JP3442714B2 - パイロット式２ポート真空バルブ - Google Patents

パイロット式２ポート真空バルブ

Info

Publication number
JP3442714B2
JP3442714B2 JP2000078286A JP2000078286A JP3442714B2 JP 3442714 B2 JP3442714 B2 JP 3442714B2 JP 2000078286 A JP2000078286 A JP 2000078286A JP 2000078286 A JP2000078286 A JP 2000078286A JP 3442714 B2 JP3442714 B2 JP 3442714B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
valve
valve body
sub
main
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000078286A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001263532A (ja
Inventor
舘 政 一 古
谷 昌 生 梶
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SMC Corp
Original Assignee
SMC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SMC Corp filed Critical SMC Corp
Priority to JP2000078286A priority Critical patent/JP3442714B2/ja
Priority to TW090202589U priority patent/TW489971U/zh
Priority to EP01301804A priority patent/EP1136735B1/en
Priority to DE60102735T priority patent/DE60102735T2/de
Priority to US09/797,594 priority patent/US6581635B2/en
Priority to KR10-2001-0014611A priority patent/KR100421061B1/ko
Priority to CNB011118520A priority patent/CN1234983C/zh
Publication of JP2001263532A publication Critical patent/JP2001263532A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3442714B2 publication Critical patent/JP3442714B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
    • F16K31/122—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston
    • F16K31/1221—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston one side of the piston being spring-loaded
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
    • F16K31/122—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston
    • F16K31/1225—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston with a plurality of pistons
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K39/00—Devices for relieving the pressure on the sealing faces
    • F16K39/02—Devices for relieving the pressure on the sealing faces for lift valves
    • F16K39/024—Devices for relieving the pressure on the sealing faces for lift valves using an auxiliary valve on the main valve
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
    • F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/8158—With indicator, register, recorder, alarm or inspection means
    • Y10T137/8225—Position or extent of motion indicator
    • Y10T137/8275—Indicator element rigidly carried by the movable element whose position is indicated
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/8593—Systems
    • Y10T137/86928—Sequentially progressive opening or closing of plural valves
    • Y10T137/86936—Pressure equalizing or auxiliary shunt flow
    • Y10T137/86944—One valve seats against other valve [e.g., concentric valves]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/8593—Systems
    • Y10T137/87096—Valves with separate, correlated, actuators
    • Y10T137/87121—Coaxial stems

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)
  • Fluid-Driven Valves (AREA)
  • Lift Valve (AREA)
  • Indication Of The Valve Opening Or Closing Status (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空チャンバと真
空ポンプとの間に接続して真空チャンバ内を真空圧に減
圧する場合に使用されるパイロット式２ポート真空バル
ブに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、真空チャンバの内圧を真空ポン
プで真空圧に下げる場合、大気圧や高圧の状態にある真
空チャンバ内のプロセスガスなどの気体を急激に排気す
ると、一時的に大量の気体が流動するため、真空チャン
バ内で気体の乱流が生じ、真空チャンバ内壁等に付着し
たパーティクルが巻き上げられて半導体ウエハなどのワ
ークに付着する恐れがある。そこで、上記の事態を避け
るため、真空チャンバと真空ポンプとを結ぶ流路に、流
体圧によって駆動する真空バルブを設置し、この真空バ
ルブの弁体にテーパ部を形成し、この弁体をテーパ弁座
孔の中心軸線に沿って移動させることで、弁体と弁座と
の間の隙間の大きさ（弁開度）を変え、気体の吸引量を
制限的に変化させたり、電空比例弁によって流体圧を制
御することで弁ストロークを変化させ、弁開度を微少に
変化させるものが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
如き真空バルブでは、弁座の開口径が大きいため、弁ス
トロークに対する気体流量の立ち上がりが大きくなった
り、弁開度を微少に変化させる場合には、電空比例弁に
極めて高い精度が要求される上、制御機構が複雑化し、
安定性に欠け、パーティクルの巻き上げを確実に防止す
ることができないという問題点がある。
【０００４】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであって、その目的とするところは、簡単な
構造かつ簡便な操作で真空チャンバ内をパーティクルの
巻き上げを起こすことなく安定的に所望の圧力にするこ
とができるパイロット式２ポート真空バルブを提供する
ことにある。本発明の上記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく、
本発明に係るパイロット式２ポート真空バルブは、真空
チャンバに接続するための第１のポート（３）と、真空
ポンプに接続するための第２のポート（４）と、上記第
１および第２のポートを結ぶ主流路（Ｂ）中の弁座部
（２５）を開閉する主弁体（２１，２４）と、上記第１
および第２のポートを結び上記主流路より開口面積の小
さい副流路（Ａ）中の弁座部（２６）を制限的に開閉す
る副弁体（９，６０）と、上記主弁体に第１のシャフト
（６）を介して連結された第１のピストン（３０）およ
び圧力流体が供給される主圧力作用室（４７ａ）を有
し、流体圧による上記第１のピストンの往復動によって
上記主弁体を開閉させる主弁駆動部（６，３０，４７
ａ）と、上記第１のシャフトを上記主弁体が閉じる方向
に付勢する第１の弾性部材（１０，１４）と、上記副弁
体に第２のシャフト（７）を介して連結された第２のピ
ストン（４６）および上記圧力流体が供給される副圧力
作用室（４８ａ）を有し、流体圧による上記第２のピス
トンの往復動によって上記副弁体を開閉させる副弁駆動
部（７，４６，４８ａ）と、上記第２のシャフトを上記
副弁体が閉じる方向に上記第１の弾性部材より小さな付
勢力で付勢する第２の弾性部材（１５）と、上記主圧力
作用室と上記副圧力作用室とを連通する導通孔（３４）
と、上記主圧力作用室および上記副圧力作用室に上記圧
力流体を導入する操作ポート（３５）とを具備したこと
を特徴としている。
【０００６】また、上記パイロット式２ポート真空バル
ブの好ましい実施の形態においては、上記副弁体を外周
部に弁シール部（６０）が形成されたニードル弁（９）
とすることができ、また、該ニードル弁に複数のテーパ
部（９ａ，９ｂ，９ｃ）を連続して形成することができ
る。 また、上記パイロット式２ポート真空バルブは、螺
回により進退自在で上記第２のピストンの開放ストロー
ク端を規定する調節棒（３１）と、上記調節棒に外部か
ら回動操作可能に取り付けられ、上記調節棒の位置調節
を行なう操作部材（３２）とを備えたものとすることが
でき、また、上記第２のシャフトに固定または当接さ
せ、該第２のシャフトの進退動に連動させながら、上記
主弁体および上記副弁体の開口ストローク量を検出する
検出棒（６１）を備えたものとすることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。実施の形態を説明するに当
たって、同一機能を奏するものは同じ符号を付して説明
する。図１は、本発明の一実施の形態に係るパイロット
式２ポート真空バルブのニードル弁の開状態および閉状
態をそれぞれ示す断面図、図２は、パイロット式２ポー
ト真空バルブの弁開度と流体圧との特性図、図３は、本
発明の他の実施の形態に係るパイロット式２ポート真空
バルブのニードル弁の開状態および閉状態をそれぞれ示
す要部断面図、図４は、本発明の他の実施の形態に係る
ニードル弁の形状を示す要部断面図である。
【０００８】図１に示すパイロット式２ポート真空バル
ブは、略円筒状の弁ボディ１を有し、この弁ボディ１の
軸線方向後端部にはこれを塞ぐようにカバー２が固着さ
れ、先端部には真空チャンバＴに接続するための第１の
ポート３が形成され、弁ボディ１の軸線方向と直交する
方向には真空ポンプＰに接続するための第２のポート４
が開設され、弁ボディ１の内部には、第１と第２のポー
ト３，４を結ぶ第１の流路Ａ（副流路となる流路）を制
限的に開閉する副弁機構と、両ポート３，４を結ぶ第２
の流路Ｂ（主流路となる流路）を全開閉する主弁機構と
がそれぞれ設けられている。
【０００９】主弁機構は、中央部を開口した第１の弁ホ
ルダ２１の周縁部に保持され両ポート３，４を結ぶ第２
の流路Ｂ中の弁座部２５を開閉する第１の弁体２４と、
流体圧の作用により作動して第１の弁体２４を駆動する
第１のピストン３０と、第１の弁体２４および第１のピ
ストン３０を相互に連結する第１のシャフト６とを有し
ており、第１の弁ホルダ２１の上記開口部は、導通路１
７を介して第２のポート４に連通し、第１のシャフト６
の先端部は、第１の弁ホルダ２１の中央部に嵌入され止
め輪１３によって抜脱しないように固定されている。そ
して、上記弁座部２５により上記主弁機構の主弁の弁座
が構成され、該弁座部２５を開閉する第１の弁体２４お
よび該第１の弁体２４を保持する上記弁ホルダ２１によ
り上記主弁の主弁体が構成されている。なお、図中、１
１は、第１のシャフト６と第１の弁ホルダ２１との間の
気密を保つシール部材である。
【００１０】第１のシャフト６の後端部は、弁ボディ１
の隔壁部である台座１８をガイドブッシュ２７を介して
気密かつ摺動自在に貫通し、台座１８とカバー２との間
のシリンダ４１内の第１のピストン室４７に突出し、第
１のピストン室４７に摺動自在の配設された第１のピス
トン３０に固定ナット５０によって気密に連結されてい
る。
【００１１】第１のピストン３０は、その外周に第１の
ピストン室４７の内壁に気密に摺接するパッキン３３お
よびガイドリング４５を有しており、第１のピストン３
０と台座１８との間に区画形成された主圧力作用室４７
ａは、シリンダ４１の側壁に開設された操作ポート３５
に連通されている。操作ポート３５から主圧力作用室４
７ａに圧縮空気等の圧力流体が供給されると、第１のピ
ストン３０がカバー２側に移動し、第１の弁体２４が開
くようになっている。この場合、操作ポート３５には、
電空レギュレータ５６によって圧力制御された圧力流体
が供給される。
【００１２】弁ボディ１の内部には、第１の弁ホルダ２
１に装着されたバネ受け１６と台座１８との間に、第１
の弁体２４を閉鎖方向に付勢する第１の弾性部材を構成
する第１および第２のスプリング１０，１４が縮設され
ると共に、弁ボディ１の内壁片と台座１８間に挟着され
たベローズホルダ２０と第１の弁ホルダ２１との間に第
１のシャフト６、第１および第２のスプリング１０，１
４を内包するベローズ５が設けられている。なお、図
中、１９および２９は、弁ボディ１とベローズホルダ２
０との間および弁ボディ１と台座１８との間の気密を保
つシール部材であり、２８は、第１のシャフト６と台座
１８との間の気密を保つパッキンである。また、４９
は、弁ボディ１内を外部に連通する呼吸ポート、５１は
第１のピストン室４７を外部に連通する呼吸孔である。
【００１３】副弁機構は、中央部が開口され第１の弁ホ
ルダ２１に固定ボルト２２によって同軸状に固定された
第２の弁ホルダ２３と、弁座部２５より開口面積が小さ
く第２の弁ホルダ２３の開口縁部に保持された第２の弁
体２６と、第２の弁体２６を開閉するニードル弁９と、
流体圧の作用により作動してニードル弁９を駆動する第
２のピストン４６と、ニードル弁９と第２のピストン４
６とを連結する第２のシャフト７とを有し、第２の弁ホ
ルダ２３および弁座部２５を除く部分が主弁機構内に完
全に内蔵された形で組み込まれている。
【００１４】第１のシャフト６の内部には、バネ座８と
ニードル弁９との間にニードル弁９を閉弁方向に付勢す
る第２の弾性部材を構成する第３のスプリング１５が縮
設され、ニードル弁９の外周部には弁シール部６０が形
成され、閉弁時には弁シール部６０が第２の弁体２６に
密着するようになっている。したがって、第２の弁体２
６はニードル弁９の弁座としての機能を有するものであ
り、該第２の弁体２６および弁シール部６０を有するニ
ードル弁９により上記副弁機構の副弁の弁座部および副
弁体が構成されている。なお、図中、５８は、第３のス
プリング１５が配設されたニードル弁９の背室を外部に
連通させるための呼吸孔であり、５９は、第１のシャフ
ト６とニードル弁９との間の気密を保つパッキンであ
る。
【００１５】第２のシャフト７の後端部は、第１のシャ
フト６の内部を気密且つ摺動自在に貫通して第１のピス
トン３０内の第２のピストン室４８内に突出し、第２の
ピストン室４８内に摺動自在に配設された第２のピスト
ン４６に固定ナット４４によって気密に連結されてい
る。なお、図中、１２は、第２のシャフト７と第１のシ
ャフト６との間の気密を保つパッキン、４３は、第２の
シャフト７と第２のピストン４６との間の気密を保つシ
ール部材である。
【００１６】第２のピストン４６は、その外周に第２の
ピストン室４８の内壁に気密に摺接するパッキン３６を
有しており、第２のピストン４６と第１のピストン３０
との間には副圧力作用室４８ａが区画形成され、副圧力
作用室４８ａと主圧力作用室４７ａとが第１のピストン
３０に形成された導通孔３４によって相互に連通してい
る。
【００１７】カバー２の中央部には操作部材となるダイ
ヤル３２が止め輪５５によって不用意に抜脱しないよう
に組み込まれ、第１のピストン３０の後端側には中央部
にネジ部３７を有するリティナ３８が固定されている。
そして、第２のピストン４６の開放ストローク端を規定
する調節棒３１の先端部がリティナ３８のネジ部３７に
螺回により進退自在にねじ付けられ、後端部が回転方向
にのみ結合するようにダイヤル３２に挿入されている。
なお、図中、３９は、第２のピストン室４８を第１のピ
ストン室４７に連通する呼吸孔であり、４０は、調節棒
３１のリティナ３８からの抜脱を防止する止め輪であ
る。
【００１８】カバー２にはスプリング５３によって一方
向に付勢するニードル５４が挿入され、ニードル５４を
スプリング５３の付勢力に抗してダイヤル３２に押し付
け、止めネジ５２で固定することでダイヤル３２の不本
意な自然回転を阻止するようになっている。調節棒３１
とダイヤル３２とを上記のように回転方向にのみ結合す
る方法としては、たとえば、調節棒３１を４角形状およ
び６角形状などの角軸と角穴に形成したり、側面の一部
を平面化した丸軸と丸穴に形成したり、回転方向にのみ
相互に係合し合う溝と突起とを備えた適宜断面形状の軸
と穴とに形成するなどの方法があるが、その他の適当な
結合機構を用いることもできる。
【００１９】ダイヤル３２を回転させることにより調節
棒３１を第２のピストン４６に対して進退させ、第２の
ピストン４６の開放ストローク端の位置を変えることに
より、ニードル弁９の開度調節を行うことができ、操作
ポート３５を通じて主圧力作用室４７ａから副圧力作用
室４８ａに圧縮空気等の圧力流体が供給されると、第２
のシャフト７が調節棒３１に当接する位置まで移動し、
ニードル弁９が徐々に開かれる。
【００２０】パイロット式２ポート真空バルブは、以上
の如く構成されているので、通常、ニードル弁９および
第１の弁体２４は、第１および第２の流路Ａ，Ｂをそれ
ぞれ閉鎖しており、この状態では真空ポンプＰを運転し
ても真空チャンバＴ内の気体は第１のポート３から第２
のポート４へと排出されない。
【００２１】いま、操作ポート３５から主圧力作用室４
７ａに圧力流体が徐々に加圧されながら供給されると、
まず、圧力流体は導通孔３４を通して副圧力作用室４８
ａに導入される。その後、第２のピストン４６は、副圧
力作用室４８ａの流体圧の上昇に伴って第２のシャフト
７が第３のスプリング１５の弾発力に抗して調節棒３１
に当接する位置まで移動し、ニードル弁９を制限的に開
く。したがって、真空チャンバＴ内の気体は制限的に開
口する第１の流路Ａを通って第２のポート４へと徐々に
流れ込み、真空チャンバＴは緩速で排気される。このた
め、真空チャンバＴ内で急速排気を行う場合のような気
体の乱流が発生せず、乱流に伴うパーティクルの巻き上
げが生じない。また、真空ポンプＰが一時的に大量の空
気を吸引することにより過負荷になることもない。
【００２２】その後、操作ポート３５からさらに高圧の
圧力流体が主圧力作用室４７ａに供給されることで、主
圧力作用室４７ａ内の流体圧が上昇し、第１のピストン
３０が第１および第２のスプリング１０，１４の弾発力
に抗してカバー２に当接する位置まで移動する。これに
より、第１の弁体２４は徐々に全開し、残りの排気が行
われる。このときの空気の密度は低いため、それがある
程度の速度で吸引されても乱流は発生せず、パーティク
ルの巻き上げは起こらない。勿論、真空ポンプＰの過負
荷も生じない。
【００２３】上記真空チャンバＴが所要の真空度になる
と、主圧力作用室４７ａおよび副圧力作用室４８ａ内の
圧力流体が操作ポート３５から排出され、第１の弁体２
４が第１および第２のスプリング１０，１４の付勢力で
復帰した後、ニードル弁９が第３のスプリング１５の付
勢力で復帰するため、第１の弁体２４およびニードル弁
９により第１および第２の流路Ａ，Ｂが閉鎖される。
【００２４】この場合、操作ポート３５を通じて主圧力
作用室４７ａおよび副圧力作用室４８ａ内に流体圧を供
給する操作は、電空レギュレータ５６によって自動的に
行われ、第１の弁体２４およびニードル弁９の弁開度と
流体圧とは、図２に示す関係になるように推移する。こ
の電空レギュレータ５６は、予めプログラムされた制御
信号によって制御されるか、あるいは主圧力作用室４７
ａおよび副圧力作用室４８ａの圧力を検出し、この検出
信号に基づいて時間関数も加えた適正な制御が行われ、
第１の弁体２４およびニードル弁９の弁開度が制御され
ることになる。
【００２５】このように、本実施の形態のパイロット式
２ポート真空バルブでは、ニードル弁９および第１の弁
体２４の弁開度が操作ポート３５に供給される流体圧の
大きさによって制御されるので、ニードル弁９および第
１の弁体２４によって真空チャンバＴの排気量が簡単に
安定性よく、かつ微妙に調節される。これにより、真空
チャンバＴ内のパーティクルの巻き上げを確実に防止す
ることができ、従来のような高精度の電空比例弁を不要
とし、経済性が向上する。
【００２６】以上、本発明の実施の形態のパイロット式
２ポート真空バルブについて詳述したが、本発明は、上
記実施の形態記載のパイロット式２ポート真空バルブに
限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲に記
載されている発明の精神を逸脱しない範囲で、設計にお
いて種々の変更ができるものである。たとえば、図３に
示すように、検出棒６１を第２のシャフト７に固定（ま
たは当接）させ、第２のシャフト７の進退動に連動させ
ながら、ニードル弁９の開口ストロークａおよび第１の
弁体２４の開口ストロークｂを光学、磁気あるいは電気
的な手段によって監視し、ニードル弁９および第１の弁
体２４の開弁量を検出することが可能である。また、図
４に示すように、ニードル弁９に複数のテーパ部９ａ〜
９ｃを連続して形成し、弁開度が微妙に変化するように
してもよい。この場合、多数のテーパ部を連続させて最
終的に略曲線状にしても構わない。また、真空チャンバ
Ｔ内の圧力を真空圧にすることは勿論、真空チャンバＴ
内の圧力を圧力センサで検出し、この検出信号に基づい
て操作ポート３５に供給される圧力流体の圧力を制御
し、真空チャンバＴ内を任意の圧力にすることも可能で
ある。また、請求項の記載内容を理解しやすくするため
に、請求項中に図面で使用した符号を括弧付きで記入し
たが、該符号は請求項の記載内容を理解しやすくするた
めに記載したものであるから、該符号の記載によって本
発明が限定解釈されるものではない。 例えば、本発明の
実施例では、第１の弁体２４を閉じる方向に付勢する第
１の弾性部材として第１、第２のスプリング１０，１４
を用いているが、必ずしも２つのスプリングを用いた実
施例に限定される必要はない。
【００２７】
【発明の効果】以上の説明から理解されるように、本発
明のパイロット式２ポート真空バルブによれば、主弁お
よび副弁が操作ポートに供給される流体圧の大きさによ
って制御されるので、主弁および副弁の開度を操作性お
よび安定性よく、かつ微妙に調節することができる。こ
のため、パーティクルの巻き上げを確実に防止すること
ができ、信頼性を向上することができ、高精度の電空比
例弁が不要になる。これにより、簡単な構造で低コスト
かつ操作が簡便なパイロット式２ポート真空バルブによ
って真空チャンバ内をパーティクルの巻き上げを起こす
ことなく安定的かつ確実に真空圧および任意の圧力にす
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態であるパイロット式２ポ
ート真空バルブのニードル弁の開状態および閉状態をそ
れぞれ示す断面図。
【図２】本発明の一実施の形態であるパイロット式２ポ
ート真空バルブの弁開度と流体圧との特性図。
【図３】本発明の他の実施の形態であるパイロット式２
ポート真空バルブのニードル弁の開状態および閉状態を
それぞれ示す要部断面図。
【図４】本発明の他の実施の形態であるパイロット式２
ポート真空バルブのニードル弁の形状を示す要部断面
図。
【符号の説明】
１ 弁ボディ ３ 第１のポート ４ 第２のポート ６ 第１のシャフト ７ 第２のシャフト ９ ニードル弁 ９ａ 第１のテーパ部 ９ｂ 第２のテーパ部 ９ｃ 第３のテーパ部 １０ 第１のスプリング １４ 第２のスプリング １５ 第３のスプリング １７ 導通路 １８ 台座 ２４ 第１の弁体 ２５ 弁座部 ２６ 第２の弁体 ３０ 第１のピストン ３１ 調節棒 ３２ ダイヤル ３４ 導通孔 ３５ 操作ポート ３７ ネジ部 ４１ シリンダ ４６ 第２のピストン ４７ 第１のピストン室 ４７ａ 主圧力作用室 ４８ 第２のピストン室 ４８ａ 副圧力作用室 ５６ 電空レギュレータ ６１ 検出棒
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F16K 1/00 F16K 31/12 F16K 51/02

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】真空チャンバに接続するための第１のポー
    ト（３）と、 真空ポンプに接続するための第２のポート（４）と、 上記第１および第２のポートを結ぶ主流路（Ｂ）中の弁
    座部（２５）を開閉する主弁体（２１，２４）と、 上記第１および第２のポートを結び上記主流路より開口
    面積の小さい副流路（Ａ）中の弁座部（２６）を制限的
    に開閉する副弁体（９，６０）と、 上記主弁体に第１のシャフト（６）を介して連結された
    第１のピストン（３０）および圧力流体が供給される主
    圧力作用室（４７ａ）を有し、流体圧による上記第１の
    ピストンの往復動によって上記主弁体を開閉させる主弁
    駆動部（６，３０，４７ａ）と、 上記第１のシャフトを上記主弁体が閉じる方向に付勢す
    る第１の弾性部材（１０，１４）と、 上記副弁体に第２のシャフト（７）を介して連結された
    第２のピストン（４６）および上記圧力流体が供給され
    る副圧力作用室（４８ａ）を有し、流体圧による上記第
    ２のピストンの往復動によって上記副弁体を開閉させる
    副弁駆動部（７，４６，４８ａ）と、 上記第２のシャフトを上記副弁体が閉じる方向に上記第
    １の弾性部材より小さな付勢力で付勢する第２の弾性部
    材（１５）と、 上記主圧力作用室と上記副圧力作用室とを連通する導通
    孔（３４）と、 上記主圧力作用室および上記副圧力作用室に上記圧力流
    体を導入する操作ポート（３５）と、 を具備したことを特徴とするパイロット式２ポート真空
    バルブ。
  2. 【請求項２】上記副弁体は、外周部に弁シール部（６
    ０）が形成されたニードル弁（９）であることを特徴と
    する請求項１記載のパイロット式２ポート真空バルブ。
  3. 【請求項３】上記ニードル弁に複数のテーパ部（９ａ，
    ９ｂ，９ｃ）が連続して形成されたことを特徴とする請
    求項２記載のパイロット式２ポート真空バルブ。
  4. 【請求項４】螺回により進退自在で上記第２のピストン
    の開放ストローク端を規定する調節棒（３１）と、上記
    調節棒に外部から回動操作可能に取り付けられ、上記調
    節棒の位置調節を行なう操作部材（３２）とを備えたこ
    とを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のパイロ
    ット式２ポート真空バルブ。
  5. 【請求項５】上記第２のシャフトに固定または当接さ
    せ、該第２のシャフトの進退動に連動させながら、上記
    主弁体および上記副弁体の開口ストローク量を検出する
    検出棒（６１）を備えたことを特徴とする請求項１〜３
    のいずれかに記載のパイロット式２ポート真空バルブ。
JP2000078286A 2000-03-21 2000-03-21 パイロット式２ポート真空バルブ Expired - Fee Related JP3442714B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000078286A JP3442714B2 (ja) 2000-03-21 2000-03-21 パイロット式２ポート真空バルブ
TW090202589U TW489971U (en) 2000-03-21 2001-02-21 Front-guiding type dual port vacuum valve
DE60102735T DE60102735T2 (de) 2000-03-21 2001-02-28 Zweiwege - Pilotvacuumventil
EP01301804A EP1136735B1 (en) 2000-03-21 2001-02-28 Pilot-type two-port vacuum valve
US09/797,594 US6581635B2 (en) 2000-03-21 2001-03-05 Pilot-type two-port vacuum valve
KR10-2001-0014611A KR100421061B1 (ko) 2000-03-21 2001-03-21 파일럿식 2포트 진공밸브
CNB011118520A CN1234983C (zh) 2000-03-21 2001-03-21 先导式二孔真空阀

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000078286A JP3442714B2 (ja) 2000-03-21 2000-03-21 パイロット式２ポート真空バルブ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001263532A JP2001263532A (ja) 2001-09-26
JP3442714B2 true JP3442714B2 (ja) 2003-09-02

Family

ID=18595723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000078286A Expired - Fee Related JP3442714B2 (ja) 2000-03-21 2000-03-21 パイロット式２ポート真空バルブ

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6581635B2 (ja)
EP (1) EP1136735B1 (ja)
JP (1) JP3442714B2 (ja)
KR (1) KR100421061B1 (ja)
CN (1) CN1234983C (ja)
DE (1) DE60102735T2 (ja)
TW (1) TW489971U (ja)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040071690A (ko) * 2001-12-06 2004-08-12 아사히 유키자이 고교 가부시키가이샤 매니폴드 밸브
JP4110512B2 (ja) 2002-04-18 2008-07-02 Ｓｍｃ株式会社 真空調圧弁
JP4258806B2 (ja) 2003-09-02 2009-04-30 Ｓｍｃ株式会社 真空調圧用バルブ
JP4196293B2 (ja) * 2004-08-02 2008-12-17 Ｓｍｃ株式会社 真空調圧用バルブ
JP4284687B2 (ja) * 2005-04-26 2009-06-24 Ｓｍｃ株式会社 真空及び真空破壊用複合弁
JP2006312981A (ja) * 2005-05-09 2006-11-16 Smc Corp ２ポート弁のロッドシール部保護構造
US20070007475A1 (en) * 2005-07-07 2007-01-11 Peter Zvokelj Vacuum valve
US8596301B2 (en) * 2008-10-01 2013-12-03 Marshall Excelsior Company Valve assembly
JP5490435B2 (ja) * 2009-03-31 2014-05-14 東京エレクトロン株式会社 ゲートバルブ装置
EP2270369A1 (en) * 2009-06-30 2011-01-05 Siemens Aktiengesellschaft Valve device and a steam turbine system incorporating said valve device
EP2270370A1 (en) * 2009-06-30 2011-01-05 Siemens Aktiengesellschaft Actuator assembly for a valve device and a steam turbine system incorporating said valve device
DK2478279T3 (da) * 2009-09-15 2013-10-14 Eric Aarestrup Soerensen Udluftningsventil til lastetanke
JP5397525B1 (ja) * 2012-11-13 2014-01-22 Ｓｍｃ株式会社 真空調圧システム
CN103591350B (zh) * 2013-11-04 2015-11-18 中国民航大学 一种用于飞机除冰液的先导型溢流阀
CN106641278A (zh) * 2016-12-14 2017-05-10 安徽海拓志永智能装备股份有限公司 一种高效快速放气阀
CN106763830A (zh) * 2016-12-14 2017-05-31 安徽海拓志永智能装备股份有限公司 一种低噪音快速放气阀
CN106763808A (zh) * 2016-12-15 2017-05-31 安徽海拓志永智能装备股份有限公司 高效二位二通气控阀
CN106763807A (zh) * 2016-12-15 2017-05-31 安徽海拓志永智能装备股份有限公司 一种大型二位二通气控阀
CN107505649A (zh) * 2017-07-19 2017-12-22 防城港市港口区晶通科技有限公司 一种基于声速检测的判断化工现场排放阀堵塞系统
JP7021979B2 (ja) * 2018-03-06 2022-02-17 浜名湖電装株式会社 流量制御弁
JP7106062B2 (ja) * 2018-06-22 2022-07-26 Smc株式会社 真空バルブ
CN111895165A (zh) * 2019-05-05 2020-11-06 得立鼎工业株式会社 阀装置
CN110541937A (zh) * 2019-08-05 2019-12-06 无锡先导智能装备股份有限公司 抽真空的控制方法及其控制系统以及真空阀
JP7088982B2 (ja) * 2019-09-04 2022-06-21 Ckd株式会社 パイロット形電磁弁
CN112728137B (zh) * 2021-03-30 2021-07-09 北京星际荣耀空间科技股份有限公司 一种截止阀和发动机及火箭飞行器

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2829670A (en) * 1954-06-01 1958-04-08 Halliburton Oil Well Cementing Remote control valve assembly
CH594157A5 (ja) * 1975-07-25 1977-12-30 Sulzer Ag
US4561464A (en) * 1984-11-07 1985-12-31 Roanoke College Relay valve
US4721284A (en) * 1986-11-06 1988-01-26 Norriseal Controls Valve plug design
JPS63202658A (ja) 1987-02-18 1988-08-22 Toray Silicone Co Ltd シリコ−ンゴム粒状物の製造方法
DE4243111B4 (de) * 1992-12-18 2004-02-26 Südmo Holding GmbH Aseptische Doppelsitz-Ventilvorrichtung
JP3745427B2 (ja) * 1995-11-14 2006-02-15 Ｓｍｃ株式会社 真空圧制御用スロー排気バルブ
JP3576748B2 (ja) 1997-04-30 2004-10-13 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 硬化シリコーン粉末の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1234983C (zh) 2006-01-04
KR100421061B1 (ko) 2004-03-03
KR20010092412A (ko) 2001-10-24
US6581635B2 (en) 2003-06-24
TW489971U (en) 2002-06-01
EP1136735B1 (en) 2004-04-14
DE60102735T2 (de) 2005-03-31
EP1136735A2 (en) 2001-09-26
CN1314557A (zh) 2001-09-26
US20010023709A1 (en) 2001-09-27
DE60102735D1 (de) 2004-05-19
EP1136735A3 (en) 2002-05-08
JP2001263532A (ja) 2001-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3442714B2 (ja) パイロット式２ポート真空バルブ
JP3445569B2 (ja) パイロット式２ポート真空バルブ
US5848608A (en) Vacuum-pressure-control slow exhaust valve
KR100415785B1 (ko) 평활배기밸브
KR100333053B1 (ko) 진공압력 조정장치
US6289925B1 (en) Regulator
JP4016156B2 (ja) スムースベントバルブ
JPS60109682A (ja) 電磁弁
JPH0733145Y2 (ja) 差圧インジケータ
JP3501494B2 (ja) 真空圧力調整装置
CN216975230U (zh) 一种压缩机及其预调系统
JP2006155133A (ja) 流量制御弁
CN214008082U (zh) 一种插装式截止阀
JP2002266767A (ja) 圧縮機の圧縮空気取り出し装置
JPH08166085A (ja) 真空バルブ
JP3455491B2 (ja) 負圧リリーフ弁
JP2003156171A (ja) 初期排気弁
JPH087156Y2 (ja) 位置制御用バルブ
CN114877254A (zh) 阀门用气动压力控制器及气动调节阀
JP2550746Y2 (ja) 多段型減圧弁の一つの段の減圧部
JPH0325478Y2 (ja)
JPH08178126A (ja) 真空バルブ
JPH03229005A (ja) 流体圧シリンダのストローク調整装置
JPH04185984A (ja) 双方向真空バルブ
JPH0247705A (ja) 減圧弁のリリーフ機構

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees