JP3506519B2 - 粘接着テープおよびその使用方法 - Google Patents

粘接着テープおよびその使用方法

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JP3506519B2
JP3506519B2 JP04564895A JP4564895A JP3506519B2 JP 3506519 B2 JP3506519 B2 JP 3506519B2 JP 04564895 A JP04564895 A JP 04564895A JP 4564895 A JP4564895 A JP 4564895A JP 3506519 B2 JP3506519 B2 JP 3506519B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、新規な粘接着テープおよ
びその使用方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、
特にシリコンウェハ等をダイシングし、さらにリードフ
レームにダイボンディングする工程で使用するのに特に
適した粘接着テープおよびその使用方法に関する。
【0002】
【発明の技術的背景】シリコン、ガリウムヒ素などの半
導体ウェハは大径の状態で製造され、このウェハは素子
小片(ICチップ)に切断分離(ダイシング)された後
に次の工程であるマウント工程に移されている。この
際、半導体ウェハは予じめ粘着シートに貼着された状態
でダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンディング、ピッ
クアップの各工程が加えられた後、次工程のボンディン
グ工程に移送される。
【0003】このような半導体ウェハのダイシング工程
からピックアップ工程に至る工程で用いられる粘着シー
トとしては、ダイシング工程から乾燥工程まではウェハ
チップに対して充分な接着力を有しており、ピックアッ
プ時にはウェハチップに粘着剤が付着しない程度の接着
力を有しているものが望まれている。
【0004】ピックアップされたチップは、ダイボンデ
ィング工程において、エポキシ接着剤などのダイ接着用
接着剤を介してリードフレームに接着され、半導体装置
が製造されている。しかしながら、チップが非常に小さ
な場合には、適量の接着剤を塗布することが困難であ
り、ICチップから接着剤がはみ出したり、あるいはI
Cチップが大きい場合には、接着剤量が不足するなど、
充分な接着力を有するように接着を行うことができない
などという問題点があった。またこのようなダイ接着用
接着剤の塗布作業は煩雑でもあり、プロセスを簡略化す
るためにも改善が要求されている。
【0005】このような問題点を解決するために、ウェ
ハ固定機能とダイ接着機能とを同時に兼ね備えたウェハ
貼着用粘着シートが種々提案されている(たとえば、特
開平2−32181号公報)。
【0006】特開平2−32181号公報には、(メ
タ)アクリル酸エステル共重合体、エポキシ樹脂、光重
合性低分子化合物、熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤
および光重合開始剤よりなる組成物から形成される粘接
着層と、基材とからなる粘接着テープが開示されてい
る。この粘接着層は、ウェハダイシング時には、ウェハ
を固定する機能を有し、ダイシング終了後、エネルギー
線を照射すると硬化し、基材との間の接着力が低下す
る。したがって、チップのピックアップを行うと、粘接
着層は、チップとともに剥離する。粘接着層を伴ったI
Cチップをリードフレームに載置し、加熱すると、粘接
着層が接着力を発現し、ICチップとリードフレームと
の接着が完了する。
【0007】上記公報に開示されているウェハ貼着用粘
着シートは、いわゆるダイレクトダイボンディングを可
能にし、ダイ接着用接着剤の塗布工程を省略できるよう
になる。
【0008】ところで、上記の粘接着テープの粘接着層
は、エネルギー線硬化および熱硬化を経たダイボンド後
には全ての成分が硬化し、チップとリードフレームとを
非常に強固に接着するが、さらに靱性が高く、耐衝撃性
に優れるものが求められている。
【0009】さらに、半導体産業においては、リードフ
レーム用の素材として鉄−ニッケル系合金(FeNi合
金)と銅系合金の2種類が用いられている。中でもFe
Ni合金は、接着性や熱寸法安定性の良好な素材として
用いられてきた。しかし、最近の生産性向上や高集積化
に伴い、高熱をいち速く放熱できる銅系合金製のリード
フレームが主流になりつつある。また銅系合金は、Fe
Ni合金に比べてコスト的にも有利である。しかしなが
ら、この銅系合金製のリードフレームは、熱伝導性が良
好な分、上述の接着性や熱寸法安定性に劣り、その結
果、チップの反りの増大や接着・密着不良によるパッケ
ージクラック発生など信頼性の面で問題がある。
【0010】また、装置の高機能化・高集積化に伴い、
半導体自体も高集積化・高機能化され、多ピン化・チッ
プの大型化、高消費電力化が進んでいる。一方、パッケ
ージに対しても実装の高密度化や高機能化が求めれてき
ている。従来、半導体チップとリードフレームとの接着
に用いられていた銀ペーストでは、充分な接着性が得ら
れないため、この様な小型、薄型、面実装化の要求を達
成できなかった。このため、銀ペーストに代わる、剪断
強度と剥離強度とのバランスに優れた接着剤組成物が望
まれている。
【0011】
【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に鑑み
てなされたものであって、エネルギー線硬化性と加熱硬
化性とを有し、ダイシングの際にはダイシングテープと
して使用することができ、マウントの際には接着剤とし
て使用することができ、かつ最終的には耐衝撃性の高い
硬化物を与えることができ、しかも剪断強度と剥離強度
とのバランスに優れた粘接着層を備えた粘接着テープお
よびその使用方法を提供することを目的としている。
【0012】
【発明の概要】本発明に係る粘接着テープは、(A)エ
ネルギー線硬化型粘着成分と、(B)熱硬化型接着成分
と、(C)可とう性成分とから形成されている粘接着層
を有することを特徴としている。
【0013】本発明に係る粘接着テープの使用方法は、
上記粘接着テープの粘接着層にICチップを貼付し、エ
ネルギー線を照射して該粘接着層にICチップを固着さ
せた後、該ICチップをリードフレーム上に該粘接着層
を介して載置し、次いで加熱することにより該粘接着層
に接着力を発現させて該ICチップとリードフレームと
を接着することを特徴としている。照射するエネルギー
線としては、紫外線が好ましい。
【0014】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係る粘接着テープ
およびその使用方法について、具体的に説明する。
【0015】本発明に係る粘接着テープの粘接着層は、
(A)エネルギー線硬化型粘着成分と、(B)熱硬化型
接着成分と、(C)可とう性成分とからなる。 (A)エネルギー線硬化型粘着成分は、紫外線、電子線
等のエネルギー線の照射前には、充分な接着力を有し、
エネルギー線の照射を受けると成分が硬化し粘着性が消
失する成分を指す。このようなエネルギー線硬化型粘着
成分は種々知られてり、本発明においては特に制限され
ることなく従来より公知の様々なエネルギー線硬化型粘
着成分を用いることができる。このようなエネルギー線
硬化型粘着成分の一例としては、(A-1) アクリル系粘着
剤、(A-2) エネルギー線重合性低分子化合物および必要
に応じ(A-3) 光重合開始剤からなる粘着組成物をあげる
ことができる。
【0016】アクリル系粘着剤(A-1) としては、たとえ
ば、(メタ)アクリル酸エステルモノマーおよび(メ
タ)アクリル酸誘導体から導かれる構成単位とからなる
(メタ)アクリル酸エステル共重合体が挙げられる。こ
こで(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、
(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、(メタ)
アクリル酸ベンジルエステル、アルキル基の炭素数が1
〜18である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが用
いられる。これらの中でも、特に好ましくはアルキル基
の炭素数が1〜18である(メタ)アクリル酸アルキル
エステル、たとえばアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、メタクリル酸プロピル、アクリル酸ブチ
ル、メタクリル酸ブチル等が用いられる。また、(メ
タ)アクリル酸誘導体としては、たとえば(メタ)アク
リル酸グリシジル等を挙げることができる。
【0017】アクリル系粘着剤(A-1) の分子量は、好ま
しくは100000以上であり、特に好ましくは150
000〜1000000である。またアクリル系粘着剤
のガラス転移温度は、通常20℃以下、好ましくは−7
0〜0℃程度であり、常温(23℃)においては粘着性
を有する。
【0018】上記のようなアクリル系粘着剤(A-1) とし
ては、特に、(メタ)アクリル酸または(メタ)アクリ
ル酸グリシジルと、少なくとも1種類の(メタ)アクリ
ル酸アルキルエステルとの共重合体が好ましい。この場
合、共重合体中における(メタ)アクリル酸グリシジル
から誘導される成分単位の含有率は通常は0〜80モル
%、好ましくは5〜50モル%である。グリシジル基を
導入することにより、後述する熱硬化型接着成分として
のエポキシ樹脂との相溶性が向上し、また硬化後のTg
が高くなり耐熱性も向上する。(メタ)アクリル酸から
誘導される成分単位の含有率は通常は0〜40モル%、
好ましくは5〜20モル%である。また(メタ)アクリ
ル酸アルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸メ
チル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸
ブチル等を用いることが好ましい。また、ヒドロキシエ
チルアクリレート等の水酸基含有モノマーを導入するこ
とにより、被着体との密着性や粘着物性のコントロール
が容易になる。
【0019】エネルギー線重合性低分子化合物(A-2)
は、紫外線、電子線等のエネルギー線の照射を受けると
重合硬化する化合物である。この化合物は、分子内に少
なくとも1つの重合性二重結合を有し、通常は、分子量
が100〜30000、好ましくは300〜10000
程度である。このようなエネルギー線重合性低分子化合
物(A-2) としては、たとえば特開昭60−196,95
6号公報および特開昭60−223,139号公報に開
示されているような低分子量化合物が広く用いられ、具
体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、
テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレン
グリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、市販のオリゴエステルアクリレートなどのアクリレ
ート系化合物が用いられる。
【0020】さらにエネルギー線重合性低分子化合物(A
-2) として、上記のようなアクリレート系化合物のほか
に、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いることも
できる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエ
ステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物
と、多価イソシアナート化合物たとえば2,4−トリレ
ンジイソシアナート、2,6−トリレンジイソシアナー
ト、1,3−キシリレンジイソシアナート、1,4−キ
シリレンジイソシアナート、ジフェニルメタン4,4−
ジイソシアナートなどを反応させて得られる末端イソシ
アナートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有
するアクリレートあるいはメタクリレートたとえば2−
ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエ
チレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコー
ルメタクリレートなどを反応させて得られる。このウレ
タンアクリレート系オリゴマーは、炭素−炭素二重結合
を少なくとも1個以上有する。
【0021】このようなウレタンアクリレート系オリゴ
マーとして、特に分子量が3000〜30000、好ま
しくは3000〜10000、さらに好ましくは400
0〜8000であるものが好ましい。
【0022】また、これらの他にも、エポキシ変性アク
リレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルア
クリレートおよびイタコン酸オリゴマーのように水酸基
あるいはカルボキシル基などの官能基を有するオリゴマ
ーを用いることもできる。
【0023】上記のような成分(A-1) および(A-2) から
なる粘接着剤組成物は、エネルギー線照射により硬化す
る。エネルギー線としては、具体的には、紫外線、電子
線等が用いられる。
【0024】エネルギー線として紫外線を用いる場合に
は、上記の組成物中に光重合開始剤(A-3) を混入するこ
とにより、重合硬化時間ならびに光線照射量を少なくす
ることができる。
【0025】このような光重合開始剤(A-3) としては、
具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン
安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、2,4-ジ
エチルチオキサンソン、α-ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テ
トラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブ
チロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β
−クロールアンスラキノンなどが挙げられる。
【0026】本発明で用いられるエネルギー線硬化型粘
着成分(A)は、好ましくは上記成分(A-1)〜(A-3) か
らなり、その配合比は各成分の特性に応じ適宜に設定さ
れるが、一般的には成分(A-1)100重量部に対して、
成分(A-2) は50〜150重量部、好ましくは80〜1
25重量部程度、成分(A-3) は1.5〜4.5重量部、
好ましくは2.4〜3.8重量部程度の割合で用いるこ
とが好ましい。
【0027】上記のようなエネルギー線硬化型粘着成分
(A)は、次に挙げる熱硬化型接着成分(B)100重
量部に対して、通常15〜100重量部、好ましくは1
8〜70重量部、特に好ましくは20〜50重量部の量
で用いられる。
【0028】熱硬化型接着成分(B)は、エネルギー線
によっては硬化しないが、加熱を受けると三次元網状化
し、被着体を強固に接着する性質を有する。このような
熱硬化型接着成分(B)は、一般的にはエポキシ、フェ
ノール、レゾルシノール、ユリア、メラミン、フラン、
不飽和ポリエステル、シリコーン等の熱硬化性樹脂と、
適当な硬化促進剤とから形成されている。このような熱
硬化型接着成分は種々知られており、本発明においては
特に制限されることなく従来より公知の様々な熱硬化型
接着成分を用いることができる。このような熱硬化型接
着成分の一例としては、(B-1) エポキシ樹脂と(B-2) 熱
活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤とからなる接着成分を
挙げることができる。
【0029】エポキシ樹脂(B-1) としては、従来より公
知の種々のエポキシ樹脂が用いられるが、通常は、分子
量300〜2000程度のものが好ましく、特に分子量
300〜500、好ましくは330〜400の常態液状
のエポキシ樹脂と、分子量400〜2000、好ましく
は500〜1500の常態固体のエポキシ樹脂とをブレ
ンドした形で用いるのが望ましい。また、本発明におい
て好ましく使用されるエポキシ樹脂のエポキシ当量は通
常50〜5000g/eqである。このようなエポキシ樹脂
としては、具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノ
ールF、レゾルシノール、フェニルノボラック、クレゾ
ールノボラックなどのフェノール類のグリシジルエーテ
ル;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールなどのアルコール類のグリシジルエ
ーテル;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル
酸などのカルボン酸のグリシジルエーテル;アニリンイ
ソシアヌレートなどの窒素原子に結合した活性水素をグ
リシジル基で置換したグリシジル型もしくはアルキルグ
リシジル型のエポキシ樹脂;ビニルシクロヘキサンジエ
ポキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-ジ
シクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シ
クロヘキシル-5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサ
ン-m-ジオキサンなどのように、分子内の炭素−炭素二
重結合をたとえば酸化することによりエポキシが導入さ
れた、いわゆる脂環型エポキシドを挙げることができ
る。
【0030】これらの中でも、本発明では、ビスフェノ
ール系グリシジル型エポキシ樹脂、o-クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラック型エポ
キシ樹脂が好ましく用いられる。このようなビスフェノ
ール系グリシジル型エポキシ樹脂としては、具体的に
は、エピコート828TM(油化シェルエポキシ株式会社
製、分子量380)、エピコート834TM(油化シェル
エポキシ株式会社製、分子量470)、エピコート10
01TM(油化シェルエポキシ株式会社製、分子量90
0)、エピコート1002TM(油化シェルエポキシ株式
会社製、分子量1060)、エピコート1055TM(油
化シェルエポキシ株式会社製、分子量1350)、エピ
コート1007TM(油化シェルエポキシ株式会社製、分
子量2900)等を使用することができる。o-クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂としては、具体的には、エ
ピコート180S65TM(油化シェルエポキシ株式会社
製)、EOCN−102STM(日本化薬株式会社製)、
EOCN−103STM(日本化薬株式会社製)、EOC
N−104STM(日本化薬株式会社製)、EOCN−1
020TM(日本化薬株式会社製)等を使用することがで
きる。またフェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は、エピコート152TM(油化シェルエポキシ株式会社
製)、エピコート154TM(油化シェルエポキシ株式会
社製)、EPPN−201TM(日本化薬株式会社製)等
を使用することができる。
【0031】これらエポキシ樹脂は、1種単独で、また
は2種以上を組み合わせて用いることができる。熱活性
型潜在性エポキシ樹脂硬化剤(B-2) とは、室温ではエポ
キシ樹脂と反応せず、ある温度以上の加熱により活性化
し、エポキシ樹脂と反応するタイプの硬化剤である。
【0032】熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤(B-2)
の活性化方法には、加熱による化学反応で活性種(アニ
オン、カチオン)を生成する方法;室温付近ではエポキ
シ樹脂(B-1) 中に安定に分散しており高温でエポキシ樹
脂と相溶・溶解し、硬化反応を開始する方法;モレキュ
ラーシーブ封入タイプの硬化剤で高温で溶出して硬化反
応を開始する方法;マイクロカプセルによる方法等が存
在する。
【0033】本発明において使用される熱活性型潜在性
エポキシ樹脂硬化剤(B-2) の具体例としては、アデカオ
プトンCP−66TM(旭電化工業株式会社製)、サンエ
イドSI−60、80および100TM(三新化学工業株
式会社製)等の各種オニウム塩;二塩基酸ジヒドラジド
化合物として、ADHTM(日本ヒドラジン工業株式会社
製)、SDHTM(日本ヒドラジン工業株式会社製)、I
DHTM(日本ヒドラジン工業株式会社製)、N−12TM
(日本ヒドラジン工業株式会社製)、LDHTM(味の素
株式会社製)、UDHTM(味の素株式会社製)、ジシア
ンジアミドとして、AH−150TM(味の素株式会社
製)、ハードナー3636ASTM(エーシーアール社
製);アミンアダクト型硬化剤として、アミキュアPN
−23TM(味の素株式会社製)、アミキュアMY−23
TM(味の素株式会社製)、アミキュアPN−HTM(味の
素株式会社製)、アミキュアMY−HTM(味の素株式会
社製);イミダゾール化合物として、キュアゾール2P
HZTM(四国化成工業株式会社製)、キュアゾール2E
Z−CYTM(四国化成工業株式会社製)、キュアゾール
2MZ−AZINETM(四国化成工業株式会社製)、キ
ュアゾール2MZ−ATM(四国化成工業株式会社製)、
キュアゾール2MZ−OKTM(四国化成工業株式会社
製)等の高融点活性水素化合物等を挙げることができ
る。
【0034】これら熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤
は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いる
ことができる。上記のような熱活性型潜在性エポキシ樹
脂硬化剤(B-2) は、エポキシ樹脂(B-1) 100重量部に
対して通常0.1〜20重量部、好ましくは1〜10重
量部、特に好ましくは3〜10重量部の割合で用いられ
る。
【0035】可とう性成分(C)とは、エネルギー線硬
化型粘着剤(A)及び熱硬化型接着成分(B)がともに
硬化した状態でも、可とう性を有する成分で、熱可塑性
樹脂またはエラストマーからなる。
【0036】また、上記のような可とう性成分(C)
は、前記熱硬化型接着成分(B)100重量部に対して
通常1〜40重量部、好ましくは4〜30重量部、特に
好ましくは4〜25重量部の割合で用いられる。
【0037】可とう性成分(C)のガラス転移温度Tg
は、好ましくは−40〜80℃程度、特に好ましくは−
30〜10℃程度である。可とう性成分(C)の分子量
は、好ましくは10000〜1000000程度、特に
好ましくは20000〜600000程度であるが、内
部架橋している可とう性成分(C)については、この限
りではない。
【0038】可とう性成分(C)は、エネルギー線活性
および加熱で実質的に硬化しない成分であり、ポリマー
またはポリマーのグラフト成分、ポリマーのブロック成
分であってもよい。
【0039】可とう成分(C)は、硬化後の粘接着層中
に均一に分散して粘接着層の脆質性を改善し、外部応力
に対し抵抗を有するようになる。また可とう性成分
(C)は、熱硬化型接着成分(B)中に均一に分散また
は混合されていることがその改善効果に対して好まし
く、このため微細粒子状であるか、またはトルエン、エ
チルメチルケトン等の有機溶媒に可溶もしくは易溶であ
ることが望ましい。微細粒子状の可とう性成分(C)を
用いる場合、その粒径は、0.1〜5μm、好ましくは
0.1〜1μmであることが望ましい。
【0040】有機溶媒に可溶もしくは易溶な可とう性成
分(C)を用いる場合でも、その硬化過程により、可と
う性成分(C)は熱硬化型接着成分(B)と相分離し、
構造的に2相系となることが知られている。この様な有
機溶媒に可溶もしくは易溶な可とう性成分(C)として
は、飽和ポリエステル樹脂、液状NBR、液状クロロプ
レンゴム、ウレタンゴム、ポリオレフィン樹脂、シリコ
ーンオイル等が挙げられ、これらの中でも特に飽和ポリ
エステル樹脂が好ましい。
【0041】飽和ポリエステル樹脂としては、たとえば
バイロン200TM(Tg=67℃、東洋紡績社製)、バ
イロン300TM(Tg=10℃、東洋紡績社製)、バイ
ロン530TM(Tg=4℃、東洋紡績社製)、バイロン
BX−1001TM(Tg=−18℃、東洋紡績社製)、
バイロン500TM(Tg=−17℃、東洋紡績社製)等
を用いることができる。
【0042】微細粒子状の可とう性成分(C)として
は、乳化重合により調製されたアクリルゴム微粒子;ポ
リエーテルポリエステル等のブロックポリエステルエラ
ストマー;ポリエチレン微粒子;シリコーンゴム微粒子
等が挙げられ、これら中でも特にアクリルゴム微粒子、
ブロックポリエステルエラストマーがが好ましい。
【0043】上記のような微細粒子状の可とう性成分
(C)は、前記した熱硬化型接着成分(B)としてのエ
ポキシ樹脂中に分散された形態で市販されている。アク
リルゴム微粒子分散エポキシ樹脂としては、たとえばエ
ポセットBPA328TM(ベースのエポキシ樹脂=液状
ビスフェノールAタイプ、日本触媒社製)、エポセット
BPF307TM(ベースのエポキシ樹脂=液状ビスフェ
ノールFタイプ、日本触媒社製)、エポセットBPA6
01TM(ベースのエポキシ樹脂=固形ビスフェノールA
タイプ(分子量約900)、日本触媒社製)、エポセッ
トBPA604TM(ベースのエポキシ樹脂=固形ビスフ
ェノールAタイプ(分子量約1600)、日本触媒社
製)、エポセットBPA607TM(ベースのエポキシ樹
脂=固形ビスフェノールAタイプ(分子量約290
0)、日本触媒社製)、CX−NN95S TM(ベースの
エポキシ樹脂=o-クレゾールノボラックタイプ、日本触
媒社製)等が挙げられる。
【0044】ブロックポリエステルエラストマー分散エ
ポキシ樹脂としては、たとえばエピコートYX310TM
(エピコート828:エラストマー=95:5、油化シ
ェルエポキシ社製)、エピコートYX31575TM(エ
ピコート1055:エラストマー=75:25、油化シ
ェルエポキシ社製)等が挙げられる。
【0045】また、熱硬化型接着成分(B)中の熱硬化
性樹脂と、上記可とう性成分(C)とを予め変性した変
性樹脂を用いることもできる。この様な変性樹脂は、特
にアロイ変性樹脂やゴムブレンド変性樹脂と呼ばれる。
【0046】上記のような変性物としては、各種ゴム変
性エポキシ樹脂(NBR変性、CTBN変性等)、ウレ
タン変性エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂等
が挙げられる。
【0047】ゴム変性エポキシ樹脂としては、たとえば
アデカレジンEP−4023TM(旭電化工業社製)、ア
デカレジンEP−4024TM(旭電化工業社製)、アデ
カレジンEP−4026TM(旭電化工業社製)、アデカ
レジンEPR−20TM(旭電化工業社製)等が挙げられ
る。
【0048】また、ウレタン変性エポキシ樹脂として
は、たとえばアデカレジンEPU−6 TM(旭電化工業社
製)、アデカレジンEPU−73TM(旭電化工業社
製)、アデカレジンEPU−78−11TM(旭電化工業
社製)等が挙げられる。
【0049】本発明の粘接着テープの粘接着層は、上記
のような(A)エネルギー線硬化型粘着成分と、(B)
熱硬化型接着成分と、(C)可とう性成分とから形成さ
れている。
【0050】上記のような各成分からなる粘接着層はエ
ネルギー線硬化性と加熱硬化性とを有し、ダイシングの
際にはウェハ固定用粘着剤として使用することができ、
マウントの際にはチップとリードフレームとを接着する
接着剤として使用することができる。そして熱硬化を経
て最終的には耐衝撃性の高い硬化物を与えることがで
き、しかも剪断強度と剥離強度とのバランスにも優れ
る。
【0051】上記粘接着層には、さらに、ダイボンド後
の導電性の付与を目的として、金、銀、銅、ニッケル、
アルミニウム、ステンレス、カーボン、またはセラミッ
ク、あるいはニッケル、アルミニウム等を銀で被覆した
もののような導電性フィラーを添加してもよく、また熱
伝導性の付与を目的として、金、銀、銅、ニッケル、ア
ルミニウム、ステンレス、シリコン、ゲルマニウム等の
金属材料やそれらの合金等の熱伝導性物質を添加しても
よい。これらの添加剤は、粘接着層(A+B+C)10
0重量部に対して、10〜400重量部程度の割合で配
合されていてもよい。
【0052】上記粘接着層には、エネルギー線照射前の
初期接着力および凝集力を調節するために、有機多価イ
ソシアナート化合物、有機多価イミン化合物等を添加す
ることもできる。
【0053】上記有機多価イソシアナート化合物として
は、芳香族多価イソシアナート化合物、脂肪族多価イソ
シアナート化合物、脂環族多価イソシアナート化合物お
よびこれらの多価イソシアナート化合物の三量体、なら
びにこれら多価イソシアナート化合物とポリオール化合
物とを反応させて得られる末端イソシアナートウレタン
プレポリマー等をあげることができる。有機多価イソシ
アナート化合物のさらに具体的な例としては、たとえば
2,4−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレン
ジイソシアナート、1,3−キシリレンジイソシアナー
ト、1,4−キシレンジイソシアナート、ジフェニルメ
タン−4,4’−ジイソシアナート、ジフェニルメタン
−2,4’−ジイソシアナート、3−メチルジフェニル
メタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナ
ート、イソホロンジイソシアナート、ジシクロヘキシル
メタン−4,4’−ジイソシアナート、ジシクロヘキシ
ルメタン−2,4’−ジイソシアナート、リジンイソシ
アナートなどがあげられる。
【0054】上記有機多価イミン化合物の具体例として
は、N,N'-ジフェニルメタン-4,4'-ビス(1-アジリジンカ
ルボキシアミド)、トリメチロールプロパン-トリ-β-ア
ジリジニルプロピオナート、テトラメチロールメタン-
トリ-β-アジリジニルプロピオナート、N,N'-トルエン-
2,4-ビス(1-アジリジンカルボキシアミド)トリエチレン
メラミン等をあげることができる。
【0055】さらにまた、上記粘接着層中に、エネルギ
ー線照射により着色する化合物を含有させることもでき
る。このようなエネルギー線照射により、着色する化合
物を粘接着層に含ませることによって、粘接着テープに
エネルギー線が照射された後には該テープは着色され、
したがって光センサーによってウェハチップを検出する
際に検出精度が高まり、ウェハチップのピックアップ時
に誤動作が生ずることがない。また粘接着テープにエネ
ルギー線が照射されたか否かが目視により直ちに判明す
るという効果が得られる。
【0056】エネルギー線照射により着色する化合物
は、エネルギー線の照射前には無色または淡色である
が、エネルギー線の照射により有色となる化合物であっ
て、この化合物の好ましい具体例としてはロイコ染料が
挙げられる。ロイコ染料としては、慣用のトリフェニル
メタン系、フルオラン系、フェノチアジン系、オーラミ
ン系、スピロピラン系のものが好ましく用いられる。具
体的には3−[N−(p−トリルアミノ)]−7−アニ
リノフルオラン、3−[N−(p−トリル)−N−メチ
ルアミノ]−7−アニリノフルオラン、3−[N−(p
−トリル)−N−エチルアミノ]−7−アニリノフルオ
ラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−アニリノ
フルオラン、クリスタルバイオレットラクトン、4,
4’,4”−トリスジメチルアミノトリフェニルメタノ
ール、4,4’,4”−トリスジメチルアミノトリフェ
ニルメタンなどが挙げられる。
【0057】これらロイコ染料とともに好ましく用いら
れる顕色剤としては、従来から用いられているフェノー
ルホルマリン樹脂の初期重合体、芳香族カルボン酸誘導
体、活性白土などの電子受容体が挙げられ、さらに、色
調を変化させる場合は種々公知の発色剤を組合せて用い
ることもできる。
【0058】このようなエネルギー線照射によって着色
する化合物は、一旦有機溶媒などに溶解された後に粘接
着層中に含ませてもよく、また微粉末状にして粘接着層
中に含ませてもよい。この化合物は、粘接着層中に0.
01〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%の量で
用いられることが望ましい。該化合物が10重量%を超
えた量で用いられると、粘接着テープに照射されるエネ
ルギー線がこの化合物に吸収されすぎてしまうため、粘
接着層の硬化が不十分となることがあり、一方該化合物
が0.01重量%未満の量で用いられるとエネルギー線
照射時に粘接着テープが充分に着色しないことがあり、
ウェハチップのピックアップ時に誤動作が生じやすくな
ることがある。
【0059】また、上記の粘接着層中にエキスパンディ
ング剤を添加することもできる。エキスパンディング剤
を添加することにより、粘接着層の重合硬化後のエキス
パンドがさらに容易になる。エキスパンディング剤とし
ては、具体的には以下のような化合物が用いられる。 (a)高級脂肪酸またはこれらの誘導体 ステアリン酸、ラウリン酸、リシノール酸、ナフテン
酸、2−エチルヘキソイル酸、オレイン酸、リノール
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、イソステアリン酸、
ヒドロキシステアリン酸、ベヘン酸などの、上記の酸の
エステル類。
【0060】上記の酸の金属塩たとえばLi、Mg、C
a、Sr、Ba、Cd、Zn、Pb、Sn、K、Na塩
あるいは上記金属を2種以上含む複合金属塩など。 (b)Siあるいはシロキサン構造を有する化合物。
【0061】シリコーンオイルなど。 (c)フッ素を含む化合物。 (d)エポキシ化合物。
【0062】エポキシステアリン酸メチル、エポキシス
テアリン酸ブチル、エポキシ化アマニ油脂肪酸ブチル、
エポキシ化テトラヒドロナフタレート、ビスフェノール
Aジグリシジルエーテル、エポキシ化ブタジエン。 (e)ポリオール化合物またはこれらの誘導体。
【0063】グリセリン、ジグリセリン、ソルビトー
ル、マンニトール、キシリトール、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパ
ン、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコールな
ど。
【0064】上記化合物の含窒素または含硫黄あるいは
金属錯体。 (f)β−ジケト化合物またはこれらの誘導体。 アセト酢酸エステル、デヒドロ酢酸、アセチルアセト
ン、ベンゾイルアセトン、トリフルオロアセチルアセト
ン、ステアロイルベンゾイルメタン、ジベンジルメタ
ン。
【0065】上記化合物の金属錯体。 (g)ホスファイト類 トリフェニルホスフィン、ジフェニル亜ホスフィン、酸
フェニル、水添ビスフェノールAホスファイトポリマ
ー、
【0066】
【化1】
【0067】(式中、RはCn2n+1である。)
【0068】
【化2】
【0069】(式中、RはCn2n+1である。) エキスパンディング剤は、粘接着層中に0〜10重量
%、特には0〜5重量%の範囲の量で用いられることが
好ましい。
【0070】さらに上記の粘接着層中に帯電防止剤を添
加することもできる。帯電防止剤を添加することによ
り、エキパンド時あるいはピックアップ時に発生する静
電気を抑制できるため、チップの信頼性が向上する。帯
電防止剤としては、具体的には、アニオン性、カチオン
性、非イオン性、ないし両イオン性の一般に公知の活性
剤等が用いられる。帯電防止剤は、粘接着層中に0〜5
0重量%、特には0〜30重量部の範囲の量で用いられ
ることが好ましい。
【0071】本発明の粘接着テープは、上記のような成
分からなる粘接着層を有しており、このような粘接着層
を有する本発明の粘接着テープは、基材を用いずに、上
記の成分からなる組成物の薄膜であっても良いし、また
基材上に上記の組成物を用いて形成した粘接着層とから
なる多層構造であってもよい。
【0072】本発明の粘接着シートの基材としては、た
とえばエネルギー線として紫外線を用いる場合には、ポ
リエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブ
テンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペ
ンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル
共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタ
ンフィルム、エチレン酢ビフィルム、アイオノマー樹脂
フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体フィ
ルム、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体
フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフ
ィルム等の透明フィルムが用いられる。またこれらの架
橋フィルムも用いられる。さらにこれらの積層フィルム
であってもよい。また、エネルギー線として電子線を用
いる場合には、透明である必要はないので、上記の透明
フィルムの他、これらを着色した不透明フィルム、フッ
素樹脂フィルム等を用いることができる。
【0073】さらに基材の表面張力は、好ましくは40
dyne/cm 以下、さらに好ましくは37dyne/cm 以下、特
に好ましくは35dyne/cm 以下であることが望ましい。
このような表面張力に低い基材は、材質を適宜に選択し
て得ることが可能であるし、また基材に表面にシリコー
ン樹脂等を塗布して離型処理を施すことで得ることもで
きる。
【0074】このような基材の膜厚は、通常は10〜3
00μm、好ましくは20〜200μm、特に好ましく
は50〜150μm程度である。さらに本発明では、基
材中に砥粒が分散されていてもよい。この砥粒は、粒径
が0.5〜100μm、好ましくは1〜50μmであっ
て、モース硬度は6〜10、好ましくは7〜10であ
る。具体的には、グリーンカーボランダム、人造コラン
ダム、オプティカルエメリー、ホワイトアランダム、炭
化ホウ素、酸化クロム(III)、酸化セリウム、ダイヤモ
ンドパウダーなどが用いられる。このような砥粒は無色
あるいは白色であることが好ましい。このような砥粒
は、基材中に0.5〜70重量%、好ましくは5〜50
重量%の量で存在している。このような砥粒は、切断ブ
レードをウェハのみならず基材にまでも切り込むような
深さで用いる場合に、特に好ましく用いられる。
【0075】上記のような砥粒を基材中に含ませること
によって、切断ブレードが基材中に切り込んできて、切
断ブレードに粘着剤が付着しても砥粒の研磨効果によ
り、目づまりを簡単に除去することができる。
【0076】本発明に係る粘接着テープは、離型シート
上に上記成分からなる粘接着剤組成物をコンマコータ
ー、グラビアコーター、ダイコーター、リバースコータ
ーなど一般に公知の方法にしたがって塗工し、乾燥させ
て粘接着層を形成し、離型シートを除去することによっ
て得ることができる。また、上記の基材を用いる場合に
は、該基材上に粘接着剤組成物を同様の方法で塗工し、
乾燥させて粘接着層を形成することに粘接着テープを製
造することができる。なお、上記の粘接着剤組成物は、
必要に応じ、溶剤に溶解し、若しくは分散させて塗布す
ることができる。
【0077】このようにして形成される粘接着層の厚さ
は、通常は、3〜100μm、好ましくは10〜60μ
mであることが望ましい。上記のようにして得られた粘
接着テープは、次のようにして使用される。
【0078】まず、粘接着テープをダイシング装置上に
固定する。この際、粘接着テープが基材を有していない
場合には、ダイシングステージ上に離型シートを敷設し
ておくことが好ましい。シリコンウェハの一方の面に本
発明の粘接着テープを貼着した後、ダイシングソーなど
の切断手段を用いて、上記のシリコンウェハと粘接着テ
ープとを切断してICチップを得る。この際のシリコン
ウェハと粘接着テープとの接着力は、通常50〜200
0g/25mm、好ましくは100〜1500g/25mmであ
り、他方、粘接着テープの粘接着層と基材(または離型
シート)との接着力は通常500g/25mm以下である。
【0079】次いで、上記のようにして得られたICチ
ップに貼着した粘接着テープにエネルギー線を照射す
る。本発明において使用することができるエネルギー線
としては、紫外線(中心波長=約365nm)および電子
線等が挙げられる。エネルギー線として紫外線を使用す
る場合、通常、照度は20〜500mW/cm2、さらに照
射時間は0.1〜150秒の範囲内に設定される。ま
た、たとえば電子線を照射する場合にも、上記の紫外線
照射の場合に準じて諸条件を設定することができる。な
お、上記のようなエネルギー線照射の際に補助的に加熱
することもできる。
【0080】このようにエネルギー線の照射を行なうこ
とにより、エネルギー線硬化型粘着成分(A)が硬化
し、シリコンウェハと粘接着層との接着力は、通常50
〜4000g/25mm、好ましくは100〜3000g/
25mmに増加する。他方、粘接着テープの粘接着層と基材
(または離型シート)との接着力は通常1〜500g/
25mmとなり、好ましくは100g/25mm以下である。
【0081】したがって、上記のようにしてエネルギー
線の照射を行なうことにより、粘接着層をICチップの
片面に固着残存させて基材(または離型シート)から剥
離することができる。
【0082】なお、エネルギーの照射は、ダイシング工
程の前に行なわれていてもよい。このようにして粘接着
層が固着されているICチップをリードフレームに載置
し、次いで加熱することにより粘接着層中のエポキシ樹
脂を硬化させ、ICチップとリードフレームとの接着を
行なう。この場合の加熱温度は、通常は100〜300
℃程度、好ましくは150〜250℃程度であり、加熱
時間は、通常は、1〜120分間、好ましくは5〜60
分間である。このような加熱により、加熱硬化型接着成
分が硬化し、ICチップとリードフレームとを強固に接
着することができる。
【0083】そして、最終的に硬化した粘接着層は高い
耐熱性を有するとともに、該粘接着層中には硬化に関与
しない可とう性成分が分散しているため、硬化物は剪断
強度と剥離強度の一方が極端に低くなることはなく、バ
ランスに優れ、高い耐衝撃性を有する。
【0084】なお、本発明の粘接着テープは、上記のよ
うな使用方法の他、半導体化合物、ガラス、セラミック
ス、金属などの接着に使用することもできる。
【0085】
【発明の効果】本発明によれば、エネルギー線硬化性と
加熱硬化性とを有し、ダイシングの際にはダイシングテ
ープとして使用することができ、マウントの際には接着
剤として使用することができる粘接着テープが提供され
る。本発明の粘接着テープは、特殊な組成の粘接着層を
有し、この粘接着層は熱硬化後において剪断強度が0.
4kg/チップ、剥離強度が400g/チップを超える値
で、高接着力を示し、耐衝撃性に優れた硬化物を与え
た。さらに本発明によれば、このような粘接着テープの
使用方法が提供される。
【0086】
【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0087】なお、以下の実施例および比較例におい
て、「剪断強度」および「剥離強度」は次のようにして
評価した。剪断強度 厚み350μm、♯2000研摩のシリコンウェハの裏
面に粘接着テープを貼付し、紫外線照射後、4mm×4mm
にダイシングした。次に、得られたシリコンチップを3
0mm×30mm、厚み300μmの銅板に貼着し、170
℃の恒温槽中で30分間接着・硬化し、サンプルとし
た。
【0088】このサンプルをさらに200℃にて1分間
保持した後、横型荷重測定機(アイコーエンジニアリン
グ社製)により剪断接着強度(kg/chip)を測定した。
なお、荷重速度は、12mm/分に統一した。剥離強度 厚み350μm、♯2000研摩のシリコンウェハの裏
面に粘接着テープを貼付し、紫外線照射後、10mm×1
0mmにダイシングした。次に、得られたシリコンチップ
を厚み150μmの銅板に貼着し、170℃の恒温槽中
で30分間接着・硬化し、サンプルとした。
【0089】このサンプルのシリコンチップ側を接着固
定し、銅板を90°ピールにより剥離させた時の接着強
度(g/chip)を測定した。なお、剥離速度は、10mm
/分に統一した。
【0090】また、以下の実施例において、(A)エネ
ルギー線硬化型粘着成分、(B)熱硬化型接着成分、
(C)可とう性成分として以下のものを用いた。(A)エネルギー線硬化型粘着成分 〔(A-1) (メタ)アクリル酸エステル共重合体〕 ブチルアクリレート55重量部とメチルメタクリレート
10重量部とグリシジルメタクリレート20重量部と2
−ヒドロキシエチルアクリレート15重量部とを共重合
してなる重量平均分子量900,000、ガラス転移温
度−28℃の共重合体 〔(A-2) エネルギー線重合性低分子化合物〕 ウレタン系アクリレートオリゴマー 〔(A-3) 光重合開始剤〕 2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(B)熱硬化型接着成分 〔(B-1) エポキシ樹脂〕 (B-1-1):液状ビスフェノールF型樹脂(エポキシ当量:
165〜175) (B-1-2):o-クレゾールノボラック型樹脂(エポキシ当
量:210〜230) (B-1-3):固形ビスフェノールA型樹脂(エポキシ当量:
800〜900) 〔(B-2) 熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤〕 (B-2-1):ジシアンジアミド (B-2-2):脂肪族スルホニウム塩(66重量%)(C)可とう性成分 (C-1):アクリルゴム微粒子 (C-2):ブロックポリエステルエラストマー微粒子 (C-3):ポリエステル樹脂(バイロン200TM) (C-4):ポリエステル樹脂(バイロン300TM) (C-5):ポリエステル樹脂(バイロン530TM) (C-6):ポリエステル樹脂(バイロンBX−1001TMその他 API:芳香族系ポリイソシアナート
【0091】
【実施例1】表1に記載の割合で各成分を混合し、粘接
着剤組成物を得た。この粘接着剤組成物を、可塑化PV
C層とエチレン/メタクリル酸共重合体層とを積層して
なる厚み90μmの積層フィルムのエチレン/メタクリ
ル酸共重合体層側(表面張力35dyn/cm2)に塗布、乾
燥し粘接着テープを得た。
【0092】得られた粘接着テープを用いて「剪断強度
および「剥離強度」を上記のようにして評価した。結果
を表1に示す。
【0093】
【実施例2〜17】各成分の配合割合を表1または表2
に記載のように変更した以外は、実施例1と同様の操作
を行なった。結果を表1および表2に示す。
【0094】
【比較例】各成分の配合割合を表1に記載のように変更
した以外は、実施例1と同様の操作を行なった。結果を
表1に示す。
【0095】
【表1】
【0096】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−32181(JP,A) 特開 平4−218210(JP,A) 特開 昭59−96122(JP,A) 特開 昭63−284213(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09J 7/02

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)エネルギー線硬化型粘着成分と、
    (B)熱硬化型接着成分と、(C)アクリルゴム微粒子
    とから形成されている粘接着層を有することを特徴とす
    る粘接着テープ。
  2. 【請求項2】 該粘接着層が、40dyn/cm以下の表面張
    力を有する光透過性支持体上に設けられていることを特
    徴とする請求項1に記載の粘接着テープ。
  3. 【請求項3】 請求項1または2のいずれかに記載の粘
    接着テープの粘接着層にICチップを貼付し、エネルギ
    ー線を照射して該粘接着層に該ICチップを固着させた
    後、該ICチップをリードフレーム上に該粘接着層を介
    して載置し、次いで加熱することにより該粘接着層に接
    着力を発現させて該ICチップとリードフレームとを接
    着することを特徴とする粘接着テープの使用方法。
  4. 【請求項4】 照射するエネルギー線が紫外線であるこ
    とを特徴とする請求項3に記載の粘接着テープの使用方
    法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4275221B2 (ja) 1998-07-06 2009-06-10 リンテック株式会社 粘接着剤組成物および粘接着シート
KR100351706B1 (ko) * 2000-06-27 2002-09-11 한솔제지주식회사 다이싱테이프용 감광성 점착 조성물
JP3544362B2 (ja) * 2001-03-21 2004-07-21 リンテック株式会社 半導体チップの製造方法
JP2004043760A (ja) * 2001-08-27 2004-02-12 Hitachi Chem Co Ltd 接着シート並びに半導体装置及びその製造方法
JP2004043761A (ja) * 2001-08-27 2004-02-12 Hitachi Chem Co Ltd 接着シート並びに半導体装置及びその製造方法
JP2004043763A (ja) * 2001-08-27 2004-02-12 Hitachi Chem Co Ltd 接着シート並びに半導体装置及びその製造方法
CN100423201C (zh) * 2003-07-08 2008-10-01 琳得科株式会社 切割和/或小片接合用粘合片以及半导体装置的制造方法
US7578891B2 (en) 2004-05-18 2009-08-25 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive bonding sheet, semiconductor device using the same, and method for manufacturing such semiconductor device
JP2006228833A (ja) * 2005-02-15 2006-08-31 Sekisui Chem Co Ltd 貫通電極付きicチップ
JP4650024B2 (ja) * 2005-02-28 2011-03-16 住友ベークライト株式会社 ダイシングシート機能付きダイアタッチフィルム及びそれを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置。
JP5095926B2 (ja) * 2005-06-01 2012-12-12 三菱樹脂株式会社 粘着剤及びこれを用いた粘着体
KR101370245B1 (ko) 2006-05-23 2014-03-05 린텍 가부시키가이샤 점접착제 조성물, 점접착 시트 및 반도체장치의 제조방법
JP5005324B2 (ja) * 2006-11-27 2012-08-22 リンテック株式会社 粘接着剤組成物、粘接着シートおよび半導体装置の製造方法
JP5005325B2 (ja) * 2006-11-27 2012-08-22 リンテック株式会社 粘接着剤組成物、粘接着シートおよび半導体装置の製造方法
KR20080047990A (ko) 2006-11-27 2008-05-30 린텍 가부시키가이샤 점접착제 조성물, 점접착 시트 및 반도체 장치의 제조방법
TWI421319B (zh) 2007-06-28 2014-01-01 Lintec Corp 黏接著劑組成物、黏接著片及半導體裝置之製造方法
JP4762959B2 (ja) * 2007-09-03 2011-08-31 リンテック株式会社 半導体チップおよび半導体装置
JP5467720B2 (ja) 2007-12-28 2014-04-09 リンテック株式会社 粘接着剤組成物、粘接着シートおよび半導体装置の製造方法
JP5314307B2 (ja) * 2008-03-25 2013-10-16 リンテック株式会社 レーザーダイシング・ダイボンド兼用シートおよびチップ複合体の製造方法
JP5314308B2 (ja) * 2008-03-25 2013-10-16 リンテック株式会社 レーザーダイシング・ダイボンド兼用シートおよびチップ複合体の製造方法
JP4806815B2 (ja) 2008-03-31 2011-11-02 リンテック株式会社 粘接着剤組成物、粘接着シートおよび半導体装置の製造方法
JP5093026B2 (ja) * 2008-09-24 2012-12-05 日立化成工業株式会社 接着シートならびに半導体装置およびその製造方法
JP5089560B2 (ja) 2008-11-28 2012-12-05 リンテック株式会社 半導体チップ積層体および半導体チップ積層用接着剤組成物
JP5550371B2 (ja) * 2010-02-05 2014-07-16 リンテック株式会社 接着剤組成物および接着シート
JP5620834B2 (ja) * 2011-01-26 2014-11-05 リンテック株式会社 接着剤組成物および接着シート
JP5858347B2 (ja) * 2014-02-05 2016-02-10 大日本印刷株式会社 粘着剤組成物およびそれを用いた粘着フィルム
JP6370086B2 (ja) * 2014-04-23 2018-08-08 株式会社ディスコ 樹脂組成物及び板状物の固定方法
JP6332764B2 (ja) * 2016-11-17 2018-05-30 大日本印刷株式会社 接着剤組成物およびそれを用いた接着シート

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