JP3419092B2 - 電子写真感光体用アルミニウム基体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体用アルミニウム基体の製造方法Info
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Description
ミニウム円筒基体及びその製造方法に関する。 【0002】 【従来の技術】電子写真感光体用アルミニウム円筒基体
は、その表面を、センバン加工、しごき加工あるいは冷
間引抜き加工により鏡面にしたものが用いられている。
これらの基体製造工程において、ワークと工具の潤滑又
は冷却を目的として、油脂が施される。その結果、加工
後の基体はこれらの油脂で表面が汚染された状態になっ
ている。従って、感光層を施す前、あるいはその予備処
理を行う前に、これらの油脂を除去するための洗浄工程
が必須となっている。従来、この洗浄工程はフロン系あ
るいは塩素系の溶剤を用いて行なわれる事が多かった
が、近年塩素系溶剤による地下汚染やフロン系溶剤によ
るオゾン層破壊等環境問題がクローズアップされ、諸規
制が強化されつつある事から、環境問題の少ない水を溶
媒とした洗浄に転換される傾向にある。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】水を溶媒とした洗浄を
行なう場合、洗剤として、アルカリ系洗剤又は中性洗剤
が用いられる。アルカリ系洗剤の場合、洗浄力は強い
が、後処理の程度によっては、アルカリ残存による腐食
の問題が生ずる。中性洗剤を用いた洗浄の場合、腐食の
問題は少ないが、アルカリ系洗剤よりも洗浄力が弱く、
冷間引抜き加工し、しごき加工に使われるような粘性の
高い油脂を完全に除去することはむつかしい。 【0004】アルカリ性洗剤を用いて洗浄する場合、ア
ルカリ系洗剤での洗浄の後に、酸による中和を行なうこ
とが一般に行なわれる。しかし、この工程を電子写真感
光体用アルミニウム円筒基体の洗浄に適用した場合、酸
の残存による画像ムラ欠陥が発生する場合がある。 【0005】 【課題を解決するための手段】本発明の課題は、以上の
問題点をふまえ、冷間引抜き加工又は冷間しごき加工に
より電子写真感光体用アルミニウム基体を製造する方法
であって、冷間引抜き加工又は冷間しごき加工の後、該
基体の表面に感光層を塗布する前に、該基体をアルカリ
系洗剤で洗浄した後、さらに中性洗剤で洗浄することを
特徴とする電子写真感光体用アルミニウム基体の製造方
法に存する。 【0006】以下本発明を詳細に説明する。冷間引抜き
加工または冷間しごき加工は通常アルミニウムまたはア
ルミニウム合金からなる電子写真感光体用円筒基体を製
造するために使用される方法であり良く知られている。
例えば図1はしごき加工を示した例であり、1はプレス
シリンダー、2はプレスサポート、3は押出管をしごき
加工するパンチ、4はしごき加工用のダイが収納された
ダイセット、5はパンチからしごき加工された基体を取
り外す取り外し装置、6はカール曲げ加工した押し出し
管である。 【0007】しごき加工では3のパンチが6の押出管内
に挿入されて、押出管をしごき、延伸することにより基
体が製造されるが、潤滑剤として、またしごき加工中の
過度の発熱を防止するために油脂が施される。本発明に
おいては、基体に付着した油脂を、基体に感光層を施す
前の段階で、アルカリ系洗剤を用いて洗浄した後、次い
で中性洗剤を用いて洗浄する。 【0008】アルカリ系洗剤としては公知の洗剤が使用
され、例えばリン酸塩系洗剤が挙げられる。中性洗剤と
しては例えば陰イオン界面活性剤を主体とする洗剤アル
カリ非イオン界面活性剤を主体とする洗剤等が挙げられ
る。アルカリ系洗剤及び中性洗剤での洗浄の前後に、水
による洗浄を適宜取り入れても良い。 【0009】アルカリ系洗剤及び中性洗剤は通常水溶液
として使用され、洗浄は常温でも加熱系でも良い。洗浄
は浸漬によるものでもスプレー形式によるものでも良
く、通常数分から数10分行なわれる。アルカリ系洗剤
での洗浄後、中性洗剤で洗浄することにより、基体の表
面に残ったアルカリを除去し、腐食の問題を無くすると
同時に、酸を使用する必要がないため、これによる画像
欠陥の発生の心配もない。 【0010】 【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。但し、本発明はこの実施例に限定されるものではな
い。 【0011】実施例1 JIS3003合金で形成された外径54.3mm、内
径49.3mm、長さ115mmの押出管の1端にカー
ル曲げ加工を施した。次にこれを図1に示すプレスの6
に設置し、潤滑油を押出管の内外に塗布した後パンチを
下降させて、しごき加工を施し、外径50mm、内径4
8.5mm、円筒状基体を製造した。 【0012】このようにして製造した基体の両端を耳部
20mm、カール部30mm切断して長さ360mmの
アルミニウム基体を製造した。このようにして製造され
たアルミニウム基体を70℃に加熱したヘンケル白水社
製P3 T580(リン酸塩系アルカリ系洗剤)の2%
水溶液に5分間浸漬した。次いで、50℃の温水スプレ
ーでゆすいだ後、50℃に加熱したヘンケル白水社製P
3ネクソNo2(界面活性剤系中性洗剤)の1.5%水
溶液に2.5分浸漬した。さらにこれを、50℃の温水
スプレーでゆすいだ後、80℃の熱風で乾燥した。 【0013】比較例1 実施例1において、中性洗剤での洗浄工程を省いた以外
は、実施例1と同様にして、アルミニウム円筒基体を製
造した。 【0014】比較例2 実施例1において、「50℃に加熱したヘンケル白水社
製P3ネクソNo2の1.5%水溶液に2.5分浸漬」
の代りに「常温の5%HNO3 水溶液中に1分間浸漬」
を実施した以外、実施例1と同様にして、アルミニウム
円筒基体を製造した。 【0015】(実施例及び比較例の評価)実施例1と比
較例1、2で製造したアルミニウム円筒基体をダンボー
ル箱に収納し、常温常湿の倉庫に1ケ月保管した後、基
体表面の腐食有無を観察した。その結果、実施例1と比
較例2は、腐食は見られなかったが、比較例1の基体表
面には、ピッティングが観察された。 【0016】次に下記構造を有するビスアゾ化合物10
部とフェノキシ樹脂(ユニオンカーバイト社製PKH
H)5部、ポリビニルブチラール樹脂(積水化学工業社
製BH−3)5部に、4−メトキシ−4−メチルペンタ
ノン−2 100部を加え、サンドグラインドミルにて
粉砕分散処理を行なった。得られた分散液に、前述の実
施例1及び比較例1、2の基体を浸漬塗布し、乾燥後の
膜厚が0.4μmとなる様電荷発生層を設けた。 【0017】 【化1】【0018】この様にして得られた電荷発生層を持つア
ルミ基体をN−メチルカルバゾール−3−アルデヒドジ
フェニルヒドラゾン90部、ポリカーボネート樹脂10
0部、下記構造のシアノ化合物4.5部を 【0019】 【化2】 【0020】1,4−ジオキサン900部に溶解した溶
液に浸漬塗布し、乾燥後の膜厚が20μmとなる様に電
荷移動層を設けた。このようにして、製造された実施例
1及び比較例1、2の電子写真感光体を市販の複写機に
取り付け、ハーフトーン画像を写して観察した。その結
果、実施例1の画像は良好であったが、比較例1には、
白点状欠陥が比較例2には、ムラ状欠陥が見られた。 【0021】 【発明の効果】本発明により、基体の腐食が防止でき、
また画像ムラ欠陥のない感光体が得られる。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 冷間引抜き加工又は冷間しごき加工によ
り電子写真感光体用アルミニウム基体を製造する方法で
あって、冷間引抜き加工又は冷間しごき加工の後、該基
体の表面に感光層を塗布する前に、該基体をアルカリ系
洗剤で洗浄した後、さらに中性洗剤で洗浄することを特
徴とする電子写真感光体用アルミニウム基体の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18017094A JP3419092B2 (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 電子写真感光体用アルミニウム基体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18017094A JP3419092B2 (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 電子写真感光体用アルミニウム基体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0844095A JPH0844095A (ja) | 1996-02-16 |
JP3419092B2 true JP3419092B2 (ja) | 2003-06-23 |
Family
ID=16078624
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18017094A Expired - Fee Related JP3419092B2 (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 電子写真感光体用アルミニウム基体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3419092B2 (ja) |
-
1994
- 1994-08-01 JP JP18017094A patent/JP3419092B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH0844095A (ja) | 1996-02-16 |
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