JP3441735B2 - フルオロメチル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法 - Google Patents
フルオロメチル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法Info
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- JP3441735B2 JP3441735B2 JP52836997A JP52836997A JP3441735B2 JP 3441735 B2 JP3441735 B2 JP 3441735B2 JP 52836997 A JP52836997 A JP 52836997A JP 52836997 A JP52836997 A JP 52836997A JP 3441735 B2 JP3441735 B2 JP 3441735B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
- C07C43/04—Saturated ethers
- C07C43/12—Saturated ethers containing halogen
- C07C43/123—Saturated ethers containing halogen both carbon chains are substituted by halogen atoms
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、医農薬又はその中間体として使用されるフ
ルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピルエーテルの製造方法に関する。
ルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピルエーテルの製造方法に関する。
背景技術
フルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソ
プロピルエーテルの製造方法には、濃硫酸、フッ化水
素、パラホルムアルデヒドおよび1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロイソプロピルアルコール（以下、「HFIPA」と
いう。）からなる混合物を加熱し、発生するガスを捕集
する方法（USP4,469,898号公報）、トリオキサンをフッ
化水素に添加し、そこへHFIPAを添加する方法（特表平
７−502037号公報）などが知られているが、多くの種類
のポリエーテル類が副生するか、あるいは収率が極めて
低い。これらのポリエーテル類は蒸留によりフルオロメ
チル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエー
テルと分離され、廃棄されている。
プロピルエーテルの製造方法には、濃硫酸、フッ化水
素、パラホルムアルデヒドおよび1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロイソプロピルアルコール（以下、「HFIPA」と
いう。）からなる混合物を加熱し、発生するガスを捕集
する方法（USP4,469,898号公報）、トリオキサンをフッ
化水素に添加し、そこへHFIPAを添加する方法（特表平
７−502037号公報）などが知られているが、多くの種類
のポリエーテル類が副生するか、あるいは収率が極めて
低い。これらのポリエーテル類は蒸留によりフルオロメ
チル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエー
テルと分離され、廃棄されている。
また、クロロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
イソプロピルエーテルを高温高圧下でフッ化カリウムで
フッ素化する方法も知られているが、反応条件が過酷で
ある上に収率が60％に過ぎない。
イソプロピルエーテルを高温高圧下でフッ化カリウムで
フッ素化する方法も知られているが、反応条件が過酷で
ある上に収率が60％に過ぎない。
発明の開示
本発明者らは、ホルムアルデヒドまたはその重合体か
ら高収率でフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロイソプロピルエーテルを製造する方法について検討
したところ、一般式（１） R1O（CH2O）nR2 （１） （式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C10のアル
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2のうち少
なくとも一方は1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピル基である。） で表されるポリエーテルからフルオロメチル−1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルを製造する
ことができることを見いだした。
ら高収率でフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロイソプロピルエーテルを製造する方法について検討
したところ、一般式（１） R1O（CH2O）nR2 （１） （式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C10のアル
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2のうち少
なくとも一方は1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピル基である。） で表されるポリエーテルからフルオロメチル−1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルを製造する
ことができることを見いだした。
また、一般式（２）
R1O（CH2O）nR2 （２）
（式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C10のアル
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2は同時に
は水素ではない。） で表されるポリエーテルを原料として、HFIPAの存在
下、フルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイ
ソプロピルエーテルを製造することができることを見い
だし本発明に到達した。
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2は同時に
は水素ではない。） で表されるポリエーテルを原料として、HFIPAの存在
下、フルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイ
ソプロピルエーテルを製造することができることを見い
だし本発明に到達した。
すなわち、本発明は、一般式（１）
R1O（CH2O）nR2 （１）
（式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C10のアル
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2のうち少
なくとも一方は1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピル基である。） で表されるポリエーテルをフッ化水素および反応促進剤
からなる媒体と接触させるフルオロメチル−1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法で
ある。
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2のうち少
なくとも一方は1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピル基である。） で表されるポリエーテルをフッ化水素および反応促進剤
からなる媒体と接触させるフルオロメチル−1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法で
ある。
また、本発明は、一般式（２）で表されるポリエーテ
ル R1O（CH2O）nR2 （２） （式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C10のアル
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2は同時に
は水素ではない。） およびHFIPAをフッ化水素、反応促進剤および任意にホ
ルムアルデヒドからなる媒体と接触させるフルオロメチ
ル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテ
ルの製造方法である。
ル R1O（CH2O）nR2 （２） （式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C10のアル
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2は同時に
は水素ではない。） およびHFIPAをフッ化水素、反応促進剤および任意にホ
ルムアルデヒドからなる媒体と接触させるフルオロメチ
ル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテ
ルの製造方法である。
一般式（１）または（２）におけるR1、R2を具体的に
例示すると、アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−
プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、
ｔ−ブチルおよびペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チルなどまたは特に例示しないがその異性体である残基
が挙げられる。
例示すると、アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−
プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、
ｔ−ブチルおよびペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チルなどまたは特に例示しないがその異性体である残基
が挙げられる。
またこれらのアルキル基の１個以上の水素がフッ素お
よび／または塩素で置換されたハロアルキル基として
は、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロ
メチル、フルオロエチル、ジフルオロエチル、１−フル
オロイソプロピル、1,1−ジフルオロイソプロピル、1,
1,1−トリフルオロイソプロピル、1,1,1,2−テトラフル
オロイソプロピル、ペンタフルオロイソプロピル、ヘキ
サフルオロイソプロピルなどが挙げられる。
よび／または塩素で置換されたハロアルキル基として
は、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロ
メチル、フルオロエチル、ジフルオロエチル、１−フル
オロイソプロピル、1,1−ジフルオロイソプロピル、1,
1,1−トリフルオロイソプロピル、1,1,1,2−テトラフル
オロイソプロピル、ペンタフルオロイソプロピル、ヘキ
サフルオロイソプロピルなどが挙げられる。
R1、R2としては、その少なくともいずれかがフルオロ
メチル基、ヘキサフルオロイソプロピル基であるものが
特に好ましい。
メチル基、ヘキサフルオロイソプロピル基であるものが
特に好ましい。
ポリオキシメチレン基は、一般式では直鎖で表示して
あるが、環状であってもかまわない。オキシメチレン基
の単位数（ｎ）は、特に限定する必要はないが、余り多
いものでは本発明の方法を適用する場合ホルムアルデヒ
ドの重合体とほぼ同等の挙動をとり、後に述べるHFIPA
の添加量を多くしなければならず、一般式（１）または
（２）のポリエーテルを使用することに余り意味がない
ことになる。
あるが、環状であってもかまわない。オキシメチレン基
の単位数（ｎ）は、特に限定する必要はないが、余り多
いものでは本発明の方法を適用する場合ホルムアルデヒ
ドの重合体とほぼ同等の挙動をとり、後に述べるHFIPA
の添加量を多くしなければならず、一般式（１）または
（２）のポリエーテルを使用することに余り意味がない
ことになる。
本発明の方法を適用するのに好ましい一般式（１）ま
たは（２）のポリエーテル類を具体的に例示するなら
ば、 （CF3）2CHO（CH2O）nCH（CF3）２ （ｎ＝１〜10の整
数） （CF3）2CHO（CH2O）nCH2F （ｎ＝１〜10の整数） （CF3）2CHO（CH2O）nCH3 （ｎ＝１〜10の整数） であり、 （CF3）2CHO（CH2O）aCH（CF3）２ （ａ＝１〜７の整
数） （CF3）2CHO（CH2O）bCH2F （ｂ＝１〜６の整数） （CF3）2CHO（CH2O）cCH3 （ｃ＝１〜４の整数） を特に好ましいものとして挙げることができる。またこ
れらのポリエーテルは混合物であってもよい。
たは（２）のポリエーテル類を具体的に例示するなら
ば、 （CF3）2CHO（CH2O）nCH（CF3）２ （ｎ＝１〜10の整
数） （CF3）2CHO（CH2O）nCH2F （ｎ＝１〜10の整数） （CF3）2CHO（CH2O）nCH3 （ｎ＝１〜10の整数） であり、 （CF3）2CHO（CH2O）aCH（CF3）２ （ａ＝１〜７の整
数） （CF3）2CHO（CH2O）bCH2F （ｂ＝１〜６の整数） （CF3）2CHO（CH2O）cCH3 （ｃ＝１〜４の整数） を特に好ましいものとして挙げることができる。またこ
れらのポリエーテルは混合物であってもよい。
一般式（１）または（２）のポリエーテルはどのよう
にして製造されたものであってもよいが、次にその製造
方法を非制限的に例示する。
にして製造されたものであってもよいが、次にその製造
方法を非制限的に例示する。
（ａ）一般式R3−OH（式中、R3はC1〜C10のアルキル基
またはハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素または
臭素。）で表されるアルコールとホルムアルデヒドまた
はその重合体を硫酸などの脱水剤の存在下反応させるこ
とで、R3O（CH2O）nR4（式中、R3は前記に同じ、R4は水
素、CH3またはR3であり、ｎは１〜10の整数である。）
が得られる。
またはハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素または
臭素。）で表されるアルコールとホルムアルデヒドまた
はその重合体を硫酸などの脱水剤の存在下反応させるこ
とで、R3O（CH2O）nR4（式中、R3は前記に同じ、R4は水
素、CH3またはR3であり、ｎは１〜10の整数である。）
が得られる。
（ｂ）一般式R3−OH（式中、R3は前記と同じ。）で表さ
れるアルコールとR4O（CH2O）nCH2Cl（式中、R4は前記
と同じ。）で表されるクロロメチルエーテルを苛性ソー
ダなどの塩基と接触させて、R4O（CH2O）nCH2OR3（式
中、R3、R4、ｎは前記と同じ。）を得る。また、 （ｃ）HFIPAとホルムアルデヒドとフッ化水素を硫酸な
どの脱水剤の存在下反応させてフルオロメチル−1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルを合成す
る際の副生成物として得られる。
れるアルコールとR4O（CH2O）nCH2Cl（式中、R4は前記
と同じ。）で表されるクロロメチルエーテルを苛性ソー
ダなどの塩基と接触させて、R4O（CH2O）nCH2OR3（式
中、R3、R4、ｎは前記と同じ。）を得る。また、 （ｃ）HFIPAとホルムアルデヒドとフッ化水素を硫酸な
どの脱水剤の存在下反応させてフルオロメチル−1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルを合成す
る際の副生成物として得られる。
例えば、一般式（１）のR1がヘキサフルオロイソプロ
ピル基であり、R2がメチル基であり、ｎ＝１に相当する
ポリエーテルを得るには、上記（ａ）の方法ではHFIPA
とホルムアルデヒドおよび必要に応じてメタノールを硫
酸などの脱水剤の存在下反応させることで得られ、上記
（ｂ）の方法ではHFIPAとクロロメチルメチルエーテル
を苛性ソーダなどの塩基で処理することで得られる。
ピル基であり、R2がメチル基であり、ｎ＝１に相当する
ポリエーテルを得るには、上記（ａ）の方法ではHFIPA
とホルムアルデヒドおよび必要に応じてメタノールを硫
酸などの脱水剤の存在下反応させることで得られ、上記
（ｂ）の方法ではHFIPAとクロロメチルメチルエーテル
を苛性ソーダなどの塩基で処理することで得られる。
本発明の方法は、反応促進剤としての脱水剤の存在
下、一般式（１）または（２）で表されるポリエーテル
とフッ化水素を接触させることよりなっている。また、
ポリエーテルの種類によってはHFIPAおよび／またはホ
ルムアルデヒドまたはその重合体を共存させることも好
ましい。
下、一般式（１）または（２）で表されるポリエーテル
とフッ化水素を接触させることよりなっている。また、
ポリエーテルの種類によってはHFIPAおよび／またはホ
ルムアルデヒドまたはその重合体を共存させることも好
ましい。
反応促進剤としてはブレンステッド酸、例えば発煙硫
酸、濃硫酸、硫酸、フルオロ硫酸、無水リン酸、リン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸など、また、ルイス
酸、例えば四塩化チタン、塩化アルミ、五塩化アンチモ
ン、三フッ化アルミ、無水硫酸、五フッ化アンチモンな
どを挙げることができる。これらのうち発煙硫酸、濃硫
酸、80重量％以上の濃度の硫酸、フルオロ硫酸、リン酸
などまたはこれらの混合物が好ましい。
酸、濃硫酸、硫酸、フルオロ硫酸、無水リン酸、リン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸など、また、ルイス
酸、例えば四塩化チタン、塩化アルミ、五塩化アンチモ
ン、三フッ化アルミ、無水硫酸、五フッ化アンチモンな
どを挙げることができる。これらのうち発煙硫酸、濃硫
酸、80重量％以上の濃度の硫酸、フルオロ硫酸、リン酸
などまたはこれらの混合物が好ましい。
反応温度は、特に限定されないが、10〜100℃であ
り、35〜80℃が好ましい。この温度範囲では生成したフ
ルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピルエーテルは未反応原料とともに反応系外へ留出させ
ることができ好ましい。10℃未満では反応が遅く実用的
でない。また、100℃を超えると反応が速すぎるために
反応を制御するのが困難となり好ましくない。反応圧力
は、反応にほとんど影響を与えないので特に限定され
ず、通常１〜10kg/cm2で行う。
り、35〜80℃が好ましい。この温度範囲では生成したフ
ルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピルエーテルは未反応原料とともに反応系外へ留出させ
ることができ好ましい。10℃未満では反応が遅く実用的
でない。また、100℃を超えると反応が速すぎるために
反応を制御するのが困難となり好ましくない。反応圧力
は、反応にほとんど影響を与えないので特に限定され
ず、通常１〜10kg/cm2で行う。
ホルムアルデヒドは通常工業的に入手可能な形態、例
えばパラホルムアルデヒド、トリオキサンなどの重合体
でもよく、本明細書ではこれらを単にホルムアルデヒド
と表示する。
えばパラホルムアルデヒド、トリオキサンなどの重合体
でもよく、本明細書ではこれらを単にホルムアルデヒド
と表示する。
本発明の方法における各反応試剤の量については、ポ
リエーテルの末端基の種類、および混合物の場合はその
組成比に依存する。反応試剤の全組成において、オキシ
メチレン基および任意にフルオロメチル基またはホルム
アルデヒドの合成モル数（以下、「ホルムアルデヒドの
モル数」という。）に対して、ヘキサフルオロイソプロ
ピル基または任意にHFIPAの合計モル数（以下、「HFIPA
のモル数」という。）は0.5〜５モル倍、好ましくは0.7
〜３モル倍である。0.5モル倍以下ではフルオロメチル
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテル
の収率が低下し実用上好ましくなく、また５モル倍以上
ではHFIPAの反応率が低下し使用効率が減り好ましくな
い。
リエーテルの末端基の種類、および混合物の場合はその
組成比に依存する。反応試剤の全組成において、オキシ
メチレン基および任意にフルオロメチル基またはホルム
アルデヒドの合成モル数（以下、「ホルムアルデヒドの
モル数」という。）に対して、ヘキサフルオロイソプロ
ピル基または任意にHFIPAの合計モル数（以下、「HFIPA
のモル数」という。）は0.5〜５モル倍、好ましくは0.7
〜３モル倍である。0.5モル倍以下ではフルオロメチル
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテル
の収率が低下し実用上好ましくなく、また５モル倍以上
ではHFIPAの反応率が低下し使用効率が減り好ましくな
い。
フッ化水素は、通常「ホルムアルデヒドのモル数」に
対し化学量論上過剰に存在することが好ましい。好まし
くは、「ホルムアルデヒドのモル数」に対して１〜50モ
ル倍、より好ましくは３〜30モル倍である。１モル倍以
下では反応が遅くなり収率が低下するので好ましくな
く、また、50モル倍以上であっても反応の面からは問題
はないが、未反応フッ化水素の留出量が増加したり装置
の大型化などを伴い特に有利ではない。反応促進剤は
「ホルムアルデヒドのモル数」に対して0.5〜20モル
倍、好ましくは0.7〜5.0モル倍である。0.5モル倍以下
では反応速度が低下し、また20モル倍以上であっても良
いが経済的に好ましくない。
対し化学量論上過剰に存在することが好ましい。好まし
くは、「ホルムアルデヒドのモル数」に対して１〜50モ
ル倍、より好ましくは３〜30モル倍である。１モル倍以
下では反応が遅くなり収率が低下するので好ましくな
く、また、50モル倍以上であっても反応の面からは問題
はないが、未反応フッ化水素の留出量が増加したり装置
の大型化などを伴い特に有利ではない。反応促進剤は
「ホルムアルデヒドのモル数」に対して0.5〜20モル
倍、好ましくは0.7〜5.0モル倍である。0.5モル倍以下
では反応速度が低下し、また20モル倍以上であっても良
いが経済的に好ましくない。
本発明の方法では、各反応試剤の添加の順序は特に限
定されないが、あらかじめ反応促進剤とフッ化水素およ
び任意にホルムアルデヒドを混合し所定の温度に保った
ところへ、ポリエーテルおよび任意にHFIPAを徐々に添
加する方法、あるいは、あらかじめ反応促進剤、フッ化
水素およびポリエーテル並びに任意にホルムアルデヒド
および／またはHFIPAを10℃以下で混合した後、徐々に
所定の温度に昇温する方法などが例示できる。いずれの
場合も発生するガスから冷却器により比較的沸点の高い
成分を反応器へ還流させながら生成物を外部へ流出させ
る。流出したガス成分は凝縮させられ、次いで酸を伴う
場合は中和、水洗浄、乾燥などの工程の後蒸留にかけら
れ目的とするフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルキサフルオロメチルエーテルが得られる。
定されないが、あらかじめ反応促進剤とフッ化水素およ
び任意にホルムアルデヒドを混合し所定の温度に保った
ところへ、ポリエーテルおよび任意にHFIPAを徐々に添
加する方法、あるいは、あらかじめ反応促進剤、フッ化
水素およびポリエーテル並びに任意にホルムアルデヒド
および／またはHFIPAを10℃以下で混合した後、徐々に
所定の温度に昇温する方法などが例示できる。いずれの
場合も発生するガスから冷却器により比較的沸点の高い
成分を反応器へ還流させながら生成物を外部へ流出させ
る。流出したガス成分は凝縮させられ、次いで酸を伴う
場合は中和、水洗浄、乾燥などの工程の後蒸留にかけら
れ目的とするフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルキサフルオロメチルエーテルが得られる。
本発明の方法によると、ポリエーテルから効率よくフ
ルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピルエーテルを製造することができる上に、従来フルオ
ロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピル
エーテル製造の際の副生成物として破棄されていたフッ
素化ポリエーテル類からフルオロメチル−1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルを製造できるた
め、製造コストを著しく低減することができるという顕
著な効果を奏する。
ルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピルエーテルを製造することができる上に、従来フルオ
ロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピル
エーテル製造の際の副生成物として破棄されていたフッ
素化ポリエーテル類からフルオロメチル−1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルを製造できるた
め、製造コストを著しく低減することができるという顕
著な効果を奏する。
発明を実施するための最良の形態
以下に、本発明の実施態様の例を示すが、これらは本
発明の範囲を限定するためのものではない。ガスクロマ
トグラフ分析は次の条件で行い、％は面積％を表す。回
収率は面積％＝重量％と換算して求めた参考値である。
発明の範囲を限定するためのものではない。ガスクロマ
トグラフ分析は次の条件で行い、％は面積％を表す。回
収率は面積％＝重量％と換算して求めた参考値である。
ガスクロマトグラフ:Hewlett Packard HP−5890 seri
es II カラム:Halomatics−624（30m×0.32mmID×３μｍ） カラム温度:40℃（10分保持）〜200℃（昇温速度10℃
／分） 注入口温度:200℃ キャリアーガス:He 40kPa 試料:0.5μｌ スプリット比:1/80 検出器:FID 200℃ インテグレータ:Hewlett Packard HP−3396 series I
I 〔参考例１〕（CF3）2CHOCH2OCH（CF3）２の合成 ドライアイス／アセトン浴で−20℃に冷却した300ml
反応器に発煙硫酸111.3g、パラホルムアルデヒド9.3g、
HFIPA52.8gを仕込みそのまま20分間攪拌した。攪拌停止
後放置して室温まで冷却したところ内容物は二層に分離
した。上層の有機物を取り出し５％炭酸水素ナトリウム
水溶液50mlで洗浄し、二層分離して有機物を得た。
es II カラム:Halomatics−624（30m×0.32mmID×３μｍ） カラム温度:40℃（10分保持）〜200℃（昇温速度10℃
／分） 注入口温度:200℃ キャリアーガス:He 40kPa 試料:0.5μｌ スプリット比:1/80 検出器:FID 200℃ インテグレータ:Hewlett Packard HP−3396 series I
I 〔参考例１〕（CF3）2CHOCH2OCH（CF3）２の合成 ドライアイス／アセトン浴で−20℃に冷却した300ml
反応器に発煙硫酸111.3g、パラホルムアルデヒド9.3g、
HFIPA52.8gを仕込みそのまま20分間攪拌した。攪拌停止
後放置して室温まで冷却したところ内容物は二層に分離
した。上層の有機物を取り出し５％炭酸水素ナトリウム
水溶液50mlで洗浄し、二層分離して有機物を得た。
得られた有機物を減圧蒸留し、減圧度71〜73mmHg,留
出温度55℃の留分を主留として回収したところ、21.0g
の（CF3）2CHOCH2OCH（CF3）２（純度99.9％）を得た。
分子構造はGC−MASS、1H−NMR、19F−NMRスペクトルよ
り決定した。
出温度55℃の留分を主留として回収したところ、21.0g
の（CF3）2CHOCH2OCH（CF3）２（純度99.9％）を得た。
分子構造はGC−MASS、1H−NMR、19F−NMRスペクトルよ
り決定した。
（CF3）2CHOCH2OCH（CF3）２
マススペクトル
M+ 348
（CF3）2CHOCH2 181
（CF3）2CH 151
CF3 69
NMR（TMS,CFCl3基準）
CH2 δ5.2ppm（singlet 2H）
CH δ4.5ppm（multiplet 2H）
CF3 −73.8ppm（JH-F 8.3Hz doublet）
〔参考例２〕（CF3）2CHO（CH2O）2CH（CF3）２の合成
500ml四ツ口フラスコにパラホルムアルデヒド44.5gを
仕込み氷冷下攪拌しながら98％硫酸120mlを添加し、５
℃以下に保ちながらその中へHFIPA127.5gを添加した。
そのまま１時間反応を継続し、反応中に析出した結晶を
ガラスフィルターで濾過・分離した。得られた結晶を水
200mlで洗浄した後、塩化メチレン1.2Lに溶解し、無水
硫酸マグネシウム50gで乾燥した。乾燥後塩化メチレン
を留去し126.9gの（CF3）2CHO（CH2O）2CH（CF3）
２（純度99.6％）を得た。融点を測定したところ54.3℃
であった。分子構造はGC−MASS、1H−NMR、19F−NMRス
ペクトルより決定した。
仕込み氷冷下攪拌しながら98％硫酸120mlを添加し、５
℃以下に保ちながらその中へHFIPA127.5gを添加した。
そのまま１時間反応を継続し、反応中に析出した結晶を
ガラスフィルターで濾過・分離した。得られた結晶を水
200mlで洗浄した後、塩化メチレン1.2Lに溶解し、無水
硫酸マグネシウム50gで乾燥した。乾燥後塩化メチレン
を留去し126.9gの（CF3）2CHO（CH2O）2CH（CF3）
２（純度99.6％）を得た。融点を測定したところ54.3℃
であった。分子構造はGC−MASS、1H−NMR、19F−NMRス
ペクトルより決定した。
（CF3）2CHO（CH2O）2CH（CF3）２
マススペクトル
M+ 378
（CF3）2CH（OCH2）２ 211
（CF3）2CHOCH2 181
CF3 69
NMR（TMS,CFCl3基準）
CH2 δ5.0ppm（singlet 4H）
CH δ4.4ppm（JH-F 5.9Hz septet 1H）
CF3 −74.5ppm（JH-F 6.0Hz doublet 3F）
〔参考例３〕（CF3）2CHOCH2OCH3の合成
500ml四ツ口フラスコに15％−NaOH水溶液293gを入れ
攪拌し、その中へHFIPA168gを加え10℃まで冷却した。
クロロメチルメチルエーテル120.8gを温度10〜12℃を維
持しながら約１時間で添加した。その後30分間攪拌を継
続し二層に分離したうちの有機層を取り出し200mlの水
で洗浄した。分離した有機物層を5gの無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、37.2gの有機物を（CF3）2CHOCH2OCH3の
純度97.5％で得た。これを蒸留し留出温度76〜77℃の留
分を主留として回収したところ、27.5gの（CF3）2CHOCH
2OCH3（純度99.2％）を得た。分子構造はGC−MASS、1H
−NMR、19F−NMRスペクトルより決定した。
攪拌し、その中へHFIPA168gを加え10℃まで冷却した。
クロロメチルメチルエーテル120.8gを温度10〜12℃を維
持しながら約１時間で添加した。その後30分間攪拌を継
続し二層に分離したうちの有機層を取り出し200mlの水
で洗浄した。分離した有機物層を5gの無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、37.2gの有機物を（CF3）2CHOCH2OCH3の
純度97.5％で得た。これを蒸留し留出温度76〜77℃の留
分を主留として回収したところ、27.5gの（CF3）2CHOCH
2OCH3（純度99.2％）を得た。分子構造はGC−MASS、1H
−NMR、19F−NMRスペクトルより決定した。
（CF3）2CHOCH2OCH3
マススペクトル
M+−１ 211
（CF3）2CHOCH2 181
CF3 69
CH3OCH2 45
NMR（TMS,CFCl3基準）
CH3 δ3.4ppm（singlet 3H）
CH2 δ4.8ppm（singlet 2H）
CH δ4.4ppm（multiplet 1H）
CF3 −74.5ppm（JH-F 5.8Hz doublet 3F）
〔参考例４〕
5Lのステンレス製反応器に98％硫酸500ml、フッ化水
素1000gおよびパラホルムアルデヒド300gを仕込んだ。
攪拌しながらこの反応混合物を65℃に加熱した。その後
HFIPA1680gを２時間にわたって滴下した。反応によって
発生した蒸気を水を入れたトラップで捕集して、二層に
分離したうちの有機物層を取り出し、それをさらに洗浄
して1410gの有機物を得た。この有機物からフルオロメ
チル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエー
テルを蒸留により留去したところ、副生成物であるポリ
エーテル類160gを残渣として得た。
素1000gおよびパラホルムアルデヒド300gを仕込んだ。
攪拌しながらこの反応混合物を65℃に加熱した。その後
HFIPA1680gを２時間にわたって滴下した。反応によって
発生した蒸気を水を入れたトラップで捕集して、二層に
分離したうちの有機物層を取り出し、それをさらに洗浄
して1410gの有機物を得た。この有機物からフルオロメ
チル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエー
テルを蒸留により留去したところ、副生成物であるポリ
エーテル類160gを残渣として得た。
この残渣はガスクロマトグラフィーおよびMASSで分析
したところ （CF3）2CHO（CH2O）aCH（CF3）２ （ａ＝１〜７、主
成分ａ＝1,2） 55.9％ （CF3）2CHO（CH2O）bCH2F（ｂ＝１〜６、主成分ｂ＝
1,2） 31.9％ （CF3）2CHO（CH2O）cCH3 （ｃ＝１〜４、主成分ｃ＝
１） 1.6％ であった。
したところ （CF3）2CHO（CH2O）aCH（CF3）２ （ａ＝１〜７、主
成分ａ＝1,2） 55.9％ （CF3）2CHO（CH2O）bCH2F（ｂ＝１〜６、主成分ｂ＝
1,2） 31.9％ （CF3）2CHO（CH2O）cCH3 （ｃ＝１〜４、主成分ｃ＝
１） 1.6％ であった。
〔実施例１〕
1Lのステンレス製反応器に98％硫酸75g、フッ化水素1
96g及び参考例４で得たポリエーテル類124gを仕込み４
時間かけて徐々に加熱し65℃まで昇温した。反応によっ
て発生した蒸気を水を入れたトラップで捕集して、得ら
れた有機層を水洗浄したところ有機物を126gを得た。
96g及び参考例４で得たポリエーテル類124gを仕込み４
時間かけて徐々に加熱し65℃まで昇温した。反応によっ
て発生した蒸気を水を入れたトラップで捕集して、得ら
れた有機層を水洗浄したところ有機物を126gを得た。
得られた有機物をガスクロマトグラフィーで分析した
ところこの有機物はフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロイソプロピルエーテルが96.1％であった。
この有機物を蒸留することによりフルオロメチル−1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテル107g
（純度99.9％）を得た。
ところこの有機物はフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロイソプロピルエーテルが96.1％であった。
この有機物を蒸留することによりフルオロメチル−1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテル107g
（純度99.9％）を得た。
〔実施例２〕
参考例１で得られた（CF3）2CHOCH2OCH（CF3）234.8g
とパラホルムアルデヒド3g、フッ化水素30g及び発煙硫
酸25gを200mLステンレス製反応器に仕込み２時間かけて
徐々に加熱し55℃まで昇温した。反応によって発生した
蒸気を水を入れたトラップで捕集して得られた有機層を
水洗浄したところ有機物35.3gを得た。ガスクロマトグ
ラフィーで分析したところこの有機物はフルオロメチル
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテル
が95.3％であった（収率84.1％）。
とパラホルムアルデヒド3g、フッ化水素30g及び発煙硫
酸25gを200mLステンレス製反応器に仕込み２時間かけて
徐々に加熱し55℃まで昇温した。反応によって発生した
蒸気を水を入れたトラップで捕集して得られた有機層を
水洗浄したところ有機物35.3gを得た。ガスクロマトグ
ラフィーで分析したところこの有機物はフルオロメチル
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテル
が95.3％であった（収率84.1％）。
〔実施例３〕
参考例２で得られた（CF3）2CHO（CH2O）2CH（CF3）2
37.8gとフッ化水素30g及び発煙硫酸25gを200mLステンレ
ス製反応器に仕込み２時間かけて徐々に加熱し55℃まで
昇温した。反応によって発生した蒸気を水を入れたトラ
ップで捕集して得られた有機層を水洗浄したところ有機
物37.0gを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したと
ころこの有機物はフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロイソプロピルエーテルが94.6％であった（収
率87.5％）。
37.8gとフッ化水素30g及び発煙硫酸25gを200mLステンレ
ス製反応器に仕込み２時間かけて徐々に加熱し55℃まで
昇温した。反応によって発生した蒸気を水を入れたトラ
ップで捕集して得られた有機層を水洗浄したところ有機
物37.0gを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したと
ころこの有機物はフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロイソプロピルエーテルが94.6％であった（収
率87.5％）。
〔実施例４〕
参考例３で得られた（CF3）2CHOCH2OCH321.2gにフッ
化水素60g及び発煙硫酸25gを200mLステンレス製反応器
に仕込み４時間かけて徐々に加熱し50℃まで昇温した。
反応によって発生した蒸気を水を入れたトラップで捕集
して得られた有機層を水洗浄したところ有機物18.3gを
得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところこの有
機物はフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
イソプロピルエーテルが89.0％であった（収率81.4
％）。
化水素60g及び発煙硫酸25gを200mLステンレス製反応器
に仕込み４時間かけて徐々に加熱し50℃まで昇温した。
反応によって発生した蒸気を水を入れたトラップで捕集
して得られた有機層を水洗浄したところ有機物18.3gを
得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところこの有
機物はフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
イソプロピルエーテルが89.0％であった（収率81.4
％）。
〔実施例５〕
ジメトキシメタン（CH3OCH2OCH3）76g、フッ化水素12
0g、98％硫酸40g及びHFIPA168gを1Lステンレス製反応器
に仕込み、６時間かけて徐々に50Cまで昇温した。反応
によって発生した蒸気を水を入れたトラップで捕集して
得た水溶液に塩化カルシウムを加えて二層を形成させ、
次いで分離した有機層を水洗浄したところ有機物が218.
5g得られた。ガスクロマトグラフィーで分析したところ
この有機物はフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルオロイソプロピルエーテルが45.7％であった（収率4
9.9％）。
0g、98％硫酸40g及びHFIPA168gを1Lステンレス製反応器
に仕込み、６時間かけて徐々に50Cまで昇温した。反応
によって発生した蒸気を水を入れたトラップで捕集して
得た水溶液に塩化カルシウムを加えて二層を形成させ、
次いで分離した有機層を水洗浄したところ有機物が218.
5g得られた。ガスクロマトグラフィーで分析したところ
この有機物はフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルオロイソプロピルエーテルが45.7％であった（収率4
9.9％）。
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フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 41/01
C07C 43/12
ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (10)
- 【請求項１】下記一般式（１）で表されるポリエーテル
をフッ化水素および反応促進剤からなる媒体と接触させ
るフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソ
プロピルエーテルの製造方法。 R1O（CH2O）nR2 （１） （式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C10のアル
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2のうち少
なくとも一方は1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロ
ピル基である。） - 【請求項２】下記一般式（２）で表されるポリエーテル
およびヘキサフルオロイソプロピルアルコールをフッ化
水素、反応促進剤および任意にホルムアルデヒドからな
る媒体と接触させるフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法。 R1O（CH2O）nR2 （２） （式中、R1、R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C10のアル
キル基、ハロアルキル基（ハロゲンはフッ素、塩素また
は臭素）、ｎは１〜10の整数であって、R1とR2は同時に
水素ではない。） - 【請求項３】反応促進剤が、発煙硫酸、濃硫酸、無水硫
酸、80％以上の濃度の硫酸またはフルオロ硫酸であるこ
とを特徴とする請求の範囲第１〜２項記載のフルオロメ
チル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエー
テルの製造方法。 - 【請求項４】接触を10〜100℃で行うことを特徴とする
請求の範囲第１〜３項記載のフルオロメチル−1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方
法。 - 【請求項５】一般式（１）または（２）で表されるポリ
エーテルがポリメチレングリコールビスヘキサフルオロ
イソプロピルエーテル （CF3）2CHO（CH2O）aCH（CF3）２ （ａ＝１〜７の整
数） である請求の範囲第１〜４項記載のフルオロメチル−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製
造方法。 - 【請求項６】一般式（１）または（２）で表されるポリ
エーテルがビスヘキサフルオロイソプロポキシメタン
（CF3）2CHOCH2OCH（CF3）２である請求の範囲第１〜４
項記載のフルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
ロイソプロピルエーテルの製造方法。 - 【請求項７】一般式（１）または（２）で表されるポリ
エーテルがポリメチレングリコールフルオロメチルヘキ
サフルオロイソプロピルエーテル （CF3）2CHO（CH2O）bCH2F （ｂ＝１〜６の整数） である請求の範囲第１〜４項記載のフルオロメチル−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製
造方法。 - 【請求項８】一般式（１）または（２）で表されるポリ
エーテルがフルオロメトキシメチルヘキサフルオロイソ
プロピルエーテル （CF3）2CHOCH2OCH2F である請求の範囲第１〜４項記載のフルオロメチル−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製
造方法。 - 【請求項９】一般式（１）または（２）で表されるポリ
エーテルがポリメチレングリコールメチルヘキサフルオ
ロイソプロピルエーテル （CF3）2CHO（CH2O）cCH3 （ｃ＝１〜４の整数） である請求の範囲第１〜４項記載のフルオロメチル−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製
造方法。 - 【請求項１０】一般式（１）または（２）で表されるポ
リエーテルがメトキシメチルヘキサフルオロイソプロピ
ルエーテル （CF3）2CHOCH2OCH3 である請求の範囲第１〜４項記載のフルオロメチル−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製
造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3333996 | 1996-02-21 | ||
| JP8-33339 | 1996-02-21 | ||
| PCT/JP1997/000129 WO1997030961A1 (fr) | 1996-02-21 | 1997-01-22 | Procede de preparation de l'ether de fluoromethyle 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-isopropylique |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3441735B2 true JP3441735B2 (ja) | 2003-09-02 |
Family
ID=12383817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52836997A Expired - Lifetime JP3441735B2 (ja) | 1996-02-21 | 1997-01-22 | フルオロメチル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5811596A (ja) |
| EP (1) | EP0822172B2 (ja) |
| JP (1) | JP3441735B2 (ja) |
| CN (1) | CN1074759C (ja) |
| CA (1) | CA2215993C (ja) |
| DE (1) | DE69708544T3 (ja) |
| ES (1) | ES2169345T5 (ja) |
| WO (1) | WO1997030961A1 (ja) |
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| US6469219B1 (en) | 2000-03-16 | 2002-10-22 | Halocarbon Products Corporation | Production of fluoromethyl 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl ether |
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| CA2512384C (en) * | 2003-01-14 | 2013-03-19 | Baxter International Inc. | Process for recovery of 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropanol from the waste stream of sevoflurane synthesis |
| JP5315609B2 (ja) | 2006-06-05 | 2013-10-16 | ダイキン工業株式会社 | 新規カルボン酸化合物、その用途及びその製造方法 |
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| BRPI0622034B1 (pt) * | 2006-09-29 | 2021-06-22 | Cristália Produtos Químicos Farmacêuticos Ltda | Processo para preparação do éter fluorometil 2,2,2-trifluoro-1-(trifluorometil) etílico |
| CN101535231B (zh) * | 2006-09-29 | 2012-12-19 | 克里斯泰利亚化学药物产品有限公司 | 制备氯甲基2,2,2-三氟-1-(三氟甲基)乙基醚的方法 |
| JP5163064B2 (ja) | 2007-11-13 | 2013-03-13 | ダイキン工業株式会社 | 新規カルボン酸エステル、その用途及びその製造方法 |
| US20090275785A1 (en) * | 2008-05-01 | 2009-11-05 | Barry Jones | Distillation Method For The Purification Of Sevoflurane And The Maintenance Of Certain Equipment That May Be Used In The Distillation Process |
| CN101314560B (zh) * | 2008-07-02 | 2011-06-15 | 鲁南制药集团股份有限公司 | 七氟烷的合成方法 |
| US9102604B1 (en) | 2010-02-15 | 2015-08-11 | Baxter International Inc. | Methods for cleaning distilling columns |
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| CN107698430B (zh) * | 2017-11-01 | 2021-01-08 | 华东医药（西安）博华制药有限公司 | 一种七氟烷反应液的后处理方法 |
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-
1997
- 1997-01-22 JP JP52836997A patent/JP3441735B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-22 ES ES97900750T patent/ES2169345T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-22 CA CA002215993A patent/CA2215993C/en not_active Expired - Lifetime
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