JP3475432B2 - ２−オキソ−１，３−ジオキソランの製造方法 - Google Patents
２−オキソ−１，３−ジオキソランの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、少なくとも１個のエポ
キシド基を有する有機化合物を、塩基性触媒の存在下
で、昇温下において、低分子量２−オキソ−１，３−ジ
オキソランと反応させることによって置換２−オキソ−
１，３−ジオキソランを製造する方法に関する。
キシド基を有する有機化合物を、塩基性触媒の存在下
で、昇温下において、低分子量２−オキソ−１，３−ジ
オキソランと反応させることによって置換２−オキソ−
１，３−ジオキソランを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】２−オキソ−１，３−ジオキソランは、
溶媒としてもまた多目的の中間体としても化学工業の多
くの分野で重要な役割を果している。２−オキソ−１，
３−ジオキソランを製造するための多数の方法に関する
記述もある（“ハウベン−ウエイル(Houben-Weyl)”、
有機化学の方法、Ｅ４巻、ジョージ・シーメ(Georg Thi
eme)出版、１９８３年）。
溶媒としてもまた多目的の中間体としても化学工業の多
くの分野で重要な役割を果している。２−オキソ−１，
３−ジオキソランを製造するための多数の方法に関する
記述もある（“ハウベン−ウエイル(Houben-Weyl)”、
有機化学の方法、Ｅ４巻、ジョージ・シーメ(Georg Thi
eme)出版、１９８３年）。
【０００３】最も古い方法は、多分、グリコールにフォ
スゲンを作用させることを基礎にしている。関連する方
法はグリコールとクロロギ酸のエステルとの反応を含ん
でいる。２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造する
ための最も簡単な実験室的方法は、単純な開鎖炭酸エス
テル（好ましくは炭酸ジエチル）とグリコールとのエス
テル交換反応である。置換２−オキソ−１，３−ジオキ
ソランを製造するための優れた方法はエポキシドを含む
化合物と二酸化炭素との反応を基礎にしている。適切な
手法はドイツ特許公報ＤＥ−ＯＳ ３５２９２６３に記
載されている。
スゲンを作用させることを基礎にしている。関連する方
法はグリコールとクロロギ酸のエステルとの反応を含ん
でいる。２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造する
ための最も簡単な実験室的方法は、単純な開鎖炭酸エス
テル（好ましくは炭酸ジエチル）とグリコールとのエス
テル交換反応である。置換２−オキソ−１，３−ジオキ
ソランを製造するための優れた方法はエポキシドを含む
化合物と二酸化炭素との反応を基礎にしている。適切な
手法はドイツ特許公報ＤＥ−ＯＳ ３５２９２６３に記
載されている。
【０００４】この他にも，同様の方法がＧ．ロキッキ(R
ockicki)等によって記載されている（Monatshefte fuer
Chemie(化学月報)、１１５巻、１９８４年、２０５〜
２１４頁）。原則として、二酸化炭素を触媒の存在下で
添加するこれらの方法は加圧条件下で操作される。更
に、この方法においては、これらのエポキシドを含むエ
ステルを極めて純粋な状態で使用することが必要であ
る。しかしながら今日まで、これらの出発物質を工業的
な大きな規模で十分な量製造することは非常に困難であ
った。
ockicki)等によって記載されている（Monatshefte fuer
Chemie(化学月報)、１１５巻、１９８４年、２０５〜
２１４頁）。原則として、二酸化炭素を触媒の存在下で
添加するこれらの方法は加圧条件下で操作される。更
に、この方法においては、これらのエポキシドを含むエ
ステルを極めて純粋な状態で使用することが必要であ
る。しかしながら今日まで、これらの出発物質を工業的
な大きな規模で十分な量製造することは非常に困難であ
った。
【０００５】シクロカーボネートを含むアルコール、例
えば、下記構造式（VIII）で表されるグリセリルシクロ
カーボネートは、２−オキソ−１，３−ジオキソランを
製造するために使用できることも知られている。
えば、下記構造式（VIII）で表されるグリセリルシクロ
カーボネートは、２−オキソ−１，３−ジオキソランを
製造するために使用できることも知られている。
【０００６】
【化１０】
【０００７】ここでグリセリルシクロカーボネートの第
１級アルコール官能基は、エステル交換法において反応
する。このようにして特に不飽和酸のシクロカーボネー
トを含むエステルが製造されている（米国特許公報ＵＳ
−ＰＳ ２９７９５１４、ＵＳ−ＰＳ ２９６７１７
３）。
１級アルコール官能基は、エステル交換法において反応
する。このようにして特に不飽和酸のシクロカーボネー
トを含むエステルが製造されている（米国特許公報ＵＳ
−ＰＳ ２９７９５１４、ＵＳ−ＰＳ ２９６７１７
３）。
【０００８】上記構造式（VIII）で表されるグリセリル
シクロカーボネートと不飽和カルボン酸無水物との反応
も研究されてきた。“ポリマー科学誌(Journal of Poly
merScience)”Ａ１−５部（１９６７年）３０７〜３２
１頁（米国特許公報ＵＳ−ＰＳ ３２２５０６３も同
様）において、Ｇ．Ｆ．Ｄ．アレリオとＴ．ヒューマー
は、上記構造式（VIII）で表される化合物と酸無水物と
からシクロカーボネートを含むエステルを合成しようと
する試みを記載している。
シクロカーボネートと不飽和カルボン酸無水物との反応
も研究されてきた。“ポリマー科学誌(Journal of Poly
merScience)”Ａ１−５部（１９６７年）３０７〜３２
１頁（米国特許公報ＵＳ−ＰＳ ３２２５０６３も同
様）において、Ｇ．Ｆ．Ｄ．アレリオとＴ．ヒューマー
は、上記構造式（VIII）で表される化合物と酸無水物と
からシクロカーボネートを含むエステルを合成しようと
する試みを記載している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】高い収率を得るため
に、公知の方法においては、温度を上げて非常に長時
間、例えば６０〜８０℃において３６〜４８時間、反応
を進行させることが必要である。これらの条件の下では
多数の副反応、例えばアクリル酸誘導体の重合、または
置換エチレングリコールジエステル（ヒュルス(Huels)
社、情報シート(Information Sheet)“炭酸アルキレン
(Alkylene Carbonates)”１９８５年）およびポリエス
テル（英国特許公報ＧＢ−ＰＳ ７７８４１０）の生成
が観察される。
に、公知の方法においては、温度を上げて非常に長時
間、例えば６０〜８０℃において３６〜４８時間、反応
を進行させることが必要である。これらの条件の下では
多数の副反応、例えばアクリル酸誘導体の重合、または
置換エチレングリコールジエステル（ヒュルス(Huels)
社、情報シート(Information Sheet)“炭酸アルキレン
(Alkylene Carbonates)”１９８５年）およびポリエス
テル（英国特許公報ＧＢ−ＰＳ ７７８４１０）の生成
が観察される。
【００１０】隣接ハロヒドリンが２−オキソ−１，３−
ジオキソランの合成にも使用される。例えばエチレンク
ロロヒドリンまたはプロピレンクロロヒドリンは、昇温
下においてアルカリ金属の炭酸水素塩と反応して、シク
ロカーボネートエステルを生成する（ドイツ特許公報Ｄ
Ｅ−ＰＳ ５１６２８１）。この方法によれば最も単純
な２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造することし
かできない。エチレンカーボネートの収率は良好である
が、プロピレンカーボネートの収率は悪い。この方法は
全体で４個以上の炭素を有する２−オキソ−１，３−ジ
オキソランには適当ではない。
ジオキソランの合成にも使用される。例えばエチレンク
ロロヒドリンまたはプロピレンクロロヒドリンは、昇温
下においてアルカリ金属の炭酸水素塩と反応して、シク
ロカーボネートエステルを生成する（ドイツ特許公報Ｄ
Ｅ−ＰＳ ５１６２８１）。この方法によれば最も単純
な２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造することし
かできない。エチレンカーボネートの収率は良好である
が、プロピレンカーボネートの収率は悪い。この方法は
全体で４個以上の炭素を有する２−オキソ−１，３−ジ
オキソランには適当ではない。
【００１１】エチレンクロロヒドリンを炭酸メチルナト
リウムと反応させることによってエチレンカーボネート
を低い収率で得ることができる（米国特許公報ＵＳ−Ｐ
Ｓ２７８４２０１）。希釈剤としてのハロゲン化炭化水
素の存在下で、ハロヒドリンとアルカリ金属炭酸塩との
反応で、単純なアルキレンカーボネートが生成する（米
国特許公報ＵＳ−ＰＳ ２７６６２５８）。前述の方法
（ドイツ特許公報ＤＥ−ＰＳ ５１６２８１）のよう
に、この方法はエチレンカーボネートの製造にだけ利用
することができ、プロピレンカーボネートの製造にはあ
まり有利ではない。
リウムと反応させることによってエチレンカーボネート
を低い収率で得ることができる（米国特許公報ＵＳ−Ｐ
Ｓ２７８４２０１）。希釈剤としてのハロゲン化炭化水
素の存在下で、ハロヒドリンとアルカリ金属炭酸塩との
反応で、単純なアルキレンカーボネートが生成する（米
国特許公報ＵＳ−ＰＳ ２７６６２５８）。前述の方法
（ドイツ特許公報ＤＥ−ＰＳ ５１６２８１）のよう
に、この方法はエチレンカーボネートの製造にだけ利用
することができ、プロピレンカーボネートの製造にはあ
まり有利ではない。
【００１２】隣接ハロヒドリンは加圧下で炭酸ガスと反
応して２−オキソ−１，３−ジオキソランを生成する
（米国特許公報ＵＳ−ＰＳ ３９２３８４２）。緩かな
条件の下で、隣接ハロヒドリンは溶媒としてのアセトニ
トリル中で２−オキソ−１，３−ジオキソランに変換さ
れうる。このための共反応剤は第４級アンモニウム化合
物の炭酸水素塩（欧州特許公報ＥＰ ４９４２）であ
る。この方法は、鎖中に２〜４個の炭素原子を有する２
−オキソ−１，３−ジオキソランの製造に好適である。
ハロヒドリンとアルカリ金属炭酸塩から２−オキソ−
１，３−ジオキソランを製造するための前記の方法は、
下記一般式（IX）で表される種類の化合物に限定され
る。下記一般式（IX）において、Ｒ7は水素原子または
メチル基を示す。従って、シクロカーボネート官能基は
別として、これらの化合物は官能基を有しない。
応して２−オキソ−１，３−ジオキソランを生成する
（米国特許公報ＵＳ−ＰＳ ３９２３８４２）。緩かな
条件の下で、隣接ハロヒドリンは溶媒としてのアセトニ
トリル中で２−オキソ−１，３−ジオキソランに変換さ
れうる。このための共反応剤は第４級アンモニウム化合
物の炭酸水素塩（欧州特許公報ＥＰ ４９４２）であ
る。この方法は、鎖中に２〜４個の炭素原子を有する２
−オキソ−１，３−ジオキソランの製造に好適である。
ハロヒドリンとアルカリ金属炭酸塩から２−オキソ−
１，３−ジオキソランを製造するための前記の方法は、
下記一般式（IX）で表される種類の化合物に限定され
る。下記一般式（IX）において、Ｒ7は水素原子または
メチル基を示す。従って、シクロカーボネート官能基は
別として、これらの化合物は官能基を有しない。
【００１３】
【化１１】
【００１４】他の方法によれば、例えばドイツ特許公報
ＤＥ−ＯＳ ３８０４８２０に記載されているように、
シクロカーボネートを含む炭素原子が１〜２０個のアル
コールが、酸性または塩基性触媒の存在下で、昇温下
で、様々の構造の無水カルボン酸と反応する。この方法
によって置換２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造
することができる。しかしながら、無水カルボン酸は非
常に高価で工業的には限定的にしか利用されていないこ
とはよく知られている。
ＤＥ−ＯＳ ３８０４８２０に記載されているように、
シクロカーボネートを含む炭素原子が１〜２０個のアル
コールが、酸性または塩基性触媒の存在下で、昇温下
で、様々の構造の無水カルボン酸と反応する。この方法
によって置換２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造
することができる。しかしながら、無水カルボン酸は非
常に高価で工業的には限定的にしか利用されていないこ
とはよく知られている。
【００１５】２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造
するための他の方法は、ドイツ特許公報ＤＥ−ＯＳ ３
７２３７８２に記載されている。この方法によれば、例
えばエステル基またはエーテル基または重合性の二重結
合などの他の敏感な官能基を有する２−オキソ−１，３
−ジオキソランを容易に製造することができる。この方
法の欠点は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、Ｎ−メチルピロリドンなどの特別の溶剤の使用に
起因する。第１にこれらの溶剤は比較的高価であり、第
２は完全に除去することが容易にはできないということ
である。
するための他の方法は、ドイツ特許公報ＤＥ−ＯＳ ３
７２３７８２に記載されている。この方法によれば、例
えばエステル基またはエーテル基または重合性の二重結
合などの他の敏感な官能基を有する２−オキソ−１，３
−ジオキソランを容易に製造することができる。この方
法の欠点は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、Ｎ−メチルピロリドンなどの特別の溶剤の使用に
起因する。第１にこれらの溶剤は比較的高価であり、第
２は完全に除去することが容易にはできないということ
である。
【００１６】本発明の目的は、その他の官能基を有する
か、あるいは有しない２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ンを製造するための新しい方法であって、公知の方法の
欠点が発生しない方法を提供することにある。
か、あるいは有しない２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ンを製造するための新しい方法であって、公知の方法の
欠点が発生しない方法を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の請求項１記載の方法は、下記一般式（Ｉ）
で表される２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造す
るための方法であって、下記一般式（II）で表されるエ
ポキシド化合物と、下記一般式（III）で表される少な
くとも一種の低分子量２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ンとを、少なくとも一種の塩基性触媒の存在下で、昇温
下において反応させるものである。
に、本発明の請求項１記載の方法は、下記一般式（Ｉ）
で表される２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造す
るための方法であって、下記一般式（II）で表されるエ
ポキシド化合物と、下記一般式（III）で表される少な
くとも一種の低分子量２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ンとを、少なくとも一種の塩基性触媒の存在下で、昇温
下において反応させるものである。
【００１８】
【化１２】
【００１９】
【化１３】
【００２０】
【化１４】
【００２１】（一般式（Ｉ）および（II）において、Ｒ
１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ置換されたまたは未置換
の、枝分かれを有するまたは直鎖状の脂肪族、芳香族、
芳香脂肪族、または脂環式炭化水素残基もしくは複素環
残基で、それぞれ１〜２５個の炭素原子を有するもので
ある。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は互いに同一であっても異
なっていてもよい。また一般式（III）において、Ｒ４
は水素原子、最大５個の炭素原子を有する未置換のまた
は置換された、枝分かれを有するまたは直鎖状の脂肪族
鎖である。但し、Ｒ ４ はＲ １ と同一ではなく、また、脂
肪族鎖を表す場合はＲ １ よりも炭素原子数が小さいもの
である。）
１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ置換されたまたは未置換
の、枝分かれを有するまたは直鎖状の脂肪族、芳香族、
芳香脂肪族、または脂環式炭化水素残基もしくは複素環
残基で、それぞれ１〜２５個の炭素原子を有するもので
ある。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は互いに同一であっても異
なっていてもよい。また一般式（III）において、Ｒ４
は水素原子、最大５個の炭素原子を有する未置換のまた
は置換された、枝分かれを有するまたは直鎖状の脂肪族
鎖である。但し、Ｒ ４ はＲ １ と同一ではなく、また、脂
肪族鎖を表す場合はＲ １ よりも炭素原子数が小さいもの
である。）
【００２２】また本発明の請求項２記載の方法は、下記
一般式（IV）で表される２−オキソ−１，３−ジオキソ
ランを製造するための方法であって、下記一般式（Ｖ）
で表されるエポキシド化合物と、下記一般式（III）で
表される少なくとも一種の低分子量２−オキソ−１，３
−ジオキソランとを、少なくとも一種の塩基性触媒の存
在下で、昇温下において反応させるものである。
一般式（IV）で表される２−オキソ−１，３−ジオキソ
ランを製造するための方法であって、下記一般式（Ｖ）
で表されるエポキシド化合物と、下記一般式（III）で
表される少なくとも一種の低分子量２−オキソ−１，３
−ジオキソランとを、少なくとも一種の塩基性触媒の存
在下で、昇温下において反応させるものである。
【００２３】
【化１５】
【００２４】
【化１６】
【００２５】
【化１７】
【００２６】（一般式（IV）および（Ｖ）において、Ｒ
5は水素原子、あるいは１価、２価、３価または４価の
飽和または不飽和の脂環式、芳香族または芳香脂肪族炭
化水素残基もしくは複素環残基で、最大２０個の炭素原
子を有するものである。ｎは１、２、３または４を示
し、ｐは０または１である。また、一般式（III）にお
いて、Ｒ4は上記と同様である。）
5は水素原子、あるいは１価、２価、３価または４価の
飽和または不飽和の脂環式、芳香族または芳香脂肪族炭
化水素残基もしくは複素環残基で、最大２０個の炭素原
子を有するものである。ｎは１、２、３または４を示
し、ｐは０または１である。また、一般式（III）にお
いて、Ｒ4は上記と同様である。）
【００２７】また、本発明の請求項３記載の方法は、下
記構造部位（VI-1）及び下記構造部位（VI-2）から構成
される２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造するた
めの方法であって、下記構造部位（VII-1）及び下記構
造部位（VII-2）から構成されるエポキシド化合物と、
下記一般式（III）で表される少なくとも一種の低分子
量２−オキソ−１，３−ジオキソランとを、少なくとも
一種の塩基性触媒の存在下で、昇温下において反応させ
るものである。
記構造部位（VI-1）及び下記構造部位（VI-2）から構成
される２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造するた
めの方法であって、下記構造部位（VII-1）及び下記構
造部位（VII-2）から構成されるエポキシド化合物と、
下記一般式（III）で表される少なくとも一種の低分子
量２−オキソ−１，３−ジオキソランとを、少なくとも
一種の塩基性触媒の存在下で、昇温下において反応させ
るものである。
【化１８】
【化１９】
【化２０】
（構造単位（VI-1）、（VI-2）、（VII-1）、及び（VII
-2）において、Ｒ６は水素原子、または最大１８個の炭
素原子を有する未置換のまたは置換されたアルキル残基
を示し、ＺはＣＯＯＲ６、ＣＮ、ＣＯＯ−ＣｎＨ２ｎ−
Ｎ(Ｒ６)２、ＣＯＯ−ＣｎＨ２ｎ−ＯＨ、ＣＯＮＨ２、
または置換されたあるいは未置換のフェニル基を示す。
ｎは２〜６であり、且つ、構造単位（VI-1）及び構造単
位（VI-2）の合計数、又は構造単位（VII-1）及び構造
単位（VII-2）の合計数が５〜１０００である。また一
般式（III）において、Ｒ４は水素原子、最大５個の炭
素原子を有する未置換のまたは置換された、枝分かれを
有するまたは直鎖状の脂肪族鎖である。）
-2）において、Ｒ６は水素原子、または最大１８個の炭
素原子を有する未置換のまたは置換されたアルキル残基
を示し、ＺはＣＯＯＲ６、ＣＮ、ＣＯＯ−ＣｎＨ２ｎ−
Ｎ(Ｒ６)２、ＣＯＯ−ＣｎＨ２ｎ−ＯＨ、ＣＯＮＨ２、
または置換されたあるいは未置換のフェニル基を示す。
ｎは２〜６であり、且つ、構造単位（VI-1）及び構造単
位（VI-2）の合計数、又は構造単位（VII-1）及び構造
単位（VII-2）の合計数が５〜１０００である。また一
般式（III）において、Ｒ４は水素原子、最大５個の炭
素原子を有する未置換のまたは置換された、枝分かれを
有するまたは直鎖状の脂肪族鎖である。）
【００２８】本発明の製造方法による利点はその広範な
利用可能性、すなわち従来の方法と対比して、技術的に
極めて簡単な方法で、多くの化学的に異なる２−オキソ
−１，３−ジオキソランを製造することができることで
ある。反応手法および生成物の処理は従来から用いられ
ている公知の操作で行うことができる。この方法は気体
反応および／または高圧力反応に用いられる装置を必要
としない。また、この方法によれば多官能性で多くの分
野の用途に利用できる貯蔵安定性の良好なエポキシド／
２−オキソ−１，３−ジオキソラン混合物を製造するこ
とができる。
利用可能性、すなわち従来の方法と対比して、技術的に
極めて簡単な方法で、多くの化学的に異なる２−オキソ
−１，３−ジオキソランを製造することができることで
ある。反応手法および生成物の処理は従来から用いられ
ている公知の操作で行うことができる。この方法は気体
反応および／または高圧力反応に用いられる装置を必要
としない。また、この方法によれば多官能性で多くの分
野の用途に利用できる貯蔵安定性の良好なエポキシド／
２−オキソ−１，３−ジオキソラン混合物を製造するこ
とができる。
【００２９】本発明において、少なくとも一つのエポキ
シ基を有する関連の有機エポキシド化合物と反応する２
−オキソ−１，３−ジオキソランとして好適なものは、
例えば４−エチル−２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ン、４−ビニル−２−オキソ−１，３−ジオキソラン、
４−ブチル−２−オキソ−１，３−ジオキソラン、１，
２−プロピレンカーボネート−３−メチルエーテル、４
−ベンジル−２−オキソ−１，３−ジオキソランまたは
これらの混合物である。特に有利には、エチレンカーボ
ネート、プロピレンカーボネート、１，２−あるいは
２，３−ブチレンカーボネートまたはフェニルエチレン
カーボネート等の工業的な反応生成物を使用することが
できる。
シ基を有する関連の有機エポキシド化合物と反応する２
−オキソ−１，３−ジオキソランとして好適なものは、
例えば４−エチル−２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ン、４−ビニル−２−オキソ−１，３−ジオキソラン、
４−ブチル−２−オキソ−１，３−ジオキソラン、１，
２−プロピレンカーボネート−３−メチルエーテル、４
−ベンジル−２−オキソ−１，３−ジオキソランまたは
これらの混合物である。特に有利には、エチレンカーボ
ネート、プロピレンカーボネート、１，２−あるいは
２，３−ブチレンカーボネートまたはフェニルエチレン
カーボネート等の工業的な反応生成物を使用することが
できる。
【００３０】本発明において使用される有機エポキシド
化合物として好適なものは例えばヘキセン−１−オキシ
ド、オクテン−１−オキシドおよびドデセン−１−オキ
シドなどの高級脂肪族エポキシドである。本発明によっ
て使用することのできるその他のエポキシド化合物は、
概して少なくとも一つの末端に配置された１，２−エポ
キシ基を有する化合物である。これらの化合物は、概し
て少なくとも一つの置換されたまたは未置換のグリシジ
ルエーテル基あるいは置換または未置換のグリシジルエ
ステル基を有するエポキシド化合物およびエポキシド基
を有する不飽和化合物であることが好ましい。
化合物として好適なものは例えばヘキセン−１−オキシ
ド、オクテン−１−オキシドおよびドデセン−１−オキ
シドなどの高級脂肪族エポキシドである。本発明によっ
て使用することのできるその他のエポキシド化合物は、
概して少なくとも一つの末端に配置された１，２−エポ
キシ基を有する化合物である。これらの化合物は、概し
て少なくとも一つの置換されたまたは未置換のグリシジ
ルエーテル基あるいは置換または未置換のグリシジルエ
ステル基を有するエポキシド化合物およびエポキシド基
を有する不飽和化合物であることが好ましい。
【００３１】下記一般式（Ｘ）で表される少なくとも一
つの置換または未置換のグリシジルエーテル基を有する
エポキシ化合物は、例えば、少なくとも一つの芳香核を
有するフェノールまたは多価フェノールのグリシジルエ
ーテルまたはポリグリシジルエーテルである。下記一般
式（Ｘ）において、Ｚは水素原子、メチル基またはエチ
ル基を示す。
つの置換または未置換のグリシジルエーテル基を有する
エポキシ化合物は、例えば、少なくとも一つの芳香核を
有するフェノールまたは多価フェノールのグリシジルエ
ーテルまたはポリグリシジルエーテルである。下記一般
式（Ｘ）において、Ｚは水素原子、メチル基またはエチ
ル基を示す。
【００３２】
【化２１】
【００３３】フェノールとしては、例えば様々なクレゾ
ール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ピロガロール、
フロログルシノール、１，５−、２，７−および２，６
−ジヒドロキシナフタレン、２，２−ビス−(ｐ−ヒド
ロキシフェニル)−プロパンおよび２，２−ビス−(ｐ−
ヒドロキシフェニル)−メタン(それぞれビスフェノール
ＡおよびＦとして知られている)、２，４−ジヒドロキ
シジフェニルメタン、その他が使用される。
ール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ピロガロール、
フロログルシノール、１，５−、２，７−および２，６
−ジヒドロキシナフタレン、２，２−ビス−(ｐ−ヒド
ロキシフェニル)−プロパンおよび２，２−ビス−(ｐ−
ヒドロキシフェニル)−メタン(それぞれビスフェノール
ＡおよびＦとして知られている)、２，４−ジヒドロキ
シジフェニルメタン、その他が使用される。
【００３４】グリシジルエーテルに変換することのでき
る多価アルコールの例としては、エチレングリコール、
プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペン
チルグリコール、ヘキシレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール等が挙げられる。
る多価アルコールの例としては、エチレングリコール、
プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペン
チルグリコール、ヘキシレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール等が挙げられる。
【００３５】他のエポキシ化合物は、下記一般式（XI）
で表される少なくとも一つの置換されたまたは未置換の
グリシジルエステル基を有する飽和あるいはエチレン性
不飽和カルボン酸のグリシジルエステルである。下記一
般式（XI）において、Ｚは水素原子、メチル基またはエ
チル基を示す。
で表される少なくとも一つの置換されたまたは未置換の
グリシジルエステル基を有する飽和あるいはエチレン性
不飽和カルボン酸のグリシジルエステルである。下記一
般式（XI）において、Ｚは水素原子、メチル基またはエ
チル基を示す。
【００３６】
【化２２】
【００３７】酸は、脂肪族または芳香族、飽和または不
飽和のガルボン酸、例えばアクリル酸、メタクリル酸、
様々なフタル酸などである。
飽和のガルボン酸、例えばアクリル酸、メタクリル酸、
様々なフタル酸などである。
【００３８】極く普通に使用されるグリシジルエステル
は市販されており、主として（約９４％）第３級の酸よ
りなる、炭素原子数９〜１１個の鎖長を有する飽和モノ
カルボン酸の混合物のグリシジルエステル（ヴァーサト
酸(Versatic acid)のグリシジルエステル）である。
は市販されており、主として（約９４％）第３級の酸よ
りなる、炭素原子数９〜１１個の鎖長を有する飽和モノ
カルボン酸の混合物のグリシジルエステル（ヴァーサト
酸(Versatic acid)のグリシジルエステル）である。
【００３９】本発明によって使用される少なくとも一つ
のエポキシド基を有する有機化合物は、低分子量多官能
性エポキシド、例えば１，２−エチレングリコールジグ
リシジルエーテル、１，２−または１，３−プロピレン
グリコールジグリシジルエーテル、１，２−、１，３−
または１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、
ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ヘキシ
レングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリ
グリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテル、その他多数である。
のエポキシド基を有する有機化合物は、低分子量多官能
性エポキシド、例えば１，２−エチレングリコールジグ
リシジルエーテル、１，２−または１，３−プロピレン
グリコールジグリシジルエーテル、１，２−、１，３−
または１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、
ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ヘキシ
レングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリ
グリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテル、その他多数である。
【００４０】低分子量エポキシドと、有機単官能性また
は多官能性エポキシドとの反応は、Ｒ4Ｎ+Ｘ-なる構造
を有する脂肪族、芳香族または複素環式第３級アミンあ
るいは第４級アンモニウム化合物などの塩基性触媒によ
って触媒作用を受ける。ここでＸは、塩素、臭素、ヨウ
素、ＯＨまたはＣＯ3を示す。これらの化合物の例とし
ては、テトラエチルアンモニウム臭化物、テトラエチル
アンモニウムヨウ化物、コリン、ベンジルトリメチルア
ンモニウム水酸化物、ベンジルトリメチルアンモニウム
炭酸塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩化物、３−
クロロ−２−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウ
ム塩化物、テトラメチルアンモニウム水酸化物、テトラ
エチルアンモニウムフッ化物などがある。
は多官能性エポキシドとの反応は、Ｒ4Ｎ+Ｘ-なる構造
を有する脂肪族、芳香族または複素環式第３級アミンあ
るいは第４級アンモニウム化合物などの塩基性触媒によ
って触媒作用を受ける。ここでＸは、塩素、臭素、ヨウ
素、ＯＨまたはＣＯ3を示す。これらの化合物の例とし
ては、テトラエチルアンモニウム臭化物、テトラエチル
アンモニウムヨウ化物、コリン、ベンジルトリメチルア
ンモニウム水酸化物、ベンジルトリメチルアンモニウム
炭酸塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩化物、３−
クロロ−２−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウ
ム塩化物、テトラメチルアンモニウム水酸化物、テトラ
エチルアンモニウムフッ化物などがある。
【００４１】また、Ｒ3Ｐなる構造を有するホスファ
ン、例えばトリフェニルホスファン及びトリトリルホス
ファンも触媒作用を有する。その他の触媒としては２−
ｔ−ブチルアミノ−２−ジエチルアミノ−１，３−ジメ
チル−１，３，２−ジアザホスホリン、およびエチルヘ
キシルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジ
エチルメチルアミン、トリエタノールアミンなどのアミ
ン、１，４−ジアザビシクロ−［２，２，２］−オクタ
ン（ＤＡＢＣＯ）、４−(ジメチルアミノ)−ピリジンな
どの複素環式アミン、２−エチル−４−メチルイミダゾ
ールなどのイミダゾール、１，５−ジアザビシクロ−
［４，３，０］−ノン−５−エン、１，８−ジアザビシ
クロ−［５，４，０］−ウンデク−７−エンなどのアミ
ジン、１，１，３，３−テトラメチルグアニジンなどの
グアニジンなどがある。
ン、例えばトリフェニルホスファン及びトリトリルホス
ファンも触媒作用を有する。その他の触媒としては２−
ｔ−ブチルアミノ−２−ジエチルアミノ−１，３−ジメ
チル−１，３，２−ジアザホスホリン、およびエチルヘ
キシルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジ
エチルメチルアミン、トリエタノールアミンなどのアミ
ン、１，４−ジアザビシクロ−［２，２，２］−オクタ
ン（ＤＡＢＣＯ）、４−(ジメチルアミノ)−ピリジンな
どの複素環式アミン、２−エチル−４−メチルイミダゾ
ールなどのイミダゾール、１，５−ジアザビシクロ−
［４，３，０］−ノン−５−エン、１，８−ジアザビシ
クロ−［５，４，０］−ウンデク−７−エンなどのアミ
ジン、１，１，３，３−テトラメチルグアニジンなどの
グアニジンなどがある。
【００４２】触媒は一般的には単独でまたは混合物とし
て、エポキシド成分に対して０．０１５〜１０重量％、
好ましくは０．０３５〜６重量％、特に好ましくは０．
０３５〜２．５重量％の量で使用される。触媒の作用は
水、またはメタノール、エタノールなどの低分子量アル
コール、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のハロゲ
ン化物、水酸化物、リン酸塩または炭酸塩、好ましくは
リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウムおよび
カルシウムの塩化物、臭化物、ヨウ化物または炭酸塩を
使用することによって改善することができ、ヨウ化カリ
ウム、ヨウ化ナトリウムおよび炭酸カリウムが共触媒と
して好ましい。共触媒は、エポキシド成分に対して０．
０１５〜１０重量％、好ましくは０．０３５〜５重量
％、特に好ましくは０．０３５〜２重量％の量で添加さ
れる。そして、反応性の増大が要求され、しかも利用可
能性に悪影響を及ぼさないか、あるいは簡単な操作によ
って除去することができる場合にのみ使用される。
て、エポキシド成分に対して０．０１５〜１０重量％、
好ましくは０．０３５〜６重量％、特に好ましくは０．
０３５〜２．５重量％の量で使用される。触媒の作用は
水、またはメタノール、エタノールなどの低分子量アル
コール、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のハロゲ
ン化物、水酸化物、リン酸塩または炭酸塩、好ましくは
リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウムおよび
カルシウムの塩化物、臭化物、ヨウ化物または炭酸塩を
使用することによって改善することができ、ヨウ化カリ
ウム、ヨウ化ナトリウムおよび炭酸カリウムが共触媒と
して好ましい。共触媒は、エポキシド成分に対して０．
０１５〜１０重量％、好ましくは０．０３５〜５重量
％、特に好ましくは０．０３５〜２重量％の量で添加さ
れる。そして、反応性の増大が要求され、しかも利用可
能性に悪影響を及ぼさないか、あるいは簡単な操作によ
って除去することができる場合にのみ使用される。
【００４３】反応時間は広い範囲で変化させることがで
きる。どのようなエポキシド／２−オキソ−１，３−ジ
オキソラン系も、ある特定の最適温度範囲を持っている
ので、まず、生成物の沸点によって反応温度の上限が設
定され、さらに反応時間も決定される。高い反応温度を
選択できるときには、鎖長の増大を含む副生物の生成を
低い水準に保持するために、反応時間は比較的短く保持
しなければならない。反応は、例えばガスクロマトグラ
フ試験あるいはエポキシド基の滴定によって監視され
る。
きる。どのようなエポキシド／２−オキソ−１，３−ジ
オキソラン系も、ある特定の最適温度範囲を持っている
ので、まず、生成物の沸点によって反応温度の上限が設
定され、さらに反応時間も決定される。高い反応温度を
選択できるときには、鎖長の増大を含む副生物の生成を
低い水準に保持するために、反応時間は比較的短く保持
しなければならない。反応は、例えばガスクロマトグラ
フ試験あるいはエポキシド基の滴定によって監視され
る。
【００４４】このようにして、任意の所望のエポキシド
化合物のアルキルカーボネートが得られ、公知の方法で
さらに処理することができる。エポキシド基および炭酸
基を依然として保持できるように、反応を早期に終了さ
れることができることは当然である。通常、反応はエポ
キシド基が少なくとも６０％反応するように行われる。
化合物のアルキルカーボネートが得られ、公知の方法で
さらに処理することができる。エポキシド基および炭酸
基を依然として保持できるように、反応を早期に終了さ
れることができることは当然である。通常、反応はエポ
キシド基が少なくとも６０％反応するように行われる。
【００４５】反応は５５〜１７０℃の範囲、好ましくは
９０〜１４５℃の範囲、特に好ましくは１１０〜１３０
℃の範囲の温度で行われる。しかしながら、反応温度だ
けではなく、エポキシド／２−オキソ−１，３−ジオキ
ソランのモル比も反応速度と副生物の含有率を決定す
る。従って、本発明におけるエポキシド／２−オキソ−
１，３−ジオキソランのモル比は１０：１〜１：２０の
範囲、好ましくは２：１〜１：７の範囲、特に好ましく
は１：１〜１：４の範囲とされる。
９０〜１４５℃の範囲、特に好ましくは１１０〜１３０
℃の範囲の温度で行われる。しかしながら、反応温度だ
けではなく、エポキシド／２−オキソ−１，３−ジオキ
ソランのモル比も反応速度と副生物の含有率を決定す
る。従って、本発明におけるエポキシド／２−オキソ−
１，３−ジオキソランのモル比は１０：１〜１：２０の
範囲、好ましくは２：１〜１：７の範囲、特に好ましく
は１：１〜１：４の範囲とされる。
【００４６】単純な２−オキソ−１，３−ジオキソラン
が時によって非常に良好な水溶性を有するために、使用
された過剰のジオキソランを反応生成物から分離するこ
とを比較的容易に行うことができる。製造された２−オ
キソ−１，３−ジオキソランの処理工程は、大抵におい
て、単純な真空蒸留あるいは適当な溶媒または溶媒混合
物から固形生成物を再結晶させる方法によって行われ
る。
が時によって非常に良好な水溶性を有するために、使用
された過剰のジオキソランを反応生成物から分離するこ
とを比較的容易に行うことができる。製造された２−オ
キソ−１，３−ジオキソランの処理工程は、大抵におい
て、単純な真空蒸留あるいは適当な溶媒または溶媒混合
物から固形生成物を再結晶させる方法によって行われ
る。
【００４７】本発明の製造方法は、溶媒を使用して、あ
るいは使用しないで行うことができる。しかしながら、
反応混合物の均一性の問題はほとんどなく、また粘度を
適当な溶媒によって調節する必要もほとんどないので、
一般には本発明の方法は溶媒あるいは溶媒混合物を使用
しないで行われる。さらに溶液中で操作することの利点
を挙げるとすれば、発生した反応熱を捕捉することであ
るが、このことは全体として僅かなものと考えられるも
のである。あるいは、溶液中で反応生成物をさらに処理
できる可能性があることである。
るいは使用しないで行うことができる。しかしながら、
反応混合物の均一性の問題はほとんどなく、また粘度を
適当な溶媒によって調節する必要もほとんどないので、
一般には本発明の方法は溶媒あるいは溶媒混合物を使用
しないで行われる。さらに溶液中で操作することの利点
を挙げるとすれば、発生した反応熱を捕捉することであ
るが、このことは全体として僅かなものと考えられるも
のである。あるいは、溶液中で反応生成物をさらに処理
できる可能性があることである。
【００４８】好適な溶媒または希釈剤は、脂肪族、脂環
式または芳香族の随意にハロゲン置換された炭化水素、
エーテル、グリコールジエーテルまたはこれらの種類の
化合物の混合物である。トルエン、キシレン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ヘ
キサン、シクロヘキサン、あるいはガソリン留分、芳香
族混合物などの工業用溶媒(ゾルベッソ（Ｓｏｌｖｅｓ
ｓｏ）またはシェルゾル（Ｓｈｅｌｌｓｏｌ）型等)、
あるいはエチレングリコールジメチルエーテル、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエ
ーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテルな
どのエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ある
いはアセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブ
チルケトンなどのケトン等を特に好適なものとしてあげ
ることができる。
式または芳香族の随意にハロゲン置換された炭化水素、
エーテル、グリコールジエーテルまたはこれらの種類の
化合物の混合物である。トルエン、キシレン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ヘ
キサン、シクロヘキサン、あるいはガソリン留分、芳香
族混合物などの工業用溶媒(ゾルベッソ（Ｓｏｌｖｅｓ
ｓｏ）またはシェルゾル（Ｓｈｅｌｌｓｏｌ）型等)、
あるいはエチレングリコールジメチルエーテル、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエ
ーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテルな
どのエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ある
いはアセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブ
チルケトンなどのケトン等を特に好適なものとしてあげ
ることができる。
【００４９】使用される溶媒の量に応じて、種々の含有
量を有する溶媒混合物を調製することができる。溶液中
で作用する際の、溶媒の蒸発に起因する環境的な影響を
最低限にするためには、反応混合物の溶媒含有率は、１
〜９５重量％の範囲、有利には１０〜６０重量％の範
囲、好ましくは１５〜５０重量％の範囲、特に好ましく
は２０〜４０重量％の範囲とされる。
量を有する溶媒混合物を調製することができる。溶液中
で作用する際の、溶媒の蒸発に起因する環境的な影響を
最低限にするためには、反応混合物の溶媒含有率は、１
〜９５重量％の範囲、有利には１０〜６０重量％の範
囲、好ましくは１５〜５０重量％の範囲、特に好ましく
は２０〜４０重量％の範囲とされる。
【００５０】本発明の製造方法においては、特に官能基
で置換された２−オキソ−１，３−ジオキソランまたは
重合性２−オキソ−１，３−ジオキソランを、簡単で便
利で効果的な可能な合成法によって製造することがで
き、従って公知技術と対比してかなりの進歩を示すもの
である。反応パラメーターは特定の範囲内で変化させる
ことができる。副生物は比較的簡単な処理工程によって
除去される。本発明の方法によって得られる２−オキソ
−１，３−ジオキソランは、化学工業の様々の分野およ
び関連工業部門、例えば医薬品工業または化粧品工業に
おいて利用することができる。
で置換された２−オキソ−１，３−ジオキソランまたは
重合性２−オキソ−１，３−ジオキソランを、簡単で便
利で効果的な可能な合成法によって製造することがで
き、従って公知技術と対比してかなりの進歩を示すもの
である。反応パラメーターは特定の範囲内で変化させる
ことができる。副生物は比較的簡単な処理工程によって
除去される。本発明の方法によって得られる２−オキソ
−１，３−ジオキソランは、化学工業の様々の分野およ
び関連工業部門、例えば医薬品工業または化粧品工業に
おいて利用することができる。
【００５１】
【実施例】まず、有機エポキシド化合物から結晶性２−
オキソ−１，３−ジオキソランを製造するための全般的
な手法について述べる。 （方法 Ａ）工業的な２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ンを、触媒および適当ならば溶媒とともに、温度計、磁
気スターラーおよび還流冷却器を備えた１００ mlの丸
底フラスコに入れる。所望の反応温度に到達すると、有
機エポキシドを約９０分間にわたって滴下ロートから滴
下して加える。攪拌しながら、所望の変換率に到達する
まで反応を継続させる。冷却した後、例えばイソプロパ
ノールなどの適当な溶媒を添加して、得られた混合物全
体を約１５分間還流しながら沸騰させる。最後に溶液を
室温で一夜保持するか、あるいは単離させる場合には冷
蔵庫中に保持して、晶出させる。ガラス吸引フィルター
でろ過し、真空乾燥器中で３５℃にて乾燥させた後、純
粋な結晶最終生成物が得られる。この方法においてはオ
リゴマーおよび過剰の２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ンである副生物はイソプロパノールに溶解されて除去さ
れる。
オキソ−１，３−ジオキソランを製造するための全般的
な手法について述べる。 （方法 Ａ）工業的な２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ンを、触媒および適当ならば溶媒とともに、温度計、磁
気スターラーおよび還流冷却器を備えた１００ mlの丸
底フラスコに入れる。所望の反応温度に到達すると、有
機エポキシドを約９０分間にわたって滴下ロートから滴
下して加える。攪拌しながら、所望の変換率に到達する
まで反応を継続させる。冷却した後、例えばイソプロパ
ノールなどの適当な溶媒を添加して、得られた混合物全
体を約１５分間還流しながら沸騰させる。最後に溶液を
室温で一夜保持するか、あるいは単離させる場合には冷
蔵庫中に保持して、晶出させる。ガラス吸引フィルター
でろ過し、真空乾燥器中で３５℃にて乾燥させた後、純
粋な結晶最終生成物が得られる。この方法においてはオ
リゴマーおよび過剰の２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ンである副生物はイソプロパノールに溶解されて除去さ
れる。
【００５２】次いで、有機エポキシド化合物から液状の
２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造するための全
般的な手法について述べる。 （方法 Ｂ）出発物質の反応は、上記（方法Ａ）と同様
にして行い、精製処理段階だけが異なる。すなわち冷却
された反応混合物を、２倍の水、または揮発性アルコー
ルで処理し、数回抽出する。この間、水またはアルコー
ルに易溶の２−オキソ−１，３−ジオキソランエチレン
炭酸塩またはプロピレン炭酸塩が、容易に溶液に移行す
る。しかしながら、低濃度で存在している副生物、例え
ばジオール誘導体もこのようにして除去される。有機最
終生成物の分離のための必要条件である相分離の完結後
に、生成物相が取出される。そして真空分留によって、
出発エポキシド化合物と比較的高分子量の副生物から、
純粋な液状最終生成物が分離される。
２−オキソ−１，３−ジオキソランを製造するための全
般的な手法について述べる。 （方法 Ｂ）出発物質の反応は、上記（方法Ａ）と同様
にして行い、精製処理段階だけが異なる。すなわち冷却
された反応混合物を、２倍の水、または揮発性アルコー
ルで処理し、数回抽出する。この間、水またはアルコー
ルに易溶の２−オキソ−１，３−ジオキソランエチレン
炭酸塩またはプロピレン炭酸塩が、容易に溶液に移行す
る。しかしながら、低濃度で存在している副生物、例え
ばジオール誘導体もこのようにして除去される。有機最
終生成物の分離のための必要条件である相分離の完結後
に、生成物相が取出される。そして真空分留によって、
出発エポキシド化合物と比較的高分子量の副生物から、
純粋な液状最終生成物が分離される。
【００５３】（実施例１）エチレンカーボネート ３
５．２ｇ、ジエチルメチルアミン ０．３５ｇおよび
２，３−エポキシプロピルフェニルエーテル １５ｇよ
りなる混合物を、方法Ａと同様にして１１５℃の浴温度
において５．５時間反応させ、溶媒としてイソプロパノ
ールを用いて処理した。得られたフェノキシメチル−２
−オキソ−１，３−ジオキソランは９８〜１００℃にお
いて溶融した。 収量：１４．７ｇ（理論値の７６％）
５．２ｇ、ジエチルメチルアミン ０．３５ｇおよび
２，３−エポキシプロピルフェニルエーテル １５ｇよ
りなる混合物を、方法Ａと同様にして１１５℃の浴温度
において５．５時間反応させ、溶媒としてイソプロパノ
ールを用いて処理した。得られたフェノキシメチル−２
−オキソ−１，３−ジオキソランは９８〜１００℃にお
いて溶融した。 収量：１４．７ｇ（理論値の７６％）
【００５４】（実施例２）エチレンカーボネート ８．
８ｇ、２，３−エポキシプロピルフェニルエーテル １
５ｇおよびイミダゾール ０．２４ｇよりなる混合物
を、方法Ａと同様にして１１５℃の浴温度において５時
間反応させ、溶媒としてイソプロパノールを用いて処理
した。得られたフェノキシメチル−２−オキソ−１，３
−ジオキソランは９６〜９９℃において溶融した。 収量：１１ｇ（理論値の約５６．７％）
８ｇ、２，３−エポキシプロピルフェニルエーテル １
５ｇおよびイミダゾール ０．２４ｇよりなる混合物
を、方法Ａと同様にして１１５℃の浴温度において５時
間反応させ、溶媒としてイソプロパノールを用いて処理
した。得られたフェノキシメチル−２−オキソ−１，３
−ジオキソランは９６〜９９℃において溶融した。 収量：１１ｇ（理論値の約５６．７％）
【００５５】（実施例３）２，３−エポキシプロピルフ
ェニルエーテル１５ｇ、プロピレンカーボネート１０．
２ｇおよび１，１，３，３−テトラメチルグアナジン
０．２４４ｇよりなる混合物を、方法Ａと同様にして１
３０℃の浴温度において７．５時間反応させ、キシレン
に溶解させた。水による抽出を行った後、フェノキシメ
チル−２−オキソ−１，３−ジオキソランをキシレン層
から結晶化した。得られた淡褐色の生成物は９５〜９９
℃において溶融した。 収量：６．４ｇ（理論値の約３２％）
ェニルエーテル１５ｇ、プロピレンカーボネート１０．
２ｇおよび１，１，３，３−テトラメチルグアナジン
０．２４４ｇよりなる混合物を、方法Ａと同様にして１
３０℃の浴温度において７．５時間反応させ、キシレン
に溶解させた。水による抽出を行った後、フェノキシメ
チル−２−オキソ−１，３−ジオキソランをキシレン層
から結晶化した。得られた淡褐色の生成物は９５〜９９
℃において溶融した。 収量：６．４ｇ（理論値の約３２％）
【００５６】（実施例４）プロピレンカーボネート ４
０．８ｇ、２，３−エポキシプロピルフェニルエーテル
１５ｇおよびＮ−エチルピペリジン／イミダゾール
（５０：５０） ０．３９ｇよりなる混合物を、方法Ａ
と同様にして１２０℃の浴温度において６．５時間反応
させた後、実施例３と同様にして処理した。淡褐色のフ
ェノキシメチル−２−オキソ−１，３−ジオキソランが
得られ、これは９７〜９８℃において溶融した。 収量：８．１ｇ（理論値の約４１．７％）
０．８ｇ、２，３−エポキシプロピルフェニルエーテル
１５ｇおよびＮ−エチルピペリジン／イミダゾール
（５０：５０） ０．３９ｇよりなる混合物を、方法Ａ
と同様にして１２０℃の浴温度において６．５時間反応
させた後、実施例３と同様にして処理した。淡褐色のフ
ェノキシメチル−２−オキソ−１，３−ジオキソランが
得られ、これは９７〜９８℃において溶融した。 収量：８．１ｇ（理論値の約４１．７％）
【００５７】（実施例５）１,２−ブチレンカーボネー
ト １８．１ｇ、２，３−エポキシプロピルフェニルエ
ーテル ５．８５ｇおよびジエチルメチルアミン／ＫＣ
ｌ（５０：５０）０．１７ｇよりなる混合物を、方法Ａ
と同様にして１２５℃の浴温度において７時間反応さ
せ、溶媒混合物としてイソプロパノール／トルエン
（３：１）を用いて処理した。得られたフェノキシメチ
ル−２−オキソ−１，３−ジオキソランは９５〜９６℃
において溶融した。 収量：４．４ｇ（理論値の約２２．７％）
ト １８．１ｇ、２，３−エポキシプロピルフェニルエ
ーテル ５．８５ｇおよびジエチルメチルアミン／ＫＣ
ｌ（５０：５０）０．１７ｇよりなる混合物を、方法Ａ
と同様にして１２５℃の浴温度において７時間反応さ
せ、溶媒混合物としてイソプロパノール／トルエン
（３：１）を用いて処理した。得られたフェノキシメチ
ル−２−オキソ−１，３−ジオキソランは９５〜９６℃
において溶融した。 収量：４．４ｇ（理論値の約２２．７％）
【００５８】（実施例６）ブチル−２，３−エポキシプ
ロピルエーテル ６．５ｇ、エチレンカーボネート １
７．６ｇ、ジエチルメチルアミン ０．１６ｇおよび炭
酸カリウム ０．１２ｇよりなる混合物を、方法Ｂと同
様にして１３０℃の浴温度において６時間反応させた
後、過剰の水による抽出を行った。有機相を０．００７
ミリバールのオイルポンプ真空下で分留した。無色の液
状４−ブトキシメチル−２−オキソ−１，３−ジオキソ
ランが、７０〜８０℃の塔頂温度において留出した。 収量：４．５ｇ（理論値の約５１．７％）
ロピルエーテル ６．５ｇ、エチレンカーボネート １
７．６ｇ、ジエチルメチルアミン ０．１６ｇおよび炭
酸カリウム ０．１２ｇよりなる混合物を、方法Ｂと同
様にして１３０℃の浴温度において６時間反応させた
後、過剰の水による抽出を行った。有機相を０．００７
ミリバールのオイルポンプ真空下で分留した。無色の液
状４−ブトキシメチル−２−オキソ−１，３−ジオキソ
ランが、７０〜８０℃の塔頂温度において留出した。 収量：４．５ｇ（理論値の約５１．７％）
【００５９】（実施例７）カージュラ(Cardura)Ｅ１０
（商品名、シェル(Shell)社製）１２．５ｇ、エチレン
カーボネート １７．６ｇおよびジエチルメチルアミン
０．３ｇよりなる混合物を、方法Ａと同様にして１３
０℃の浴温度において６時間反応させた。温水による抽
出および必要に応じて約１１０℃の浴温度における迅速
な真空蒸留の後、液状のヴァーサトイルメチル(Versato
ylmethyl)−２−オキソ−１，３−ジオキソランが残液
中に残った。 収量：８．１ｇ（理論値の約５６％） エポキシド含有率：１．４５％
（商品名、シェル(Shell)社製）１２．５ｇ、エチレン
カーボネート １７．６ｇおよびジエチルメチルアミン
０．３ｇよりなる混合物を、方法Ａと同様にして１３
０℃の浴温度において６時間反応させた。温水による抽
出および必要に応じて約１１０℃の浴温度における迅速
な真空蒸留の後、液状のヴァーサトイルメチル(Versato
ylmethyl)−２−オキソ−１，３−ジオキソランが残液
中に残った。 収量：８．１ｇ（理論値の約５６％） エポキシド含有率：１．４５％
【００６０】（実施例８）エポキシスチレン ６ｇ、エ
チレンカーボネート １７．６ｇ、ＤＡＢＣＯ０．２４
ｇおよびＫＯＨ／Ｈ2Ｏ ０．１ｇよりなる混合物を、
方法Ｂと同様にして１２０℃の浴温度において６．５時
間反応させ、反応混合物を真空分留によって処理した。
５−フェニル−１，３−ジオキソラン−２−オンが、
０．００３ミリバールのオイルポンプ真空下および９０
〜１００℃の蒸留塔頂温度において留出した。 収量：５．１ｇ（理論値の約６２．２％）
チレンカーボネート １７．６ｇ、ＤＡＢＣＯ０．２４
ｇおよびＫＯＨ／Ｈ2Ｏ ０．１ｇよりなる混合物を、
方法Ｂと同様にして１２０℃の浴温度において６．５時
間反応させ、反応混合物を真空分留によって処理した。
５−フェニル−１，３−ジオキソラン−２−オンが、
０．００３ミリバールのオイルポンプ真空下および９０
〜１００℃の蒸留塔頂温度において留出した。 収量：５．１ｇ（理論値の約６２．２％）
【００６１】（実施例９）エポキシスチレン ９ｇ、プ
ロピレンカーボネート １５．３ｇおよびジメチルエチ
ルアミン ０．２８ｇよりなる混合物を、方法Ｂと同様
にして１２０℃の浴温度において７時間反応させ、実施
例８と同様にして処理した。 収量：５．９ｇ（理論値の約４８％）
ロピレンカーボネート １５．３ｇおよびジメチルエチ
ルアミン ０．２８ｇよりなる混合物を、方法Ｂと同様
にして１２０℃の浴温度において７時間反応させ、実施
例８と同様にして処理した。 収量：５．９ｇ（理論値の約４８％）
【００６２】（実施例１０）ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテル（エポタフ(Epotuf)１３９（商品名）、ラ
イヒホールド社(Reichold Co.)製、ハウゼン(Hause
n)、ＣＨ）８．５ｇ、プロピレンカーボネート １０．
２ｇ、ジエチルメチルアミン ０．２２ｇおよび塩化カ
リウム ０．１２ｇよりなる混合物を、１１５℃の浴温
度において８時間攪拌し、温水／イソプロパノール混合
物（４：１）による抽出を行った。反応の完結度に応じ
て、痕跡の出発物質、単独で反応したビスフェノールＡ
ジグリシジルエーテルおよびビスフェノールＡのジ−
（２−オキソ−１，３−ジオキソラニル−４−メチルエ
ーテル）よりなる混合物か、あるいはビスフェノールＡ
の純粋なジ−（２−オキソ−１，３−ジオキソラニル−
４−メチルエーテル）が、塩化エチレンからの再結晶に
よって得られた。純粋な生成物は１８０〜１８２℃にお
いて溶融した。
ジルエーテル（エポタフ(Epotuf)１３９（商品名）、ラ
イヒホールド社(Reichold Co.)製、ハウゼン(Hause
n)、ＣＨ）８．５ｇ、プロピレンカーボネート １０．
２ｇ、ジエチルメチルアミン ０．２２ｇおよび塩化カ
リウム ０．１２ｇよりなる混合物を、１１５℃の浴温
度において８時間攪拌し、温水／イソプロパノール混合
物（４：１）による抽出を行った。反応の完結度に応じ
て、痕跡の出発物質、単独で反応したビスフェノールＡ
ジグリシジルエーテルおよびビスフェノールＡのジ−
（２−オキソ−１，３−ジオキソラニル−４−メチルエ
ーテル）よりなる混合物か、あるいはビスフェノールＡ
の純粋なジ−（２−オキソ−１，３−ジオキソラニル−
４−メチルエーテル）が、塩化エチレンからの再結晶に
よって得られた。純粋な生成物は１８０〜１８２℃にお
いて溶融した。
【００６３】（実施例１１）トリメチロールプロパント
リグリシジルエーテル（エピクロン(Epiclon)７２７
（商品名）、大日本インキ化学工業株式会社製、日本）
７．８ｇ、プロピレンカーボネート １５．３ｇ、およ
び２−エチル−４−メチルイミダゾール ０．２２ｇよ
りなる混合物を、１２０℃の浴温度において１０時間攪
拌した後、温水／イソプロパノール混合物（４：１）に
よる抽出を行った。比較的反応性の弱いエポキシドはエ
ポキシシクロカーボネート官能基を有するトリメチロー
ルプロパントリエーテルを生成した。 エポキシド含有率：４８．５％
リグリシジルエーテル（エピクロン(Epiclon)７２７
（商品名）、大日本インキ化学工業株式会社製、日本）
７．８ｇ、プロピレンカーボネート １５．３ｇ、およ
び２−エチル−４−メチルイミダゾール ０．２２ｇよ
りなる混合物を、１２０℃の浴温度において１０時間攪
拌した後、温水／イソプロパノール混合物（４：１）に
よる抽出を行った。比較的反応性の弱いエポキシドはエ
ポキシシクロカーボネート官能基を有するトリメチロー
ルプロパントリエーテルを生成した。 エポキシド含有率：４８．５％
【００６４】（実施例１２）アリルグリシジルエーテル
２８．５ｇ、エチレンカーボネート ８８ｇおよび４
−ジメチルアミノピリジン １．２ｇよりなる混合物
を、方法Ｂと同様にして１１０℃の浴温度において７時
間反応させた。温水による抽出を行った後、０．１mmHg
の真空条件下、９２〜９４℃の蒸留ヘッド温度におい
て、前留分を取除き、無色液状のアリル−２−オキソ−
１，３−ジオキソラン−４−メチルエーテルを得ること
ができた。 収量：２６．０７ｇ（理論値の約６６％）
２８．５ｇ、エチレンカーボネート ８８ｇおよび４
−ジメチルアミノピリジン １．２ｇよりなる混合物
を、方法Ｂと同様にして１１０℃の浴温度において７時
間反応させた。温水による抽出を行った後、０．１mmHg
の真空条件下、９２〜９４℃の蒸留ヘッド温度におい
て、前留分を取除き、無色液状のアリル−２−オキソ−
１，３−ジオキソラン−４−メチルエーテルを得ること
ができた。 収量：２６．０７ｇ（理論値の約６６％）
【００６５】（実施例１３）２,２−ジメチル−１−メ
トキシエチレンオキシド ５．１ｇ、エチレンカーボネ
ート ４．４ｇおよびＤＢＮ ０．１７ｇよりなる混合
物を、方法Ａと同様にして反応させた後、溶解度の差異
に基づく分離または蒸留による分離はできないので、そ
れ以上の処理を行わず、エポキシド／４，４−ジメチル
−５−メトキシ−２−オキソ−１，３−ジオキソラン／
エチレンカーボネート混合物として保存した。反応温度
は１２０℃、反応時間は６時間とした。 エポキシド含有率：１２．３％
トキシエチレンオキシド ５．１ｇ、エチレンカーボネ
ート ４．４ｇおよびＤＢＮ ０．１７ｇよりなる混合
物を、方法Ａと同様にして反応させた後、溶解度の差異
に基づく分離または蒸留による分離はできないので、そ
れ以上の処理を行わず、エポキシド／４，４−ジメチル
−５−メトキシ−２−オキソ−１，３−ジオキソラン／
エチレンカーボネート混合物として保存した。反応温度
は１２０℃、反応時間は６時間とした。 エポキシド含有率：１２．３％
【００６６】（実施例１４）２−エチルヘキシルグリシ
ジルエーテル ２３ｇ、プロピレンカーボネート４０
ｇ、およびＤＡＢＣＯ ０．６ｇ／ベンジルトリメチル
アンモニウム水酸化物０．３ｇの触媒混合物よりなる混
合物を方法Ｂと同様にして１１０℃において８時間反応
させ、処理した。０．００３ミリバールの回転円板ポン
プによる真空条件下で、蒸留ヘッドの温度１０２℃で、
２−エチルヘキシル−２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ニル−４−メチルエーテル（無色）が得られた。 収量：１８ｇ（理論値の約６３％）
ジルエーテル ２３ｇ、プロピレンカーボネート４０
ｇ、およびＤＡＢＣＯ ０．６ｇ／ベンジルトリメチル
アンモニウム水酸化物０．３ｇの触媒混合物よりなる混
合物を方法Ｂと同様にして１１０℃において８時間反応
させ、処理した。０．００３ミリバールの回転円板ポン
プによる真空条件下で、蒸留ヘッドの温度１０２℃で、
２−エチルヘキシル−２−オキソ−１，３−ジオキソラ
ニル−４−メチルエーテル（無色）が得られた。 収量：１８ｇ（理論値の約６３％）
【００６７】（実施例１５）トリスグリシジルイソシア
ヌレート ２９．７ｇ、エチレンカーボネート ７９．
２ｇ、ベンジルトリメチルアンモニウム水酸化物（４０
％溶液）４ｇ、および酢酸メチルグリコール ３０ｍｌ
よりなる混合物を、方法Ｂと同様にして１２５℃の浴温
度において７．５時間反応させ、水による抽出を行っ
た。残留しているエチレンカーボネートと希釈剤は、最
後にオイルポンプによる約０．００５ミリバールの真空
条件下で蒸留によって除去した。トリス−（２−オキソ
−１，３−ジオキソラニル−４−メチルシアヌレートが
残留し、この化合物は２１５℃において分解を伴って溶
融した。 収量：２８．３ｇ（理論値の約６６％）
ヌレート ２９．７ｇ、エチレンカーボネート ７９．
２ｇ、ベンジルトリメチルアンモニウム水酸化物（４０
％溶液）４ｇ、および酢酸メチルグリコール ３０ｍｌ
よりなる混合物を、方法Ｂと同様にして１２５℃の浴温
度において７．５時間反応させ、水による抽出を行っ
た。残留しているエチレンカーボネートと希釈剤は、最
後にオイルポンプによる約０．００５ミリバールの真空
条件下で蒸留によって除去した。トリス−（２−オキソ
−１，３−ジオキソラニル−４−メチルシアヌレートが
残留し、この化合物は２１５℃において分解を伴って溶
融した。 収量：２８．３ｇ（理論値の約６６％）
【００６８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の２−オキ
ソ−１，３−ジオキソランの製造方法によれば、技術的
に極めて簡単な方法で、多くの化学的に異なる２−オキ
ソ−１，３−ジオキソラン、特に官能基で置換された２
−オキソ−１，３−ジオキソランまたは重合性２−オキ
ソ−１，３−ジオキソランを製造することができる。ま
た、本発明によれば多官能性で多くの分野の用途に利用
できる貯蔵安定性の良好なエポキシド／２−オキソ−
１，３−ジオキソラン混合物を製造することができ、化
学工業の様々の分野および関連工業部門、医薬品工業ま
たは化粧品工業等において利用することができる。
ソ−１，３−ジオキソランの製造方法によれば、技術的
に極めて簡単な方法で、多くの化学的に異なる２−オキ
ソ−１，３−ジオキソラン、特に官能基で置換された２
−オキソ−１，３−ジオキソランまたは重合性２−オキ
ソ−１，３−ジオキソランを製造することができる。ま
た、本発明によれば多官能性で多くの分野の用途に利用
できる貯蔵安定性の良好なエポキシド／２−オキソ−
１，３−ジオキソラン混合物を製造することができ、化
学工業の様々の分野および関連工業部門、医薬品工業ま
たは化粧品工業等において利用することができる。
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フロントページの続き
(72)発明者 ゲルワルト・エフ・グラヘ
ドイツ連邦共和国・Ｄ−1000・ベルリ
ン・33・ライヒハートストラッセ・13
(72)発明者 アトゥアー・ラホビクツ
ドイツ連邦共和国・Ｄ−1000・ベルリ
ン・30・クワビレストラッセ・６
(56)参考文献 Ｌｅｗｉｓ， Ｍ． Ｄ． ｅｔ ａ
ｌ，ＡＢＳＯＬＵＴＥ ＡＮＤ ＲＥＬ
ＡＴＩＶＥ ＣＯＮＦＩＧＵＲＡＴＩＯ
Ｎ ＯＦ Ｌ−660，631，Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，1987年,
Ｖｏｌ．28， Ｎｏ．43，ｐ．5129−
5132
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07D 317/36
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (13)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される２−オキソ
−１，３−ジオキソランを製造するための方法であっ
て、下記一般式（II）で表されるエポキシド化合物と、
下記一般式（III）で表される少なくとも一種の低分子
量２−オキソ−１，３−ジオキソランとを、少なくとも
一種の塩基性触媒の存在下で、昇温下において反応させ
ることを特徴とする２−オキソ−１，３−ジオキソラン
の製造方法。 【化１】 【化２】 【化３】 （一般式（Ｉ）および（II）において、Ｒ１、Ｒ２およ
びＲ３はそれぞれ置換されたまたは未置換の、枝分かれ
を有するまたは直鎖状の脂肪族、芳香族、芳香脂肪族、
または脂環式炭化水素残基もしくは複素環残基で、それ
ぞれ１〜２５個の炭素原子を有するものである。Ｒ１、
Ｒ２およびＲ３は互いに同一であっても異なっていても
よい。また一般式（III）において、Ｒ４は水素原子、
最大５個の炭素原子を有する未置換のまたは置換され
た、枝分かれを有するまたは直鎖状の脂肪族鎖である。
但し、Ｒ４はＲ１と同一ではなく、また、脂肪族鎖を表
す場合はＲ１よりも炭素原子数が小さいものである。） - 【請求項２】 下記一般式（IV）で表される２−オキソ
−１，３−ジオキソランを製造するための方法であっ
て、下記一般式（Ｖ）で表されるエポキシド化合物と、
下記一般式（III）で表される少なくとも一種の低分子
量２−オキソ−１，３−ジオキソランとを、少なくとも
一種の塩基性触媒の存在下で、昇温下において反応させ
ることを特徴とする２−オキソ−１，３−ジオキソラン
の製造方法。 【化４】 【化５】 【化６】 （一般式（IV）および（Ｖ）において、Ｒ５は水素原
子、あるいは１価、２価、３価または４価の飽和または
不飽和の脂環式、芳香族または芳香脂肪族炭化水素残基
もしくは複素環残基で、最大２０個の炭素原子を有する
ものである。ｎは１、２、３または４を示し、ｐは０ま
たは１である。また一般式（III）において、Ｒ４は水
素原子、最大５個の炭素原子を有する未置換のまたは置
換された、枝分かれを有するまたは直鎖状の脂肪族鎖で
ある。） - 【請求項３】 下記構造部位（VI-1）及び下記構造部位
（VI-2）から構成される２−オキソ−１，３−ジオキソ
ランを製造するための方法であって、下記構造部位（VI
I-1）及び下記構造部位（VII-2）から構成されるエポキ
シド化合物と、下記一般式（III）で表される少なくと
も一種の低分子量２−オキソ−１，３−ジオキソランと
を、少なくとも一種の塩基性触媒の存在下で、昇温下に
おいて反応させることを特徴とする２−オキソ−１，３
−ジオキソランの製造方法。 【化７】 【化８】 【化９】 （構造単位（VI-1）、（VI-2）、（VII-1）、及び（VII
-2）において、Ｒ６は水素原子、または最大１８個の炭
素原子を有する未置換のまたは置換されたアルキル残基
を示し、ＺはＣＯＯＲ６、ＣＮ、ＣＯＯ−ＣｎＨ２ｎ−
Ｎ(Ｒ６)２、ＣＯＯ−ＣｎＨ２ｎ−ＯＨ、ＣＯＮＨ２、
または置換されたあるいは未置換のフェニル基を示す。
ｎは２〜６であり、且つ、構造単位（VI-1）及び構造単
位（VI-2）の合計数、又は構造単位（VII-1）及び構造
単位（VII-2）の合計数が５〜１０００である。また一
般式（III）において、Ｒ4は水素原子、最大５個の炭素
原子を有する未置換のまたは置換された、枝分かれを有
するまたは直鎖状の脂肪族鎖である。） - 【請求項４】 ２−オキソ−１，３−ジオキソランの製
造が、５５〜１７０℃の範囲の温度で行われることを特
徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の２−オキソ−
１，３−ジオキソランの製造方法。 - 【請求項５】 一般式（III）で表される２−オキソ−
１，３−ジオキソランとして、エチレンカーボネート、
プロピレンカーボネート、４−ブチル−２−オキソ−
１，３−ジオキソラン、またはこれらの混合物が用いら
れることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の
２−オキソ−１，３−ジオキソランの製造方法。 - 【請求項６】 反応が脂肪族炭化水素、脂環式または芳
香族炭化水素、ハロゲン置換された炭化水素、エーテ
ル、グリコールジエーテルまたはこれらの混合物よりな
る群から選ばれる希釈剤の存在下で行われることを特徴
とする請求項１〜５のいずれかに記載の２−オキソ−
１，３−ジオキソランの製造方法。 - 【請求項７】 反応成分が、エポキシド：２−オキソ−
１，３−ジオキソランのモル比が１０：１〜１：２０の
範囲にあることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに
記載の２−オキソ−１，３−ジオキソランの製造方法。 - 【請求項８】 触媒の使用量が、エポキシド成分に対し
て０．０１５〜１０質量％の範囲にあることを特徴とす
る請求項１〜７のいずれかに記載の２−オキソ−１，３
−ジオキソランの製造方法。 - 【請求項９】 塩基性触媒として、脂肪族、芳香族また
は複素環式第３級アミン、これらの第４級水酸化物また
は式Ｒ４Ｎ＋Ｘ−で表される塩、式Ｒ３Ｐで表されるホ
スファン、アルカリ金属の水酸化物またはアルコラー
ト、またはアミン、グアニジン、アミジン、ピリジン、
ピペリジン、ピペラジンおよびイミダゾールよりなる群
から選ばれる窒素含有化合物の一種あるいは混合物が用
いられることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記
載の２−オキソ−１，３−ジオキソランの製造方法。 - 【請求項１０】 触媒として、ジエチルメチルアミン、
ベンジルトリメチルアンモニウム水酸化物、ベンジルト
リメチルアンモニウム塩化物、３−クロロ−２−ヒドロ
キシプロピルトリメチルアンモニウム塩化物、ベンジル
トリブチルアンモニウム塩化物、テトラエチルアンモニ
ウム塩化物、テトラエチルアンモニウム臭化物、コリ
ン、１，４−ジアザビシクロ−［２，２，２］−オクタ
ン、１，１，３，３−テトラメチルグアニジン、４−ジ
メチルアミノピリジン、イミダゾール、１−メチルイミ
ダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−
メチルイミダゾール、トリフェニルホスファン、１，５
−ジアザビシクロ−［４，３，０］−ノン−５−エン、
および１，８−ジアザ−ビシクロ−［５，４，０］−ウ
ンデク−７−エンの少なくとも１種が用いられることを
特徴とする請求項８または９のいずれかに記載の２−オ
キソ−１,３−ジオキソランの製造方法。 - 【請求項１１】 共触媒が、エポキシド成分に対して
０．０１５〜１０質量％の量で添加されることを特徴と
する請求項１〜１０のいずれかに記載の２−オキソ−
１，３−ジオキソランの製造方法。 - 【請求項１２】 共触媒として、水、低分子量アルコー
ル、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のハロゲン化
物、水酸化物、リン酸塩または炭酸塩が用いられること
を特徴とする請求項１１に記載の２−オキソ−１，３−
ジオキソランの製造方法。 - 【請求項１３】 共触媒として、ヨウ化カリウムまたは
炭酸カリウムが用いられることを特徴とする請求項１１
または１２のいずれかに記載の２−オキソ−１，３−ジ
オキソランの製造方法。
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