JP3486364B2 - 解凍検知装置 - Google Patents
解凍検知装置Info
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- JP3486364B2 JP3486364B2 JP04800599A JP4800599A JP3486364B2 JP 3486364 B2 JP3486364 B2 JP 3486364B2 JP 04800599 A JP04800599 A JP 04800599A JP 4800599 A JP4800599 A JP 4800599A JP 3486364 B2 JP3486364 B2 JP 3486364B2
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- thawed
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- thawing
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば電子レン
ジに使用される、被解凍物の解凍状態を検知し得る解凍
検知装置に関するものである。
ジに使用される、被解凍物の解凍状態を検知し得る解凍
検知装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】加熱室内に収納されている被解凍物にマ
イクロ波あるいは熱気を供給して、被解凍物を加熱する
電子レンジ等の加熱装置においては、被解凍物の解凍の
程度の制御に際し、タイマを用い使用者が加熱時間を設
定する方法、または、被解凍物の重量を自動的に測定し
その重量に合った加熱時間を自動的に算出し設定する方
法等が従来行なわれていた。
イクロ波あるいは熱気を供給して、被解凍物を加熱する
電子レンジ等の加熱装置においては、被解凍物の解凍の
程度の制御に際し、タイマを用い使用者が加熱時間を設
定する方法、または、被解凍物の重量を自動的に測定し
その重量に合った加熱時間を自動的に算出し設定する方
法等が従来行なわれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】タイマを用いる方法に
おいては、被解凍物の量および冷凍状態、被解凍物の種
類等によって、解凍する加熱時間がそれぞれ異なってい
るために、加熱時間の設定には相当の熟練を必要とし、
しばしば不適当な設定によって解凍に過不足を生じてい
た。
おいては、被解凍物の量および冷凍状態、被解凍物の種
類等によって、解凍する加熱時間がそれぞれ異なってい
るために、加熱時間の設定には相当の熟練を必要とし、
しばしば不適当な設定によって解凍に過不足を生じてい
た。
【０００４】また、自動的に重量を測定して加熱時間を
自動的に算出する方法においても、被解凍物の種類によ
ってキー操作の使いわけを必要としたり、また、被解凍
物の冷凍状態の判定は外観からは不可能なため、しばし
ば不適当な加熱時間を算出し解凍に過不足を生じてい
た。
自動的に算出する方法においても、被解凍物の種類によ
ってキー操作の使いわけを必要としたり、また、被解凍
物の冷凍状態の判定は外観からは不可能なため、しばし
ば不適当な加熱時間を算出し解凍に過不足を生じてい
た。
【０００５】このように、従来のタイマを用いる方法あ
るいは自動的に重量を測定する方法は、いずれも解凍が
適正に行なわれない場合がある。
るいは自動的に重量を測定する方法は、いずれも解凍が
適正に行なわれない場合がある。
【０００６】自動的に被解凍物の重量を測定する方法に
おいては、その測定方法がかなり複雑なため、装置が高
価になる。
おいては、その測定方法がかなり複雑なため、装置が高
価になる。
【０００７】本発明は上記のような欠点を除去するのに
使用して好適な解凍検知装置に関するものである。
使用して好適な解凍検知装置に関するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の解凍検知装置
は、被解凍物の解凍状態を検知する解凍検知装置におい
て、上記被解凍物の表面の変化を該表面からの遠赤外光
の反射光の照度の変化として検知することにより上記被
解凍物の解凍状態を検知する検知手段を有することを特
徴とするものである。
は、被解凍物の解凍状態を検知する解凍検知装置におい
て、上記被解凍物の表面の変化を該表面からの遠赤外光
の反射光の照度の変化として検知することにより上記被
解凍物の解凍状態を検知する検知手段を有することを特
徴とするものである。
【０００９】また、上記遠赤外光を被解凍物に照射する
光源を有することを特徴とするものである。
光源を有することを特徴とするものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の解凍検知装置の一
実施例を解凍加熱装置に実施した場合ついて図面と共に
説明する。
実施例を解凍加熱装置に実施した場合ついて図面と共に
説明する。
【００１１】図１は、本発明の解凍検知装置の一実施例
のブロック図である。
のブロック図である。
【００１２】光源３から投射された光は被解凍物７で反
射され、光センサ５によって反射光の照度が検出され
る。被解凍物７が凍結しているときと、解凍が進むとき
では、その反射光の強さは変化する。
射され、光センサ５によって反射光の照度が検出され
る。被解凍物７が凍結しているときと、解凍が進むとき
では、その反射光の強さは変化する。
【００１３】光源３として、たとえば電子レンジにおい
ては、その運転中に点灯されるオーブンランプを使用す
ることができる。また、可視光および可視光以外の光源
を別に設けることもできる。
ては、その運転中に点灯されるオーブンランプを使用す
ることができる。また、可視光および可視光以外の光源
を別に設けることもできる。
【００１４】光センサ５としては、フォトダイオード，
フォトトランジスタ等が使用され、たとえば加熱室１０
の上方に設けられる。
フォトトランジスタ等が使用され、たとえば加熱室１０
の上方に設けられる。
【００１５】光センサ５で検出したある時点での反射光
の照度は、電圧に変換され、たとえばマイコンのような
コントローラ１の記憶手段１ａに記憶される。
の照度は、電圧に変換され、たとえばマイコンのような
コントローラ１の記憶手段１ａに記憶される。
【００１６】図２は、光センサ５に関連した回路図であ
る。光センサ５により光電変換された信号は、増幅器５
−１により、あるレベル以上の電圧が増幅されてコント
ローラに供給される。
る。光センサ５により光電変換された信号は、増幅器５
−１により、あるレベル以上の電圧が増幅されてコント
ローラに供給される。
【００１７】ある所定の時間が経過すると、そのときの
光センサ５の出力は、前に測定したときに記憶されてい
る電圧と、コントローラ１の比較手段１ｂにおいて比較
される。
光センサ５の出力は、前に測定したときに記憶されてい
る電圧と、コントローラ１の比較手段１ｂにおいて比較
される。
【００１８】光センサ５からコントローラ１への入力電
圧は、加熱時間の経過によりたとえば図３のような変化
をする。解凍前の電圧をＶ1とすると、解凍が終了に近
づいたときの電圧はＶ２となる。その変化の状況および
出力電圧のレベルは、解凍されるものの品種，量，冷凍
状態などにより異なる。したがって、その出力電圧を解
析しそれぞれに応じた最適な自動解凍調理を行なう必要
がある。解凍中ある時間ごとに光センサ５からの出力信
号のレベルを検出し、以前に検出したレベルと比較し、
その変化をコントローラ１で読取って解凍状態の変化と
して検知し、その制御手段１ｃにより加熱手段２を制御
する。これにより適切な自動解凍調理を行なうことがで
きる。
圧は、加熱時間の経過によりたとえば図３のような変化
をする。解凍前の電圧をＶ1とすると、解凍が終了に近
づいたときの電圧はＶ２となる。その変化の状況および
出力電圧のレベルは、解凍されるものの品種，量，冷凍
状態などにより異なる。したがって、その出力電圧を解
析しそれぞれに応じた最適な自動解凍調理を行なう必要
がある。解凍中ある時間ごとに光センサ５からの出力信
号のレベルを検出し、以前に検出したレベルと比較し、
その変化をコントローラ１で読取って解凍状態の変化と
して検知し、その制御手段１ｃにより加熱手段２を制御
する。これにより適切な自動解凍調理を行なうことがで
きる。
【００１９】図４は、光センサ５を電子レンジの加熱室
１０の上部に設けた場合の略断面図である。光源３とし
ては、オーブンランプが使用され、その光は壁面の空隙
から被解凍物７に反射されて天井部の光センサ５で光電
変換され、その出力はコネクタ１３により接続されたコ
ントローラに供給される。光センサ５は加熱室１０の天
井ほぼ中央に設けた透光部１０−１の上方に設けられ
る。また、光センサ５は加熱室１０の上部に設けた枠１
１で支持される基板１２の内側に取付けられている。
１０の上部に設けた場合の略断面図である。光源３とし
ては、オーブンランプが使用され、その光は壁面の空隙
から被解凍物７に反射されて天井部の光センサ５で光電
変換され、その出力はコネクタ１３により接続されたコ
ントローラに供給される。光センサ５は加熱室１０の天
井ほぼ中央に設けた透光部１０−１の上方に設けられ
る。また、光センサ５は加熱室１０の上部に設けた枠１
１で支持される基板１２の内側に取付けられている。
【００２０】図５は反射光を光センサに導く経路に、集
光および受光範囲調整用のレンズ１４および反射用の鏡
１５，１５を設けた一例の略断面図である。これによ
り、反射光を有効に利用できるとともに、コントロール
パネル１６に設けた受光素子（図示されていない）に光
を導くことが可能となり、図４に示されるような枠１
１，基板１２，コネクタ１３等を削減することができ
る。
光および受光範囲調整用のレンズ１４および反射用の鏡
１５，１５を設けた一例の略断面図である。これによ
り、反射光を有効に利用できるとともに、コントロール
パネル１６に設けた受光素子（図示されていない）に光
を導くことが可能となり、図４に示されるような枠１
１，基板１２，コネクタ１３等を削減することができ
る。
【００２１】図６は、光源３の光が、光センサ５に直接
入ってこないように、加熱室１０の上方に加熱室１０内
に延長された遮光壁１７を設けた一例の略断面図であ
る。これによって、必要とする被解凍物からの光の変化
の情報変化が大きくなり、より精密に制御可能となる。
入ってこないように、加熱室１０の上方に加熱室１０内
に延長された遮光壁１７を設けた一例の略断面図であ
る。これによって、必要とする被解凍物からの光の変化
の情報変化が大きくなり、より精密に制御可能となる。
【００２２】図７は、光センサ５として遠赤外線領域の
受光素子を使用した場合の一例の略断面図である。これ
により外来光の影響を受けにくくなる。この場合、光源
３として使用されるオーブンランプの可視光以外の遠赤
外光のみを利用するのではなく、別に遠赤外光線発生用
光源１８を加熱室１０の壁面に設けると、光センサ５の
感度が大きくなり、より精密に制御可能となる。
受光素子を使用した場合の一例の略断面図である。これ
により外来光の影響を受けにくくなる。この場合、光源
３として使用されるオーブンランプの可視光以外の遠赤
外光のみを利用するのではなく、別に遠赤外光線発生用
光源１８を加熱室１０の壁面に設けると、光センサ５の
感度が大きくなり、より精密に制御可能となる。
【００２３】被解凍物は、加熱されるにしたがって、そ
れから輻射される遠赤外線の強度が強くなるから、オー
ブンランプその他の光源を省略することもできる。
れから輻射される遠赤外線の強度が強くなるから、オー
ブンランプその他の光源を省略することもできる。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、被解凍物の表面の微妙
な変化を該表面からの遠赤外光の反射光の照度の変化と
して検知することにより精確に検知することができ、被
解凍物の解凍が進む状態を随時精確に検知することがで
きて、所望の解凍状態を適確に得ることができ、しか
も、被解凍物の種類，量，冷凍状態が異なった場合にお
いても、精確に検知することができ、そのうえ、赤外光
等の他の光が雑音となることがなく精度の高い解凍状態
の検知を行うことができる。また、検知手段としてはフ
ォトダイオード，フォトトランジスタ等の安価な素子を
使用することができるから、加熱装置の価格を低減する
ことができる。
な変化を該表面からの遠赤外光の反射光の照度の変化と
して検知することにより精確に検知することができ、被
解凍物の解凍が進む状態を随時精確に検知することがで
きて、所望の解凍状態を適確に得ることができ、しか
も、被解凍物の種類，量，冷凍状態が異なった場合にお
いても、精確に検知することができ、そのうえ、赤外光
等の他の光が雑音となることがなく精度の高い解凍状態
の検知を行うことができる。また、検知手段としてはフ
ォトダイオード，フォトトランジスタ等の安価な素子を
使用することができるから、加熱装置の価格を低減する
ことができる。
【図１】本発明の一実施例のブロック図である。
【図２】光センサ関係の回路図である。
【図３】加熱経過時間とコントローラへの入力電圧との
関係を示すグラフである。
関係を示すグラフである。
【図４】光センサと光源との関係を示す第１の例の略断
面図である。
面図である。
【図５】光センサと光源との関係を示す第２の例の略断
面図である。
面図である。
【図６】光センサと光源との関係を示す第３の例の略断
面図である。
面図である。
【図７】光センサと光源との関係を示す第４の例の略断
面図である。
面図である。
１ コントローラ
２ 加熱手段
３ 光源
５ 光センサ
７ 被解凍物
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平２−263016（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−210532（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−164427（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−307024（ＪＰ，Ａ)
特開 昭57−150737（ＪＰ，Ａ)
特開 昭59−81716（ＪＰ，Ａ)
実開 昭56−115601（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
F24C 7/02 330,340
Claims (2)
- 【請求項１】 被解凍物の解凍状態を検知する解凍検知
装置において、 上記被解凍物の表面の変化を該表面からの遠赤外光の反
射光の照度の変化として検知することにより上記被解凍
物の解凍状態を検知する検知手段を有することを特徴と
する解凍検知装置。 - 【請求項２】 上記遠赤外光を被解凍物に照射する光源
を有することを特徴とする請求項１記載の解凍検知装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04800599A JP3486364B2 (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 解凍検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04800599A JP3486364B2 (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 解凍検知装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04145520A Division JP3101076B2 (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | 解凍加熱装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001399159A Division JP2002267169A (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 解凍装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11316022A JPH11316022A (ja) | 1999-11-16 |
| JP3486364B2 true JP3486364B2 (ja) | 2004-01-13 |
Family
ID=12791196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04800599A Expired - Fee Related JP3486364B2 (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 解凍検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3486364B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7488919B2 (en) * | 2004-09-01 | 2009-02-10 | Western Industries, Inc. | Warming apparatus |
-
1999
- 1999-02-25 JP JP04800599A patent/JP3486364B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11316022A (ja) | 1999-11-16 |
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