JP2846069B2 - 磁気シールド用粒末およびその製造法 - Google Patents
磁気シールド用粒末およびその製造法Info
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Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、磁気シールド用粉末およびその製造法に
関するものであり、特に、塗料とともに塗布して磁気シ
ールドするために用いる磁気的に等方性な軟磁性体から
なる鱗片状の磁気シールド用粉末およびその製造法に関
するものである。
関するものであり、特に、塗料とともに塗布して磁気シ
ールドするために用いる磁気的に等方性な軟磁性体から
なる鱗片状の磁気シールド用粉末およびその製造法に関
するものである。
最近の磁気記録装置、電子機器などは、高密度化、小
型化が進むにつれて外部磁場の影響を受けやすくなって
きており、同時に磁場発生源として周辺機器に悪影響を
与える可能性も高い。これら装置の保護および外部への
磁場の漏洩を防止するために磁気シールドを設ける場合
が増えている。磁気シールド材としては、板、箔、線、
繊維など種々の形状のものが使用されているが、鱗片状
の軟磁性体粉末を塗布する方法が提案されている（特開
昭58−59268号公報参照）。この方法は、鱗片状の軟磁
性体粉末を含む塗料を塗布するだけで粉末が配向し、薄
いシールド層が得られるので小型軽量化に適している。
このための鱗片状軟磁性体粉末の材料は、フェライトな
どの酸化物、パーマロイ、センダストなどが知られてい
るが、近年、アモルファス合金が用いられるようになっ
てきた。
型化が進むにつれて外部磁場の影響を受けやすくなって
きており、同時に磁場発生源として周辺機器に悪影響を
与える可能性も高い。これら装置の保護および外部への
磁場の漏洩を防止するために磁気シールドを設ける場合
が増えている。磁気シールド材としては、板、箔、線、
繊維など種々の形状のものが使用されているが、鱗片状
の軟磁性体粉末を塗布する方法が提案されている（特開
昭58−59268号公報参照）。この方法は、鱗片状の軟磁
性体粉末を含む塗料を塗布するだけで粉末が配向し、薄
いシールド層が得られるので小型軽量化に適している。
このための鱗片状軟磁性体粉末の材料は、フェライトな
どの酸化物、パーマロイ、センダストなどが知られてい
るが、近年、アモルファス合金が用いられるようになっ
てきた。
例えば、特開昭59−201493号公報には、鉄族金属のう
ち一種以上、あるいはこれと他の遷移金属の一種以上:6
5〜90原子％と、ガラス化元素:10〜35原子％からなるア
モルファス合金薄板を切断またはスリットして所定の寸
法とし、必要に応じて熱処理することにより製造される
鱗片状磁気シールド用アモルファス合金粉末が記載され
ており、また、特開平１−184202号公報には、厚さ:0.1
〜10μｍ、長さ１〜50μｍでアスペクト比（長さ／厚
さ）が３〜100の鱗片状磁気シールド用アモルファス合
金粉末が記載されており、さらに、これら鱗片状磁気シ
ールド用アモルファス合金粉末の平均厚さを0.01〜１μ
ｍと一層小さく、アスペクト比（平均外径／平均厚さ）
を10〜10000と一層大きくして磁気シールド粉末として
の特性を向上せしめた鱗片状磁気シールド用アモルファ
ス合金粉末が特開平１−139702号公報および特開平１−
205404号公報に記載されている。この鱗片状磁気シール
ド用アモルファス合金粉末は、原子％で表した組成が、
Fe残部Cr２〜10Ｍ０〜10（Si,B）18〜38（但し、Ｍは、
Nb,Ti,V,W,Ta,Mo,Mn,Co,Niより選ばれた少なくとも１
種）からなるものである。
ち一種以上、あるいはこれと他の遷移金属の一種以上:6
5〜90原子％と、ガラス化元素:10〜35原子％からなるア
モルファス合金薄板を切断またはスリットして所定の寸
法とし、必要に応じて熱処理することにより製造される
鱗片状磁気シールド用アモルファス合金粉末が記載され
ており、また、特開平１−184202号公報には、厚さ:0.1
〜10μｍ、長さ１〜50μｍでアスペクト比（長さ／厚
さ）が３〜100の鱗片状磁気シールド用アモルファス合
金粉末が記載されており、さらに、これら鱗片状磁気シ
ールド用アモルファス合金粉末の平均厚さを0.01〜１μ
ｍと一層小さく、アスペクト比（平均外径／平均厚さ）
を10〜10000と一層大きくして磁気シールド粉末として
の特性を向上せしめた鱗片状磁気シールド用アモルファ
ス合金粉末が特開平１−139702号公報および特開平１−
205404号公報に記載されている。この鱗片状磁気シール
ド用アモルファス合金粉末は、原子％で表した組成が、
Fe残部Cr２〜10Ｍ０〜10（Si,B）18〜38（但し、Ｍは、
Nb,Ti,V,W,Ta,Mo,Mn,Co,Niより選ばれた少なくとも１
種）からなるものである。
これら鱗片状磁気シールド用アモルファス合金粉末
は、可及的に薄い形状のものが好ましく、その特性とし
て飽和磁化が高くかつ保磁力が低いことが要求されてい
る。
は、可及的に薄い形状のものが好ましく、その特性とし
て飽和磁化が高くかつ保磁力が低いことが要求されてい
る。
しかしながら、鱗片状磁気シールド用アモルファス合
金粉末を可及的に薄い形状にするためには、アトライタ
ボールミルなどによる長時間の圧延粉砕を必要とし、そ
のために、鱗片状化の際の下降による残留応力歪みのあ
る鱗片状アモルファス合金粉末が製造され、かかる残留
応力歪みのある鱗片状アモルファス合金粉末は、どうし
ても飽和磁化が低く、保磁力が高くなるために磁気シー
ルド特性が低下するという問題点があった。
金粉末を可及的に薄い形状にするためには、アトライタ
ボールミルなどによる長時間の圧延粉砕を必要とし、そ
のために、鱗片状化の際の下降による残留応力歪みのあ
る鱗片状アモルファス合金粉末が製造され、かかる残留
応力歪みのある鱗片状アモルファス合金粉末は、どうし
ても飽和磁化が低く、保磁力が高くなるために磁気シー
ルド特性が低下するという問題点があった。
そこで、本発明者らは、飽和磁化が高くかつ保磁力が
低い磁気シールド特性の優れた磁気シールド粉末を開発
すべく研究を行った結果、 成分がFe,B,Si,CrおよびNbからなり、かつその組成が ＢおよびSiの合計:18〜33原子％、 CrおよびNbの合計:2〜12原子％、 Feおよび不可避不純物：残部、 からなり、 平均厚さd:0.02〜0.6μｍ、 粒度分布計によって求められた粒径を、粒径の小さい
方から重量を累計して50％および90％になったときの粒
径をそれぞれD50およびD90とすると、D50:10〜40μｍ
で、かつD90:20〜80μｍであり、アスペクト比（D50/
d）:20〜500である公知の鱗片状アモルファス合金粉末
を温度:300〜550℃で焼鈍すると、保磁力が20Oe以下、
飽和磁化が90emu/g以上である磁気シールド用粉末が得
られ、この焼鈍して得られた磁気シールド用粉末をCu−
Ｋα線でＸ線回折して得らたＸ線回折線図の回折角２
θ:20〜80゜の範囲内におけるピークは単一ピークを示
し、このＸ線回折線図の単一ピークの強度Irを下記のご
とく定義すると、Irは６以上であるという知見を得たの
である。
低い磁気シールド特性の優れた磁気シールド粉末を開発
すべく研究を行った結果、 成分がFe,B,Si,CrおよびNbからなり、かつその組成が ＢおよびSiの合計:18〜33原子％、 CrおよびNbの合計:2〜12原子％、 Feおよび不可避不純物：残部、 からなり、 平均厚さd:0.02〜0.6μｍ、 粒度分布計によって求められた粒径を、粒径の小さい
方から重量を累計して50％および90％になったときの粒
径をそれぞれD50およびD90とすると、D50:10〜40μｍ
で、かつD90:20〜80μｍであり、アスペクト比（D50/
d）:20〜500である公知の鱗片状アモルファス合金粉末
を温度:300〜550℃で焼鈍すると、保磁力が20Oe以下、
飽和磁化が90emu/g以上である磁気シールド用粉末が得
られ、この焼鈍して得られた磁気シールド用粉末をCu−
Ｋα線でＸ線回折して得らたＸ線回折線図の回折角２
θ:20〜80゜の範囲内におけるピークは単一ピークを示
し、このＸ線回折線図の単一ピークの強度Irを下記のご
とく定義すると、Irは６以上であるという知見を得たの
である。
（ただしIp:単一ピークの高さ、 I30:回折角２θ＝30゜における回折線の高さ、 I60:回折角２θ＝60゜における回折線の高さ、 を示す） この発明は、かかる知見に基づいて成されたものであ
って、 成分がFe,B,Si,CrおよびNbからなり、かつその組成が ＢおよびSiの合計:18〜33原子％、 CrおよびNbの合計:2〜12原子％、 Feおよび不可避不純物：残部、 からなり、 平均厚さd:0.02〜0.6μｍ、 D50:10〜40μｍで、かつD90:20〜80μｍであり、 アスペクト比（D50/d）:20〜500、 である鱗片状磁気シールド用粉末であって、この磁気シ
ールド用粉末をCu−Ｋα線でＸ線回折して得らたＸ線回
折線図の回折角２θ:20〜80゜の範囲内におけるピーク
は単一ピークを示し、このＸ線回折線図における単一ピ
ークの強度Irは、６以上である磁気シールド用粉末およ
びその製造法に特徴を有するものである。
って、 成分がFe,B,Si,CrおよびNbからなり、かつその組成が ＢおよびSiの合計:18〜33原子％、 CrおよびNbの合計:2〜12原子％、 Feおよび不可避不純物：残部、 からなり、 平均厚さd:0.02〜0.6μｍ、 D50:10〜40μｍで、かつD90:20〜80μｍであり、 アスペクト比（D50/d）:20〜500、 である鱗片状磁気シールド用粉末であって、この磁気シ
ールド用粉末をCu−Ｋα線でＸ線回折して得らたＸ線回
折線図の回折角２θ:20〜80゜の範囲内におけるピーク
は単一ピークを示し、このＸ線回折線図における単一ピ
ークの強度Irは、６以上である磁気シールド用粉末およ
びその製造法に特徴を有するものである。
以下にこの磁気シールド用粉末の成分組成、平均厚さ
d,D50,D90、アスペクト比（D50/d）,Irおよび熱処理温
度を上記の如く限定した理由について説明する。
d,D50,D90、アスペクト比（D50/d）,Irおよび熱処理温
度を上記の如く限定した理由について説明する。
（ａ） 成分組成 成分がFe,B,Si,CrおよびNbの５元系からなる鱗片状磁
気シールド用アモルファス合金粉末は知られており、そ
のうちの、 ＢおよびSiは、結晶化温度を上げ、アモルファス状態
および微細結晶の状態を安定化する元素であるが、その
合計量が18原子％未満であると通常の結晶質粉末しか得
られず、一方、その合計量が33原子％を越えると、飽和
磁化が減少し、磁気シールド効果が低下するので好まし
くない。したがって、ＢおよびSiの合計量は、18〜33原
子％に定めた。
気シールド用アモルファス合金粉末は知られており、そ
のうちの、 ＢおよびSiは、結晶化温度を上げ、アモルファス状態
および微細結晶の状態を安定化する元素であるが、その
合計量が18原子％未満であると通常の結晶質粉末しか得
られず、一方、その合計量が33原子％を越えると、飽和
磁化が減少し、磁気シールド効果が低下するので好まし
くない。したがって、ＢおよびSiの合計量は、18〜33原
子％に定めた。
また、CrおよびNbは、耐食性を向上させ、熱処理によ
る磁気特性を改善する元素であるが、その合計量が２原
子％未満であると、結晶化温度以下の熱処理では磁気特
性が改善されず、一方、その合計量が12原子％を越える
と、飽和磁化が減少し、磁気シールド効果が低下するの
で好ましくない。したがって、CrおよびNbの合計量は、
２〜12原子％に定めた。
る磁気特性を改善する元素であるが、その合計量が２原
子％未満であると、結晶化温度以下の熱処理では磁気特
性が改善されず、一方、その合計量が12原子％を越える
と、飽和磁化が減少し、磁気シールド効果が低下するの
で好ましくない。したがって、CrおよびNbの合計量は、
２〜12原子％に定めた。
（ｂ） 平均厚さｄ 磁気シールド用粉末の平均厚さｄを小さくするほど磁
気シールド特性を向上させることができるが、0.02μｍ
未満にすると圧延粉砕による応力歪みのために保磁力が
大きくなり、一方、平均厚さｄが0.6μｍを越えると、
塗膜中に含まれる粉末の枚数が少なくなり、いずれの場
合も磁気シールド効果が低下するので好ましくない。し
たがって、磁気シールド用粉末の平均厚さｄは、0.02〜
0.6μｍに定めた。
気シールド特性を向上させることができるが、0.02μｍ
未満にすると圧延粉砕による応力歪みのために保磁力が
大きくなり、一方、平均厚さｄが0.6μｍを越えると、
塗膜中に含まれる粉末の枚数が少なくなり、いずれの場
合も磁気シールド効果が低下するので好ましくない。し
たがって、磁気シールド用粉末の平均厚さｄは、0.02〜
0.6μｍに定めた。
（ｃ） D50およびD90 粒度分布計によって求められた粒径を、粒径の小さい
方から重量を累計して50％および90％になったときの粒
径:D50およびD90を、それぞれ10μｍおよび20μｍ未満
まで小さくすると、粉末間の空隙に存在する有機バイン
ダーの量が多くなり、磁気シールド効果が低下するので
好ましくない。一方、D50およびD90がそれぞれ40μｍお
よび80μｍを越えると、有機バインダー中での分散性が
悪くなり、塗布時にむらを生じ均一な塗膜が得られない
ので好ましくない。したがって、D50:10〜40μｍおよび
D90:20〜80μｍと定めた。
方から重量を累計して50％および90％になったときの粒
径:D50およびD90を、それぞれ10μｍおよび20μｍ未満
まで小さくすると、粉末間の空隙に存在する有機バイン
ダーの量が多くなり、磁気シールド効果が低下するので
好ましくない。一方、D50およびD90がそれぞれ40μｍお
よび80μｍを越えると、有機バインダー中での分散性が
悪くなり、塗布時にむらを生じ均一な塗膜が得られない
ので好ましくない。したがって、D50:10〜40μｍおよび
D90:20〜80μｍと定めた。
（ｄ） アスペクト比 アスペクト比が20未満であると、粉末の接触面積が減
り、磁気抵抗が増加するので好ましくない。一方、500
を越えると歪みによる保磁力が増加し、かつ粒径の大き
な粉末が混入するため均一な塗膜を得ることが難しくな
る。したがって、アスペクト比は、20〜500に定めた。
り、磁気抵抗が増加するので好ましくない。一方、500
を越えると歪みによる保磁力が増加し、かつ粒径の大き
な粉末が混入するため均一な塗膜を得ることが難しくな
る。したがって、アスペクト比は、20〜500に定めた。
（ｅ） ピーク強度Ir この発明の磁気シールド用粉末をCu−Ｋα線でＸ線回
折して得られたＸ線回折線図は、回折角２θ:20〜80゜
の範囲内においてなだらかに裾を引く単一ピークを示
し、特に、回折角２θ:30〜60゜の範囲内においてその
傾向は顕著であるから、Ipを回折線の単一ピークの高
さ、I30を回折角２θ＝30゜における回折線の高さ、
I60:回折角２θ＝60゜における回折線の高さとした場
合、この単一ピークの強度Irを、Ir＝2Ip/（I30＋I60）
と定義すると、Ir≧６であることが必要であり、Irが６
未満であると、歪みの除去が不十分であり、保磁力が大
きくなるため磁気シールド効果が低下するので好ましく
ない。したがって、この発明の磁気シールド用粉末のIr
は６以上と定めた。
折して得られたＸ線回折線図は、回折角２θ:20〜80゜
の範囲内においてなだらかに裾を引く単一ピークを示
し、特に、回折角２θ:30〜60゜の範囲内においてその
傾向は顕著であるから、Ipを回折線の単一ピークの高
さ、I30を回折角２θ＝30゜における回折線の高さ、
I60:回折角２θ＝60゜における回折線の高さとした場
合、この単一ピークの強度Irを、Ir＝2Ip/（I30＋I60）
と定義すると、Ir≧６であることが必要であり、Irが６
未満であると、歪みの除去が不十分であり、保磁力が大
きくなるため磁気シールド効果が低下するので好ましく
ない。したがって、この発明の磁気シールド用粉末のIr
は６以上と定めた。
（ｆ） 熱処理温度 この発明の磁気シールド用粉末を製造するためには、
成分がFe,B,Si,CrおよびNbからなり、かつその組成が ＢおよびSiの合計:18〜33原子％、 CrおよびNbの合計:2〜12原子％、 Feおよび不可避不純物：残部、 からなる磁気シールド用アモルファス合金粉末を機械加
工することにより、 平均厚さd:0.02〜0.6μｍ、 D50:10〜40μｍで、かつD90:20〜80μｍであり、 アスペクト比（D50/d）:20〜500、 である鱗片状アモルファス合金粉末を製造し、この鱗片
状アモルファス合金粉末を不活性ガス雰囲気中、温度:3
00〜550℃で焼鈍することにより初めて、Cu−Ｋα線で
Ｘ線回折して得られたＸ線回折線図の回折角２θ:20〜8
0゜の範囲内におけるピークが単一ピークを示し、この
Ｘ線回折線図の単一ピークの強度Irが６以上である磁気
シールド用粉末が得られるのである。
成分がFe,B,Si,CrおよびNbからなり、かつその組成が ＢおよびSiの合計:18〜33原子％、 CrおよびNbの合計:2〜12原子％、 Feおよび不可避不純物：残部、 からなる磁気シールド用アモルファス合金粉末を機械加
工することにより、 平均厚さd:0.02〜0.6μｍ、 D50:10〜40μｍで、かつD90:20〜80μｍであり、 アスペクト比（D50/d）:20〜500、 である鱗片状アモルファス合金粉末を製造し、この鱗片
状アモルファス合金粉末を不活性ガス雰囲気中、温度:3
00〜550℃で焼鈍することにより初めて、Cu−Ｋα線で
Ｘ線回折して得られたＸ線回折線図の回折角２θ:20〜8
0゜の範囲内におけるピークが単一ピークを示し、この
Ｘ線回折線図の単一ピークの強度Irが６以上である磁気
シールド用粉末が得られるのである。
上記焼鈍温度が300℃未満または550℃を越えると、単
一ピークの強度Irが６以上にはならず、保磁力が20Oeを
越え、飽和磁化も90emu/g未満となって、所定の磁気シ
ールド特性が得られない。
一ピークの強度Irが６以上にはならず、保磁力が20Oeを
越え、飽和磁化も90emu/g未満となって、所定の磁気シ
ールド特性が得られない。
つぎに、この発明を実施例にもとずいて具体的に説明
する。
する。
実施例 １ Si:15原子％、B:10原子％、Cr:4原子％、Nb:8原子％
を含有し、残部がFeおよび不可避不純物からなる合金を
用意し、この合金を高周波溶解炉で溶解したのち、急冷
ロール法により、アモルファス合金薄帯を作製し、この
アモルファス合金薄帯をArガス雰囲気中でディスクミル
を用いて粗粉砕し、分級処理を行って最大粒径を50μｍ
程度に揃えた。この粗粉末を湿式アトライタボールミル
にて鱗片状化し、鱗片状アモルファス合金粉末を製造し
た。この鱗片状アモルファス合金粉末は、 平均厚さd:0.10μｍ、 レーザー回折式粒度分布計によって得られた累積体積
値が全体のそれぞれ50％,90％に相当するときの粉末の
粒径をそれぞれD50,D90とすると、 D50:18μｍ、 D90:40μｍ、 アスペクト比（D50/d）:180、 の形状を有していた。
を含有し、残部がFeおよび不可避不純物からなる合金を
用意し、この合金を高周波溶解炉で溶解したのち、急冷
ロール法により、アモルファス合金薄帯を作製し、この
アモルファス合金薄帯をArガス雰囲気中でディスクミル
を用いて粗粉砕し、分級処理を行って最大粒径を50μｍ
程度に揃えた。この粗粉末を湿式アトライタボールミル
にて鱗片状化し、鱗片状アモルファス合金粉末を製造し
た。この鱗片状アモルファス合金粉末は、 平均厚さd:0.10μｍ、 レーザー回折式粒度分布計によって得られた累積体積
値が全体のそれぞれ50％,90％に相当するときの粉末の
粒径をそれぞれD50,D90とすると、 D50:18μｍ、 D90:40μｍ、 アスペクト比（D50/d）:180、 の形状を有していた。
この鱗片状アモルファス合金粉末を適量ボートに装入
して熱処理炉に入れ、1.0×10-2Torrの真空に排気した
後、Arガス雰囲気中で第１表に示される温度で熱処理
し、本発明磁気シールド粉末１〜５および比較磁気シー
ルド粉末１〜２を作製した。これら磁気シールド粉末の
保磁力（iHc）および飽和磁化（σｓ）を測定してその
結果を第１表に示したのち、上記磁気シールド粉末磁気
特性の熱処理温度依存性を理解しやすいように第１図の
グラフに示した。
して熱処理炉に入れ、1.0×10-2Torrの真空に排気した
後、Arガス雰囲気中で第１表に示される温度で熱処理
し、本発明磁気シールド粉末１〜５および比較磁気シー
ルド粉末１〜２を作製した。これら磁気シールド粉末の
保磁力（iHc）および飽和磁化（σｓ）を測定してその
結果を第１表に示したのち、上記磁気シールド粉末磁気
特性の熱処理温度依存性を理解しやすいように第１図の
グラフに示した。
また、第１表に示される温度で熱処理した本発明磁気
シールド粉末１〜５および比較磁気シールド粉末１〜２
を下記の条件にてＸ線回折し、その結果得られたＸ線回
折線図を第２図〜第８図に示した。
シールド粉末１〜５および比較磁気シールド粉末１〜２
を下記の条件にてＸ線回折し、その結果得られたＸ線回
折線図を第２図〜第８図に示した。
Ｘ線回折条件 ステップの大きさ:0.05deg.、 計測時間:1ステップについて３秒、 使用Ｘ線:Cu−Ｋα線、 電 圧:55kV 電 流:35mA、 これら第２図〜第８図に示したＸ線回折線図から、単
一ピークの高さIp、２θ＝30゜における Ｘ線回折線図の高さI30および２θ＝60゜におけるＸ線
回折線図の高さI60を測定し、それらの測定結果から単
一ピークの強度Irを計算し、それらの結果を第１表に示
した。
一ピークの高さIp、２θ＝30゜における Ｘ線回折線図の高さI30および２θ＝60゜におけるＸ線
回折線図の高さI60を測定し、それらの測定結果から単
一ピークの強度Irを計算し、それらの結果を第１表に示
した。
さらに、上記条件で熱処理して得られた本発明磁気シ
ールド粉末１〜５および比較磁気シールド粉末１〜２を
有機バインダー（エポキシ樹脂）と1:1の割合で混合
し、板状に成形し、着磁したフェライト磁石と磁気セン
サーの測定子を隔てて反対側に設置し、このとき磁気セ
ンサーに感知される透過磁束電圧の大きさを磁気シール
ド性能として第１表に示した。
ールド粉末１〜５および比較磁気シールド粉末１〜２を
有機バインダー（エポキシ樹脂）と1:1の割合で混合
し、板状に成形し、着磁したフェライト磁石と磁気セン
サーの測定子を隔てて反対側に設置し、このとき磁気セ
ンサーに感知される透過磁束電圧の大きさを磁気シール
ド性能として第１表に示した。
上記第１図および第１表の結果から、 鱗片状アモルファス合金粉末を温度:300〜550℃で熱
処理して得られた本発明磁気シールド粉末１〜５は、保
磁力（iHc）がいずれも20Oe以下で小さくかつ飽和磁化
（σｓ）は90emu/g以上あり、磁気シールド性能も優れ
ているが、この発明の温度範囲から外れた温度条件（第
１表において、※を付して示した）で熱処理して得られ
た比較磁気シールド粉末２および熱処理なしの比較磁気
シールド粉末１は、いずれも保磁力（iHc）が20Oeを越
えており、磁気シールド性能も劣ることがわかる。
処理して得られた本発明磁気シールド粉末１〜５は、保
磁力（iHc）がいずれも20Oe以下で小さくかつ飽和磁化
（σｓ）は90emu/g以上あり、磁気シールド性能も優れ
ているが、この発明の温度範囲から外れた温度条件（第
１表において、※を付して示した）で熱処理して得られ
た比較磁気シールド粉末２および熱処理なしの比較磁気
シールド粉末１は、いずれも保磁力（iHc）が20Oeを越
えており、磁気シールド性能も劣ることがわかる。
また第２図〜第８図に示したＸ線回折線図から、 熱処理なしの比較磁気シールド粉末１は、本発明磁気
シールド粉末１〜５と同様にＸ線回折線図のピークは単
一ピークを示すが、熱処理なしの比較磁気シールド粉末
１のＸ線回折線図の単一ピーク強度Irは６未満であるに
対し、本発明磁気シールド粉末１〜５のＸ線回折線図の
単一ピーク強度Irは６以上であり、温度:60℃で熱処理
した比較磁気シールド粉末８は、複数のピークを示し、
Ｘ線回折線図が複数のピークを示すと磁気シールド粉末
としての磁気特性および磁気シールド性能が低下するこ
とがわかる。
シールド粉末１〜５と同様にＸ線回折線図のピークは単
一ピークを示すが、熱処理なしの比較磁気シールド粉末
１のＸ線回折線図の単一ピーク強度Irは６未満であるに
対し、本発明磁気シールド粉末１〜５のＸ線回折線図の
単一ピーク強度Irは６以上であり、温度:60℃で熱処理
した比較磁気シールド粉末８は、複数のピークを示し、
Ｘ線回折線図が複数のピークを示すと磁気シールド粉末
としての磁気特性および磁気シールド性能が低下するこ
とがわかる。
実施例 ２ 実施例１と同様にして第２表に示される成分組成およ
び寸法形状を有する鱗片状アモルファス合金粉末を製造
し、この鱗片状アモルファス合金粉末を適量ボートに装
入して熱処理炉に入れ、1.0×10-2Torrの真空に排気し
た後、Arガス雰囲気中で第２表に示される温度で熱処理
し、本発明磁気シールド粉末６〜35および比較磁気シー
ルド粉末３〜10を作製した。これら磁気シールド粉末の
保磁力（iHc）および飽和磁化（σｓ）を測定してその
結果を第２表に示したのち、実施例１に示した条件と同
一条件にてＸ線回折し、その結果得られたＸ線回折線図
から単一ピークの高さIp、２θ＝30゜におけるＸ線回折
線図の高さI30および２θ＝60゜におけるＸ線回折線図
の高さI60を測定し、それらの測定結果から単一ピーク
の強度Irを計算し、それらの結果を第２表に示した。さ
らに、上記第２表に示される温度で熱処理して得られた
本発明磁気シールド粉末６〜35および比較磁気シールド
粉末３〜10を有機バインダー（エポキシ樹脂）と1:1の
割合で混合し、板状に成形し、着磁したフェライト磁石
と磁気センサーの測定子を隔てて反対側に設置し、この
とき磁気センサーに感知される透過磁束電圧の 大きさを磁気シールド性能として第２表に示した。
び寸法形状を有する鱗片状アモルファス合金粉末を製造
し、この鱗片状アモルファス合金粉末を適量ボートに装
入して熱処理炉に入れ、1.0×10-2Torrの真空に排気し
た後、Arガス雰囲気中で第２表に示される温度で熱処理
し、本発明磁気シールド粉末６〜35および比較磁気シー
ルド粉末３〜10を作製した。これら磁気シールド粉末の
保磁力（iHc）および飽和磁化（σｓ）を測定してその
結果を第２表に示したのち、実施例１に示した条件と同
一条件にてＸ線回折し、その結果得られたＸ線回折線図
から単一ピークの高さIp、２θ＝30゜におけるＸ線回折
線図の高さI30および２θ＝60゜におけるＸ線回折線図
の高さI60を測定し、それらの測定結果から単一ピーク
の強度Irを計算し、それらの結果を第２表に示した。さ
らに、上記第２表に示される温度で熱処理して得られた
本発明磁気シールド粉末６〜35および比較磁気シールド
粉末３〜10を有機バインダー（エポキシ樹脂）と1:1の
割合で混合し、板状に成形し、着磁したフェライト磁石
と磁気センサーの測定子を隔てて反対側に設置し、この
とき磁気センサーに感知される透過磁束電圧の 大きさを磁気シールド性能として第２表に示した。
第２表の結果から、鱗片状アモルファス合金粉末を温
度:300〜550℃で熱処理して得られた本発明磁気シール
ド粉末６〜35は、保持力（iHc）がいずれも20Oe以下で
小さくかつ飽和磁化（σｓ）は90emu/g以上あり、磁気
シールド性能も優れているが、この発明の温度範囲から
外れた温度条件（第２表において、※を付して示した）
で熱処理して得られた比較磁気シールド粉末３および
４、並びに熱処理なしの比較磁気シールド粉末10は、い
ずれも保磁力（iHc）が20Oeを越えており、磁気シール
ド性能も劣ることがわかる。
度:300〜550℃で熱処理して得られた本発明磁気シール
ド粉末６〜35は、保持力（iHc）がいずれも20Oe以下で
小さくかつ飽和磁化（σｓ）は90emu/g以上あり、磁気
シールド性能も優れているが、この発明の温度範囲から
外れた温度条件（第２表において、※を付して示した）
で熱処理して得られた比較磁気シールド粉末３および
４、並びに熱処理なしの比較磁気シールド粉末10は、い
ずれも保磁力（iHc）が20Oeを越えており、磁気シール
ド性能も劣ることがわかる。
さらに、SiおよびＢの合計量がこの発明の条件から外
れて少ない比較磁気シールド粉末５は、この発明の熱処
理温度範囲内で熱処理しても結晶化してピーク数が増加
し、磁気シールド性能も低下する。また、磁気シールド
粉末の寸法形状がこの発明の条件から外れている（第２
表において、この発明の条件から外れている値に※印を
付して示した）と、いずれも磁気シールド性能が低下す
ることがわかる。
れて少ない比較磁気シールド粉末５は、この発明の熱処
理温度範囲内で熱処理しても結晶化してピーク数が増加
し、磁気シールド性能も低下する。また、磁気シールド
粉末の寸法形状がこの発明の条件から外れている（第２
表において、この発明の条件から外れている値に※印を
付して示した）と、いずれも磁気シールド性能が低下す
ることがわかる。
従来よりも優れた磁気シールド性能を有する磁気シー
ルド粉末が得られ、磁気記録装置、電子機器などの高密
度化、小型化に大いに貢献しうるものである。
ルド粉末が得られ、磁気記録装置、電子機器などの高密
度化、小型化に大いに貢献しうるものである。
第１図は、磁気シールド粉末の磁気特性の熱処理温度依
存性を示すグラフ、 第２図〜第８図は、磁気シールド粉末のＸ線回折線図、 を示す。
存性を示すグラフ、 第２図〜第８図は、磁気シールド粉末のＸ線回折線図、 を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２２Ｃ 38/34 Ｃ２２Ｃ 45/02 Ａ 45/02 Ｈ０１Ｆ 1/20 (72)発明者 石山 宏一 埼玉県大宮市北袋町１―297 三菱金属 株式会社中央研究所内 (72)発明者 石井 義成 埼玉県大宮市北袋町１―297 三菱金属 株式会社中央研究所内 (72)発明者 西川 滋 埼玉県大宮市北袋町１―297 三菱金属 株式会社中央研究所内 (72)発明者 武下 拓夫 埼玉県大宮市北袋町１―297 三菱金属 株式会社中央研究所内 (72)発明者 斉藤 八郎 東京都新宿区榎町７番地 大日本印刷株 式会社内 (72)発明者 吉岡 康明 東京都新宿区榎町７番地 大日本印刷株 式会社内 (56)参考文献 特開 平１−205404（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−139702（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−173796（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−295206（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−153002（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B22F 1/00 H01F 1/14 - 1/20 H05K 9/00
Claims (2)
- 【請求項１】成分がFe,B,Si,CrおよびNbからなり、かつ
その組成が ＢおよびSiの合計:18〜33原子％、 CrおよびNbの合計:2〜12原子％、 Feおよび不可避不純物：残部、 からなり、 平均厚さd:0.02〜0.6μｍ、 粒度分布計によって求められた粒径を、粒径の小さい方
から重量を累計して50％および90％になったときの粒径
をそれぞれD50およびD90とすると、D50:10〜40μｍで、
かつD90:20〜80μｍであり、アスペクト比（D50/d）:20
〜500、 である鱗片状磁気シールド用粉末であって、 この磁気シールド用粉末をCu−Ｋα線でＸ線回折して得
らたＸ線回折線図の回折角２θ:20〜80゜の範囲内にお
けるピークは単一ピークを示し、このＸ線回折線図にお
ける単一ピークの強度Irを下記のごとく定義すると、Ir
は６以上であることを特徴とする磁気シールド用粉末。 （ただしIp:単一ピークの高さ、 I30:回折角２θ＝30゜における回折線の高さ、 I60:回折角２θ＝60゜における回折線の高さ、 を示す） - 【請求項２】成分がFe,B,Si,CrおよびNbからなり、かつ
その組成が ＢおよびSiの合計:18〜33原子％、 CrおよびNbの合計:2〜12原子％、 Feおよび不可避不純物：残部、 からなり、 平均厚さd:0.02〜0.6μｍ、 粒度分布計によって求められた粒径を、粒径の小さい方
から重量を累計して50％および90％になったときの粒径
をそれぞれD50およびD90とすると、D50:10〜40μｍで、
かつD90:20〜80μｍであり、アスペクト比（D50/d）:20
〜500、 である鱗片状アモルファス合金粉末を温度:300〜550℃
で熱処理することを特徴とする磁気シールド用粉末の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2159286A JP2846069B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 磁気シールド用粒末およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2159286A JP2846069B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 磁気シールド用粒末およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448003A JPH0448003A (ja) | 1992-02-18 |
| JP2846069B2 true JP2846069B2 (ja) | 1999-01-13 |
Family
ID=15690480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2159286A Expired - Lifetime JP2846069B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 磁気シールド用粒末およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2846069B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4449077B2 (ja) * | 2003-08-05 | 2010-04-14 | 三菱マテリアル株式会社 | Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｏ系扁平金属軟磁性粉末およびその軟磁性粉末を含む磁性複合材 |
-
1990
- 1990-06-18 JP JP2159286A patent/JP2846069B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0448003A (ja) | 1992-02-18 |
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