JP3511126B2 - 非導電性樹脂ペーストおよび半導体装置 - Google Patents

非導電性樹脂ペーストおよび半導体装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は非導電性樹脂ペース
ト組成物、さらに詳しくはIC、LSI等の半導体素子
をリードフレーム、セラミック配線板、ガラスエポキシ
配線板等の基板に接着するのに好適な非導電性樹脂ペー
スト組成物およびこれを用いた半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体のダイボンディング材とし
ては、Au−Si共晶、半田、樹脂ペースト組成物など
が知られているが、作業性および低コスト化の点から樹
脂ペースト組成物が広く使用されている。該樹脂ペース
ト組成物には、近年の半導体産業の進歩に伴い、高スル
ープット、高生産性を実現するために短時間で硬化でき
ることが要求されている。短時間で硬化するためには反
応性が高く、硬化性のよい硬化剤を用いる必要がある
が、反応性が高いために樹脂ペーストの粘度が高くなり
可使時間が短くなるという欠点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】請求項1における発明
は、上記の従来技術の問題をなくし、反応性が高く、硬
化性が良好で、接着性に優れ、しかも可使時間の長い非
導電性樹脂ペースト組成物を提供するものである。請求
項2における発明は、上記非導電性樹脂ペースト組成物
を用いて製造が容易な半導体装置を提供するものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)エポキ
シ樹脂、(B)硬化剤および(C)非導電性フィラーを
含んでなる非導電性樹脂ペースト組成物において、上記
硬化剤(B)がイミダゾール類とエポキシ樹脂との反応
物及びホウ酸エステル類を含んでなる非導電性樹脂ペー
スト組成物に関する。また、本発明は、半導体素子と基
板とを上記非導電性樹脂ペースト組成物で接着した後、
封止してなる半導体装置に関する。
【0005】
【発明の実施の形態】次に、本発明の非導電性樹脂ペー
スト組成物について詳細に説明する。本発明に用いられ
る(A)成分であるエポキシ樹脂としては、1分子中に
2個以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に制限
はないが、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂
〔N−730S(大日本インキ化学工業(株)商品名)、
Quatrex−2010(ダウ・ケミカル社商品名)〕、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂〔YDCN−702
(東都化成(株)商品名)、EOCN−100(日本化薬
(株)商品名)〕、ビスフェノールA型エポキシ樹脂〔A
ER−X8501(旭化成工業(株)商品名)、YL−9
80(油化シェルエポキシ(株)商品名)〕、ビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂〔YDF−170(東都化成(株)
商品名)〕、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂〔R−
1710(三井石油化学工業(株)商品名)〕、多官能エ
ポキシ樹脂〔EPPN−501(日本化薬(株)商品
名)、TACTIX−742(ダウ・ケミカル社商品
名)、VG−3101(三井石油化学工業(株)商品
名)、1032S(油化シェルエポキシ(株)商品
名)〕、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂〔HP−
4032(大日本インキ化学工業(株)商品名)〕、脂環
式エポキシ樹脂〔EHPE−3150(ダイセル化学工
業(株)商品名)〕、アミン型エポキシ樹脂〔ELM−1
00(住友化学工業(株)商品名)、YH−434L(東
都化成(株)商品名)〕などが挙げられる。また、これ
らのエポキシ樹脂を適宜組合わせて用いてもよい。
【0006】その他、LS−7970(信越化学工業
(株)商品名)、TSL−8350、TSL−8355、
TSL−9905(東芝シリコーン(株)商品名)等のシ
リコーン含有エポキシ樹脂を使用することができるが、
これらは前記のエポキシ樹脂と併用することが好まし
く、エポキシ樹脂全体に対して5重量%以下で使用する
ことが好ましい。エポキシ樹脂(A)の配合量は、非導
電性樹脂ペースト組成物に対して5〜90重量%が好ま
しく、10〜50重量%がより好ましい。
【0007】本発明において、(B)成分である硬化剤
には、イミダゾール類とエポキシ樹脂との反応物、ホウ
酸エステルが用いられる。
【0008】イミダゾール類とエポキシ樹脂との反応物
は、一般式(I)
【化1】 (ただし、式中、R1及びR2は、それぞれ独立に炭素数
1〜3のアルキル基又はフェノール基等のアリール基を
示し、R3及びR4は水素又はメチル基を示す)で表され
る化合物である。
【0009】この化合物は、一般式(II)
【化2】 (ただし、式中、R1及びR2は、一般式(I)に同じ)
で表されるイミダゾール化合物2モルに対して、一般式
(III)
【化3】 (ただし、式中、R3及びR4は、一般式(I)に同じ)
で表される化合物1モルを、80℃以下で反応させて得
ることができる。
【0010】イミダゾール類とエポキシ樹脂との反応物
としては、キュアダクトP−0505(四国化成(株)商
品名)として市販されている。
【0011】ホウ酸エステルは、例えば、
【化4】 (ただし、式中、Rは、炭素数1〜3のアルキル基又は
フェノール基等のアリール基を示す)で表される化合物
である。ホウ酸エステルはフェノールノボラック樹脂と
併用することが好ましい。フェノールノボラック樹脂が
存在するとホウ酸エステルの安定性が改善される。この
ためには、フェノールノボラック樹脂は、ホウ酸エステ
ル1重量部に対して、0.1重量部以上含むことが好ま
しい。ホウ酸エステル10重量%とフェノールノボラッ
ク樹脂90重量%含む混合物として、キュアダクトL−
01B(四国化成(株)商品名)として市販されている。
特にイミダゾール類とエポキシ樹脂の反応物は、短時間
硬化に寄与し、ホウ酸エステルはペーストの可使時間に
寄与する。
【0012】イミダゾール類とエポキシ樹脂との反応物
(B−1)と、ホウ酸エステル類(B−2)の配合量
は、可使時間への効果の点から、(B−1):(B−
2)が重量比で1:0.01〜0.2が好ましく、1:
0.01〜0.1がより好ましい。ホウ酸エステル類の
配合比率が0.01より少ないと非導電性樹脂ペースト
組成物の安定性が低下して粘度が高くなり、可使時間が
短くなることがある。また0.2を超えると非導電性樹
脂ペースト組成物の接着力が低下し、充分な接着強さが
得られないことがある。
【0013】本発明においては、イミダゾール類とエポ
キシ樹脂との反応物及びホウ酸エステル類とともに他の
硬化剤を併用することができる。併用する硬化剤には特
に制限はないが、例えばフェノールノボラック樹脂〔H
−1(明和化成(株)商品名)〕、フェノールアラルキル
樹脂〔XL−225(三井東圧化学(株)商品名)〕、下
記一般式(IV)で示される特殊フェノール樹脂〔PP−
700−300(日本石油化学(株)商品名)〕、ジシア
ンジアミド(試薬)、下記一般式(V)で示される二塩
酸ジヒドラジド〔ADH、PDH、SDH(いずれも日
本ヒドラジン工業(株)商品名)〕等が挙げられる。イミ
ダゾール類とエポキシ樹脂との反応物及びホウ酸エステ
ル類との総量1重量部に対して、他の硬化剤は、0〜1
0重量部使用することが好ましい。他の硬化剤が多すぎ
ると非導電性樹脂ペーストの粘度が高くなり可使時間が
短くなる傾向がある。硬化剤(B)の配合量は、非導電
性樹脂ペースト組成物に対して0.1〜90重量%が好
ましく、1〜30重量%がより好ましい。
【0014】
【化5】 (ただし、式中、R6はメチル基、エチル基等のアルキ
ル基、R7は水素又は炭化水素基、nは2〜4の整数を
示す)
【0015】
【化6】 (ただし、式中、R8は、m−フェニレン基、p−フェ
ニレン基等の2価のの芳香族基、炭素数2〜12の直鎖
状又は分枝状のアルキレン基を示す)
【0016】さらに、本発明の非導電性樹脂ペースト組
成物には必要に応じて硬化促進剤を添加することができ
る。硬化促進剤としては有機ボロン塩〔EMZ・K、T
PPK(いずれも北興化学工業(株)商品名)等〕、三級
アミン類またはその塩〔DBU、U−CAT102、1
06、830、840、5002(いずれもサンアプロ
社商品名)等〕、イミダゾール類〔キュアゾール、2P
4MHZ、C17Z、2PZ−OK(いずれも四国化成
(株)商品名)等〕などが挙げられる。硬化促進剤の配合
量は、通常、非導電性樹脂ペースト組成物に対して3
0.0重量%以下の量とされる。硬化剤および必要に応
じて添加される硬化促進剤は、それぞれ単独で用いても
よく、複数種の硬化剤および硬化促進剤を適宜組合わせ
て用いてもよい。
【0017】本発明に用いられる(C)成分である非導
電性フィラーとしては特に制限はなく、各種のものが用
いられる。例えば窒化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミ
ニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、窒化アルミニ
ウム、炭化ケイ素、カーボン、タルク、炭酸カルシウム
の粉体が挙げられるが、これらのうち、熱放散性に優
れ、イオン性不純物の少ない窒化ホウ素が好ましい。こ
れらの非導電性フィラーの形状としてはフレーク状、球
状、不定形などがあり、これら種々の形状のものを組合
わせて用いることもできる。非導電性フィラー(C)の
配合量は、非導電性樹脂ペースト組成物に対して1〜8
0重量%が好ましく、5〜50重量%がより好ましい。
【0018】本発明になる非導電性樹脂ペースト組成物
は、ペースト組成物作成時の作業性および使用時の塗布
作業性をより良好ならしめるため、必要に応じて希釈剤
を添加することができる。これらの希釈剤としては、ブ
チルセロソルブ、カルビトール、酢酸ブチルセロソル
ブ、酢酸カルビトール、エチレングリコールジエチルエ
ーテル、α−テルピネオールなどの比較的沸点の高い有
機溶剤、PGE(日本化薬(株)商品名)、PP−101
(東都化成(株)商品名)、ED−502、503、50
9(旭電化工業(株)商品名)、YED−122(油化シ
ェルエポキシ(株)商品名)、KBM−403(信越化学
工業(株)商品名)、LS−7970(信越化学工業(株)
商品名)、TSL−8350、TSL−8355、TS
L−9905(東芝シリコーン(株)商品名)などの1分
子中に1〜2個のエポキシ基を有する反応性希釈剤が挙
げられる。本発明になる非導電性樹脂ペースト組成物に
は、さらに必要に応じてシランカップリング剤、チタン
カップリング剤等の接着力向上剤、ノニオン系界面活性
剤、フッ素系界面活性剤等の濡れ向上剤、シリコーン油
等の消泡剤、無機イオン交換体等のイオントラップ剤な
どを適宜添加することができる。
【0019】本発明の非導電性樹脂ペースト組成物を製
造するには、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤および
(C)非導電性フィラー、必要に応じて添加される希釈
剤および各種添加剤とともに一括または分割して攪拌
器、らいかい器、3本ロール、プラネタリーミキサー等
の分散・溶解装置を適宜組合わせ、必要に応じて加熱し
て混合、溶解、解粒混練または分散して均一なペースト
状とすればよい。特に(A)エポキシ樹脂と(B)硬化
剤成分のホウ酸エステルとフェノール樹脂との混合物と
を充分分散させた後に(B)硬化剤成分のイミダゾール
類とエポキシ樹脂の反応物を添加するほうが可使時間の
点で一括に混練したものよりより好ましい。
【0020】本発明においては、さらに上記のようにし
て製造した非導電性樹脂ペースト組成物を用いて半導体
素子と基板とを接着した後、封止して半導体装置とする
ことができる。本発明の非導電性樹脂ペースト組成物を
用いて半導体素子をリードフレーム等の基板に接着させ
るには、まず基板上に非導電性樹脂ペースト組成物をデ
ィスペンス法、スクリーン印刷法、スタンピング法など
により塗布した後、半導体素子を圧着し、その後オーブ
ンまたはヒートブロックなどの加熱装置を用いて加熱硬
化することにより行うことができる。さらに、ワイヤボ
ンド工程を経た後、通常の方法により封止することによ
り完成された半導体装置とすることができる。
【0021】
【実施例】次に、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はこれらによって制限されるものではない。
実施例および比較例で用いたエポキシ樹脂およびフェノ
ール樹脂溶液は以下のようにして調製した。 (1)エポキシ樹脂の調製 YDF−170(東都化成(株)商品名、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、エポキシ当量=170)7.5重量
部およびYL−980(油化シェルエポキシ(株)商品
名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量=
185)7.5重量部を80℃に加熱し、1時間攪拌を
続け、均一なエポキシ樹脂を得た。
【0022】(2)フェノール樹脂溶液の調製 H−1(明和化成(株)商品名、フェノールノボラック樹
脂、OH当量=106)1重量部および希釈剤としてP
P−101(東都化成(株)商品名、アルキルフェニルグ
リシジルエーテル、エポキシ当量=230)2重量部を
100℃に加熱し、1時間攪拌を続け、均一なフェノー
ル樹脂溶液を得た。
【0023】実施例1〜3 表1に示す配合割合で、上記エポキシ樹脂、硬化剤とし
て上記のフェノール樹脂溶液、キュアダクトP−050
5およびキュアダクトL−01B、希釈剤としてPP−
101ならびに非導電性フィラーとして窒化ホウ素(H
P−P1 水島合金鉄(株))を混合し、3本ロールを用
いて混練した後、5トル(Torr)以下で10分間脱泡処
理を行い、非導電性樹脂ペースト組成物を得た。この非
導電性樹脂ペースト組成物の特性(ペーストの可使時間
および短時間硬化性)を下記に示す方法で調べた。その
結果を表1に示したが、これらの組成物は長い可使時間
と短時間硬化性を示した。
【0024】(1)ペーストの可使時間 EHD型回転粘度計(東京計器(株))を用いて室温放置
後(1日および3日)の25℃における粘度(Pa・s)を
測定した。 (2)ペーストの短時間硬化性 非導電性樹脂ペースト組成物をAgめっき付銅フレーム
上に約200μg塗布し、この上に2mm×2mmのSiチ
ップ(厚さ約0.4mm)を圧着し、さらに180℃に設
定したヒートブロック上に乗せ、60秒加熱した。これ
を自動接着力試験器(Dege製、マイクロテスター)
を用い、室温における剪断接着強さ(kg/チップ)を測
定した。
【0025】比較例1〜2 実施例1において、硬化剤を使用しない以外(比較例
1)または硬化剤としてフェノール樹脂溶液のみを用い
た以外(比較例2)は実施例1と同様の配合量としてそ
れぞれの非導電性樹脂ペーストを得た。得られたそれぞ
れの組成物の特性を実施例1と同様にして調べ、それら
の結果を示したが、比較例1では接着強度が低く、短時
間硬化性が得られなかった。また比較例2では可使時間
が短いものであった。
【0026】比較例3 実施例1において、キュアダクトL−01Bを配合しな
い以外は実施例1と同様にして非導電性樹脂ペーストを
得た。得られた組成物の特性を実施例1と同様にして調
べ結果を示したが、ペースト可使時間の短いものであっ
た。
【0027】
【表1】
【0028】
【発明の効果】請求項1にけおる非導電性樹脂ペースト
組成物によれば、金属フレーム、セラミックス基板、有
機基板など基板にIC、LSI等の半導体素子を強固に
接着でき、反応性が高く、硬化性が良好であるので短時
間硬化が可能であり、かつ可使時間が長く操作性に優れ
る。請求項2における半導体装置は、上記の非導電性樹
脂ペースト組成物を使用しているため、基板と半導体素
子の接着が強固であり、また生産性が高い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−221279(JP,A) 特開 昭54−46299(JP,A) 特開 平4−332754(JP,A) 特開 平4−136083(JP,A) 特開 平3−295638(JP,A) 特開 平6−184278(JP,A) 特開 平10−50142(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09J 4/00 - 201/10 H01L 21/52 C08L 63/00 - 101/16 C08G 59/00 - 59/72

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤およ
    び(C)非導電性フィラーを含む非導電性樹脂ペースト
    組成物であって、上記硬化剤(B)がイミダゾール類と
    エポキシ樹脂との反応物及びホウ酸エステル類を含んで
    なる、半導体素子と基板との接着用の非導電性樹脂ペー
    スト組成物。
  2. 【請求項2】 半導体素子と基板とを請求項1記載の非
    導電性樹脂ペースト組成物で接着した後、封止してなる
    半導体装置。
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