例として第1の実施の形態の半導体装置10に第3半導体素子32を搭載した構成を示すが、第2の実施の形態の半導体装置28にも同様に適用できる。
【0015】
詳細な構成は、第2半導体素子12の第2電極端子14が形成された面(電極端子形成面)の中央部に、第2電極端子14と干渉しない小さな外形に形成され、周縁部に第3電極端子34を有する第3半導体素子32がその電極端子形成面を上にして、背面が接着剤36で接着されて搭載されている。
そして、配線基板60は、その他方の面に、さらに第3半導体素子32の第3電極端子34と第3ボンディングワイヤ38で電気的に接続される第3ボンディング部40を備えると共に、配線基板60を貫通するスルーホールビア22によって第1配線パターン58、第1ボンディング部56または外部接続端子54と電気的に接続される第3配線パターン42が形成されている。
なお、第3半導体素子32の第3電極端子34の中に、供給される信号や電源が第2半導体素子12の第2電極端子14と共通のものがある場合には、この第3電極端子34に接続される第3配線パターンは、第2半導体素子12用の第2ボンディング部18や第2配線パターン20と接続される場合もある。
そして、第3ボンディングワイヤ38は、第1半導体素子64、第2半導体素子12および第2ボンディングワイヤ16と共に樹脂26で封止される。
【0016】
以上、本発明の好適な実施の形態について種々述べてきたが、本発明は上述する実施の形態に限定されるものではなく、例えばさらに第3の実施の形態の半導体装置30の第3半導体素子32上にさらに1または2以上の半導体素子を積み重ねることも考えられる等、発明の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはもちろんである。
【0017】
【発明の効果】
本発明に係る半導体装置または配線基板を用いると、複数の半導体素子を積層した構造で、配線基板に搭載することができるから、複数の半導体素子を配線基板に少ないスペースで搭載可能として、半導体素子の高密度実装が可能となる。しかも、従来から一般的に行われているワイヤボンディング法を用いて実現できるため、新規な設備投資も少なくてすみ、低コストで半導体装置を製造できるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る配線基板とそれを用いた半導体装置の第1の実施の形態の構成を説明するための正面断面図である。
【図2】図1の第1半導体素子の電極端子形成面の第1電極端子の配置を示す平面図である。
【図3】図1の配線基板の外部接続端子側から見た平面図である。
【図4】本発明に係る半導体装置の第2の実施の形態の構成を説明するための正面断面図である。
【図5】図4の半導体装置を配線基板側から見た平面図である。
【図6】図4の半導体装置を第2半導体素子側から見た平面図である(モールドする前の状態)。
【図7】本発明に係る半導体装置の第3の実施の形態の構成を説明するための正面断面図である。
【図8】従来の半導体装置の構造を示す正面断面図である。
【符号の説明】
10 半導体装置
12 第2半導体素子
14 第2電極端子
16 第2ボンディングワイヤ
18 第2ボンディング部
20 第2配線パターン
22 スルーホールビア
24 接着剤
26 樹脂封止剤
52 貫通穴
54 外部接続端子
56 第1ボンディング部
58 第1配線パターン
60 配線基板
62 第1電極端子
64 第1半導体素子
66 第1ボンディングワイヤ
68 樹脂
72 ランド部
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板の外部接続端子が形成された面の裏面に半導体素子を搭載して成る半導体装置とそれに使用される配線基板に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、配線基板の外部接続端子が形成された面の裏面に半導体素子を搭載して成る半導体装置としては、本願出願人が出願した特開平10−74861号に開示された半導体装置がある。
この半導体装置50の概要構造を図8を用いて説明する。
配線基板60は、貫通穴52を有すると共に、一方の面(図8中の下面)に、ランド部72と貫通穴52の開口縁部に形成された第1ボンディング部56とを備えた第1配線パターン58が形成されている。そしてこのランド部72に外部接続端子54が接合されている。
第1半導体素子64は、この配線基板60の他方の面(図8中の上面)に電極端子形成面を対向させて、この電極端子形成面に形成された第1電極端子62が貫通穴52の内側となるように接着剤(一例としてエポキシ系)74で接着されて搭載され、貫通穴52を通して第1電極端子62と第1ボンディング部56とが第1ボンディングワイヤ66により電気的に接続されている。
そして、貫通穴52内部およびボンディングワイヤ66がポッティング剤等の樹脂68を用いて封止されている。
なお、70は、配線基板60の外部接続端子54が形成された面に、この外部接続端子54を取り付けるランド部72と第1ボンディング部56のみが露出するように塗布形成されたソルダレジスト層である。また、第1半導体素子64は一例として、第1電極端子62が周縁部に形成されたペリフェラル型半導体素子である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、最近ではさらなる半導体素子の高密度実装化が半導体装置に対して望まれるようになってきており、上記構造の半導体装置では1つの半導体素子しか搭載できず、高密度化に対応できないという課題がある。
【0004】
従って、本発明は上記課題を解決すべくなされ、その目的とするところは、複数の半導体素子を配線基板に少ないスペースで搭載可能として、半導体素子の高密度実装が可能な半導体装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、請求項1記載の半導体装置は、貫通穴を有すると共に、ランド部と前記貫通穴の開口縁部に形成された第1ボンディング部とを備えた第1配線パターンが一方の面に形成された配線基板と、該配線基板の前記ランド部に接合された外部接続端子と、該配線基板の他方の面に電極端子形成面を対向させて、該電極端子形成面に形成された第1電極端子が前記貫通穴の内側となるように搭載され、貫通穴を通して第1電極端子と前記第1ボンディング部とが第1ボンディングワイヤにより電気的に接続された第1半導体素子と、前記貫通穴内部の第1ボンディングワイヤを封止する樹脂と、前記配線基板の他方の面に形成され、第2ボンディング部を備えると共に、配線基板を貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第2配線パターンと、前記第1半導体素子の背面に電極端子形成面を上にして搭載され、該電極端子形成面の周縁部に形成された第2電極端子と前記第2ボンディング部とが第2ボンディングワイヤにより電気的に接続された第2半導体素子とを有し、前記第1半導体素子、第2半導体素子および第2ボンディングワイヤを樹脂封止して成ることを特徴とする。
これによれば、第1半導体素子と第2半導体素子とが積層された構造で配線基板に搭載することができるから、2つの半導体素子を配線基板に少ないスペースで搭載可能として、半導体素子の高密度実装が可能となる。
【0006】
また、請求項2記載の半導体装置は、前記配線基板の他方の面に形成され、第3ボンディング部を備えると共に、配線基板を貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第3配線パターンと、前記第2半導体素子の電極端子形成面に、周縁部に第3電極端子が形成された電極端子形成面を上にして搭載され、該第3電極端子と前記第3ボンディング部とが第3ボンディングワイヤにより電気的に接続された第3半導体素子とを有し、前記第3ボンディングワイヤは、前記第1半導体素子、第2半導体素子および第2ボンディングワイヤと共に樹脂封止されていることを特徴とする。
これによれば、第1半導体素子、第2半導体素子および第3半導体素子が積層された構造で配線基板に搭載することができるから、3つの半導体素子を配線基板に少ないスペースで搭載可能として、半導体素子のさらなる高密度実装が可能となる。
【0007】
また、請求項3記載の配線基板は、貫通穴が形成され、一方の面に、外部接続端子接続用のランド部と前記貫通穴の開口縁部に形成された第1ボンディング部とを備えた第1配線パターンが形成され、他方の面に、第2ボンディング部を備えると共に、前記一方の面から前記他方の面に貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第2配線パターンが形成されて成ることを特徴とする。
この配線基板を用いることによって、複数の半導体素子を少ないスペースで搭載可能として、半導体素子のさらなる高密度実装が可能となる。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る半導体装置の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、従来例で説明した半導体装置50と同じ構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
(第1の実施の形態)
半導体装置10は、次の構成要素を有する。
第1半導体素子64は、図2に示すように外形が方形(正方形や直方形)に形成され、第1電極端子62が電極端子形成面A上の周縁部、具体的には4つの各縁部に列状(一例として2列)に配列されて形成されたペリフェラル型の半導体素子である。なお、第1電極端子62は1列でも良いし、また第1半導体素子64の対向する1組の縁部に形成されるものでも良い。また、後述するように電極端子形成面A上の中央部に形成されるものでも良い。
【0009】
第2半導体素子12は、基本構成は第1半導体素子64と同様であり、第2電極端子14が電極端子形成面に配列されて形成されている。しかしながら、後述するようにその第2電極端子14を第2ボンディングワイヤ16で配線基板60の第2ボンディング部18と電気的に接続させる必要があるため、第2電極端子14が周縁部に配列されたペリフェラル型の半導体素子が望ましい。中央部に第2電極端子14が形成されていると、ボンディング距離が長くなり、第2ボンディングワイヤ16を張ることが困難になるからである。
【0010】
配線基板60は図1や図3に示すように、第1半導体素子64に形成された第1電極端子62の位置に対応して貫通穴52が形成されている。
そして一方の面(図1中の下面、図3中の前面)には、ランド部72と貫通穴52の開口縁部に形成された第1ボンディング部56とを備えた第1配線パターン58が形成されている。このランド部72に外部接続端子54が接合されている。
そして、さらに本実施の形態の配線基板60の場合には、他方の面(図1中の上面、図3中の後面)に、第2ボンディンブ部18を備えると共に、配線基板60を貫通するスルーホールビア22によって第1配線パターン58、第1ボンディング部56または外部接続端子54と電気的に接続された第2配線パターン20が形成されている。
【0011】
そして半導体装置10は、図1に示すように、配線基板60の他方の面(図1中の上面)に、まず第1電極端子62を有する第1半導体素子64が、電極端子形成面Aを配線基板60の他方の面に対向させ、第1電極端子62が貫通穴52の内側となるように接着剤74で接着されて搭載される。そして、貫通穴52から覗く第1電極端子62と第1ボンディング部56とが貫通穴52を通して第1ボンディングワイヤ66により電気的に接続され、貫通穴52内部および第1ボンディングワイヤ66がポッティング剤等の樹脂材料68を用いて樹脂封止されている。
ここまでの構成は従来の半導体装置50と同様である。
【0012】
そして本実施の形態の特徴部分は、さらに第1半導体素子64の背面(図1中の上面)に、電極端子形成面の周縁部に第2電極端子14が形成された第2半導体素子12が、電極端子形成面を上にして、双方の半導体素子64,12の背面同士が接着剤24で接着されて搭載されている。また、第2半導体素子12の第2電極端子14は第2ボンディングワイヤ16で配線基板60の他方の面に形成された第2ボンディング部18に電気的に接続される。
そして、第1半導体素子64、第2半導体素子12および第2ボンディングワイヤ16が、モールド剤等の封止用の樹脂26を用いて封止される構造にある。なお、本実施の形態では配線基板60の他方の面が全体的に樹脂封止されているが、少なくとも第1半導体素子64、第2半導体素子12および第2ボンディングワイヤ16が封止される構造であれば良い。
【0013】
(第2の実施の形態)
本実施の形態の半導体装置28の基本的な構成は、第1の実施の形態の半導体装置10と略同様であり、同じ構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
相違する点は、図4に示すように第1半導体素子64の第1電極端子62が周縁部ではなく、中央部に形成されており、配線基板60の貫通穴52もそれに対応して配線基板60の中央部に形成され、その形成個数が図4や図5に示すように1個になっている点であり、他の構成は同じである。なお、図5は図4の配線基板60側から見た構成を説明するための説明図であり、図6は図4の第2半導体素子12側から見た構成を説明するための説明図である(なお、樹脂モールドされる前の状態を示す)。
【0014】
(第3の実施の形態)
本実施の形態の半導体装置30では、図7に示すように、第1の実施の形態の半導体装置10や第2の実施の形態の半導体装置28の第2半導体素子12上にさらにもう一つ、第3半導体素子32を搭載している。図7には、一例として第1の実施の形態の半導体装置10に第3半導体素子32を搭載した構成を示すが、第2の実施の形態の半導体装置28にも同様に適用できる。
【0015】
詳細な構成は、第2半導体素子12の第2電極端子14が形成された面(電極端子形成面)の中央部に、第2電極端子14と干渉しない小さな外形に形成され、周縁部に第3電極端子34を有する第3半導体素子32がその電極端子形成面を上にして、背面が接着剤36で接着されて搭載されている。
そして、配線基板60は、その他方の面に、さらに第3半導体素子32の第3電極端子34と第3ボンディングワイヤ38で電気的に接続される第3ボンディング部40を備えると共に、配線基板60を貫通するスルーホールビア22によって第1配線パターン58、第1ボンディング部56または外部接続端子54と電気的に接続される第3配線パターン42が形成されている。
なお、第3半導体素子32の第3電極端子34の中に、供給される信号や電源が第2半導体素子12の第2電極端子14と共通のものがある場合には、この第3電極端子34に接続される第3配線パターンは、第2半導体素子12用の第2ボンディング部18や第2配線パターン20と接続される場合もある。
そして、第3ボンディングワイヤ38は、第1半導体素子64、第2半導体素子12および第2ボンディングワイヤ16と共に樹脂26で封止される。
【0016】
以上、本発明の好適な実施の形態について種々述べてきたが、本発明は上述する実施の形態に限定されるものではなく、例えばさらに第3の実施の形態の半導体装置30の第3半導体素子32上にさらに1または2以上の半導体素子を積み重ねることも考えられる等、発明の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはもちろんである。
【0017】
【発明の効果】
本発明に係る半導体装置または配線基板を用いると、複数の半導体素子を積層した構造で、配線基板に搭載することができるから、複数の半導体素子を配線基板に少ないスペースで搭載可能として、半導体素子の高密度実装が可能となる。しかも、従来から一般的に行われているワイヤボンディング法を用いて実現できるため、新規な設備投資も少なくてすみ、低コストで半導体装置を製造できるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る配線基板とそれを用いた半導体装置の第1の実施の形態の構成を説明するための正面断面図である。
【図2】図1の第1半導体素子の電極端子形成面の第1電極端子の配置を示す平面図である。
【図3】図1の配線基板の外部接続端子側から見た平面図である。
【図4】本発明に係る半導体装置の第2の実施の形態の構成を説明するための正面断面図である。
【図5】図4の半導体装置を配線基板側から見た平面図である。
【図6】図4の半導体装置を第2半導体素子側から見た平面図である(モールドする前の状態)。
【図7】本発明に係る半導体装置の第3の実施の形態の構成を説明するための正面断面図である。
【図8】従来の半導体装置の構造を示す正面断面図である。
【符号の説明】
10 半導体装置
12 第2半導体素子
14 第2電極端子
16 第2ボンディングワイヤ
18 第2ボンディング部
20 第2配線パターン
22 スルーホールビア
24 接着剤
26 樹脂封止剤
52 貫通穴
54 外部接続端子
56 第1ボンディング部
58 第1配線パターン
60 配線基板
62 第1電極端子
64 第1半導体素子
66 第1ボンディングワイヤ
68 樹脂
72 ランド部
Claims (3)
- 貫通穴を有すると共に、ランド部と前記貫通穴の開口縁部に形成された第1ボンディング部とを備えた第1配線パターンが一方の面に形成された配線基板と、
該配線基板の前記ランド部に接合された外部接続端子と、
該配線基板の他方の面に電極端子形成面を対向させて、該電極端子形成面に形成された第1電極端子が前記貫通穴の内側となるように搭載され、貫通穴を通して第1電極端子と前記第1ボンディング部とが第1ボンディングワイヤにより電気的に接続された第1半導体素子と、
前記貫通穴内部の第1ボンディングワイヤを封止する樹脂と、
前記配線基板の他方の面に形成され、第2ボンディング部を備えると共に、配線基板を貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第2配線パターンと、
前記第1半導体素子の背面に電極端子形成面を上にして搭載され、該電極端子形成面の周縁部に形成された第2電極端子と前記第2ボンディング部とが第2ボンディングワイヤにより電気的に接続された第2半導体素子とを有し、
前記第1半導体素子、第2半導体素子および第2ボンディングワイヤを樹脂封止して成ることを特徴とする半導体装置。 - 前記配線基板の他方の面に形成され、第3ボンディング部を備えると共に、配線基板を貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第3配線パターンと、
前記第2半導体素子の電極端子形成面に、周縁部に第3電極端子が形成された電極端子形成面を上にして搭載され、該第3電極端子と前記第3ボンディング部とが第3ボンディングワイヤにより電気的に接続された第3半導体素子とを有し、
前記第3ボンディングワイヤは、前記第1半導体素子、第2半導体素子および第2ボンディングワイヤと共に樹脂封止されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 - 貫通穴が形成され、
一方の面に、外部接続端子接続用のランド部と前記貫通穴の開口縁部に形成された第1ボンディング部とを備えた第1配線パターンが形成され、
他方の面に、第2ボンディング部を備えると共に、前記一方の面から前記他方の面に貫通するスルーホールビアによって前記第1配線パターン、前記第1ボンディング部または前記外部接続端子と電気的に接続された第2配線パターンが形成されて成ることを特徴とする配線基板。
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