JP3438396B2 - 磁気シールド用粉末 - Google Patents
磁気シールド用粉末Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、塗料とともに塗布し
て磁気を遮蔽するために用いる軟磁性体からなる鱗片状
の磁気シールド用粉末に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】最近の磁気記録装置、電子機器などは、
高密度化、小型化が進むにつれて外部磁場の影響を受け
やすくなってきており、同時に磁場発生源として周辺機
器に悪影響を与える可能性も高い。これら装置の保護お
よび外部への磁場の漏洩を防止するために磁気シールド
を設ける場合が増えている。磁気シールド材としては、
板、箔、線、繊維など種々の形状のものが使用されてい
るが、鱗片状の軟磁性体粉末を塗布する方法が提案され
ている（特開昭５８−５９２６８号公報参照）。 【０００３】この方法は、鱗片状の軟磁性体粉末を含む
塗料を塗布するだけで粉末が配向し、薄いシールド層が
得られるので小型軽量化に適している。このための鱗片
状軟磁性体粉末の材料は、フェライトなどの酸化物、パ
ーマロイ、センダストなどが知られているが、近年、ア
モルファス合金も用いられるようになってきた。 【０００４】例えば、特開昭５９−２０１４９３号公報
には、鉄族金属のうち一種以上、あるいはこれと他の遷
移金属の一種以上：６５〜９０原子％と、ガラス化元
素：１０〜３５原子％からなるアモルファス合金薄板を
切断またはスリットして所定の寸法とし、必要に応じて
熱処理することにより製造される鱗片状磁気シールド用
アモルファス合金粉末が記載されており、また、特開平
１−１８４２０２号公報には、厚さ：０．１〜１０μ
ｍ、長さ：１〜５０μｍでアスペクト比（長さ／厚さ）
が３〜１００の鱗片状磁気シールド用アモルファス合金
粉末が記載されており、さらに、これら鱗片状磁気シー
ルド用アモルファス合金粉末の平均厚さを０．０１〜１
μｍと一層薄く、アスペクト比（平均外径／平均厚さ）
を１０〜１００００と一層大きくして磁気シールド粉末
としての特性を向上せしめた鱗片状磁気シールド用アモ
ルファス合金粉末が特開平１−１３９７０２号公報およ
び特開平１−２０５４０４号公報に記載されている。 【０００５】しかし、フェライトなどの酸化物粉末は脆
いために鱗片状になりにくく、パーマロイは高価である
とともに鱗片状化に要する時間が長くてコストがかか
り、センダストは耐蝕性が低く、鱗片状化すると比表面
積が大きくなって発火しやすくなり取扱い上問題があ
る。さらにアモルファス合金鱗片状粉末は超急冷工程お
よび粉砕工程の少なくとも２工程を必要とし、しかも量
産化に限界があるなどの問題点があった。 【０００６】そのため、最近は、大量に使用される鱗片
状磁気シールド粉末として比較的安価なＦｅ−Ｃｒ系合
金粉末が用いられるようになり、例えば、特開平１−２
２３６２７号公報には、Ｃｒ：０．５〜２０重量％、Ｓ
ｉ：０．５〜９重量％、Ａｌ：０．５〜１５重量％を含
有し、残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成
を有することを特徴とする磁気シールド用粉末が記載さ
れており、また特開平３−２９５２０６号公報には、Ｓ
ｉ：１８〜３０原子％、Ｃｒ：１９原子％以下を含有
し、残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成を
有し、平均厚さｄ：１μｍ以下、粒度分布計によって求
められた粒径の小さい方から重量を累計して５０％にな
ったときの粒径（以下、Ｄ50で示す）が５〜３０μｍで
あり、アスペクト比（Ｄ50／ｄ）：１０〜３０００であ
るＦｅ−Ｃｒ系合金鱗片状磁気シールド粉末が記載され
ており、特に前記特開平３−２９５２０６号公報記載の
Ｆｅ−Ｃｒ系合金からなる鱗片状磁気シールド粉末は、
価格が安く、耐蝕性および磁気シールド性にも優れてい
るので注目されている。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】しかし、従来よりも安
価でしかも磁気シールド性能の優れた磁気シールド粉末
は常に求められており、従来のＦｅ−Ｃｒ系合金鱗片状
磁気シールド粉末の磁気シールド性能の一層の改善が求
められていた。 【０００８】 【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
従来よりも保磁力が低く磁気シールド特性に優れたＦｅ
−Ｃｒ系合金鱗片状磁気シールド粉末を開発すべく研究
を行った結果、平均厚さｄ：０．０３〜０．６μｍ、Ｄ
50：３〜６０μｍであり、アスペクト比（Ｄ50／ｄ）：
２０〜５００である磁気シールド用粉末において、Ｍを
ＡｌまたはＳｉのうちの１種または２種とすると、原子
％で、Ｍ：１５〜３０％、Ｃｒ：３〜１５％、を含有
し、さらに、ＧｅおよびＳｎを、１０Ｇｅ＋Ｓｎ≧１％
でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１５％の範囲内となるように含有
し、残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成を
有する磁気シールド用粉末は、従来よりも保磁力が低減
され磁気シールド性能が向上するという研究結果を得た
のである。 【０００９】この発明は、かかる研究結果にもとずいて
なされたものであって、平均厚さｄ：０．０３〜０．６
μｍ、Ｄ50：３〜６０μｍであり、アスペクト比（Ｄ50
／ｄ）：２０〜５００である磁気シールド用粉末におい
て、原子％で、Ｍ：１５〜３０％、Ｃｒ：３〜１５％を
含有し、さらに、ＧｅおよびＳｎを、１０Ｇｅ＋Ｓｎ≧
１％でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１５％の範囲内となるように含
有し、残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成
を有する磁気シールド用粉末に特徴を有するものであ
る。 【００１０】以下にこの磁気シールド用粉末の成分組
成、平均厚さｄ、Ｄ50、アスペクト比（Ｄ50／ｄ）を上
記の如く限定した理由について説明する （ａ） Ｍ（ＡｌまたはＳｉのうちの１種または２種） Ｍの含有量が１５原子％未満では粉末の保磁力が高くな
り過ぎるとともに磁気シールド性能も低下するので好ま
しくなく、一方、３０原子％を越えて含有すると、粉末
の飽和磁化が下がるので磁気シールド性能が低下するた
めにシールド層を薄肉化および軽量化できない。したが
って、Ｍの含有量は１５〜３０原子％に定めた。Ｍの含
有量の一層好ましい範囲は２０〜２５原子％である。 【００１１】（ｂ） Ｃｒ Ｃｒの含有量は３原子％未満であると耐蝕性が低下し、
錆の発生や変色が起きやすくなるので好ましくなく、一
方、１５原子％を越えて含有すると、飽和磁化が下がる
ので十分な磁気シールド性能が得られないため、シール
ド層を薄肉化および軽量化できない。したがって、Ｃｒ
の含有量は３〜１５原子％に定めた。Ｃｒの含有量の一
層好ましい範囲は４〜１０原子％である。 【００１２】（ｃ） ＧｅおよびＳｎ ＧｅおよびＳｎは、偏平化処理時間を短縮し、加工歪み
を減少させるため、保磁力が低減し、磁気シールド性能
を向上させる作用を有するが、その含有量が、１０Ｇｅ
＋Ｓｎ＜１％の範囲では十分な磁気シールド性能向上効
果が得られず、一方、Ｇｅ＋Ｓｎ＞１５％では飽和磁化
が下がるので磁気シールド性能が低下するためにシール
ド層を薄肉化および軽量化することができない。したが
って、ＧｅおよびＳｎの含有量は、１０Ｇｅ＋Ｓｎ≧１
％でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１５％の範囲内になるように定め
た。ＧｅおよびＳｎの含有量の一層好ましい範囲は、１
０Ｇｅ＋５Ｓｎ≧６％でかつ４Ｇｅ＋７Ｓｎ≦２８％で
ある。 【００１３】（ｄ） 平均厚さｄ 磁気シールド用粉末の平均厚さｄを０．０３μｍ未満に
すると塗膜中の粉末間に存在する有機バインダー部の厚
さが相対的に増えるため、磁気シールド特性が低下す
る。一方、平均厚さｄが０．６μｍを越えると、塗膜中
に含まれる粉末の枚数が少なくなり、やはり磁気シール
ド効果が低下するので好ましくない。したがって、磁気
シールド用粉末の平均厚さｄは、０．０３〜０．６μｍ
に定めた。平均厚さｄの一層好ましい範囲は０．０５〜
０．３μｍである。 【００１４】（ｅ） Ｄ50 Ｄ50を３μｍ未満まで小さくすると、塗膜中の粉末間の
空隙部が相対的に大きくなり、磁気シールド効果が低下
するので好ましくない。一方、Ｄ50が６０μｍを越える
と、有機バインダー中での分散性が悪くなり、塗布時に
むらを生じ均一な塗膜が得られないので好ましくない。
したがって、Ｄ50：３〜６０μｍと定めた。Ｄ50の一層
好ましい範囲は５〜３０μｍである。 【００１５】（ｆ） アスペクト比（Ｄ50／ｄ） アスペクト比が２０未満であると、粉末の接触面積が減
り、塗膜の磁気抵抗が増加するので好ましくなく、一
方、アスペクト比が、５００を越えると均一な塗膜を得
ることが難しくなる。したがって、アスペクト比は２０
〜５００に定めた。アスペクト比の一層好ましい範囲は
８０〜２００である。 【００１６】 【実施例】合金原料を高周波溶解して表１〜表５に示さ
れる成分組成のインゴットを作製し、これらインゴット
を粗粉砕した後、分級処理を行って最大粒径：５０μｍ
に揃えた。この粗粉末をさらに湿式アトライターボール
ミルにて偏平化し、表１〜表５に示される、Ｄ50、ｄお
よびアスペクト比（Ｄ50／ｄ）を有する本発明磁気シー
ルド用粉末１〜３４、比較磁気シールド用粉末１〜１６
および従来磁気シールド用粉末１〜２を作製した。 【００１７】 【表１】 【００１８】 【表２】【００１９】 【表３】 【００２０】 【表４】【００２１】 【表５】 【００２２】これら本発明磁気シールド用粉末１〜３
４、比較磁気シールド用粉末１〜１６および従来磁気シ
ールド用粉末１〜２を、熱処理炉に入れ、１．０×１０
-2Ｔｏｒｒの真空に排気した後、Ａｒガスを導入してＡ
ｒガス雰囲気に保持し、このＡｒガス雰囲気中にて温
度：４００℃で１時間熱処理し、熱処理された本発明磁
気シールド用粉末１〜３４、比較磁気シールド用粉末１
〜１６および従来磁気シールド用粉末１〜２の飽和磁化
（σs ）および保磁力（Ｈc ）を測定し、それらの測定
値を表６〜表１０に示した。 【００２３】さらに、前記熱処理された本発明磁気シー
ルド用粉末１〜３４、比較磁気シールド用粉末１〜１６
および従来磁気シールド用粉末１〜２をそれぞれ有機バ
インダー（エポキシ樹脂）と５：１の重量比になるよう
に塗料化し、基板上に厚さ：０．１ｍｍの塗布膜を形成
し、これを１０枚重ね合わせ、磁気シールド板を作製し
た。この磁気シールド板をフェライト磁石上に設置し、
磁気シールド板から０．５ｃｍの上方での漏れ磁束密度
Ｂを測定し、これと磁気シールド板がない場合の磁束密
度Ｂ0 を測定し、シールド比（Ｂ／Ｂ0 ）を算出し、こ
れらの結果を表６〜表１０に示した。 【００２４】 【表６】 【００２５】 【表７】 【００２６】 【表８】【００２７】 【表９】 【００２８】 【表１０】【００２９】表１〜表１０に示される結果から、Ｇｅお
よびＳｎを１０Ｇｅ＋Ｓｎ≧１％でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１
５％の範囲内となるように含有する本発明磁気シールド
用粉末１〜３４で作製した磁気シールド板を設置したと
きシールド比：Ｂ／Ｂ0 は、ＧｅおよびＳｎを含まない
従来磁気シールド用粉末１〜２で作製した磁気シールド
板を設置したときのシールド比：Ｂ／Ｂ0 に比べて格段
に小さな値を示すところから、本発明磁気シールド用粉
末１〜３４は従来磁気シールド用粉末１〜２に比べて優
れた磁気シールド性能を示すことが分かる。しかし、こ
の発明の範囲から外れている値（表４および表５におい
て、この発明の範囲から外れている値に＊印を付して示
した。）を有する比較磁気シールド用粉末１〜１６で作
製した磁気シールド板を設置した時のシールド比：Ｂ／
Ｂ0 はやや大きくなることから、比較磁気シールド用粉
末１〜１６の磁気シールド性能はやや劣ることがわか
る。 【００３０】 【発明の効果】この発明によると、従来よりも磁気シー
ルド性能に優れた鱗片状磁気シールド用粉末を提供する
ことができ、電気および電子産業において優れた効果を
もたらすものである。
て磁気を遮蔽するために用いる軟磁性体からなる鱗片状
の磁気シールド用粉末に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】最近の磁気記録装置、電子機器などは、
高密度化、小型化が進むにつれて外部磁場の影響を受け
やすくなってきており、同時に磁場発生源として周辺機
器に悪影響を与える可能性も高い。これら装置の保護お
よび外部への磁場の漏洩を防止するために磁気シールド
を設ける場合が増えている。磁気シールド材としては、
板、箔、線、繊維など種々の形状のものが使用されてい
るが、鱗片状の軟磁性体粉末を塗布する方法が提案され
ている（特開昭５８−５９２６８号公報参照）。 【０００３】この方法は、鱗片状の軟磁性体粉末を含む
塗料を塗布するだけで粉末が配向し、薄いシールド層が
得られるので小型軽量化に適している。このための鱗片
状軟磁性体粉末の材料は、フェライトなどの酸化物、パ
ーマロイ、センダストなどが知られているが、近年、ア
モルファス合金も用いられるようになってきた。 【０００４】例えば、特開昭５９−２０１４９３号公報
には、鉄族金属のうち一種以上、あるいはこれと他の遷
移金属の一種以上：６５〜９０原子％と、ガラス化元
素：１０〜３５原子％からなるアモルファス合金薄板を
切断またはスリットして所定の寸法とし、必要に応じて
熱処理することにより製造される鱗片状磁気シールド用
アモルファス合金粉末が記載されており、また、特開平
１−１８４２０２号公報には、厚さ：０．１〜１０μ
ｍ、長さ：１〜５０μｍでアスペクト比（長さ／厚さ）
が３〜１００の鱗片状磁気シールド用アモルファス合金
粉末が記載されており、さらに、これら鱗片状磁気シー
ルド用アモルファス合金粉末の平均厚さを０．０１〜１
μｍと一層薄く、アスペクト比（平均外径／平均厚さ）
を１０〜１００００と一層大きくして磁気シールド粉末
としての特性を向上せしめた鱗片状磁気シールド用アモ
ルファス合金粉末が特開平１−１３９７０２号公報およ
び特開平１−２０５４０４号公報に記載されている。 【０００５】しかし、フェライトなどの酸化物粉末は脆
いために鱗片状になりにくく、パーマロイは高価である
とともに鱗片状化に要する時間が長くてコストがかか
り、センダストは耐蝕性が低く、鱗片状化すると比表面
積が大きくなって発火しやすくなり取扱い上問題があ
る。さらにアモルファス合金鱗片状粉末は超急冷工程お
よび粉砕工程の少なくとも２工程を必要とし、しかも量
産化に限界があるなどの問題点があった。 【０００６】そのため、最近は、大量に使用される鱗片
状磁気シールド粉末として比較的安価なＦｅ−Ｃｒ系合
金粉末が用いられるようになり、例えば、特開平１−２
２３６２７号公報には、Ｃｒ：０．５〜２０重量％、Ｓ
ｉ：０．５〜９重量％、Ａｌ：０．５〜１５重量％を含
有し、残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成
を有することを特徴とする磁気シールド用粉末が記載さ
れており、また特開平３−２９５２０６号公報には、Ｓ
ｉ：１８〜３０原子％、Ｃｒ：１９原子％以下を含有
し、残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成を
有し、平均厚さｄ：１μｍ以下、粒度分布計によって求
められた粒径の小さい方から重量を累計して５０％にな
ったときの粒径（以下、Ｄ50で示す）が５〜３０μｍで
あり、アスペクト比（Ｄ50／ｄ）：１０〜３０００であ
るＦｅ−Ｃｒ系合金鱗片状磁気シールド粉末が記載され
ており、特に前記特開平３−２９５２０６号公報記載の
Ｆｅ−Ｃｒ系合金からなる鱗片状磁気シールド粉末は、
価格が安く、耐蝕性および磁気シールド性にも優れてい
るので注目されている。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】しかし、従来よりも安
価でしかも磁気シールド性能の優れた磁気シールド粉末
は常に求められており、従来のＦｅ−Ｃｒ系合金鱗片状
磁気シールド粉末の磁気シールド性能の一層の改善が求
められていた。 【０００８】 【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
従来よりも保磁力が低く磁気シールド特性に優れたＦｅ
−Ｃｒ系合金鱗片状磁気シールド粉末を開発すべく研究
を行った結果、平均厚さｄ：０．０３〜０．６μｍ、Ｄ
50：３〜６０μｍであり、アスペクト比（Ｄ50／ｄ）：
２０〜５００である磁気シールド用粉末において、Ｍを
ＡｌまたはＳｉのうちの１種または２種とすると、原子
％で、Ｍ：１５〜３０％、Ｃｒ：３〜１５％、を含有
し、さらに、ＧｅおよびＳｎを、１０Ｇｅ＋Ｓｎ≧１％
でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１５％の範囲内となるように含有
し、残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成を
有する磁気シールド用粉末は、従来よりも保磁力が低減
され磁気シールド性能が向上するという研究結果を得た
のである。 【０００９】この発明は、かかる研究結果にもとずいて
なされたものであって、平均厚さｄ：０．０３〜０．６
μｍ、Ｄ50：３〜６０μｍであり、アスペクト比（Ｄ50
／ｄ）：２０〜５００である磁気シールド用粉末におい
て、原子％で、Ｍ：１５〜３０％、Ｃｒ：３〜１５％を
含有し、さらに、ＧｅおよびＳｎを、１０Ｇｅ＋Ｓｎ≧
１％でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１５％の範囲内となるように含
有し、残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成
を有する磁気シールド用粉末に特徴を有するものであ
る。 【００１０】以下にこの磁気シールド用粉末の成分組
成、平均厚さｄ、Ｄ50、アスペクト比（Ｄ50／ｄ）を上
記の如く限定した理由について説明する （ａ） Ｍ（ＡｌまたはＳｉのうちの１種または２種） Ｍの含有量が１５原子％未満では粉末の保磁力が高くな
り過ぎるとともに磁気シールド性能も低下するので好ま
しくなく、一方、３０原子％を越えて含有すると、粉末
の飽和磁化が下がるので磁気シールド性能が低下するた
めにシールド層を薄肉化および軽量化できない。したが
って、Ｍの含有量は１５〜３０原子％に定めた。Ｍの含
有量の一層好ましい範囲は２０〜２５原子％である。 【００１１】（ｂ） Ｃｒ Ｃｒの含有量は３原子％未満であると耐蝕性が低下し、
錆の発生や変色が起きやすくなるので好ましくなく、一
方、１５原子％を越えて含有すると、飽和磁化が下がる
ので十分な磁気シールド性能が得られないため、シール
ド層を薄肉化および軽量化できない。したがって、Ｃｒ
の含有量は３〜１５原子％に定めた。Ｃｒの含有量の一
層好ましい範囲は４〜１０原子％である。 【００１２】（ｃ） ＧｅおよびＳｎ ＧｅおよびＳｎは、偏平化処理時間を短縮し、加工歪み
を減少させるため、保磁力が低減し、磁気シールド性能
を向上させる作用を有するが、その含有量が、１０Ｇｅ
＋Ｓｎ＜１％の範囲では十分な磁気シールド性能向上効
果が得られず、一方、Ｇｅ＋Ｓｎ＞１５％では飽和磁化
が下がるので磁気シールド性能が低下するためにシール
ド層を薄肉化および軽量化することができない。したが
って、ＧｅおよびＳｎの含有量は、１０Ｇｅ＋Ｓｎ≧１
％でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１５％の範囲内になるように定め
た。ＧｅおよびＳｎの含有量の一層好ましい範囲は、１
０Ｇｅ＋５Ｓｎ≧６％でかつ４Ｇｅ＋７Ｓｎ≦２８％で
ある。 【００１３】（ｄ） 平均厚さｄ 磁気シールド用粉末の平均厚さｄを０．０３μｍ未満に
すると塗膜中の粉末間に存在する有機バインダー部の厚
さが相対的に増えるため、磁気シールド特性が低下す
る。一方、平均厚さｄが０．６μｍを越えると、塗膜中
に含まれる粉末の枚数が少なくなり、やはり磁気シール
ド効果が低下するので好ましくない。したがって、磁気
シールド用粉末の平均厚さｄは、０．０３〜０．６μｍ
に定めた。平均厚さｄの一層好ましい範囲は０．０５〜
０．３μｍである。 【００１４】（ｅ） Ｄ50 Ｄ50を３μｍ未満まで小さくすると、塗膜中の粉末間の
空隙部が相対的に大きくなり、磁気シールド効果が低下
するので好ましくない。一方、Ｄ50が６０μｍを越える
と、有機バインダー中での分散性が悪くなり、塗布時に
むらを生じ均一な塗膜が得られないので好ましくない。
したがって、Ｄ50：３〜６０μｍと定めた。Ｄ50の一層
好ましい範囲は５〜３０μｍである。 【００１５】（ｆ） アスペクト比（Ｄ50／ｄ） アスペクト比が２０未満であると、粉末の接触面積が減
り、塗膜の磁気抵抗が増加するので好ましくなく、一
方、アスペクト比が、５００を越えると均一な塗膜を得
ることが難しくなる。したがって、アスペクト比は２０
〜５００に定めた。アスペクト比の一層好ましい範囲は
８０〜２００である。 【００１６】 【実施例】合金原料を高周波溶解して表１〜表５に示さ
れる成分組成のインゴットを作製し、これらインゴット
を粗粉砕した後、分級処理を行って最大粒径：５０μｍ
に揃えた。この粗粉末をさらに湿式アトライターボール
ミルにて偏平化し、表１〜表５に示される、Ｄ50、ｄお
よびアスペクト比（Ｄ50／ｄ）を有する本発明磁気シー
ルド用粉末１〜３４、比較磁気シールド用粉末１〜１６
および従来磁気シールド用粉末１〜２を作製した。 【００１７】 【表１】 【００１８】 【表２】【００１９】 【表３】 【００２０】 【表４】【００２１】 【表５】 【００２２】これら本発明磁気シールド用粉末１〜３
４、比較磁気シールド用粉末１〜１６および従来磁気シ
ールド用粉末１〜２を、熱処理炉に入れ、１．０×１０
-2Ｔｏｒｒの真空に排気した後、Ａｒガスを導入してＡ
ｒガス雰囲気に保持し、このＡｒガス雰囲気中にて温
度：４００℃で１時間熱処理し、熱処理された本発明磁
気シールド用粉末１〜３４、比較磁気シールド用粉末１
〜１６および従来磁気シールド用粉末１〜２の飽和磁化
（σs ）および保磁力（Ｈc ）を測定し、それらの測定
値を表６〜表１０に示した。 【００２３】さらに、前記熱処理された本発明磁気シー
ルド用粉末１〜３４、比較磁気シールド用粉末１〜１６
および従来磁気シールド用粉末１〜２をそれぞれ有機バ
インダー（エポキシ樹脂）と５：１の重量比になるよう
に塗料化し、基板上に厚さ：０．１ｍｍの塗布膜を形成
し、これを１０枚重ね合わせ、磁気シールド板を作製し
た。この磁気シールド板をフェライト磁石上に設置し、
磁気シールド板から０．５ｃｍの上方での漏れ磁束密度
Ｂを測定し、これと磁気シールド板がない場合の磁束密
度Ｂ0 を測定し、シールド比（Ｂ／Ｂ0 ）を算出し、こ
れらの結果を表６〜表１０に示した。 【００２４】 【表６】 【００２５】 【表７】 【００２６】 【表８】【００２７】 【表９】 【００２８】 【表１０】【００２９】表１〜表１０に示される結果から、Ｇｅお
よびＳｎを１０Ｇｅ＋Ｓｎ≧１％でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１
５％の範囲内となるように含有する本発明磁気シールド
用粉末１〜３４で作製した磁気シールド板を設置したと
きシールド比：Ｂ／Ｂ0 は、ＧｅおよびＳｎを含まない
従来磁気シールド用粉末１〜２で作製した磁気シールド
板を設置したときのシールド比：Ｂ／Ｂ0 に比べて格段
に小さな値を示すところから、本発明磁気シールド用粉
末１〜３４は従来磁気シールド用粉末１〜２に比べて優
れた磁気シールド性能を示すことが分かる。しかし、こ
の発明の範囲から外れている値（表４および表５におい
て、この発明の範囲から外れている値に＊印を付して示
した。）を有する比較磁気シールド用粉末１〜１６で作
製した磁気シールド板を設置した時のシールド比：Ｂ／
Ｂ0 はやや大きくなることから、比較磁気シールド用粉
末１〜１６の磁気シールド性能はやや劣ることがわか
る。 【００３０】 【発明の効果】この発明によると、従来よりも磁気シー
ルド性能に優れた鱗片状磁気シールド用粉末を提供する
ことができ、電気および電子産業において優れた効果を
もたらすものである。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 吉岡 康明
東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号
大日本印刷株式会社内
(72)発明者 梅沢 敦
東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号
大日本印刷株式会社内
(72)発明者 石山 宏一
埼玉県大宮市北袋町１−297 三菱マテ
リアル株式会社 中央研究所内
(72)発明者 木分 聡子
埼玉県大宮市北袋町１−297 三菱マテ
リアル株式会社 中央研究所内
(72)発明者 駒田 紀一
埼玉県大宮市北袋町１−297 三菱マテ
リアル株式会社 中央研究所内
(56)参考文献 特開 平４−48004（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01F 1/00 - 1/44
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 平均厚さｄ：０．０３〜０．６μｍ、 粒度分布計によって求められた粒径の小さい方から重量
を累計して５０％になったときの粒径をＤ50とすると、
Ｄ50：３〜６０μｍであり、アスペクト比（Ｄ50／
ｄ）：２０〜５００である磁気シールド用粉末におい
て、 ＭをＡｌまたはＳｉのうちの１種または２種とすると、
原子％で、 Ｍ：１５〜３０％、 Ｃｒ：３〜１５％、を含有し、さらに、ＧｅおよびＳｎ
を、 １０Ｇｅ＋Ｓｎ≧１％でかつＧｅ＋Ｓｎ≦１５％の範囲
内となるように含有し、 残部：Ｆｅおよび不可避不純物からなる成分組成を有す
ることを特徴とする磁気シールド用粉末。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP07720695A JP3438396B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 磁気シールド用粉末 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07720695A JP3438396B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 磁気シールド用粉末 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08250313A JPH08250313A (ja) | 1996-09-27 |
| JP3438396B2 true JP3438396B2 (ja) | 2003-08-18 |
Family
ID=13627363
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP07720695A Expired - Lifetime JP3438396B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 磁気シールド用粉末 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2008311255A (ja) * | 2007-06-12 | 2008-12-25 | Tohoku Univ | 複合磁性体とその製造方法 |
| JP2008263098A (ja) * | 2007-04-13 | 2008-10-30 | Tohoku Univ | 複合磁性体、それを用いた回路基板、及びそれを用いた電子機器 |
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-
1995
- 1995-03-08 JP JP07720695A patent/JP3438396B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH08250313A (ja) | 1996-09-27 |
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