JP3504576B2 - 液晶表示装置及びその検査方法 - Google Patents
液晶表示装置及びその検査方法Info
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- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置及
びその検査方法に関するものであり、特に、導電体部の
接続端子か光透過部を有する液晶表示装置及びその検査
方法に関するものである。
びその検査方法に関するものであり、特に、導電体部の
接続端子か光透過部を有する液晶表示装置及びその検査
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１は関連技術における液晶セルの概略
を示す構成図である。図において、１０１はＴＦＴを備
える複数の副画素部を有するＴＦＴアレイ基板、１０２
はＲＧＢのカラーフィルタを備えるカラーフィルタ基
板、１０３は副画素部から形成され実際の画像表示を行
う表示領域の表示領域端、１０４は画像表示に寄与しな
い外周領域、１０５は偏光板端、１０６はカラーフィル
タ基板端、１０７は２つの基板を電気的に接続する基板
間接続部、１０８は外周領域１０４に設けられた導電線
である周回線である。１１０は液晶注入口であり、エポ
キシ系樹脂で封止されている。尚、２枚の基板間には液
晶が封入されている。実際の画像表示は、駆動回路（不
図示）から出力された画像信号を副画素部に入力し、両
基板間の液晶に加える電界を制御することにより行う。
を示す構成図である。図において、１０１はＴＦＴを備
える複数の副画素部を有するＴＦＴアレイ基板、１０２
はＲＧＢのカラーフィルタを備えるカラーフィルタ基
板、１０３は副画素部から形成され実際の画像表示を行
う表示領域の表示領域端、１０４は画像表示に寄与しな
い外周領域、１０５は偏光板端、１０６はカラーフィル
タ基板端、１０７は２つの基板を電気的に接続する基板
間接続部、１０８は外周領域１０４に設けられた導電線
である周回線である。１１０は液晶注入口であり、エポ
キシ系樹脂で封止されている。尚、２枚の基板間には液
晶が封入されている。実際の画像表示は、駆動回路（不
図示）から出力された画像信号を副画素部に入力し、両
基板間の液晶に加える電界を制御することにより行う。
【０００３】図２は、外周領域１０４の断面を示す概略
図である。図において、２０１は透過光の初期偏光方向
を決定する偏光板、２０２はブラックマトリックスと呼
ばれ、クロムで形成された遮光部、２０３はカラーフィ
ルタ、２０４はＩＴＯ透明電極、２０５はＴＦＴを備え
る画素駆動回路、２０６は液晶、２０７は液晶を封入す
るシール部、２０８はトランスファと呼ばれる導電性ペ
ースト、２０９は接続端子としてのパッドである。導電
性ペースト２０８とパッド２０９とで、基板間接続部１
０７を構成する。外周部の幅はおよそ２．２ｍｍであ
り、基板間距離はおよそ５μｍである。
図である。図において、２０１は透過光の初期偏光方向
を決定する偏光板、２０２はブラックマトリックスと呼
ばれ、クロムで形成された遮光部、２０３はカラーフィ
ルタ、２０４はＩＴＯ透明電極、２０５はＴＦＴを備え
る画素駆動回路、２０６は液晶、２０７は液晶を封入す
るシール部、２０８はトランスファと呼ばれる導電性ペ
ースト、２０９は接続端子としてのパッドである。導電
性ペースト２０８とパッド２０９とで、基板間接続部１
０７を構成する。外周部の幅はおよそ２．２ｍｍであ
り、基板間距離はおよそ５μｍである。
【０００４】ドライバＩＣ（不図示）が周回線１０８を
介してパッド２０９に接続され、トランスファ２０８を
介して、共通電位をカラーフィルタ基板１０２上のＩＴ
Ｏ共通電極に印加する。導電性ペーストは、例えば、酢
酸エチレングリコール・モノブチル・エーテルとベンジ
ルアルコールの混合物に銀粒を入れたものであり、セル
組み立て後の加熱時に有機溶剤は蒸発し、くっついて固
まった銀粒だけが残る。
介してパッド２０９に接続され、トランスファ２０８を
介して、共通電位をカラーフィルタ基板１０２上のＩＴ
Ｏ共通電極に印加する。導電性ペーストは、例えば、酢
酸エチレングリコール・モノブチル・エーテルとベンジ
ルアルコールの混合物に銀粒を入れたものであり、セル
組み立て後の加熱時に有機溶剤は蒸発し、くっついて固
まった銀粒だけが残る。
【０００５】液晶表示装置の製造において、２つの基板
を重ねあわせ、液晶セルを製造した後に、トランスファ
２０８の付着位置及び形状を検査する。これは、トラン
スファ２０８が所望の位置・形状で形成されていない
と、接触不良、もしくは、両基板間ギャップの誤差を生
むからである。特に、トランスファ２０８がパッドの外
に出ていると、上記不良を起こす可能性が大きい。この
検査は光学顕微鏡を使用して視覚的に行われる。
を重ねあわせ、液晶セルを製造した後に、トランスファ
２０８の付着位置及び形状を検査する。これは、トラン
スファ２０８が所望の位置・形状で形成されていない
と、接触不良、もしくは、両基板間ギャップの誤差を生
むからである。特に、トランスファ２０８がパッドの外
に出ていると、上記不良を起こす可能性が大きい。この
検査は光学顕微鏡を使用して視覚的に行われる。
【０００６】従来技術における、トランスファ２０８の
検査方法について説明する。図３は、従来の検査方法に
おいて使用される検査用マーク３０１を示した図であ
る。図において、３０１は、遮光部２０２と同材料で形
成された検査用マークであり、カラーフィルタ基板１０
２のアレイ基板対向面側に形成されている。３０２はカ
ラーフィルタ側遮光層、３０３はアレイ基板１０１上の
パッド金属である。
検査方法について説明する。図３は、従来の検査方法に
おいて使用される検査用マーク３０１を示した図であ
る。図において、３０１は、遮光部２０２と同材料で形
成された検査用マークであり、カラーフィルタ基板１０
２のアレイ基板対向面側に形成されている。３０２はカ
ラーフィルタ側遮光層、３０３はアレイ基板１０１上の
パッド金属である。
【０００７】検査用マーク３０１は直径７５０μｍ程の
円形であり、内側に開口部を備えている。この開口部か
ら、カラーフィルタ基板１０２の反対側を視覚的に見る
ことができる。従って、カラーフィルタ基板１０２のか
ら、この開口部を通ってトランスファ２０８の状態を視
覚的に検査することができる。
円形であり、内側に開口部を備えている。この開口部か
ら、カラーフィルタ基板１０２の反対側を視覚的に見る
ことができる。従って、カラーフィルタ基板１０２のか
ら、この開口部を通ってトランスファ２０８の状態を視
覚的に検査することができる。
【０００８】図４は、従来技術における、基板間接続部
１０７の構成を示す断面図である。４０１はゲート線
層、４０２は信号線層である。各層の厚さは、およそ２
０００Åであり、パッド２０９の直径はおよそ７５０μ
ｍである。ゲート線層４０１はＭｏＷ合金、信号線はＭ
ｏ−Ａｌ−Ｍｏ３層金属、絶縁膜４０３はＳｉＯ２で構
成されている。トランスファ２０８の検査は、カラーフ
ィルタ基板１０２の外側から視覚的に行われる。
１０７の構成を示す断面図である。４０１はゲート線
層、４０２は信号線層である。各層の厚さは、およそ２
０００Åであり、パッド２０９の直径はおよそ７５０μ
ｍである。ゲート線層４０１はＭｏＷ合金、信号線はＭ
ｏ−Ａｌ−Ｍｏ３層金属、絶縁膜４０３はＳｉＯ２で構
成されている。トランスファ２０８の検査は、カラーフ
ィルタ基板１０２の外側から視覚的に行われる。
【０００９】次に、従来技術における導電性パッド２０
９の製造方法につてい、図５−８を用いて概その略を説
明する。まず、アレイ基板１０２上にゲート配線層を堆
積し、フォトリソグラフィー処理とエッチング処理を行
って、約７５０μｍのコラムを形成する（図５）。続い
て、ＳｉＯ２絶縁膜４０２をアレイ基板上１０２に付着
し（図６）、フォトリソグラフィー処理とエッチング処
理を行って、ゲート線層４０１のＳｉＯ２絶縁膜を除去
する（図７）。さらに、信号線層４０２をアレイ基板１
０２上に堆積し、フォトリソグラフィー処理とエッチン
グ処理を行って、ゲート線層４０１の上以外の外周領域
から信号線層を除去し、ゲート配線４０１と信号線層４
０２とでパッド２０９を形成する。尚、フォトリソグラ
フィー処理とエッチング処理については、周知の技術で
あり、詳細を説明しない。
９の製造方法につてい、図５−８を用いて概その略を説
明する。まず、アレイ基板１０２上にゲート配線層を堆
積し、フォトリソグラフィー処理とエッチング処理を行
って、約７５０μｍのコラムを形成する（図５）。続い
て、ＳｉＯ２絶縁膜４０２をアレイ基板上１０２に付着
し（図６）、フォトリソグラフィー処理とエッチング処
理を行って、ゲート線層４０１のＳｉＯ２絶縁膜を除去
する（図７）。さらに、信号線層４０２をアレイ基板１
０２上に堆積し、フォトリソグラフィー処理とエッチン
グ処理を行って、ゲート線層４０１の上以外の外周領域
から信号線層を除去し、ゲート配線４０１と信号線層４
０２とでパッド２０９を形成する。尚、フォトリソグラ
フィー処理とエッチング処理については、周知の技術で
あり、詳細を説明しない。
【００１０】以上のように、従来の検査方法において
は、カラーフィルタ基板にブラック・マトリックスと同
じ材料で検査マークを付すことによって、検査を行って
いた。しかし近年、液晶表示ディスプレイの大きさに対
し、表示領域を出来る限り大きくするために、外周領域
幅（画像表示部端から基板端までの距離）が小さくな
り、製造上必要な遮光層と基板端との距離が小さくなっ
たため、カラーフィルタ基板に検査マークとしての位置
測定パターンを配置することが難しくなってきている。
この問題を解消する方法として、特開平３−５８０２４
号公報に開示されているように、カラーフィルタ基板上
の遮光層に開口部を設け、導電性ペーストをカラーフィ
ルタ基板側から見えるようにすることが考えられる。し
かしこの方法は、表示領域の遮光層に開口部を設けるた
め、この開口部から光が表示領域に侵入し、光漏れの原
因となるために好ましくない。
は、カラーフィルタ基板にブラック・マトリックスと同
じ材料で検査マークを付すことによって、検査を行って
いた。しかし近年、液晶表示ディスプレイの大きさに対
し、表示領域を出来る限り大きくするために、外周領域
幅（画像表示部端から基板端までの距離）が小さくな
り、製造上必要な遮光層と基板端との距離が小さくなっ
たため、カラーフィルタ基板に検査マークとしての位置
測定パターンを配置することが難しくなってきている。
この問題を解消する方法として、特開平３−５８０２４
号公報に開示されているように、カラーフィルタ基板上
の遮光層に開口部を設け、導電性ペーストをカラーフィ
ルタ基板側から見えるようにすることが考えられる。し
かしこの方法は、表示領域の遮光層に開口部を設けるた
め、この開口部から光が表示領域に侵入し、光漏れの原
因となるために好ましくない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術における問題を解決することを１つの目的とし、効果
的に導電体部の接続状態を検査できる、液晶表示装置及
びその検査方法を得ることである。他の目的は、パッド
とトランスファとの電気的接続を保証しながら、トラン
スファの接続状態を検査できる、液晶表示装置及びその
検査方法を得ることである。他の目的は、効果的に導電
体部の接続状態を検査でき、容易に製造できる液晶表示
装置を得ることである。他の目的は、できる限り少ない
開口部でトランスファの接続状態を検査できる、液晶表
示装置及びその検査方法を得ることである。
術における問題を解決することを１つの目的とし、効果
的に導電体部の接続状態を検査できる、液晶表示装置及
びその検査方法を得ることである。他の目的は、パッド
とトランスファとの電気的接続を保証しながら、トラン
スファの接続状態を検査できる、液晶表示装置及びその
検査方法を得ることである。他の目的は、効果的に導電
体部の接続状態を検査でき、容易に製造できる液晶表示
装置を得ることである。他の目的は、できる限り少ない
開口部でトランスファの接続状態を検査できる、液晶表
示装置及びその検査方法を得ることである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、液晶表示装置
において、その外周領域に光透過部を備える接続端子
と、この接続端子に接合された導電体部とを備え、導電
体部は２つの基板間の電気的接続を提供する。外周領域
は、画像表示を行う表示領域の外側の領域であって、画
像表示には直接寄与しない。好ましくは、導電体部はト
ランスファであり、接続端子はトランスファの接続パッ
ドである。
において、その外周領域に光透過部を備える接続端子
と、この接続端子に接合された導電体部とを備え、導電
体部は２つの基板間の電気的接続を提供する。外周領域
は、画像表示を行う表示領域の外側の領域であって、画
像表示には直接寄与しない。好ましくは、導電体部はト
ランスファであり、接続端子はトランスファの接続パッ
ドである。
【００１３】接続端子は光を透過する光透過部を備え、
この透過部から反対側を視覚的に見ることができる。好
ましくは、この光透過部は光透過性の導電性部材で構成
され、さらに好ましくは、透明電極と同じ材料で形成さ
れる。透明電極の材料は、ＩＴＯ（indium tin oxide）
やＩＺＯ（indium zinc oxide）が考えられる。又、接
続端子の一部が光を透過しない材料で形成される場合、
この光不透過部は、好ましくは、副画素部内の配線材料
で形成される。
この透過部から反対側を視覚的に見ることができる。好
ましくは、この光透過部は光透過性の導電性部材で構成
され、さらに好ましくは、透明電極と同じ材料で形成さ
れる。透明電極の材料は、ＩＴＯ（indium tin oxide）
やＩＺＯ（indium zinc oxide）が考えられる。又、接
続端子の一部が光を透過しない材料で形成される場合、
この光不透過部は、好ましくは、副画素部内の配線材料
で形成される。
【００１４】好ましくは、接続端子は、分離された複数
の光透過部を有し、それぞれが、パッドの周回方向にほ
ぼ９０°の角度で配置される。この光透過部は、通常位
置のトランスファの端部が重なる位置に配置される。光
透過部は、分離された複数の光透過部の列を配置して形
成することも可能である。このような配置により、１つ
の列の光透過部は、スリット状に形成される。このと
き、光透過部は導電性部材で埋めずに、開口部としてお
くことも可能である。
の光透過部を有し、それぞれが、パッドの周回方向にほ
ぼ９０°の角度で配置される。この光透過部は、通常位
置のトランスファの端部が重なる位置に配置される。光
透過部は、分離された複数の光透過部の列を配置して形
成することも可能である。このような配置により、１つ
の列の光透過部は、スリット状に形成される。このと
き、光透過部は導電性部材で埋めずに、開口部としてお
くことも可能である。
【００１５】本発明は、上記の液晶表示装置を検査する
方法を含む。この方法は、液晶表示装置を光学顕微鏡に
セットし、接続端子に形成された光透過部を介して、導
電体部と接続端子との接続状態を視覚的に検査するもの
である。好ましくは、この接続端子はアレイ基板上に形
成された接続パッドであり、導電体部は、アレイ基板と
対向基板とを電気的に接続するトランスファである。検
査はアレイ基板の外側から、視覚的に行う。好ましく
は、光透過部は透明電極と同じ材料で構成され、パッド
の周回方向にほぼ直角に配置された、４つの透過部を備
える。この透過部から、トランスファの端部の位置を確
認することで、検査を行う。尚、液晶表示装置とは、液
晶セル、液晶モジュール、液晶ディスプレイを含む概念
である。
方法を含む。この方法は、液晶表示装置を光学顕微鏡に
セットし、接続端子に形成された光透過部を介して、導
電体部と接続端子との接続状態を視覚的に検査するもの
である。好ましくは、この接続端子はアレイ基板上に形
成された接続パッドであり、導電体部は、アレイ基板と
対向基板とを電気的に接続するトランスファである。検
査はアレイ基板の外側から、視覚的に行う。好ましく
は、光透過部は透明電極と同じ材料で構成され、パッド
の周回方向にほぼ直角に配置された、４つの透過部を備
える。この透過部から、トランスファの端部の位置を確
認することで、検査を行う。尚、液晶表示装置とは、液
晶セル、液晶モジュール、液晶ディスプレイを含む概念
である。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明における一実施の形態を説
明する。以下の説明において、同一符号を付したもの
は、同一もしくは相当部であり、重ねて説明は行わな
い。図９は本実施形態における液晶セルの概略を示す構
成図である。図において、９０１はＴＦＴを備える複数
の副画素部を有するＴＦＴアレイ基板、９０２はＲＧＢ
のカラーフィルタを備えるカラーフィルタ基板、９０３
は副画素部から形成され、実際の画像表示を行う表示領
域の端部である表示領域端、９０４は表示領域の外側に
形成された外周領域である。画像表示に寄与しない外周
領域９０４は、表示領域端９０３とアレイ基板端との間
に形成されている。尚、副画素部はそれぞれＴＦＴと１
色のカラーフィルタを有し、ＲＧＢ３つの副画素部によ
り、１つの画素部が構成される。
明する。以下の説明において、同一符号を付したもの
は、同一もしくは相当部であり、重ねて説明は行わな
い。図９は本実施形態における液晶セルの概略を示す構
成図である。図において、９０１はＴＦＴを備える複数
の副画素部を有するＴＦＴアレイ基板、９０２はＲＧＢ
のカラーフィルタを備えるカラーフィルタ基板、９０３
は副画素部から形成され、実際の画像表示を行う表示領
域の端部である表示領域端、９０４は表示領域の外側に
形成された外周領域である。画像表示に寄与しない外周
領域９０４は、表示領域端９０３とアレイ基板端との間
に形成されている。尚、副画素部はそれぞれＴＦＴと１
色のカラーフィルタを有し、ＲＧＢ３つの副画素部によ
り、１つの画素部が構成される。
【００１７】９０５は偏光板端、９０６はカラーフィル
タ基板端、９０７は２つの基板を電気的に接続する基板
間接続部、９０８は外周領域９０４に設けられた導電線
である周回線である。９１０は液晶注入口であり、エポ
キシ系樹脂で封止されている。尚、２枚の基板間には液
晶が封入されている。実際の画像表示は、駆動回路（不
図示）から出力された画像信号を副画素部に入力し、両
基板間の液晶に加える電界を制御することにより行う。
タ基板端、９０７は２つの基板を電気的に接続する基板
間接続部、９０８は外周領域９０４に設けられた導電線
である周回線である。９１０は液晶注入口であり、エポ
キシ系樹脂で封止されている。尚、２枚の基板間には液
晶が封入されている。実際の画像表示は、駆動回路（不
図示）から出力された画像信号を副画素部に入力し、両
基板間の液晶に加える電界を制御することにより行う。
【００１８】２つの基板はガラス基板であり、透明性を
有する。尚、基板として樹脂基板を使用することも可能
である。基板間接続部９０７は、液晶セルの対向する２
つの側に形成され、各側に５つずつ形成されている。こ
れは、ＩＴＯ膜がある程度高い抵抗を有するので、ＩＴ
Ｏ膜への共通電位の供給を確実に行うためである。図９
における外周領域９０４の左側と上側に、ドライバＩＣ
（不図示）が取り付けられる。このＩＣから周回線９０
８を介して、基板間接続部９０７に共通電位が与えら
れ、さらに、カラーフィルタ基板９０２の透明電極に送
られる。
有する。尚、基板として樹脂基板を使用することも可能
である。基板間接続部９０７は、液晶セルの対向する２
つの側に形成され、各側に５つずつ形成されている。こ
れは、ＩＴＯ膜がある程度高い抵抗を有するので、ＩＴ
Ｏ膜への共通電位の供給を確実に行うためである。図９
における外周領域９０４の左側と上側に、ドライバＩＣ
（不図示）が取り付けられる。このＩＣから周回線９０
８を介して、基板間接続部９０７に共通電位が与えら
れ、さらに、カラーフィルタ基板９０２の透明電極に送
られる。
【００１９】図１０は、外周領域９０４の概略構成を示
す断面図であり、図１１における線Ａにおける断面であ
る。図において、１００１はカラーフィルタ基板９０２
に形成されたブラックマトリックスと呼ばれる遮光膜で
あって、カラーフィルタ基板９０２がアレイ基板９０１
に対向する面に形成されている。遮光膜１００１はクロ
ム等の金属もしくは、黒い顔料を混入したアクリル樹脂
等の樹脂で形成される。１００２はカラーフィルタ基板
９０２に形成されたＩＴＯ（indium tin oxide）透明電
極、１００３は導電性ペースト（トランスファ）であ
る。１００４は信号線層、１００５は透明電極層、１０
０６は絶縁層、１００７はゲート配線層であり、各層の
厚さは、およそ２０００Åである。信号線層１００４
は、副画素部内（表示領域内）の信号配線と同時に形成
される。副画素部の信号配線は、副画素部に形成される
ＴＦＴのソースに画像信号を送る配線である。透明電極
層１００５は、副画素部に形成される透明電極と同時に
形成される。
す断面図であり、図１１における線Ａにおける断面であ
る。図において、１００１はカラーフィルタ基板９０２
に形成されたブラックマトリックスと呼ばれる遮光膜で
あって、カラーフィルタ基板９０２がアレイ基板９０１
に対向する面に形成されている。遮光膜１００１はクロ
ム等の金属もしくは、黒い顔料を混入したアクリル樹脂
等の樹脂で形成される。１００２はカラーフィルタ基板
９０２に形成されたＩＴＯ（indium tin oxide）透明電
極、１００３は導電性ペースト（トランスファ）であ
る。１００４は信号線層、１００５は透明電極層、１０
０６は絶縁層、１００７はゲート配線層であり、各層の
厚さは、およそ２０００Åである。信号線層１００４
は、副画素部内（表示領域内）の信号配線と同時に形成
される。副画素部の信号配線は、副画素部に形成される
ＴＦＴのソースに画像信号を送る配線である。透明電極
層１００５は、副画素部に形成される透明電極と同時に
形成される。
【００２０】透明電極は液晶に電界を印加するための電
極である。絶縁層１００６は、副画素部内のゲート絶縁
層と同時に形成される。ゲート配線層１００７は、副画
素部内のＴＦＴのゲート配線と同時に形成される。ゲー
ト配線は、ＴＦＴのゲート電位を制御する配線である。
信号線層はＡｌを使用した金属であり、具体的には、Ｍ
ｏ−Ａｌ−Ｍｏの３層構造を有する。ゲート配線層はＭ
ｏＷ等のＭｏ合金である。絶縁層はＳｉＯ２であり、光
透過性を有する。透明電極層１００５は、アレイ基板上
の副画素内の透明電極と同じ材料のＩＴＯである。
極である。絶縁層１００６は、副画素部内のゲート絶縁
層と同時に形成される。ゲート配線層１００７は、副画
素部内のＴＦＴのゲート配線と同時に形成される。ゲー
ト配線は、ＴＦＴのゲート電位を制御する配線である。
信号線層はＡｌを使用した金属であり、具体的には、Ｍ
ｏ−Ａｌ−Ｍｏの３層構造を有する。ゲート配線層はＭ
ｏＷ等のＭｏ合金である。絶縁層はＳｉＯ２であり、光
透過性を有する。透明電極層１００５は、アレイ基板上
の副画素内の透明電極と同じ材料のＩＴＯである。
【００２１】トランスファ１００３は、導電性パッド１
００８とカラーフィルタ基板９０２側の透明電極層１０
０２に接続されている。尚、本例では、トランスファ１
００３は透明電極層１００２に直接接続されているが、
他の導電性部材を介して、両者を電気的に接続すること
ももちろん可能である。導電性パッド１００８は、周回
線９０８に電気的に接続され、トランスファ１００３を
介してカラーフィルタ基板９０２側の透明電極層に共通
電位を供給する。周回線９０８は、ゲート配線層と信号
線層と同じ材料で形成される。
００８とカラーフィルタ基板９０２側の透明電極層１０
０２に接続されている。尚、本例では、トランスファ１
００３は透明電極層１００２に直接接続されているが、
他の導電性部材を介して、両者を電気的に接続すること
ももちろん可能である。導電性パッド１００８は、周回
線９０８に電気的に接続され、トランスファ１００３を
介してカラーフィルタ基板９０２側の透明電極層に共通
電位を供給する。周回線９０８は、ゲート配線層と信号
線層と同じ材料で形成される。
【００２２】信号線層１００４、透明電極層１００５、
絶縁層１００６、及び、１００７ゲート配線層によっ
て、接続端子としての導電性パッド１００８が形成され
る。尚、実際は、導電性パッド１００８の表示領域側に
シール部が形成されるが、説明のために省略してある。
図から分かるように、遮光膜９０２はトランスファ１０
０３と重なり、トランスファ１００３の中心部に至る場
所まで形成されている。このため、カラーフィルタ基板
９０２の外側からトランスファの接続状態を検査するこ
とができない。基板間距離はおよそ５μｍである。導電
性パッド１００８の直径はおよそ７５０μｍである。
尚、パッド１００８の形状は円形に限らず、四角形等の
他の形状でももちろんよい。
絶縁層１００６、及び、１００７ゲート配線層によっ
て、接続端子としての導電性パッド１００８が形成され
る。尚、実際は、導電性パッド１００８の表示領域側に
シール部が形成されるが、説明のために省略してある。
図から分かるように、遮光膜９０２はトランスファ１０
０３と重なり、トランスファ１００３の中心部に至る場
所まで形成されている。このため、カラーフィルタ基板
９０２の外側からトランスファの接続状態を検査するこ
とができない。基板間距離はおよそ５μｍである。導電
性パッド１００８の直径はおよそ７５０μｍである。
尚、パッド１００８の形状は円形に限らず、四角形等の
他の形状でももちろんよい。
【００２３】液晶セルを製造する際の、２つの基板の重
ねあわせ方法について説明する。所望の副画素部の構成
が形成されたアレイ基板上９０１に、導電性ペースト１
００３を付着する。その後、シール部を形成し、位置あ
わせを行いながら両基板を重ねあわせる。さらに細かい
位置あわせ（微調整）を行い、両基板を加圧しながら１
８０℃程度で加熱し、シール部と導電性ペースト１００
３を硬化させる。このようなプロセスで液晶セルを製造
した後に、トランスファ１００３の接続状態の検査を行
う。尚、導電体部は、材料の観点からは導電性ペースト
と呼ばれ、その機能の観点からはトランスファと呼ばれ
る。
ねあわせ方法について説明する。所望の副画素部の構成
が形成されたアレイ基板上９０１に、導電性ペースト１
００３を付着する。その後、シール部を形成し、位置あ
わせを行いながら両基板を重ねあわせる。さらに細かい
位置あわせ（微調整）を行い、両基板を加圧しながら１
８０℃程度で加熱し、シール部と導電性ペースト１００
３を硬化させる。このようなプロセスで液晶セルを製造
した後に、トランスファ１００３の接続状態の検査を行
う。尚、導電体部は、材料の観点からは導電性ペースト
と呼ばれ、その機能の観点からはトランスファと呼ばれ
る。
【００２４】図１１は導電性パッド１００８（図１１で
は１１０２）をＴＦＴアレイの外側から見た図である。
図において、１１０３は画素電極である透明電極が形成
されている光透過部である。この光透過部を介して反対
側に接続されたトランスファ１００３の接続状態を視覚
的に確認することができる。１１０５はパッドと周回線
を接続する配線である。４つに分離して画定された光透
過部を有している。パッドの周回方向に隣接する光透過
部はほぼ直角に、９０°の角度で配置され、半径方向に
互いに対向する２つの透過部は、ほぼ平行に配置されて
いる。
は１１０２）をＴＦＴアレイの外側から見た図である。
図において、１１０３は画素電極である透明電極が形成
されている光透過部である。この光透過部を介して反対
側に接続されたトランスファ１００３の接続状態を視覚
的に確認することができる。１１０５はパッドと周回線
を接続する配線である。４つに分離して画定された光透
過部を有している。パッドの周回方向に隣接する光透過
部はほぼ直角に、９０°の角度で配置され、半径方向に
互いに対向する２つの透過部は、ほぼ平行に配置されて
いる。
【００２５】このように光透過部を形成・配置すること
により、もっとも少ない面積で効果的にトランスファの
接続状態を確認することができる。もちろん、もっと多
くの透過部を形成し、視野特性を向上させることも考え
らる。光透過部の面積は、視野特性とトランスファ−パ
ッド間の導電性とのバランスを考慮して決定される。光
透過部の周回方向の幅は、導電性の観点からは、できる
限り小さい方がよく、光学顕微鏡の解像度が許す範囲
で、最も小さい幅とすることが好ましい。
により、もっとも少ない面積で効果的にトランスファの
接続状態を確認することができる。もちろん、もっと多
くの透過部を形成し、視野特性を向上させることも考え
らる。光透過部の面積は、視野特性とトランスファ−パ
ッド間の導電性とのバランスを考慮して決定される。光
透過部の周回方向の幅は、導電性の観点からは、できる
限り小さい方がよく、光学顕微鏡の解像度が許す範囲
で、最も小さい幅とすることが好ましい。
【００２６】尚、この光透過部は、トランスファの下面
端部が見えれば十分であるので、本例のように半径方向
に透過部長くすることなく、設計上トランスファの端部
が形成される位置に、半径方向に短い辺を有する光透過
部を配置することも可能である。又、光透過部の導電性
部材としては、ＩＴＯに限らず、光透過性を有する導電
性部材であれば、他のものでもよい。例えば、ＩＺＯ
（indium zinc oxid）や金属粒子を含む透明樹脂等が考
えられる。又、本実施形態においては、光透過部がＩＴ
Ｏで埋められているが、図１１の下図に示すように、信
号線層及びデータ配線層に、小さい開口部が連続して配
置された、スリット状の開口部列を設け、ここには何も
埋めない構成とすることも可能である。このように、連
続した開口部列を形成することにより、開口部に導電性
材料を埋めなくとも、パッド−トランスファ間の必要な
導電性を確保することができる。さらに、本例は４つの
分離された開口部が形成されているが、例えば、３つの
分離された開口部を、パッドの周回方向に、ほぼ１２０
°の角度で形成することも可能である。
端部が見えれば十分であるので、本例のように半径方向
に透過部長くすることなく、設計上トランスファの端部
が形成される位置に、半径方向に短い辺を有する光透過
部を配置することも可能である。又、光透過部の導電性
部材としては、ＩＴＯに限らず、光透過性を有する導電
性部材であれば、他のものでもよい。例えば、ＩＺＯ
（indium zinc oxid）や金属粒子を含む透明樹脂等が考
えられる。又、本実施形態においては、光透過部がＩＴ
Ｏで埋められているが、図１１の下図に示すように、信
号線層及びデータ配線層に、小さい開口部が連続して配
置された、スリット状の開口部列を設け、ここには何も
埋めない構成とすることも可能である。このように、連
続した開口部列を形成することにより、開口部に導電性
材料を埋めなくとも、パッド−トランスファ間の必要な
導電性を確保することができる。さらに、本例は４つの
分離された開口部が形成されているが、例えば、３つの
分離された開口部を、パッドの周回方向に、ほぼ１２０
°の角度で形成することも可能である。
【００２７】本例においては、トランスファの接続状態
の検査は、液晶セルを光学顕微鏡にセットして行う。Ｔ
ＦＴアレイの外側から、視覚的に液晶セルの検査を行
う。パッド１００８に光透過部１１０３がＩＴＯで形成
されおり、それを介してパッドの反対側のトランスファ
の接続状態を確認することができる。アレイ基板とパッ
ドの光透過部を介して、トランスファの端部が所定の位
置にあることを確認することにより、トランスファの接
続状態の検査を行う。特に、４つの光透過部が設けられ
ているので、トランスファが楕円形状等、円形で無い場
合でも、４つの光透過部から確認されるトランスファ端
部の位置から、トランスファの接続位置を確認すること
ができる。
の検査は、液晶セルを光学顕微鏡にセットして行う。Ｔ
ＦＴアレイの外側から、視覚的に液晶セルの検査を行
う。パッド１００８に光透過部１１０３がＩＴＯで形成
されおり、それを介してパッドの反対側のトランスファ
の接続状態を確認することができる。アレイ基板とパッ
ドの光透過部を介して、トランスファの端部が所定の位
置にあることを確認することにより、トランスファの接
続状態の検査を行う。特に、４つの光透過部が設けられ
ているので、トランスファが楕円形状等、円形で無い場
合でも、４つの光透過部から確認されるトランスファ端
部の位置から、トランスファの接続位置を確認すること
ができる。
【００２８】次に、図１２−１６を用いて、パッド１０
０８の製造方法について説明する。パッド１００８の形
成は、表示領域内の配線構造と同時に形成される。ま
ず、ＴＦＴアレイ基板にゲート配線層を付着し、フォト
リソグラフィ処理とエッチング処理を行って、所定の部
分を取り除く。パッドに相当する部分のゲート配線層に
は、４つの開口部が形成される（図１２）。次に、アレ
イ基板に絶縁層を付着する（図１３）。その後、透明電
極層をアレイ基板上に堆積し、フォトリソグラフィ処理
とエッチング処理を行って、所定の部分を取り除く。パ
ッドの構成部においては、データ配線層の開口部上に透
明電極層が形成されるようにパターン形成する（図１
４）。さらに、ゲート配線層上に付着された絶縁膜を、
フォトリソグラフィ処理とエッチング処理を行って取り
除く（図１５）。
０８の製造方法について説明する。パッド１００８の形
成は、表示領域内の配線構造と同時に形成される。ま
ず、ＴＦＴアレイ基板にゲート配線層を付着し、フォト
リソグラフィ処理とエッチング処理を行って、所定の部
分を取り除く。パッドに相当する部分のゲート配線層に
は、４つの開口部が形成される（図１２）。次に、アレ
イ基板に絶縁層を付着する（図１３）。その後、透明電
極層をアレイ基板上に堆積し、フォトリソグラフィ処理
とエッチング処理を行って、所定の部分を取り除く。パ
ッドの構成部においては、データ配線層の開口部上に透
明電極層が形成されるようにパターン形成する（図１
４）。さらに、ゲート配線層上に付着された絶縁膜を、
フォトリソグラフィ処理とエッチング処理を行って取り
除く（図１５）。
【００２９】続いて、信号配線層をアレイ基板上に堆積
し、フォトリソグラフィ処理とエッチング処理を行っ
て、所定の部分を取り除く。パッドの構成部において
は、透明電極層の上に付着された信号配線層を取り除く
ことにより、光透過部を形成する（図１６）。以上の処
理は、フォトレジストのマスク・パターンを変更するこ
とにより、アレイ基板上の副画素部内の電極や配線と同
時に形成することが可能であり、パッドを形成するため
の付加的な工程を必要としない。尚、フォトリソグラフ
ィ処理とエッチング処理とについては、周知の技術であ
り、ここでは詳細な説明を省略する。尚、本実施形態に
おいては、ゲート配線−絶縁層−透明電極層−信号線層
の順に、堆積・除去処理を行ったが、表示領域内の配線
構造に従って、その順序を変更することも、もちろん可
能である。順序が変わった場合は、それに従い、体積層
の上下順番も変更される。
し、フォトリソグラフィ処理とエッチング処理を行っ
て、所定の部分を取り除く。パッドの構成部において
は、透明電極層の上に付着された信号配線層を取り除く
ことにより、光透過部を形成する（図１６）。以上の処
理は、フォトレジストのマスク・パターンを変更するこ
とにより、アレイ基板上の副画素部内の電極や配線と同
時に形成することが可能であり、パッドを形成するため
の付加的な工程を必要としない。尚、フォトリソグラフ
ィ処理とエッチング処理とについては、周知の技術であ
り、ここでは詳細な説明を省略する。尚、本実施形態に
おいては、ゲート配線−絶縁層−透明電極層−信号線層
の順に、堆積・除去処理を行ったが、表示領域内の配線
構造に従って、その順序を変更することも、もちろん可
能である。順序が変わった場合は、それに従い、体積層
の上下順番も変更される。
【００３０】以上のように、本実施の形態においては、
トランスファが接続される導電性パッドに、光透過部を
設けたので、その透過部を介してＴＦＴアレイ基板側か
ら、トランスファの接続状態を確認することが可能とな
る。これにより、狭縁化が進む液晶表示装置において、
カラーフィルタ側の遮光層がトランスファに重なるもの
であっても、装置の特性を落とすことなく、検査を行う
ことが可能となる。
トランスファが接続される導電性パッドに、光透過部を
設けたので、その透過部を介してＴＦＴアレイ基板側か
ら、トランスファの接続状態を確認することが可能とな
る。これにより、狭縁化が進む液晶表示装置において、
カラーフィルタ側の遮光層がトランスファに重なるもの
であっても、装置の特性を落とすことなく、検査を行う
ことが可能となる。
【００３１】尚、本発明のまとめとして、以下に開示す
る。 （１）第１の基板と、前記第１の基板に対向する第２の
基板と、前記第１及び第２の基板間に封入された液晶
と、を有する液晶表示装置であって、前記第１の基板
は、複数の副画素部から構成され、画像表示を行う表示
領域と、前記表示領域の外側に形成された外周領域と、
前記外周領域に形成され、光透過部を備える接続端子
と、前記接続端子に接合された導電体部と、を備え、前
記第２の基板は、導電性層を有し、前記導電体部は前記
導電性層と電気的に接続された、液晶表示装置。 （２）前記光透過部は、光を透過する導電性部材から構
成された、（１）に記載の液晶表示装置。 （３）前記光透過導電性部材はＩＴＯである、請求項２
に記載の液晶表示装置。 （４）前記接続端子は、前記副画素部内の配線材料で形
成された光不透過部と、前記副画素部内の透明電極の材
料で形成された光透過部と、から構成される、（２）に
記載の液晶表示装置。 （５）前記接続端子は分離して画定された複数の光透過
部を有し、前記光透過部のそれぞれが、前記導電体部の
端部と重なっている、（１）に記載の液晶表示装置。 （６）前記接続端子は、分離して画定された４つの光透
過部を有し、前記光透過部のそれぞれが、前記接続端子
の周回方向に、ほぼ直角になるように配置されている、
（１）に記載の液晶表示装置。 （７）前記光透過部は、分離して画定された複数の光透
過部が連続する列から構成された、（１）に記載の液晶
表示装置。 （８）前記第１の基板はアレイ状に配置された複数の薄
膜トランジスタを有するアレイ基板であり、前記第２の
基板は、カラーフィルタを有するカラーフィルタ基板で
あり、前記導電性層は、前記液晶に電界を印加する透明
電極であり、前記接続端子は、前記副画素部内の配線材
料と透明電極材料から構成され、前記導電性部材は、導
電性ペーストを熱硬化したトランスファであり、前記ト
ランスファは、前記カラーフィルタ基板上の透明電極に
電気的に接続された、（１）に記載の液晶表示装置。 （９）液晶表示装置の検査方法であって、前記液晶表示
装置は、マトリックス状に配置されたスイッチング素子
を有するアレイ基板と、前記アレイ基板に対向する対向
基板と、前記アレイ基板上に形成され、光透過部を有す
る接続端子と、前記接続端子に接合され、前記対向基板
上の電極と電気的に接続されたトランスファと、を備
え、前記液晶表示装置を光学顕微鏡にセットする、ステ
ップと、前記光学顕微鏡にセットされた前記液晶セルを
視覚的に確認する、ステップと、前記アレイ基板側か
ら、前記接続端子の光透過部を介して、前記トランスフ
ァの接続状態を視覚的に確認する、ステップと、を有す
る、液晶表示装置の検査方法。
る。 （１）第１の基板と、前記第１の基板に対向する第２の
基板と、前記第１及び第２の基板間に封入された液晶
と、を有する液晶表示装置であって、前記第１の基板
は、複数の副画素部から構成され、画像表示を行う表示
領域と、前記表示領域の外側に形成された外周領域と、
前記外周領域に形成され、光透過部を備える接続端子
と、前記接続端子に接合された導電体部と、を備え、前
記第２の基板は、導電性層を有し、前記導電体部は前記
導電性層と電気的に接続された、液晶表示装置。 （２）前記光透過部は、光を透過する導電性部材から構
成された、（１）に記載の液晶表示装置。 （３）前記光透過導電性部材はＩＴＯである、請求項２
に記載の液晶表示装置。 （４）前記接続端子は、前記副画素部内の配線材料で形
成された光不透過部と、前記副画素部内の透明電極の材
料で形成された光透過部と、から構成される、（２）に
記載の液晶表示装置。 （５）前記接続端子は分離して画定された複数の光透過
部を有し、前記光透過部のそれぞれが、前記導電体部の
端部と重なっている、（１）に記載の液晶表示装置。 （６）前記接続端子は、分離して画定された４つの光透
過部を有し、前記光透過部のそれぞれが、前記接続端子
の周回方向に、ほぼ直角になるように配置されている、
（１）に記載の液晶表示装置。 （７）前記光透過部は、分離して画定された複数の光透
過部が連続する列から構成された、（１）に記載の液晶
表示装置。 （８）前記第１の基板はアレイ状に配置された複数の薄
膜トランジスタを有するアレイ基板であり、前記第２の
基板は、カラーフィルタを有するカラーフィルタ基板で
あり、前記導電性層は、前記液晶に電界を印加する透明
電極であり、前記接続端子は、前記副画素部内の配線材
料と透明電極材料から構成され、前記導電性部材は、導
電性ペーストを熱硬化したトランスファであり、前記ト
ランスファは、前記カラーフィルタ基板上の透明電極に
電気的に接続された、（１）に記載の液晶表示装置。 （９）液晶表示装置の検査方法であって、前記液晶表示
装置は、マトリックス状に配置されたスイッチング素子
を有するアレイ基板と、前記アレイ基板に対向する対向
基板と、前記アレイ基板上に形成され、光透過部を有す
る接続端子と、前記接続端子に接合され、前記対向基板
上の電極と電気的に接続されたトランスファと、を備
え、前記液晶表示装置を光学顕微鏡にセットする、ステ
ップと、前記光学顕微鏡にセットされた前記液晶セルを
視覚的に確認する、ステップと、前記アレイ基板側か
ら、前記接続端子の光透過部を介して、前記トランスフ
ァの接続状態を視覚的に確認する、ステップと、を有す
る、液晶表示装置の検査方法。
【図１】 従来の液晶セルの構成を示す概略図である。
【図２】 従来の外周領域の構成を示す該略図である。
【図３】 従来の導電性パッドの構造示す該略図であ
る。
る。
【図４】 従来の基板間接続部の構成を示す該略図であ
る。
る。
【図５】 従来の導電性パッドの製造方法を示す該略図
である。
である。
【図６】 従来の導電性パッドの製造方法を示す該略図
である。
である。
【図７】 従来の導電性パッドの製造方法を示す該略図
である。
である。
【図８】 従来の導電性パッドの製造方法を示す該略図
である。
である。
【図９】 実施形態における液晶セルの構成を示す概略
図である。
図である。
【図１０】 実施形態における基板間接続部の構成を示
す該略図である。
す該略図である。
【図１１】 実施形態における導電性パッドの構造示す
該略図である。
該略図である。
【図１２】 実施形態における導電性パッドの製造方法
を示す該略図である。
を示す該略図である。
【図１３】 実施形態における導電性パッドの製造方法
を示す該略図である。
を示す該略図である。
【図１４】 実施形態における導電性パッドの製造方法
を示す該略図である。
を示す該略図である。
【図１５】 実施形態における導電性パッドの製造方法
を示す該略図である。
を示す該略図である。
【図１６】 実施形態における導電性パッドの製造方法
を示す該略図である。
を示す該略図である。
１０１ ＴＦＴアレイ基板、１０２ カラーフィルタ基
板、１０３ 表示領域端、１０４ 外周領域、１０５
偏光板端、１０６ カラーフィルタ基板端、１０７ 基
板間接続部、１０８ 周回線、１１０ 液晶注入口、２
０１ 偏光板、２０２ 遮光部、２０３ カラーフィル
タ、２０４ ＩＴＯ透明電極、２０５ 画素駆動回路、
２０６ 液晶、２０７ シール部、２０８ トランスフ
ァ 、２０９ パッド、４０１ ゲート線層、４０２
信号線層、４０３絶縁膜、９０１ ＴＦＴアレイ基板、
９０２ カラーフィルタ基板、９０３表示領域端、９０
４ 外周領域、９０５ 偏光板端、９０６ カラーフィ
ルタ基板端、９０７ 基板間接続部、９０８ 周回線、
９１０ 液晶注入口、１００１遮光膜、１００２ ＩＴ
Ｏ透明電極、１００３ トランスファ、１００４ 信号
線層、１００５ 透明電極層、１００６ 絶縁層、１０
０７ ゲート配線層、１００８ パッド
板、１０３ 表示領域端、１０４ 外周領域、１０５
偏光板端、１０６ カラーフィルタ基板端、１０７ 基
板間接続部、１０８ 周回線、１１０ 液晶注入口、２
０１ 偏光板、２０２ 遮光部、２０３ カラーフィル
タ、２０４ ＩＴＯ透明電極、２０５ 画素駆動回路、
２０６ 液晶、２０７ シール部、２０８ トランスフ
ァ 、２０９ パッド、４０１ ゲート線層、４０２
信号線層、４０３絶縁膜、９０１ ＴＦＴアレイ基板、
９０２ カラーフィルタ基板、９０３表示領域端、９０
４ 外周領域、９０５ 偏光板端、９０６ カラーフィ
ルタ基板端、９０７ 基板間接続部、９０８ 周回線、
９１０ 液晶注入口、１００１遮光膜、１００２ ＩＴ
Ｏ透明電極、１００３ トランスファ、１００４ 信号
線層、１００５ 透明電極層、１００６ 絶縁層、１０
０７ ゲート配線層、１００８ パッド
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 林 克郎
神奈川県大和市下鶴間1623番地14 日本
アイ・ビー・エム株式会社 大和事業所
内
(56)参考文献 特開 平11−174484（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−17843（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02F 1/1345
G02F 1/13 101
G09F 9/30 331
Claims (8)
- 【請求項１】透明アレイ基板と、該透明アレイ基板に対
向する透明カラーフィルタ基板と、前記透明アレイ基板
及び透明カラーフィルタ基板間に封入された液晶と、を
有する液晶表示装置であって、 前記透明アレイ基板は、 複数の副画素部から構成され、画像表示を行う表示領域
と、 前記表示領域の外側に設けられた外周領域と、 前記外周領域に設けられた光不透過性の導電性金属接続
パッドであって、互いに隔てられた３つ若しくは４つの
半径方向のそれぞれに沿った開口部に光透過性導電性部
材が設けられ、該光透過性導電性部材の面積の合計が前
記光不透過性の導電性金属接続パッドの面積よりも小さ
くされている、前記光不透過性の導電性金属接続パッド
とを備え、 前記透明カラーフィルタ基板は、 前記透明アレイ基板の前記導電性金属接続パッドに対面
する位置まで延びるように設けられたカラーフィルタ遮
光層と、 前記透明アレイ基板の前記導電性金属接続パッドに対面
する位置まで延びるように前記カラーフィルタ遮光層の
上に設けられた透明電極層とを備え、 前記透明アレイ基板の前記導電性金属接続パッドと前記
透明カラーフィルタ基板の前記透明電極層とが導電体部
により接続されている、液晶表示装置。 - 【請求項２】前記光透過性導電性部材の材料はＩＴＯで
ある、請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】前記光透過性導電性部材の材料はＩＺＯで
ある、請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】前記導電性金属接続パッドは前記副画素部
内の配線材料で形成され、前記光透過性導電性部材は副
画素部内の透明電極の材料で形成されている、請求項１
に記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】前記光透過性導電性部材のそれぞれが、前
記導電体部の端部と重なっている、請求項１に記載の液
晶表示装置。 - 【請求項６】前記光透過性導電性部材が４つ設けられ、
前記導電性金属接続パッドの周回方向に実質的に９０°
の角度で配置されている、請求項１に記載の液晶表示装
置。 - 【請求項７】前記光透過性導電性部材が３つ設けられ、
前記導電性金属接続パッドの周回方向に実質的に１２０
°の角度で配置されている、請求項１に記載の液晶表示
装置。 - 【請求項８】液晶表示装置の検査方法であって、 前記液晶表示装置は、 複数の副画素部から構成され画像表示を行う表示領域、
前記表示領域の外側に設けられた外周領域、及び、前記
外周領域に設けられた光不透過性の導電性金属接続パッ
ドであって、互いに隔てられた３つ若しくは４つの半径
方向のそれぞれに沿った開口部に光透過性導電性部材が
設けられ、該光透過性導電性部材の面積の合計が前記光
不透過性の導電性金属接続パッドの面積よりも小さくさ
れている、前記光不透過性の導電性金属接続パッドを備
える透明アレイ基板と、 前記透明アレイ基板の前記導電性金属接続パッドに対面
する位置まで延びるように設けられたカラーフィルタ遮
光層、及び、前記透明アレイ基板の前記導電性金属接続
パッドに対面する位置まで延びるように前記カラーフィ
ルタ遮光層の上に設けられた透明電極層を備える透明カ
ラーフィルタ基板と、 前記透明アレイ基板及び前記透明カラーフィルタ基板の
間に支持された液晶と、 前記透明アレイ基板の前記導電性金属接続パッドと前記
透明カラーフィルタ基板の前記透明電極層とを接続する
導電体部とを備え、 前記液晶表示装置を光学顕微鏡にセットする、ステップ
と、 前記光学顕微鏡にセットされた前記液晶表示装置を視覚
的に確認する、ステップと、 前記透明アレイ基板側から、前記導電性金属接続パッド
の前記光透過性導電性部材を介して、前記導電性金属接
続パッドに対する前記導電体部の接続状態を視覚的に確
認する、ステップと、 を有する、液晶表示装置の検査方法。
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