JP3527198B2 - 洗浄媒質及びその使用 - Google Patents
洗浄媒質及びその使用Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、印刷機構成部分の
洗浄用として、それも特に印刷工程を通される、再使用
可能で図柄入りのリトグラフ版型の洗浄、インキ除去用
として分類される洗浄媒質に関するものである。殊に、
レーザ誘導の熱転写テープ技術によって図柄形成された
版型用の洗浄媒質に関するものである。さらに、本発明
に記載の洗浄媒質を対象として、洗浄除去法に於けるそ
れの使用についても開示されている。本発明は、そのほ
か洗浄媒質濃縮物及びそれの保管、搬送及び塗布用とし
ての容器内での取り扱いにも及んでいる。
洗浄用として、それも特に印刷工程を通される、再使用
可能で図柄入りのリトグラフ版型の洗浄、インキ除去用
として分類される洗浄媒質に関するものである。殊に、
レーザ誘導の熱転写テープ技術によって図柄形成された
版型用の洗浄媒質に関するものである。さらに、本発明
に記載の洗浄媒質を対象として、洗浄除去法に於けるそ
れの使用についても開示されている。本発明は、そのほ
か洗浄媒質濃縮物及びそれの保管、搬送及び塗布用とし
ての容器内での取り扱いにも及んでいる。
【０００２】
【従来の技術】ＥＰ−Ｂ−０５７０８７９は、オフセッ
ト印刷用の図柄入り版型表面からインキ誘導層を反復除
去するための方法及び装置に関するものである。その方
法では、圧力下の溶剤不含放射水を除去装置の使用のも
と、図柄入り版型表面に対して斜めにかけて洗浄する。
溶剤不含で殆ど水だけから成る圧力下の媒質に対し、放
射水の除去効率を高めるために、例えば砂やそれに類す
るもの、あるいは水溶性化学物質など研磨性のある物質
を添加することができる。
ト印刷用の図柄入り版型表面からインキ誘導層を反復除
去するための方法及び装置に関するものである。その方
法では、圧力下の溶剤不含放射水を除去装置の使用のも
と、図柄入り版型表面に対して斜めにかけて洗浄する。
溶剤不含で殆ど水だけから成る圧力下の媒質に対し、放
射水の除去効率を高めるために、例えば砂やそれに類す
るもの、あるいは水溶性化学物質など研磨性のある物質
を添加することができる。
【０００３】ＥＰ−Ｂ−０６９３３７１では洗浄除去可
能な版型及び版型の洗浄、再使用のための方法及び装置
が開示されている。当公報によると、印刷工程後まず印
刷インキ残渣と図柄に添って塗布されたコーティング層
を洗浄媒質により処理してから、例えば拭き去る。洗浄
媒質は固形分を含まない溶剤又は溶剤混合液である。版
型の図柄に添って塗布されたコーティング層の極僅かな
最終的残渣の除去は、続いて表面を機械的に研磨するこ
とにより行う。それには、研磨剤含有の洗浄媒質、例え
ば手作業による版型洗浄に通常使用されている汎用タイ
プの版型洗浄剤が適用される。続いてこの版型洗浄剤を
例えば水で除去する。
能な版型及び版型の洗浄、再使用のための方法及び装置
が開示されている。当公報によると、印刷工程後まず印
刷インキ残渣と図柄に添って塗布されたコーティング層
を洗浄媒質により処理してから、例えば拭き去る。洗浄
媒質は固形分を含まない溶剤又は溶剤混合液である。版
型の図柄に添って塗布されたコーティング層の極僅かな
最終的残渣の除去は、続いて表面を機械的に研磨するこ
とにより行う。それには、研磨剤含有の洗浄媒質、例え
ば手作業による版型洗浄に通常使用されている汎用タイ
プの版型洗浄剤が適用される。続いてこの版型洗浄剤を
例えば水で除去する。
【０００４】洗浄媒質と版型間の機械的相互作用は、供
給ロール（汚れのないロール）から別なロールを通って
版型に圧しつけられ、次に巻き取りロール（汚れのつい
たロール）に巻き上げられる洗浄布又は洗浄不織布の装
備された洗浄装置によって行なわれる。
給ロール（汚れのないロール）から別なロールを通って
版型に圧しつけられ、次に巻き取りロール（汚れのつい
たロール）に巻き上げられる洗浄布又は洗浄不織布の装
備された洗浄装置によって行なわれる。
【０００５】ＥＰ−Ｂ−０６９８４８８から、レーザに
より合成物質ペーストを熱転写箔から回転版型シリンダ
ー上に図柄通り移し変えるという、版型の製造方法及び
製造装置が公知になっている。熱転写箔から移された材
料は版型上でインキ誘導層を形成する。
より合成物質ペーストを熱転写箔から回転版型シリンダ
ー上に図柄通り移し変えるという、版型の製造方法及び
製造装置が公知になっている。熱転写箔から移された材
料は版型上でインキ誘導層を形成する。
【０００６】同様に係属中のドイツ特許出願（ＴＴテー
プ出願と同出願番号）には、基材層及びその上に塗布さ
れた供与層を持つ、リトグラフ版型の図柄構成のための
熱転写箔又は熱転写テープが開示されている。その場
合、基材層は少なくとも以下の特性を有する、少なくと
も一つのポリマー材質から、好ましくはＰＥＴから成っ
ているものとする： 温度＞１５０℃に於ける機械的安定性、 波長７００〜
１６００ｎｍに於ける＞７０％の透光率 供与層は少なくとも次の成分を含んでいるものとする：
入射したレーザ光の放射エネルギーを熱エネルギーに変
えることのできる物質、好ましくはカーボンブラック、
酸性基及び／又はその置換アミド基を有するポリマー、
好ましくはスチロール／（メタ）アクリル酸／（メタ）
アクリル酸エステル共重合体及び必要に応じて湿潤助
剤、好ましくはメチルエチルケトン。
プ出願と同出願番号）には、基材層及びその上に塗布さ
れた供与層を持つ、リトグラフ版型の図柄構成のための
熱転写箔又は熱転写テープが開示されている。その場
合、基材層は少なくとも以下の特性を有する、少なくと
も一つのポリマー材質から、好ましくはＰＥＴから成っ
ているものとする： 温度＞１５０℃に於ける機械的安定性、 波長７００〜
１６００ｎｍに於ける＞７０％の透光率 供与層は少なくとも次の成分を含んでいるものとする：
入射したレーザ光の放射エネルギーを熱エネルギーに変
えることのできる物質、好ましくはカーボンブラック、
酸性基及び／又はその置換アミド基を有するポリマー、
好ましくはスチロール／（メタ）アクリル酸／（メタ）
アクリル酸エステル共重合体及び必要に応じて湿潤助
剤、好ましくはメチルエチルケトン。
【０００７】リトグラフ印刷工程用版型の洗浄に、また
ゴム引き防水布やその他印刷機可動部の汚染部品の洗浄
に市販の版型洗浄剤又はその他媒質を用いた試験では、
通例、重要と見なされる下記要求の少なくとも一つは全
くあるいは十分には満たすことができない： ａ） 適用洗浄媒質は粘度又はレオロジー性（例えばチ
キソトロピー）が適していなかったため、版型又は洗浄
用布片に対して水圧面及び流動技術面でのトラブルなし
に塗布することができなかった。 ｂ） 公知の組成液では必ずしもすべての作業衛生上及
び安全技術上の要求を満たさなかった。特に閉鎖型印刷
機の洗浄除去過程との関係ではそれが当てはまる（例え
ばエアロゾル、液滴の発生など）。 ｃ） 洗浄除去過程は印刷機内で、即ち版型シリンダー
を取り外さないで行わねばならないので、公知の組成液
の場合ではしばしば化学的侵蝕が起きる。例えば溶剤に
よって合成物質、弾性ゴム及びゴム製部品が損なわれ
る。さらにその他の侵蝕性、腐蝕性影響も認められた。 ｄ） 洗浄装置の作業圧がかかる領域では版型に対する
研磨性が許容基準を上回り、版型上に傷が発生する（例
えば引っ掻き痕、研磨剤の痕跡など） ｅ） 洗浄布の湿潤性は、これによる洗浄媒質の版型へ
の塗布の場合でも、溶解させた「汚れ成分」（色素残
渣、図柄構成材、湿潤剤成分、紙料粉塵など）の搬出の
場合でも液体成分がこの洗浄布内に浸透できるレベルに
なければならない。そうすることによって、なかでも塗
布の際に洗浄媒質が手におえず脇のほうに流れ出すとい
う事態は避けられる。殊に搬出時には、既に溶解させた
「汚れ成分」が不織布を介して版型上へ再付着するとい
うことが避けられる。 ｆ） 搬送性／洗い落ち性。洗浄剤は、未使用分の回収
が容易にできるように水には完全に乳化しなければなら
ない。 ｇ） 平版印刷適性。印刷作業面の湿潤特性を不可逆的
に損なったり、あるいは印刷技術面で悪影響を及ぼした
りする（色合いに関して）洗浄剤がある。
ゴム引き防水布やその他印刷機可動部の汚染部品の洗浄
に市販の版型洗浄剤又はその他媒質を用いた試験では、
通例、重要と見なされる下記要求の少なくとも一つは全
くあるいは十分には満たすことができない： ａ） 適用洗浄媒質は粘度又はレオロジー性（例えばチ
キソトロピー）が適していなかったため、版型又は洗浄
用布片に対して水圧面及び流動技術面でのトラブルなし
に塗布することができなかった。 ｂ） 公知の組成液では必ずしもすべての作業衛生上及
び安全技術上の要求を満たさなかった。特に閉鎖型印刷
機の洗浄除去過程との関係ではそれが当てはまる（例え
ばエアロゾル、液滴の発生など）。 ｃ） 洗浄除去過程は印刷機内で、即ち版型シリンダー
を取り外さないで行わねばならないので、公知の組成液
の場合ではしばしば化学的侵蝕が起きる。例えば溶剤に
よって合成物質、弾性ゴム及びゴム製部品が損なわれ
る。さらにその他の侵蝕性、腐蝕性影響も認められた。 ｄ） 洗浄装置の作業圧がかかる領域では版型に対する
研磨性が許容基準を上回り、版型上に傷が発生する（例
えば引っ掻き痕、研磨剤の痕跡など） ｅ） 洗浄布の湿潤性は、これによる洗浄媒質の版型へ
の塗布の場合でも、溶解させた「汚れ成分」（色素残
渣、図柄構成材、湿潤剤成分、紙料粉塵など）の搬出の
場合でも液体成分がこの洗浄布内に浸透できるレベルに
なければならない。そうすることによって、なかでも塗
布の際に洗浄媒質が手におえず脇のほうに流れ出すとい
う事態は避けられる。殊に搬出時には、既に溶解させた
「汚れ成分」が不織布を介して版型上へ再付着するとい
うことが避けられる。 ｆ） 搬送性／洗い落ち性。洗浄剤は、未使用分の回収
が容易にできるように水には完全に乳化しなければなら
ない。 ｇ） 平版印刷適性。印刷作業面の湿潤特性を不可逆的
に損なったり、あるいは印刷技術面で悪影響を及ぼした
りする（色合いに関して）洗浄剤がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題および課題を解決するた
めの手段】本発明の課題は、公知組成液の上記問題を解
決することにある。その場合なかでも、洗浄過程にはそ
れ自体参加せずに後続の平版印刷で支障を惹き起こす可
能性のある安定化剤の添加は本来必要としないような、
主成分が最適化されている簡易製品を目指している。
めの手段】本発明の課題は、公知組成液の上記問題を解
決することにある。その場合なかでも、洗浄過程にはそ
れ自体参加せずに後続の平版印刷で支障を惹き起こす可
能性のある安定化剤の添加は本来必要としないような、
主成分が最適化されている簡易製品を目指している。
【０００９】もう一つの課題は本製品の濃縮物の調製及
びそれの容器内での取り扱いにある。上記課題は、 ａ） 水溶液状態に於いてｐＨ値を１〜４に調整できる
物質、あるいはｐＨ値を１０〜１４に調整できる物質 ｂ） 分散可能な研磨剤 ｃ） 界面活性剤及び必要に応じて錯化剤 ｄ） 溶剤、特に有機溶剤 ｅ） 水及び場合によっては技術的に要求されるその他
所要量の添加物 を含む洗浄媒質によって解消される。そのほか、好まし
い実施形態が特許請求の範囲に記載されている。
びそれの容器内での取り扱いにある。上記課題は、 ａ） 水溶液状態に於いてｐＨ値を１〜４に調整できる
物質、あるいはｐＨ値を１０〜１４に調整できる物質 ｂ） 分散可能な研磨剤 ｃ） 界面活性剤及び必要に応じて錯化剤 ｄ） 溶剤、特に有機溶剤 ｅ） 水及び場合によっては技術的に要求されるその他
所要量の添加物 を含む洗浄媒質によって解消される。そのほか、好まし
い実施形態が特許請求の範囲に記載されている。
【００１０】
【発明の実施の形態】ｐＨ値１〜４に調整する物質、又
はｐＨ値１０〜１４に調整する物質本発明に記載の洗浄
媒質の水溶液をｐＨ値１〜４に設定するには、常用の有
機酸又は無機酸が使用できる。経済的理由から無機酸の
ほうが好ましい。特に注意すべき点であるが、無機酸が
版型シリンダーに対して化学的に悪影響を及ぼしてはな
らない。使用可能なものとしては、元素周期系の第五及
び第六属の酸素酸並びにハロゲン水素酸が考えられる。
特に燐酸が適していることが実証された。燐酸は生理学
上比較的安心で、コスト的にも有利である。燐酸の場合
版型の表面に比較的難溶性の燐酸塩及びヒドロキシ燐酸
塩を生成し、それらが親水性の中枢部を構成して親水化
過程を支えていると想定される。燐酸は例えば、ｐＨ値
２．８〜３．６に於いてスチール表面に対し燐酸塩化作
用を示すが、その際にホープ石（Ｆｅ3+）、及びＺｎ存
在下での燐葉石（Ｚｎ2Ｆｅ2+（ＰＯ4）2＊４Ｈ2Ｏ）な
ど表面に燐酸塩が形成される。Ｎｉ及びＦｅベースの版
型に対する接触角測定（Ｏｗｅｎｓ、Ｗｅｎｄｔ及びＲ
ａｂｅｌ方式）より、燐酸洗浄剤の適用後には表面張力
が約３０ｍＮ／ｍ、極性成分が約３０％増加するのが分
かる。それより導き出される基材表面に於ける双極子相
互作用が、「汚れ」で覆われた基材領域の湿潤性を向上
させ、それにより、ラッカー業界で一般に受け入れられ
るまでにＦｅＰＯ4＊ＰＯ4層によるポリマーコーティン
グ層の付着が明らかに改善される。さらに、印刷インキ
に対する燐酸の溶解力は、上で挙げた他の成分の作用と
組み合わされば十分なレベルにある。上記の酸を加える
場合、濃度域１０％〜ほぼ１００％、特に３０％〜９０
％の溶液として使用する。燐酸には８０〜９０％の領域
にある（通常では８５％位の）市販流通濃度を適用す
る。洗浄媒質１００ｇに対して上記の酸を２ｇ〜３０
ｇ、好ましくは４ｇ〜１５ｇ、さらに好ましくは５ｇ〜
１０ｇ使用する。
はｐＨ値１０〜１４に調整する物質本発明に記載の洗浄
媒質の水溶液をｐＨ値１〜４に設定するには、常用の有
機酸又は無機酸が使用できる。経済的理由から無機酸の
ほうが好ましい。特に注意すべき点であるが、無機酸が
版型シリンダーに対して化学的に悪影響を及ぼしてはな
らない。使用可能なものとしては、元素周期系の第五及
び第六属の酸素酸並びにハロゲン水素酸が考えられる。
特に燐酸が適していることが実証された。燐酸は生理学
上比較的安心で、コスト的にも有利である。燐酸の場合
版型の表面に比較的難溶性の燐酸塩及びヒドロキシ燐酸
塩を生成し、それらが親水性の中枢部を構成して親水化
過程を支えていると想定される。燐酸は例えば、ｐＨ値
２．８〜３．６に於いてスチール表面に対し燐酸塩化作
用を示すが、その際にホープ石（Ｆｅ3+）、及びＺｎ存
在下での燐葉石（Ｚｎ2Ｆｅ2+（ＰＯ4）2＊４Ｈ2Ｏ）な
ど表面に燐酸塩が形成される。Ｎｉ及びＦｅベースの版
型に対する接触角測定（Ｏｗｅｎｓ、Ｗｅｎｄｔ及びＲ
ａｂｅｌ方式）より、燐酸洗浄剤の適用後には表面張力
が約３０ｍＮ／ｍ、極性成分が約３０％増加するのが分
かる。それより導き出される基材表面に於ける双極子相
互作用が、「汚れ」で覆われた基材領域の湿潤性を向上
させ、それにより、ラッカー業界で一般に受け入れられ
るまでにＦｅＰＯ4＊ＰＯ4層によるポリマーコーティン
グ層の付着が明らかに改善される。さらに、印刷インキ
に対する燐酸の溶解力は、上で挙げた他の成分の作用と
組み合わされば十分なレベルにある。上記の酸を加える
場合、濃度域１０％〜ほぼ１００％、特に３０％〜９０
％の溶液として使用する。燐酸には８０〜９０％の領域
にある（通常では８５％位の）市販流通濃度を適用す
る。洗浄媒質１００ｇに対して上記の酸を２ｇ〜３０
ｇ、好ましくは４ｇ〜１５ｇ、さらに好ましくは５ｇ〜
１０ｇ使用する。
【００１１】アルカリ媒質の場合ではｐＨ値１０に調整
できるのであれば任意の物質が使用できる。適するもの
としては、完全に溶解したアルカリ金属、アルカリ土類
金属のあらゆる水酸化物、アンモニア、アンモニウム化
合物及びホスホニウム化合物がある。特に好ましいのは
水酸化アルカリ金属及び炭酸アルカリ金属である。さら
に水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムも適している
が、特に水酸化ナトリウムが有用である。アルカリ化合
物の使用量は１００ｇ組成液に対して０．３ｇ〜１０ｇ
の範囲であるが、特に０．５ｇ〜５ｇが好ましく、その
なかでも０．７ｇ〜２ｇが好ましいが、特に０．８ｇ〜
１．５ｇが好ましい。濃度０．５モル／ｌの水溶液の使
用量はｐＨ値換算から３０ｇ〜６０ｇ／１００ｍｌ組成
液、そのなかでも特に４０ｇ〜５０ｇ／１００ｍｌ組成
液、わけても４４ｇ〜４６ｇ／１００ｍｌ組成液とする
のが好ましい。水酸化ナトリウムの場合特に好ましい使
用量は、０．５モル／ｌのＮａＯＨ溶液１００ｇ当たり
４４ｇ〜４６ｇである。
できるのであれば任意の物質が使用できる。適するもの
としては、完全に溶解したアルカリ金属、アルカリ土類
金属のあらゆる水酸化物、アンモニア、アンモニウム化
合物及びホスホニウム化合物がある。特に好ましいのは
水酸化アルカリ金属及び炭酸アルカリ金属である。さら
に水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムも適している
が、特に水酸化ナトリウムが有用である。アルカリ化合
物の使用量は１００ｇ組成液に対して０．３ｇ〜１０ｇ
の範囲であるが、特に０．５ｇ〜５ｇが好ましく、その
なかでも０．７ｇ〜２ｇが好ましいが、特に０．８ｇ〜
１．５ｇが好ましい。濃度０．５モル／ｌの水溶液の使
用量はｐＨ値換算から３０ｇ〜６０ｇ／１００ｍｌ組成
液、そのなかでも特に４０ｇ〜５０ｇ／１００ｍｌ組成
液、わけても４４ｇ〜４６ｇ／１００ｍｌ組成液とする
のが好ましい。水酸化ナトリウムの場合特に好ましい使
用量は、０．５モル／ｌのＮａＯＨ溶液１００ｇ当たり
４４ｇ〜４６ｇである。
【００１２】研磨剤
研磨剤は、版型又は洗浄布へ塗布する間及び版型が機械
的処理を受ける間それらに悪影響を及ぼしてはならな
い。特に構造及び硬度に関しては、版型が損傷を受ける
ほど強く研磨せず、しかし版型上の印刷インキ残渣、な
かでも乾いて固まった印刷インキ残渣や図柄形成ペース
トに対しての除去過程を効果的に後押しできる性状を持
った研磨剤でなければならない。そのほか、研磨剤の粒
子はできる限り長いあいだ懸濁液の状態に保たれている
ことが要求される。この理由から、例えばα−酸化アル
ミニウム（焼成温度約１２００℃）のような公知の研磨
剤は使用に制限がある。それらは表面電荷を持たないの
で分散が困難であったり、コロイド溶液の形成が容易で
なかったりする場合があるからである。その上、通例は
材質が堅すぎて版型への研磨作用が余りにも強く、傷つ
けてしまうことになる。上記の両要求から、研磨剤選択
時に注意しなければならない主要事項として二つのパラ
メータがある。一つは、研磨粒子自体の硬度だけでなく
その粒子大（研磨粒子数）にも依存する研磨作用であ
り、他の一つは、懸濁液の安定化を左右する水溶液中の
粒子のゼータ電位である。研磨粒子の大きさは、＜１μ
ｍとするが、＜０．１μｍが好ましく、特に＜５０ｎｍ
が好ましいが、そのなかでも５〜３５ｎｍが好ましく、
さらには１０〜１５ｎｍ（粒子分布の中心部分）が特に
適しているということが明らかになった。研磨粒子の電
荷に関して言えば、そのゼータ電位は少なくとも１０ｍ
Ｖなければならないが、好ましくは最低で２０ｍＶ、特
に好ましいのは最低で３５ｍＶである。ゼータ電位の範
囲は、添加物なしとして、Ａｌ2Ｏ3−Ｃの場合ｐＨ値＜
９で０〜４０ｍＶとし、例えばＡｅｒｏｓｉｌＯＸ５０
（Ｄｅｇｕｓｓａ−Ｈuｌｓ社）の場合ｐＨ値＜９で−
７０ｍＶ〜＋２０ｍＶでなければならない。研磨剤は、
その特性に応じてゼータ電位がｐＨ値＝７で＋１０ｍＶ
より又は−１０ｍＶより大である酸化金属から成ってい
るのが好ましい。
的処理を受ける間それらに悪影響を及ぼしてはならな
い。特に構造及び硬度に関しては、版型が損傷を受ける
ほど強く研磨せず、しかし版型上の印刷インキ残渣、な
かでも乾いて固まった印刷インキ残渣や図柄形成ペース
トに対しての除去過程を効果的に後押しできる性状を持
った研磨剤でなければならない。そのほか、研磨剤の粒
子はできる限り長いあいだ懸濁液の状態に保たれている
ことが要求される。この理由から、例えばα−酸化アル
ミニウム（焼成温度約１２００℃）のような公知の研磨
剤は使用に制限がある。それらは表面電荷を持たないの
で分散が困難であったり、コロイド溶液の形成が容易で
なかったりする場合があるからである。その上、通例は
材質が堅すぎて版型への研磨作用が余りにも強く、傷つ
けてしまうことになる。上記の両要求から、研磨剤選択
時に注意しなければならない主要事項として二つのパラ
メータがある。一つは、研磨粒子自体の硬度だけでなく
その粒子大（研磨粒子数）にも依存する研磨作用であ
り、他の一つは、懸濁液の安定化を左右する水溶液中の
粒子のゼータ電位である。研磨粒子の大きさは、＜１μ
ｍとするが、＜０．１μｍが好ましく、特に＜５０ｎｍ
が好ましいが、そのなかでも５〜３５ｎｍが好ましく、
さらには１０〜１５ｎｍ（粒子分布の中心部分）が特に
適しているということが明らかになった。研磨粒子の電
荷に関して言えば、そのゼータ電位は少なくとも１０ｍ
Ｖなければならないが、好ましくは最低で２０ｍＶ、特
に好ましいのは最低で３５ｍＶである。ゼータ電位の範
囲は、添加物なしとして、Ａｌ2Ｏ3−Ｃの場合ｐＨ値＜
９で０〜４０ｍＶとし、例えばＡｅｒｏｓｉｌＯＸ５０
（Ｄｅｇｕｓｓａ−Ｈuｌｓ社）の場合ｐＨ値＜９で−
７０ｍＶ〜＋２０ｍＶでなければならない。研磨剤は、
その特性に応じてゼータ電位がｐＨ値＝７で＋１０ｍＶ
より又は−１０ｍＶより大である酸化金属から成ってい
るのが好ましい。
【００１３】研磨粒子の素材としては、一般式Ｍ
IIIＯ、ＭIII 2Ｏ3、ＭIVＯ2、ＭII、III 3Ｏ4を持つ酸化
金属又は酸化金属混合物から選択したものが好ましい。
但し、ＭI Iは第II属の金属から、ＭIIIは第III属の金
属、遷移金属及びランタニドから、ＭIVは第IV属の金
属、非金属及び遷移金属から選択されたものとする。好
ましい素材としては酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、二酸化シリジウム、酸化亜鉛及び酸化鉄がある。
IIIＯ、ＭIII 2Ｏ3、ＭIVＯ2、ＭII、III 3Ｏ4を持つ酸化
金属又は酸化金属混合物から選択したものが好ましい。
但し、ＭI Iは第II属の金属から、ＭIIIは第III属の金
属、遷移金属及びランタニドから、ＭIVは第IV属の金
属、非金属及び遷移金属から選択されたものとする。好
ましい素材としては酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、二酸化シリジウム、酸化亜鉛及び酸化鉄がある。
【００１４】研磨剤をＮｉ及びＦｅベースの基材に適用
した場合、その作用及び特性によりＲ2値に均一化（対
称なＡｂｏｔｔ曲線）が見られる。この作用はペトロメ
ーター（Ｆｏｋｏｄｙｎレーザスキャナー）又は白色光
干渉計により測定できる。適した研磨剤であればそれに
加え、適用後には表面張力極性成分の上昇に寄与する。
した場合、その作用及び特性によりＲ2値に均一化（対
称なＡｂｏｔｔ曲線）が見られる。この作用はペトロメ
ーター（Ｆｏｋｏｄｙｎレーザスキャナー）又は白色光
干渉計により測定できる。適した研磨剤であればそれに
加え、適用後には表面張力極性成分の上昇に寄与する。
【００１５】対象になる研磨粒子のなかで特にδ−酸化
アルミニウム、例えばＤｅｇｕｓｓａ社のＡｌ2Ｏ3−Ｃ
が適しているのが明らかになった。
アルミニウム、例えばＤｅｇｕｓｓａ社のＡｌ2Ｏ3−Ｃ
が適しているのが明らかになった。
【００１６】塩基性特性（ＣＡＳ １３９４−２８−
１）を持つＡｌ2Ｏ3−Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ社）の製造は
ＡｌＣｌ3の高温加水分解により行う。それによって発
生する一次粒子は、平均径１３ｎｍの角の丸い正立方体
（ＲＥＭ）である。ＢＥＴ試験（ＤＩＮ ６６１３１）
によるヒステリシス分析では間隙は見られず、従って粒
子は内部構造を有していない（その内部構造によりクロ
マトグラフィーに使用されるγ−ＡＬ2Ｏ3とは対照
的）。４％水性分散液のｐＨ値は塩酸不純物の除去後で
は７．５を越えており（ＤＩＮ ＩＳＯ ７８７／Ｉ
Ｘ）、これは表面ＯＨ基が弱アルカリ反応することを窺
わせている。従って、等電点がｐＨ＝９であるというの
は理解できる。ＰＨ値が９を下回ればゼータ電位は＋４
０ｍＶまで上昇する。ＰＨ値が９を越えると表面負電荷
となる（ｐＨ＝１０、−２０ｍＶ）。Ａｌ 2Ｏ3−Ｃの比
密度は約３．２ｇ／ｍｌで、誘電率は５である。
１）を持つＡｌ2Ｏ3−Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ社）の製造は
ＡｌＣｌ3の高温加水分解により行う。それによって発
生する一次粒子は、平均径１３ｎｍの角の丸い正立方体
（ＲＥＭ）である。ＢＥＴ試験（ＤＩＮ ６６１３１）
によるヒステリシス分析では間隙は見られず、従って粒
子は内部構造を有していない（その内部構造によりクロ
マトグラフィーに使用されるγ−ＡＬ2Ｏ3とは対照
的）。４％水性分散液のｐＨ値は塩酸不純物の除去後で
は７．５を越えており（ＤＩＮ ＩＳＯ ７８７／Ｉ
Ｘ）、これは表面ＯＨ基が弱アルカリ反応することを窺
わせている。従って、等電点がｐＨ＝９であるというの
は理解できる。ＰＨ値が９を下回ればゼータ電位は＋４
０ｍＶまで上昇する。ＰＨ値が９を越えると表面負電荷
となる（ｐＨ＝１０、−２０ｍＶ）。Ａｌ 2Ｏ3−Ｃの比
密度は約３．２ｇ／ｍｌで、誘電率は５である。
【００１７】研磨剤の添加量は１００ｇ組成液に対し１
〜１５ｇとするが、好ましくは２〜２０ｇ、より好まし
くは２．５〜８ｇ、さらに好ましくは３〜６ｇとする。
〜１５ｇとするが、好ましくは２〜２０ｇ、より好まし
くは２．５〜８ｇ、さらに好ましくは３〜６ｇとする。
【００１８】界面活性剤
界面活性剤は親油性色素残渣が水中で乳化して表面から
除去できるように、特に親油性色素残渣のミセル形成促
進のために用いられる。さらに、界面活性剤は水相、酸
性相又はアルカリ相と炭化水素相間で乳化剤として作用
する。この工程には一般にどの界面活性剤も適してい
る。カチオン性、アニオン性及び両性電解質系など公知
のイオン性界面活性剤のなかでは、カチオン性とアニオ
ン性の界面活性剤が最も適している。分子内にポリオキ
シアルキレン鎖を含むアニオン性界面活性剤が特に適し
ているのが明らかになった。これら化合物の主な種属
は、アルキレン・ブリッジを通じてスルホン、スルフェ
ート、カルボキシル又はホスフェート基を保有する芳香
核に結合したポリオキシアルキレン残基から成ってい
る。界面活性剤としては、アルキレン基を通じて結合す
るスルフェート基又はスルホン酸基によって置換された
アリル残基に結合する、２〜１２単位の酸化エチレン、
２〜１６単位のメトキシド又は２〜７単位のプロポキシ
ド保有のポリオキシエチレン鎖を持つものが好ましい。
特に好ましいのはＴｒｉｔｏｎ Ｘ−２００である。Ｔ
ｒｉｔｏｎ Ｘ−２００はｐＨ値には影響されずに本来
の技術特性を維持する。例えば、ｐＨの変化で沈殿した
り、界面活性剤の本質的部分を失ったりはしない。その
上Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−２００はＡｇＸ写真の領域で発揮
しているように、優れた帯電防止特性を持っている。そ
れは恐らくＳＯ3Ｎａ基及び（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）鎖による
ものであろう。
除去できるように、特に親油性色素残渣のミセル形成促
進のために用いられる。さらに、界面活性剤は水相、酸
性相又はアルカリ相と炭化水素相間で乳化剤として作用
する。この工程には一般にどの界面活性剤も適してい
る。カチオン性、アニオン性及び両性電解質系など公知
のイオン性界面活性剤のなかでは、カチオン性とアニオ
ン性の界面活性剤が最も適している。分子内にポリオキ
シアルキレン鎖を含むアニオン性界面活性剤が特に適し
ているのが明らかになった。これら化合物の主な種属
は、アルキレン・ブリッジを通じてスルホン、スルフェ
ート、カルボキシル又はホスフェート基を保有する芳香
核に結合したポリオキシアルキレン残基から成ってい
る。界面活性剤としては、アルキレン基を通じて結合す
るスルフェート基又はスルホン酸基によって置換された
アリル残基に結合する、２〜１２単位の酸化エチレン、
２〜１６単位のメトキシド又は２〜７単位のプロポキシ
ド保有のポリオキシエチレン鎖を持つものが好ましい。
特に好ましいのはＴｒｉｔｏｎ Ｘ−２００である。Ｔ
ｒｉｔｏｎ Ｘ−２００はｐＨ値には影響されずに本来
の技術特性を維持する。例えば、ｐＨの変化で沈殿した
り、界面活性剤の本質的部分を失ったりはしない。その
上Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−２００はＡｇＸ写真の領域で発揮
しているように、優れた帯電防止特性を持っている。そ
れは恐らくＳＯ3Ｎａ基及び（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）鎖による
ものであろう。
【００１９】アルキルポリグリコシド、アルキルポリグ
リコエーテル以外の純粋な非イオン性界面活性剤は上記
目的には限定的にしか適していない。それらには例え
ば、版型表面など金属表面に吸収される性向があるから
である。従って非イオン性界面活性剤は避けるか、上記
イオン性界面活性剤との配合による共重合界面活性剤と
してのみ使用すべきである。配合比率は１：１０〜１
０：１とする。
リコエーテル以外の純粋な非イオン性界面活性剤は上記
目的には限定的にしか適していない。それらには例え
ば、版型表面など金属表面に吸収される性向があるから
である。従って非イオン性界面活性剤は避けるか、上記
イオン性界面活性剤との配合による共重合界面活性剤と
してのみ使用すべきである。配合比率は１：１０〜１
０：１とする。
【００２０】酸性組成液の場合、界面活性剤の濃度は１
００ｇ組成液当たり０．１ｇ〜５０ｇとする。特に１ｇ
〜５０ｇが好ましいが、２ｇ〜１０ｇがより好ましく、
さらには３ｇ〜８ｇがそれ以上に好ましい。アルカリ組
成液の場合も１００ｇ組成液当たり０．１ｇ〜５０ｇが
好ましいが、特に５ｇ〜２０ｇが好ましく、なかでも８
ｇ〜１５ｇがより好ましく、さらには９ｇ〜１２ｇがそ
れ以上に好ましい。
００ｇ組成液当たり０．１ｇ〜５０ｇとする。特に１ｇ
〜５０ｇが好ましいが、２ｇ〜１０ｇがより好ましく、
さらには３ｇ〜８ｇがそれ以上に好ましい。アルカリ組
成液の場合も１００ｇ組成液当たり０．１ｇ〜５０ｇが
好ましいが、特に５ｇ〜２０ｇが好ましく、なかでも８
ｇ〜１５ｇがより好ましく、さらには９ｇ〜１２ｇがそ
れ以上に好ましい。
【００２１】好ましい界面活性剤種属はアルキルアリル
ポリグリコールエーテルスルフェートで、例えばスルホ
ン酸アルキルアリルポリエーテル・ナトリウム（ＣＡＳ
−Ｎｏ． ２９１７−９４−４）であり、ＣＭＣ（臨界
ミセル濃度、１００重量％）２３０ｐｐｍのＢｅｎｅｌ
ｕｘ Ｎ．Ｖ．（Ｕｎｉｏｎ Ｃａｒｂｉｄｅ社）があ
る。 構造：
ポリグリコールエーテルスルフェートで、例えばスルホ
ン酸アルキルアリルポリエーテル・ナトリウム（ＣＡＳ
−Ｎｏ． ２９１７−９４−４）であり、ＣＭＣ（臨界
ミセル濃度、１００重量％）２３０ｐｐｍのＢｅｎｅｌ
ｕｘ Ｎ．Ｖ．（Ｕｎｉｏｎ Ｃａｒｂｉｄｅ社）があ
る。 構造：
【化１】
但し、ｎは好ましくは約２〜７とする。
Ｒｏｓｓ−Ｍｉｌｅｓ方式によるフォーム高（２５
℃）：
℃）：
【表１】
【００２２】錯化剤
本発明に記載の製剤には必要に応じて錯化剤が含まれて
いる。尚、錯化剤はＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸
ジナトリウム塩二水化物、エチレンジニトリロ四酢酸ジ
ナトリウム塩二水化物）、ＥＧＴＡ（エチレングリコー
ル−ビス−（β−アミンエチルエーテル）−Ｎ、Ｎ、
Ｎ’、Ｎ’−テトラ酢酸）、ＡＭＰ（アミノメチルホス
ホネート）、ＨＥＤＰ（ヒドロキシエチリジン−１，１
−ジホスホネート）、トリエタノールアミン及びリンゴ
酸、コハク酸、クエン酸、グルタル酸、アジピン酸及び
／又は蓚酸のような有機酸並びにこれらの混合物から選
択したものとする。
いる。尚、錯化剤はＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸
ジナトリウム塩二水化物、エチレンジニトリロ四酢酸ジ
ナトリウム塩二水化物）、ＥＧＴＡ（エチレングリコー
ル−ビス−（β−アミンエチルエーテル）−Ｎ、Ｎ、
Ｎ’、Ｎ’−テトラ酢酸）、ＡＭＰ（アミノメチルホス
ホネート）、ＨＥＤＰ（ヒドロキシエチリジン−１，１
−ジホスホネート）、トリエタノールアミン及びリンゴ
酸、コハク酸、クエン酸、グルタル酸、アジピン酸及び
／又は蓚酸のような有機酸並びにこれらの混合物から選
択したものとする。
【００２３】溶剤
洗浄組成液に使用する溶剤は、版型洗浄分野で常用され
ている任意の溶剤でよいが、特に十分な溶解力を有して
いて、しかも印刷機内外の作業衛生上、安全技術上の条
件に適合していることが必要である。色素残渣及びその
他除去過程で発生する非水溶性残渣を取り込めるよう
に、溶剤は組成液構成媒質、つまり水には溶けずに乳化
するものが好ましい。
ている任意の溶剤でよいが、特に十分な溶解力を有して
いて、しかも印刷機内外の作業衛生上、安全技術上の条
件に適合していることが必要である。色素残渣及びその
他除去過程で発生する非水溶性残渣を取り込めるよう
に、溶剤は組成液構成媒質、つまり水には溶けずに乳化
するものが好ましい。
【００２４】原則的に適している溶剤としては、例えば
芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、有枝、非有枝イソ炭
化水素、エステル、ケトン及び鎖内又は鎖側に於いてヘ
テロ原子で置換された有機溶剤がある。これらの溶剤種
属のうち脂肪族の溶剤が多くの理由から非常に適してい
ると実証された。トルエン、メシチレン、クモールなど
の芳香族の溶剤は、溶解力の点では非常に良好な結果が
得られることが多いが、生理学的又は毒物学的憂慮点か
ら、また装置の合成物質、弾性ゴム部分に対する侵蝕作
用性向のあることから単独使用の対象とすることはでき
ない。分解性に劣るため環境面で問題のあるハロゲン化
炭化水素にも同様のことが当てはまる。脂肪族の溶剤の
中でも特にイソパラフィン系溶剤が非常に適していると
分かった。特に適しているのは危険等級ＡＩＩＩのイソ
パラフィン系溶剤で、その中でも特に引火点＞６０℃の
イソパラフィン系溶剤である。エステルの中では脂肪酸
エステル、例えば植物油からの、あるいはまた牛脂のよ
うな動物性脂肪からの誘導体が非常に適していると判明
した。植物系列の脂肪酸エステルは、例えばやし油、パ
ーム核油、大豆油、ひまわり油、亜麻仁油又は菜種油か
ら、なかでもやし油又はパーム核油から、まず脂肪の分
離、続いて単官能アルコール（Ｃ１〜Ｃ２４のアルコー
ルから選択。特にＣ１〜Ｃ１８のものが好ましく、その
中でもＣ１〜Ｃ１４のもの及びそれらの混合物が好まし
い。エステル交換にはＣ２〜Ｃ２４のアルコールから選
択。Ｃ２〜Ｃ１８のものが好ましく、その中でも特にＣ
２〜Ｃ１４のものが好ましく、さらにはＣ２〜Ｃ１０の
もの及びそれらの混合物が好ましい）によるエステル化
及び必要に応じてエステル交換を行うことにより製造す
る。好ましい脂肪酸エステルとは、Ｋａｕｆｍａｎｎ方
式（ドイツ油脂研究協会、ＤＧＦ Ｃ−Ｖ １１ｂ及び
Ｗｉｊｓ ＩＳＯ ３９６１）の測定でヨード価が＜１
００、特に１０〜６０のものである。ゴム引き防水布の
膨潤性が強くなり過ぎないように、メチルエステル成分
はできる限り低く抑えねばならない。エステルのアルコ
ール成分が有している炭素原子の数は２〜２４が好まし
いが、その中でも特に２〜１８又は２〜１０が好まし
い。アルコールの脂肪酸エステルとしてはエタノール、
イソプロパノール、ｎ−プロパノール、ブタノール、２
−エチルヘキシルエステルが好ましい。これらのエステ
ルは混合物の形態であってもよい。それぞれの脂肪酸は
脂肪分解後では混合物として存在し、例えば６〜２４
の、好ましくは８〜１８の炭素原子を有している。やし
油及びパーム核油の主成分はミリスチン酸及びラウリン
酸である。脂肪酸エステルの市販品としてはＨｅｎｋｅ
ｌ社のＥｄｅｎｏｒ(登録商標)及びＵｎｉｃｈｅｍａ社
のＰｒｉｏｌｕｂｅ(登録商標)など一連の製品がある。
芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、有枝、非有枝イソ炭
化水素、エステル、ケトン及び鎖内又は鎖側に於いてヘ
テロ原子で置換された有機溶剤がある。これらの溶剤種
属のうち脂肪族の溶剤が多くの理由から非常に適してい
ると実証された。トルエン、メシチレン、クモールなど
の芳香族の溶剤は、溶解力の点では非常に良好な結果が
得られることが多いが、生理学的又は毒物学的憂慮点か
ら、また装置の合成物質、弾性ゴム部分に対する侵蝕作
用性向のあることから単独使用の対象とすることはでき
ない。分解性に劣るため環境面で問題のあるハロゲン化
炭化水素にも同様のことが当てはまる。脂肪族の溶剤の
中でも特にイソパラフィン系溶剤が非常に適していると
分かった。特に適しているのは危険等級ＡＩＩＩのイソ
パラフィン系溶剤で、その中でも特に引火点＞６０℃の
イソパラフィン系溶剤である。エステルの中では脂肪酸
エステル、例えば植物油からの、あるいはまた牛脂のよ
うな動物性脂肪からの誘導体が非常に適していると判明
した。植物系列の脂肪酸エステルは、例えばやし油、パ
ーム核油、大豆油、ひまわり油、亜麻仁油又は菜種油か
ら、なかでもやし油又はパーム核油から、まず脂肪の分
離、続いて単官能アルコール（Ｃ１〜Ｃ２４のアルコー
ルから選択。特にＣ１〜Ｃ１８のものが好ましく、その
中でもＣ１〜Ｃ１４のもの及びそれらの混合物が好まし
い。エステル交換にはＣ２〜Ｃ２４のアルコールから選
択。Ｃ２〜Ｃ１８のものが好ましく、その中でも特にＣ
２〜Ｃ１４のものが好ましく、さらにはＣ２〜Ｃ１０の
もの及びそれらの混合物が好ましい）によるエステル化
及び必要に応じてエステル交換を行うことにより製造す
る。好ましい脂肪酸エステルとは、Ｋａｕｆｍａｎｎ方
式（ドイツ油脂研究協会、ＤＧＦ Ｃ−Ｖ １１ｂ及び
Ｗｉｊｓ ＩＳＯ ３９６１）の測定でヨード価が＜１
００、特に１０〜６０のものである。ゴム引き防水布の
膨潤性が強くなり過ぎないように、メチルエステル成分
はできる限り低く抑えねばならない。エステルのアルコ
ール成分が有している炭素原子の数は２〜２４が好まし
いが、その中でも特に２〜１８又は２〜１０が好まし
い。アルコールの脂肪酸エステルとしてはエタノール、
イソプロパノール、ｎ−プロパノール、ブタノール、２
−エチルヘキシルエステルが好ましい。これらのエステ
ルは混合物の形態であってもよい。それぞれの脂肪酸は
脂肪分解後では混合物として存在し、例えば６〜２４
の、好ましくは８〜１８の炭素原子を有している。やし
油及びパーム核油の主成分はミリスチン酸及びラウリン
酸である。脂肪酸エステルの市販品としてはＨｅｎｋｅ
ｌ社のＥｄｅｎｏｒ(登録商標)及びＵｎｉｃｈｅｍａ社
のＰｒｉｏｌｕｂｅ(登録商標)など一連の製品がある。
【００２５】脂肪酸エステルはゴム引き防水布の洗浄に
は、例えば上で説明したように、パラフィン系及び／又
はナフテン系炭化水素と配合して使用し、その配合比は
１：１０〜１０：１とする。但し、好ましいのは１：３
〜３：１で、より好ましいのは１．５：１〜１：１．５
であり、一般には約１：１の比率で適用する。
は、例えば上で説明したように、パラフィン系及び／又
はナフテン系炭化水素と配合して使用し、その配合比は
１：１０〜１０：１とする。但し、好ましいのは１：３
〜３：１で、より好ましいのは１．５：１〜１：１．５
であり、一般には約１：１の比率で適用する。
【００２６】色素溶解剤に課される主な要求としては、
レドックス安定性及び溶解速度のほかに、一定の色素量
で、外的影響なしという条件での必要最小限の溶剤量を
表す尺度としての溶解力がある。色素溶解力は色素量と
溶剤使用量の商から得られる。非常に適したパラフィン
系（芳香族の乏しい）炭化水素のうちでも、従来型ヒー
トセット色素及び各種形成色素に対する２４時間沈殿テ
ストでは環状飽和炭化水素（例えばデカヒドロナフタリ
ン）及び有枝鎖状、非環状飽和炭化水素が最大の色素溶
解力を発揮する。好ましいイソパラフィン系炭化水素の
中でもＥｘｘｏｎ社の製品、Ｉｓｏｐａｒ Ｌ（ＣＡＳ
９０６２２−５８−５）が最適である。Ｉｓｏｐａｒ
Ｌは沸点＞１８９℃のイソパラフィン溜分、恐らくは
Ｃ11〜Ｃ 14溜分からの混合物である。Ｉｓｏｐａｒ Ｌ
の引火点は６４℃である。溶剤使用量は、１００ｇ組成
液当たり１０ｇ〜５０ｇとするが、好ましくは２０ｇ〜
４０ｇ、さらに好ましくは２５ｇ〜３５ｇとする。
レドックス安定性及び溶解速度のほかに、一定の色素量
で、外的影響なしという条件での必要最小限の溶剤量を
表す尺度としての溶解力がある。色素溶解力は色素量と
溶剤使用量の商から得られる。非常に適したパラフィン
系（芳香族の乏しい）炭化水素のうちでも、従来型ヒー
トセット色素及び各種形成色素に対する２４時間沈殿テ
ストでは環状飽和炭化水素（例えばデカヒドロナフタリ
ン）及び有枝鎖状、非環状飽和炭化水素が最大の色素溶
解力を発揮する。好ましいイソパラフィン系炭化水素の
中でもＥｘｘｏｎ社の製品、Ｉｓｏｐａｒ Ｌ（ＣＡＳ
９０６２２−５８−５）が最適である。Ｉｓｏｐａｒ
Ｌは沸点＞１８９℃のイソパラフィン溜分、恐らくは
Ｃ11〜Ｃ 14溜分からの混合物である。Ｉｓｏｐａｒ Ｌ
の引火点は６４℃である。溶剤使用量は、１００ｇ組成
液当たり１０ｇ〜５０ｇとするが、好ましくは２０ｇ〜
４０ｇ、さらに好ましくは２５ｇ〜３５ｇとする。
【００２７】その他の添加物
本発明に記載の洗浄媒質の主要構成成分は水である。水
は、実際上制限なく存在する上、生理学的にも環境技術
的にも躊躇点のないという長所を持っている。さらに、
水の存在によって版型の再使用に要する親水性が確保さ
れる。即ち、洗浄媒質は洗浄作用のほかに、なかでも版
型に親水性を付与する特性を有していなければならな
い。その特性があれば、場合によっては親水化剤の添加
は省略できる。組成液に添加できる物質としては、その
他に例えば保存剤がある。これ自体に十分な殺虫作用が
ない場合にはそのような作用を持つ物質を１〜３重量％
の割合で添加することができる。特定の状況下ではモリ
ブデン酸塩、オルト燐酸塩、ベンゾトリアゾール、トリ
ルトリアゾール、燐酸トリエタノールアミンなどの防腐
剤が使用できる。
は、実際上制限なく存在する上、生理学的にも環境技術
的にも躊躇点のないという長所を持っている。さらに、
水の存在によって版型の再使用に要する親水性が確保さ
れる。即ち、洗浄媒質は洗浄作用のほかに、なかでも版
型に親水性を付与する特性を有していなければならな
い。その特性があれば、場合によっては親水化剤の添加
は省略できる。組成液に添加できる物質としては、その
他に例えば保存剤がある。これ自体に十分な殺虫作用が
ない場合にはそのような作用を持つ物質を１〜３重量％
の割合で添加することができる。特定の状況下ではモリ
ブデン酸塩、オルト燐酸塩、ベンゾトリアゾール、トリ
ルトリアゾール、燐酸トリエタノールアミンなどの防腐
剤が使用できる。
【００２８】洗浄媒質の特性
粘度
調製組成液の粘度は１〜５００ｍＰａｓ-1の範囲にあ
る。粘度の範囲は、好ましくは５〜４０ｍＰａｓ-1と
し、より好ましくは２〜３０ｍＰａｓ-1とする。レオロ
ジー性は、ノズルタイプの塗工装置が作動できるような
状態にするのが好ましい。つまり、過度の粘度、チキソ
トロピー又は膨張やスプレー（噴霧）時の不適合現象は
回避しなければならない［回転レオメーター（Ｐａａｒ
Ｐｈｙｓｉｃａ社、ＭＣＲ ３００）、円錐／平版型
１°、剪断速度５０ｓ-1］。
る。粘度の範囲は、好ましくは５〜４０ｍＰａｓ-1と
し、より好ましくは２〜３０ｍＰａｓ-1とする。レオロ
ジー性は、ノズルタイプの塗工装置が作動できるような
状態にするのが好ましい。つまり、過度の粘度、チキソ
トロピー又は膨張やスプレー（噴霧）時の不適合現象は
回避しなければならない［回転レオメーター（Ｐａａｒ
Ｐｈｙｓｉｃａ社、ＭＣＲ ３００）、円錐／平版型
１°、剪断速度５０ｓ-1］。
【００２９】化学特性
調製組成液には酸化容易性成分は含まれていない。自動
縮合を誘発する成分も含まれていない。
縮合を誘発する成分も含まれていない。
【００３０】洗浄媒質の構成及び安定性
自明の通り、本発明の特に好ましい実施形態では、洗浄
過程に関わらない添加物はいずれも必要としない。従っ
て、本発明に記載の洗浄媒質に於いて特に好ましいもの
は、組成が主要成分に限定されている。例えば、乳化剤
やレオロジー性改良剤の添加が必要でないのが好まし
い。公知の洗浄媒質の多くは分離、沈殿、浮遊性向があ
り、二つ又はそれ以上の層を形成する。本発明に記載の
洗浄媒質は少なくとも１時間は安定であり、好ましい条
件では少なくとも２４時間、特に好ましい条件では少な
くとも４８時間は安定である。安定であるということ
は、目に見える相分離を起こさないという意味である。
本発明に記載の組成液でも勿論長時間放置した場合で
は、必要に応じて使用前に撹拌しなければならない。即
ち、安定なエマルジョン及び懸濁液の状態にしなければ
ならないが、これは通常の手段で行える。
過程に関わらない添加物はいずれも必要としない。従っ
て、本発明に記載の洗浄媒質に於いて特に好ましいもの
は、組成が主要成分に限定されている。例えば、乳化剤
やレオロジー性改良剤の添加が必要でないのが好まし
い。公知の洗浄媒質の多くは分離、沈殿、浮遊性向があ
り、二つ又はそれ以上の層を形成する。本発明に記載の
洗浄媒質は少なくとも１時間は安定であり、好ましい条
件では少なくとも２４時間、特に好ましい条件では少な
くとも４８時間は安定である。安定であるということ
は、目に見える相分離を起こさないという意味である。
本発明に記載の組成液でも勿論長時間放置した場合で
は、必要に応じて使用前に撹拌しなければならない。即
ち、安定なエマルジョン及び懸濁液の状態にしなければ
ならないが、これは通常の手段で行える。
【００３１】濃縮物
本発明は上で説明した洗浄媒質の濃縮物にも及んでい
る。濃縮物の概念は、特に水分を減らした状態での成分
ａ）〜ｅ）の組合せと理解される。洗浄媒質の容器内保
管は、水分の乏しい又は水分のない成分を含む特定量の
洗浄剤濃縮物として行うのが好ましい。この保管量は、
洗浄用布片の使用開始から取り替えまでの間の消費分に
十分見合うようにするのが好ましい。濃縮物収容容器に
は調整可能な配量装置を備え付けることができる。濃縮
物は液滴状に排出することが可能である。液滴状配量
は、例えば圧電排出装置付きＤＯＤシステム（必要時落
下式）により行える。
る。濃縮物の概念は、特に水分を減らした状態での成分
ａ）〜ｅ）の組合せと理解される。洗浄媒質の容器内保
管は、水分の乏しい又は水分のない成分を含む特定量の
洗浄剤濃縮物として行うのが好ましい。この保管量は、
洗浄用布片の使用開始から取り替えまでの間の消費分に
十分見合うようにするのが好ましい。濃縮物収容容器に
は調整可能な配量装置を備え付けることができる。濃縮
物は液滴状に排出することが可能である。液滴状配量
は、例えば圧電排出装置付きＤＯＤシステム（必要時落
下式）により行える。
【００３２】洗浄媒質が濃縮物の場合、滴下式供給によ
り一様な塗布が達成される。さらに保管についても、例
えばカートリッジなど取り替え可能な容器により濃縮物
の状態で行うのが有利である。その場合では濃縮物の有
効成分に水が長時間作用するのが避けられ、保管可能時
間が長くなるからである。その上、洗浄媒質用供給導管
から侵蝕性成分（例えば成分ａ））を分離すれば、導管
部の腐蝕が減少する。
り一様な塗布が達成される。さらに保管についても、例
えばカートリッジなど取り替え可能な容器により濃縮物
の状態で行うのが有利である。その場合では濃縮物の有
効成分に水が長時間作用するのが避けられ、保管可能時
間が長くなるからである。その上、洗浄媒質用供給導管
から侵蝕性成分（例えば成分ａ））を分離すれば、導管
部の腐蝕が減少する。
【００３３】濃縮物は本発明に記載の洗浄媒質の中間体
として把握することができる。それは主として水分の乏
しい又は水分を含まない成分ａ）〜ｄ）（及び常用の添
加物）から成っている。成分ｅ）、即ち水は例えば供給
導管を通じて濃縮物含有カートリッジに導かれ、洗浄用
布片又は版型シリンダーへの塗布前に然るべき装置の中
で混合される。しかし、濃縮物と水は別々に塗布するこ
ともできる。濃縮物の組成は上記の例に限定されるもの
ではない。そのほか有用な配合例を挙げれば、濃縮物と
しての成分ａ）、ｂ）、ｃ）と希釈剤としてのｄ）、
ｅ）の組合せ、濃縮物としての成分ｂ）、ｃ）、ｄ）と
希釈剤としてのａ）、ｅ）の組合せ、濃縮物としての成
分ａ）、ｂ）と希釈剤としてのｃ）〜ｅ）のエマルジョ
ン、あるいは濃縮物としての成分ａ）、ｂ）、ｄ）と希
釈剤としてのｃ）、ｅ）の組合せがある。いずれの場合
でも状況によっては、塗布や取り扱いに関して別な観点
に注意しなければならないことがある。濃縮物の粘度は
好ましくは＜１００ｃＰ、より好ましくは＜３５ｃＰと
する。
として把握することができる。それは主として水分の乏
しい又は水分を含まない成分ａ）〜ｄ）（及び常用の添
加物）から成っている。成分ｅ）、即ち水は例えば供給
導管を通じて濃縮物含有カートリッジに導かれ、洗浄用
布片又は版型シリンダーへの塗布前に然るべき装置の中
で混合される。しかし、濃縮物と水は別々に塗布するこ
ともできる。濃縮物の組成は上記の例に限定されるもの
ではない。そのほか有用な配合例を挙げれば、濃縮物と
しての成分ａ）、ｂ）、ｃ）と希釈剤としてのｄ）、
ｅ）の組合せ、濃縮物としての成分ｂ）、ｃ）、ｄ）と
希釈剤としてのａ）、ｅ）の組合せ、濃縮物としての成
分ａ）、ｂ）と希釈剤としてのｃ）〜ｅ）のエマルジョ
ン、あるいは濃縮物としての成分ａ）、ｂ）、ｄ）と希
釈剤としてのｃ）、ｅ）の組合せがある。いずれの場合
でも状況によっては、塗布や取り扱いに関して別な観点
に注意しなければならないことがある。濃縮物の粘度は
好ましくは＜１００ｃＰ、より好ましくは＜３５ｃＰと
する。
【００３４】洗浄除去法
洗浄除去法の適用目的は版型の完全な洗浄である。既に
溶解した、又は分離した物質の再付着を防止しなければ
ならない。洗浄除去過程は一般には版型を何回か回転さ
せて行う。
溶解した、又は分離した物質の再付着を防止しなければ
ならない。洗浄除去過程は一般には版型を何回か回転さ
せて行う。
【００３５】版型がアルカリ溶液に可溶性の合成物質で
図柄構成された場合（即ち、アルカリ溶液に可溶性の合
成物質を使用して熱転写テープで図柄構成した版型の場
合）、第一段階では酸性洗浄剤を塗布し、色素残渣を溶
解させる。第二段階では、熱転写法によって転写された
アルカリ可溶性合成物質を版型から分離させるために、
中間ウォッシング過程の後にアルカリ物質を作用させ
る。さらにウォッシング過程を経た後残留印刷インキを
酸性洗浄媒質により除去する。
図柄構成された場合（即ち、アルカリ溶液に可溶性の合
成物質を使用して熱転写テープで図柄構成した版型の場
合）、第一段階では酸性洗浄剤を塗布し、色素残渣を溶
解させる。第二段階では、熱転写法によって転写された
アルカリ可溶性合成物質を版型から分離させるために、
中間ウォッシング過程の後にアルカリ物質を作用させ
る。さらにウォッシング過程を経た後残留印刷インキを
酸性洗浄媒質により除去する。
【００３６】熱転写テープで図柄構成された上記版型の
場合、本発明に記載の洗浄媒質のアルカリ組成液が非常
に有用であると実証されている。それによると、色素溶
解過程と図柄構成に使用されるアルカリ可溶性合成物質
の分離過程とが一工程で行えるからである。洗浄後には
版型を水洗いする。
場合、本発明に記載の洗浄媒質のアルカリ組成液が非常
に有用であると実証されている。それによると、色素溶
解過程と図柄構成に使用されるアルカリ可溶性合成物質
の分離過程とが一工程で行えるからである。洗浄後には
版型を水洗いする。
【００３７】特に、酸性又はアルカリ性媒質と研磨粒子
との作用が合体化することで版型表面に高い親水性が付
与され、それにより版型は乾燥後直ちに後続の図柄構成
に使用することができる。
との作用が合体化することで版型表面に高い親水性が付
与され、それにより版型は乾燥後直ちに後続の図柄構成
に使用することができる。
【００３８】洗浄過程は一般には、版型又は版型表面を
移動する洗浄用布片に洗浄媒質を塗布して行う。洗浄過
程では機械的作用ばかりか化学的作用も働く。洗浄用拭
き取り布としては不織布が用いられるが、一般にはセル
ロースとポリエステル繊維の混合物である。
移動する洗浄用布片に洗浄媒質を塗布して行う。洗浄過
程では機械的作用ばかりか化学的作用も働く。洗浄用拭
き取り布としては不織布が用いられるが、一般にはセル
ロースとポリエステル繊維の混合物である。
【００３９】版型の洗浄は完璧でなければならないの
で、洗浄除去後には版型上に洗浄媒質が残らないように
注意しなければならない。洗浄媒質が版型上に０．５％
残っているだけで、その版型は使用できなくなる。
で、洗浄除去後には版型上に洗浄媒質が残らないように
注意しなければならない。洗浄媒質が版型上に０．５％
残っているだけで、その版型は使用できなくなる。
【００４０】洗浄媒質の調製方法
洗浄媒質は次のようにして調製する。酸性組成液の場合
は用意した水へ酸を撹拌しながら添加する。続いて、研
磨剤を撹拌下で分割添加する。その後界面活性剤をやは
り撹拌下で添加する。次に、強力に撹拌しながら溶剤及
び残量の水を加える。得られた混合物を超音波浴内に３
０分間置き、続いて改めて短く撹拌する。撹拌過程は、
エマルジョン／懸濁液が長時間安定な状態を保てるので
あれば、別な任意の方法でも行える。アルカリ性組成液
の場合ではまず界面活性剤溶液を用意して、そこへ撹拌
下で溶剤を加える。得られた混合物にアルカリ物質を添
加して、最後に研磨剤を分割添加する。この混合物を上
記と同じように、超音波浴に入れるか、それ自体公知の
方法で混ぜ合わせ、安定なエマルジョン／懸濁液を得
る。混合過程は、エマルジョン／懸濁液が長時間安定な
状態を保てるのであれば、別な任意の方法でも行える。
は用意した水へ酸を撹拌しながら添加する。続いて、研
磨剤を撹拌下で分割添加する。その後界面活性剤をやは
り撹拌下で添加する。次に、強力に撹拌しながら溶剤及
び残量の水を加える。得られた混合物を超音波浴内に３
０分間置き、続いて改めて短く撹拌する。撹拌過程は、
エマルジョン／懸濁液が長時間安定な状態を保てるので
あれば、別な任意の方法でも行える。アルカリ性組成液
の場合ではまず界面活性剤溶液を用意して、そこへ撹拌
下で溶剤を加える。得られた混合物にアルカリ物質を添
加して、最後に研磨剤を分割添加する。この混合物を上
記と同じように、超音波浴に入れるか、それ自体公知の
方法で混ぜ合わせ、安定なエマルジョン／懸濁液を得
る。混合過程は、エマルジョン／懸濁液が長時間安定な
状態を保てるのであれば、別な任意の方法でも行える。
【００４１】濃縮物の場合ではそれぞれの構成成分を予
備混合して、配量可能な粘稠度にして容器に入れる。使
用に当たっては濃縮物と希釈剤を混ぜ合わせる。以下で
は本発明を実施例に基づいて説明する。説明本文及び特
許請求の範囲に於けるパーセント表示は、別途明記がな
ければ重量を基準としたものである。
備混合して、配量可能な粘稠度にして容器に入れる。使
用に当たっては濃縮物と希釈剤を混ぜ合わせる。以下で
は本発明を実施例に基づいて説明する。説明本文及び特
許請求の範囲に於けるパーセント表示は、別途明記がな
ければ重量を基準としたものである。
【００４２】
【実施例】実施例１
酸性洗浄溶液の調製
５０ｇの脱イオン水に６ｇ／１００ｇの８５％燐酸を撹
拌下で混合する。続いて、４ｇ／１００ｇのδ−酸化ア
ルミニウム、即ちＤｅｇｕｓｓａ社のＡｌ2Ｏ3−Ｃを撹
拌下で分割添加する。研磨剤を添加した後に界面活性
剤、この場合では５ｇ／１００ｇのＴｒｉｔｏｎ Ｘ−
２００を同様に撹拌下で添加する。その後に３０ｇ／１
００ｇのＩｓｏｐａｒ Ｌを撹拌下で添加する。最後
に、トータル量１００ｇに合わせるため残量の脱イオン
水を加える。得られた混合液を３０分間超音波浴に置
き、それに続き改めて短時間撹拌する。そのようにして
使用可能な状態の洗浄媒質が得られる。
拌下で混合する。続いて、４ｇ／１００ｇのδ−酸化ア
ルミニウム、即ちＤｅｇｕｓｓａ社のＡｌ2Ｏ3−Ｃを撹
拌下で分割添加する。研磨剤を添加した後に界面活性
剤、この場合では５ｇ／１００ｇのＴｒｉｔｏｎ Ｘ−
２００を同様に撹拌下で添加する。その後に３０ｇ／１
００ｇのＩｓｏｐａｒ Ｌを撹拌下で添加する。最後
に、トータル量１００ｇに合わせるため残量の脱イオン
水を加える。得られた混合液を３０分間超音波浴に置
き、それに続き改めて短時間撹拌する。そのようにして
使用可能な状態の洗浄媒質が得られる。
【００４３】実施例２
アルカリ性洗浄媒質の調製
１００ｇの水に１０ｇのＴｒｉｔｏｎ Ｘを添加し、均
質な混合液を調製する。そこへ１００ｇの組成液に対し
て４１ｇのＩｓｏｐａｒ Ｌを添加する。続いて、同様
に１００ｇの組成液に対して４５ｇの０．５モル／ｌ
ＮａＯＨ溶液を加える。最後に４ｇ／１００ｇのδ−酸
化アルミニウム、即ちＤｅｇｕｓｓａ社のＡｌ2Ｏ3−Ｃ
を撹拌下で分割添加する。得られた混合液を３０分間超
音波浴に置き、それに続き改めて短時間撹拌する。その
ようにして、少なくとも２４時間安定な、均質乳白色の
エマルジョン／分散液が使用可能な状態で得られる。
質な混合液を調製する。そこへ１００ｇの組成液に対し
て４１ｇのＩｓｏｐａｒ Ｌを添加する。続いて、同様
に１００ｇの組成液に対して４５ｇの０．５モル／ｌ
ＮａＯＨ溶液を加える。最後に４ｇ／１００ｇのδ−酸
化アルミニウム、即ちＤｅｇｕｓｓａ社のＡｌ2Ｏ3−Ｃ
を撹拌下で分割添加する。得られた混合液を３０分間超
音波浴に置き、それに続き改めて短時間撹拌する。その
ようにして、少なくとも２４時間安定な、均質乳白色の
エマルジョン／分散液が使用可能な状態で得られる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｃ１１Ｄ 3/06 Ｃ１１Ｄ 3/06
3/14 3/14
3/18 3/18
3/20 3/20
3/30 3/30
3/33 3/33
(72)発明者 アンドレア・フクス
ドイツ・Ｄ−86159・アウグスブルク・
ヘンクシュトラーセ・５
(72)発明者 ローラント・ディートリッヒ
ドイツ・Ｄ−86391・シュタットベルゲ
ン・ジュートシュトラーセ・25ｂ
(56)参考文献 特開 昭53−2102（ＪＰ，Ａ)
特開 昭58−65697（ＪＰ，Ａ)
特開 昭52−15702（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−105448（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−203043（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−68793（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−249899（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−288104（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−89717（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−272898（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−225798（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−124596（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−123249（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C11D 1/00 - 17/08
B41N 3/00 - 3/08
Claims (23)
- 【請求項１】 ａ）水溶液状態に於いてｐＨ値を１〜４
に調整できる物質、あるいはｐＨ値を１０〜１４に調整
できる物質を所要ｐＨ値領域の維持に十分な量だけ、 ｂ）δ-Ａｌ２Ｏ３またはＺｒＯ２から選択される研磨
剤を１〜１５ｇ、 ｃ）低発泡性界面活性剤を０．１〜５０ｇ、 ｄ）溶剤を１０〜５０ｇ、 ｅ）全体を１００ｇに合わせるための所要量の水及び場
合によってはその他の添加物を含む洗浄製剤。 - 【請求項２】 水溶液状態に於いてｐＨ値を１〜４に調
整できる物質が、２〜３０ｇの量で高〜中度の強度を持
つ酸であり、ｐＨ値を１０〜１４に調整できる物質が、
０．３〜１０ｇの量で中〜高度の強度を持つ塩基であ
る、請求項１に記載の製剤。 - 【請求項３】 中〜高度の強度を持つ酸が、元素周期系
の第五及び第六属の酸素酸から選択されたものである、
請求項２に記載の製剤。 - 【請求項４】 酸が燐酸である、請求項３に記載の製
剤。 - 【請求項５】 分散可能な研磨剤がδ−Ａｌ2Ｏ3、であ
る、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の製剤。 - 【請求項６】 界面活性剤が酸化ポリエチレン鎖を持つ
アニオン性界面活性剤である、請求項１ないし５のいず
れか一項に記載の製剤。 - 【請求項７】 アルキルポリグリコシド、アルキルポリ
グリコエーテル及びアルキルフェノールポリグリコエー
テル又はそれらの混合物から選択された非イオン性共重
合界面活性剤が含まれている、請求項１ないし６のいず
れか一項に記載の製剤。 - 【請求項８】 アニオン性界面活性剤がＴｒｉｔｏｎ
（登録商標）Ｘ−２００である、請求項６又は７に記載
の製剤。 - 【請求項９】 界面活性剤が帯電防止特性を有してい
る、請求項１ないし８のいずれか一項に記載の製剤。 - 【請求項１０】 溶剤がパラフィン系炭化水素、ナフテ
ン系炭化水素、脂肪酸エステル及びそれらの混合物から
選択されたものである、請求項１ないし９のいずれか一
項に記載の製剤。 - 【請求項１１】 溶剤がパラフィン系炭化水素、特に有
枝パラフィン系炭化水素である、請求項１０に記載の製
剤。 - 【請求項１２】 有枝パラフィン系炭化水素がイソパラ
フィンである、請求項１１に記載の製剤。 - 【請求項１３】 イソパラフィンがＩｓｏｐａｒ（登録
商標）Ｌである、請求項１２に記載の製剤。 - 【請求項１４】 溶剤が、一つは脂肪酸エステルを、他
の一つはナフテン系及び／又はパラフィン系炭化水素を
成分としている混合物である、請求項１０に記載の製
剤。 - 【請求項１５】 錯化剤を含む、請求項１ないし１４の
いずれか一項に記載の製剤。 - 【請求項１６】 錯化剤がＥＤＴＡ、ＥＧＴＡ、ＡＭ
Ｐ、ＨＥＤＰ、トリエタノールアミン及びリンゴ酸、コ
ハク酸、クエン酸、グルタル酸、アジピン酸及び／又は
蓚酸のような有機酸並びにこれらの混合物から選択され
たものである、請求項１５に記載の製剤。 - 【請求項１７】 １〜５００ｍＰａｓの粘度を持つ、請
求項１ないし１６のいずれか一項に記載の製剤。 - 【請求項１８】 酸性組成液の場合では、用意した水に
酸を撹拌下で添加し、続いて撹拌下で研磨剤を加え、そ
の後やはり撹拌下で界面活性剤を添加して、最後に溶剤
及び残量の水を強力撹拌下で加えるが、アルカリ性組成
液の場合では、界面活性剤水溶液を用意し、そこに撹拌
下で溶剤を添加し、得られた混合液にアルカリ性物質を
加えて、最後に研磨剤を撹拌下で分割添加する、請求項
１ないし１７のいずれか一項に記載の製剤の調製法。 - 【請求項１９】 再使用可能なオフセット版型の洗浄に
於ける、請求項１ないし１７のいずれか一項に記載の製
剤の使用。 - 【請求項２０】 図柄構成された再使用可能なオフセッ
ト版型が、入射したレーザ光の放射エネルギーを熱エネ
ルギーに変えることのできる物質、酸性基及び／又はそ
の置換アミド基を有するポリマー、湿潤助剤、さらには
常用の印刷インキを含んでいる、レーザ誘導熱転写過程
によって転写されたペーストを保有しているという条件
での、請求項１９に記載の使用。 - 【請求項２１】 オフセット印刷機のゴム引き防水布の
洗浄に於ける、請求項１ないし１７のいずれか一項に記
載の製剤の使用。 - 【請求項２２】 主として、水分を含まない又は水分の
乏しい、配量可能な粘稠度を持つ請求項１に記載の成分
ａ）〜ｄ）及び必要に応じてその他の添加物を含む濃縮
物。 - 【請求項２３】 請求項２２に記載の濃縮物を収容した
配量装置付き容器。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19963124A DE19963124A1 (de) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | Reinigungsmedium und dessen Verwendung |
| DE19963124.7 | 1999-12-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001234199A JP2001234199A (ja) | 2001-08-28 |
| JP3527198B2 true JP3527198B2 (ja) | 2004-05-17 |
Family
ID=7934585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000385743A Expired - Fee Related JP3527198B2 (ja) | 1999-12-24 | 2000-12-19 | 洗浄媒質及びその使用 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1111036B1 (ja) |
| JP (1) | JP3527198B2 (ja) |
| CA (1) | CA2329535C (ja) |
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| DE10054284B4 (de) * | 2000-11-02 | 2010-04-08 | Manroland Ag | Verfahren zur Behandlung einer löschbaren lithographischen Druckform |
| DE10141707B4 (de) * | 2001-08-25 | 2008-07-24 | Chemetall Gmbh | Verfahren zur antistatischen Beschichtung von Kunststoff-Formteil-Oberflächen, von mit Kunststoff oder/und Lack beschichteten Formteilen und Verwendung der nach den Verfahren behandelten Kunststoff- oder/und Lackoberflächen |
| DE10154430B4 (de) | 2001-11-06 | 2009-04-02 | Manroland Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Löschen eines Druckbildes auf einer Druckform für eine Druckmaschine |
| KR100454084B1 (ko) * | 2002-03-07 | 2004-10-26 | (주)케이엘코퍼레이션 | 옵셋 인쇄용 피에스판 세정 및 보호제 |
| JP2007505836A (ja) * | 2003-09-15 | 2007-03-15 | アイディー バイオメディカル コーポレイション オブ ケベック | 麻疹サブユニットワクチン |
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| EP1595940A1 (en) * | 2004-05-12 | 2005-11-16 | Malaysian Palm Oil Board | High performance cleaning agent |
| FR2881064A1 (fr) | 2005-01-26 | 2006-07-28 | Omya Development Ag | Procede de controle de la contamination microbienne, suspensions minerales obtenues et leurs utilisations |
| EP1837394A1 (en) * | 2006-03-21 | 2007-09-26 | The Procter and Gamble Company | Cleaning Method |
| DE102006027757A1 (de) * | 2006-06-16 | 2007-12-20 | Man Roland Druckmaschinen Ag | Reinigungsmittel und dessen Verwendung |
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