JP3448259B2 - プレス性および磁気特性に優れるFe−Ni系シャドウマスク用材料 - Google Patents

プレス性および磁気特性に優れるFe−Ni系シャドウマスク用材料

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビの受
像管などの素材であるFe−Ni系シャドウマスク用材料に
関し、とくにプレス成形がしやすく、しかも優れた磁気
特性を示すFe−Ni系シャドウマスク用材料に関連する提
案である。
【0002】
【従来の技術】シャドウマスク用材料としては従来、低
炭素アルミキルド鋼板が用いられていたが、近年、低熱
膨張特性を有するFe−Ni系アンバー合金の使用が増えつ
つある。最近では、ディスプレーの精細化、大型テレビ
のフラット化に対応するためにも、この合金への依存が
高まっている。
【0003】こうしたFe−Ni系アンバー合金の特徴は、
アルミキルド鋼板などに比較すると、耐力が高いために
プレス成形時に特別の配慮が必要であり、また二元系合
金であることからNi偏析が不可避に起こり、そのために
シャドウマスクエッチング時にすじむらと呼ばれる不具
合が生じることにあり、このことはよく知られている。
【0004】また、受像管に組み込まれるシャドウマス
ク用材料に求められる特性としては色むらが出ることな
く、また鮮明な画像が得られるような性質を有すること
である。そのためには、この材料のエッチング時に不具
合が発生しないように合金の清浄度を高めること、ま
た、前記すじむらが生じないようにすること、さらに
は、材料表面に黒化処理による緻密な酸化膜を均一に形
成すること等を満足することが不可欠である。さらに
は、Fe−Ni合金についてはプレス性を改善することも重
要である。そのためには、温間プレスによる低耐力での
プレスや、Cr添加による低耐力化を図ることも必要であ
る。
【0005】その他、カラー受像管にとって必要な特性
としては、磁気シールド性がある。この特性は、カソー
ド(電子銃)から放射された電子線が、外部磁場の影響
を受けて変化するのを防ぐために必要である。とくに地
球磁場や電磁波の影響によりテレビ画像が歪んだり、色
ずれ、色むらが生じないようにすることにある。こうし
た磁気シールド性は、様々な方法により付与することと
しているが、一般には、金属板による電界シールドが中
心であり、受像管の後部を覆うような形式のものが採用
されている。一方、受像管の前面については、シャドウ
マスクと蛍光体を塗ったガラスパネルがあり、この場
合、シャドウマスクにシールド性が期待される。ところ
が、このシャドウマスクに関してシールド性を向上する
提案は、Alキルド鋼についてはあるが(特開昭61−9133
2)、Fe−Ni系合金では現在まで知られていない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで発明者らは、上
述した従来技術が抱えている問題点に対し、プレス成形
性と磁気シールド性の観点からその両方の特性に優れる
シャドウマスク材の開発を目指して研究を行った。こう
した研究の中で、プレス成形性の改善のためには低耐力
化を図ることが重要であり、そのためのアプローチの方
法として、プレス条件の制御に頼らないで実現しようと
すれば、それは結晶粒を粗粒化することが最有効である
ことがわかった。また、Ni-Fe系合金での透磁率が、保
磁力等の軟磁気特性を向上させる方法としては、やはり
結晶粒の粗粒化が有効であることも種々の実験により確
認できた。
【0007】つまり、本発明の解決しようとする課題
は、上述した実験事実並びに新規知見にもとづき、プレ
ス焼鈍後のシャドウマスク材料の結晶粒を如何に大きく
成長させるかにある。
【0008】即ち、本発明の目的は、プレス成形性と磁
気特性に優れるシャドウマスク用材料の提供と、このプ
レス条件の制御に頼ることなく、かかる特性を有するシ
ャドウマスク用材料を確実に製造する方法を提案すると
ころにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上述した課題を克服して
上記目的を実現するには、Niを34〜38wt%含み、C:0.0
15wt%以下、Si:0.2wt%以下、Mn:0.1〜0.5wt%、P:
0.01wt%以下、S:0.005wt%以下、Cr:1.Owt%以下、A
l:0.02wt%以下、Ca:0.0005wt%以下、Mg:0.0005wt
%以下、O:0.0060wt%以下で、残部がFeおよび不可避
的不純物よりなり、(Al+10Ca)/Oの比が5〜40の範囲
に、また(Al+10Ca+20Mg)/Oの比が10〜60の範囲に
あることを特徴とするプレス性および磁気特性に優れる
シャドウマスク用材料が有効である。
【0010】なお、本発明においては、粒界にある0.1
μm以上のMnSの割合が、10個/mm以下であるシャド
ウマスク用材料が好ましい。
【0011】また、本発明は、請求項1または2に記述
したシャドウマスク用合金を製造するに当たり、 Niを
34〜38wt%含み、C:0.015wt%以下、Si:0.2wt%以
下、Mn:0.1〜0.5wt%、P:0.01wt%以下、S:0.005wt
%以下、Cr:1.Owt%以下、Al:0.02wt%以下、Ca:0.0
005wt%以下、Mg:0.0005wt%以下、O:0.0060wt%以
下で、残部がFeおよび不可避的不純物よりなり、(Al+
10Ca)/Oの比が5〜40の範囲に、また(Al+10Ca+20M
g)/Oの比が10〜60の範囲にあるように調整し、次いで
得られたスラブを1250℃〜1370℃の範囲内の温度にて10
時間以上の均質化処理を行い、その後、常法にしたがっ
て熱間圧延と、冷間圧延、そして、焼鈍を1回ないし複
数回行うことを特徴とするプレス性と磁気特性に優れる
シャドウマスク用材料の製造方法を提案する。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明は、Niを34〜38wt%含み、
C:0.015wt%以下、Si:0.2wt%以下、Mn:0.1〜0.5wt
%、P:0.01wt%以下、S:0.005wt%以下、Cr:1.Owt%
以下、Al:0.02wt%以下、Ca:0.0005wt%以下、Mg:0.
0005wt%以下、O:0.0060wt%以下で、残部がFeおよび
不可避的不純物よりなり、出鋼時のいわゆるレードル値
において、(Al+10Ca)/Oの比が5〜40の範囲に、また
(Al+10Ca+20Mg)/Oの比が10〜60の範囲にあること
を特徴とするプレス性および磁気特性に優れるシャドウ
マスク用合金を、精錬時において脱酸成分をコントロー
ルし、(Al+10Ca)/Oの比が5〜40の範囲にまた(Al+
10Ca+20Mg)/Oの比が10〜60の範囲になるように調整
し、そして、製品については、以下に詳細に述べる方法
で観察した0.1μm以上のMnSの分布を単位粒界面積あた
り10個/mm以下に規定することにより、結晶粒のピン
ニングを阻止し、粒成長を著しく増大させる方法を提案
する。また、このような組織制御による方法に加え、さ
らに、Ni偏析の低減と組織制御とを組み合わせることに
より、プレス成形性および磁気特性をともに大幅に改善
することが可能になる。
【0013】本発明合金の成分組成が上述した範囲に限
定される理由を以下に説明する。さて、本発明におい
て、合金の成分組成のうち、Niの含有量の下限を34wt%
とした理由は、34wt%未満ではMs点が上昇し、マルテン
サイトが生成しやすくなるからである。一方、その上限
は38wt%程度である。それは、38wt%を超えると熱膨張
係数が増大し、アンバー合金としての特性が失われるた
めである。
【0014】C:Cは、0.015%を超えるとカーバイド
の生成が起こり、エッチング性を阻害する。また同時
に、軟化焼鈍後の耐力が十分に下がらず、Cは0.015%
以下のできるだけ少ない方が望ましい。
【0015】Si:Siは、脱酸成分の一つとして添加され
るが0.2%を超えた場合にはエッチング穿孔性を阻害す
るとともに、脱酸材として同時に添加するAlの効果を阻
害するため、その限定範囲を0.2%以下とする。
【0016】Mn:Mnは、脱酸成分として添加されるが0.
5%を超えて含有すると熱膨張係数が大きくなりまたキ
ュリー点を高温側に変位させるほか過剰なMnSを生成し
て本発明で意図する粒成長を抑制するため0.5%以下と
する。
【0017】P:Pは、過剰に含有するとエッチングム
ラの原因となり穿孔不良をもたらすことから0.01%以下
に限定する。
【0018】S:Sは、その量が0.005%を超えると硫
化物系介在物を生じ易く、それがCaSやMgSの場合穿孔不
良をもたらしエッチング性を悪化させる。また、MnSを
生成した場合、粒成長を抑制するためSは0.005%以下
とする。
【0019】Cr:Crは、1.0%を超えて添加すると黒化
処理の際優先酸化が生じ良好な黒化皮膜が生成されにく
くなるため1.0%以下に制限する。
【0020】Al:Alは、本発明において重要な役割を担
う脱酸成分であり、添加量が少ない場合には脱酸が不十
分となって非金属介在物の量が増加するのに加え、Mn、
Siの影響により硫化物の形態がMnSとなりやすくなるた
め粒成長が抑制される。一方、0.02%より多くなると過
剰のAlにより介在物形態が大型化しエッチング性を阻害
する。このことからAlは0.02%以下の範囲に限定すると
共に、MgおよびCaの成分値及び合計酸素(トータル0)
との関連から、以下の式を満足するように調整すること
が望ましい。(Al+10Ca)/Oの比を5〜40の範囲内と
し、好ましくは10〜20、また(Al+10Ca+20Mg)/Oの比
を10〜60、好ましくは15〜30とする。
【0021】Ca:Caは、脱酸中にスラグとの平衡反応で
溶鋼中に残留するものであり、本来不純物成分として少
ないほうが望ましいが、Alを主体とする脱酸反応におい
てはSをCaSとして固定することにより無害化する作用
があり、MnSのように粒成長に対して影響することもな
いため、数ppm程度の極微量残留することに関してはむ
しろ有効である。ただし、多すぎる場合、当然粗大介在
物の発生の要因になり、エッチング性に対して悪影響を
及ぼすため0.0005%以下に限定した。
【0022】Mg:MgもCaと同様、脱酸中にスラグとの平
衡反応で生じ不可避的に残留するものであり、Sの固定
の観点から数ppm程度の極微量残留することに関しては
有効である。このためこれが多すぎると、エッチング時
に穿孔不良となりスロット目詰まり等の不具合を生じ0.
0005%以下に限定した。
【0023】O:Oは脱酸により低減されて最終的に鋼
中に残留するものであるが、鋼中に固溶して残留するO
と非金属介在物等の酸化物として残留するOとに分かれ
ている。Oの量が多くなると必然的に非金属介在物の量
が増えエッチング性に悪影響を及ぼすことが知られてい
るが、同時にSの存在形態にも影響してくる。すなわ
ち、脱酸が不十分で残留するOが多い場合、硫化物がMn
Sとして存在しやすくなり粒成長を阻害する。このこと
からOは0.0060%以下とする。
【0024】そこで、本発明では、上記成分組成におい
て、精錬時における脱酸成分をコントロールし、化学成
分値として(Al+10Ca)/Oの比が5〜40の範囲内に、ま
た(Al+10Ca+20Mg)/Oの比が10〜60の範囲になるよ
うに調整することが必要である。このような調整を行う
理由は、Al、Caの量、または、Al、Ca、Mgの量と酸素と
の比を上記の範囲に制御することにより、脱酸生成物中
の非金属介在物の組成や形態がコントロールでき、ひい
ては微細なMnSを主体とする硫化物や酸化物の生成を制
御できるようにするためである。
【0025】次に、本発明にかかる材料の製造方法につ
いて説明する。まず、上掲の成分組成にかかる出発材料
を、普通造塊ののちに分塊圧延するか、または連続鋳造
により直接、スラブとし、このスラブを1250℃〜1370℃
の範囲で10hr以上の均質化処理を行なう。この均質化処
理により、上記スラブは、図1に示すように、Ni偏析の
低減が図られ、製品のプレス焼鈍時における粒成長が促
進され、ひいては、結晶粒の粗粒化が図られる。その結
果として、材料のプレス成形性と磁気特性の改善が可能
になる。
【0026】上記均質化処理の温度は、1250℃未満では
均質化の効果が十分でなく、一方、1370℃を超えると、
酸化ロスによる歩留まりの低下や加熱脆化割れの危険性
が生じるため、1250℃〜1370℃の範囲に限定する。
【0027】質化処理を施したスラブは、熱間圧延工程
を経て冷間圧延と焼鈍を複数回繰り返したのち製品とす
る。その製品については、さらにエッチングメーカーで
エッチング処理によって穿孔し、その後プレス成形のた
めの軟質化焼鈍を行なう。この軟質化焼鈍は、通常900
℃〜1100℃程度の温度で行われ、この焼鈍により、プレ
ス成形に必要な低耐力化と伸びの回復が行われる。本発
明にかかる合金では、この時の結晶粒の成長が速く、通
常のプロセスで製造したものに比べてより低耐力化が図
れ、成形性が向上する。また、磁気特性の点では、通常
プロセス材に比べると、図2及び図3に示すように、軟
磁気特性が向上していることが確認でき、透磁率は5
倍、保磁力は1/7と非常に良好である。
【0028】
【実施例】表1に示す成分組成のFe-Ni系シャドウマス
ク用材料を50トンVODにて溶解し、得られた連続鋳造ス
ラブを均質化処理を施したものと施していないものにつ
いて、それぞれ常法に従い熱間圧延を行ない、引き続き
冷間圧延と、焼鈍とを繰り返して、さらに数%の調質圧
延を行って製品とした。製品に含有する0.1μm以上のM
nSの粒界に存在する個数を測定したのち、この製品をエ
ッチングメーカーでエッチング穿孔を施し、さらにプレ
ス前に軟質化焼鈍を施したものについてのプレス成形性
の評価を行なった。また、受像管に組み込まれた状態で
の磁気シールド性を評価するために、画像面の近傍で平
行に流れる線電流からの電磁波成分による電界シールド
性とループ電流からの磁界成分の磁界シールド性の双方
の評価試験も行なった。
【0029】その結果、表1に示すように本発明材料で
は比較例に比べてプレス成形時の型なじみが良好であ
り、また磁気シールド性については、特に磁界シールド
性が優れていることが確認された。
【0030】
【表1】
【0031】なお、上記のMnS の観察方法は以下に示す
方法により行なったものである。すなわち、製品表面を
機械研磨し、バフ研磨まで仕上げる。研磨面を非水溶媒
(アセチルアセトン10v/v %+テトラメチルアンモニウ
ムクロライド1w/v%+メタノール溶液)中で定電位電解
(SPEED 法)を行なった。電解条件は、電解電位100m
v で10C (クローン)/cmにて実施した。観察は、走
査型電子顕微鏡(SEM)にて1mmの面積で粒界に存在
する0.1 μm以上のMnS をカウントすることによって行
なった。そして、カウントしたMnS の数を以下の式によ
り計算し単位粒界あたりの個数として求めた。
【0032】観察されたMnS個数(n) 観察面積(S)/mm 単位面積当たりMnS個数(n/S) 単位体積当たりMnS個数(P) P=(n/S)3/2 粒界面積(Sv)/mm Sv=8/3Nv1/3 Nv:単位体積当たりの結晶粒数(G.S.No.から導出) 単位面積当たりMnS個数(Ps) Ps=P/Sv=3/8(n/S)3/2/Nv1/3
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プレス成形性と磁気特性に優れたシャドウマスク用合金
を容易に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、Ni偏析量は、結晶粒径に及ぼす影響を
示す詳細図。
【図2】図2は、結晶粒径と最大透磁率との関係を示す
グラフ。
【図3】図3は、結晶粒径と保磁力との関係を示すグラ
フ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01J 9/14 H01J 9/14 G 29/07 29/07 Z

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Niを34〜38wt%含み、C:0.015wt%以
    下、Si:0.2wt%以下、Mn:0.1〜0.5wt%、P:0.01wt%
    以下、S:0.005wt%以下、Cr:1.Owt%以下、Al:0.02w
    t%以下、Ca:0.0005wt%以下、Mg:0.0005wt%以下、
    O:0.0060wt%以下で、残部がFeおよび不可避的不純物
    よりなり、(Al+10Ca)/Oの比が5〜40の範囲に、また
    (Al+10Ca+20Mg)/Oの比が10〜60の範囲にあること
    を特徴とするプレス性および磁気特性に優れるシャドウ
    マスク用材料。
  2. 【請求項2】 粒界にある0.1μm以上のMnSの割合が、
    10個/mm以下であることを特徴とする請求項1に記載
    のシャドウマスク用材料。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載したシャドウマ
    スク用合金を製造するに当たり、Niを34〜38wt%含み、
    C:0.015wt%以下、Si:0.2wt%以下、Mn:0.1〜0.5wt
    %、P:0.01wt%以下、S:0.005wt%以下、Cr:1.Owt%
    以下、Al:0.02wt%以下、Ca:0.0005wt%以下、Mg:0.
    0005wt%以下、O:0.0060wt%以下で、残部がFeおよび
    不可避的不純物よりなり、(Al+10Ca)/Oの比が5〜40
    の範囲に、また(Al+10Ca+20Mg)/Oの比が10〜60の
    範囲内となるように調整し、次いで得られたスラブを12
    50℃〜1370℃の範囲内の温度にて10時間以上の均質化処
    理を行い、その後、常法にしたがって熱間圧延と、冷間
    圧延、そして、焼鈍を1回ないし複数回行うことを特徴
    とするプレス性と磁気特性に優れるシャドウマスク用材
    料の製造方法。
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