JP3415401B2 - 半導体集積回路装置及びその製造方法 - Google Patents
半導体集積回路装置及びその製造方法Info
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Description
回路部を大電流から保護する入力保護回路部が形成され
た半導体集積回路装置及びその製造方法に関する。
散層容量が比較的小さいSOI基板上に半導体素子を形
成する(以下SOI構造)技術の導入が行われ始めてい
る。SOI構造においては、配線−基板間の寄生容量や
拡散層容量等の低減による高速動作が可能な他、寄生バ
イポーラトランジスタのような能動的寄生効果を防止で
きるので、ラッチアップやソフトエラーのない半導体集
積回路を実現することができるという利点がある。
る半導体薄膜層に静電気等によって大電流が流れた場
合、半導体薄膜層の下に絶縁層があるため、電流を流し
にくい。このため、内部回路部と同一のプロセスで入力
保護回路部を形成した場合、集積回路素子が破壊されや
すいという問題があった。
を施して入力保護回路部を形成し、半導体基板に電流を
流す方法等が考案されているが、何れもプロセスが複雑
になるという欠点がある。
SOI構造からなる半導体集積回路装置は、耐圧が低く
回路素子が破壊されやすいという問題がある。また、特
別な加工を施して過電流から内部回路部を保護する方法
が提案されているが、プロセスが複雑になるという問題
がある。本発明の目的は、工程数を増加させることなく
耐圧の向上を図り、信頼性の向上を図り得る半導体集積
回路装置及びその製造方法を提供することにある。
されている。 (1) 本発明(請求項1)の半導体集積回路装置は、
SOI基板に、内部回路部への電源供給ラインに分岐し
て接続された入力保護回路部が形成された半導体集積回
路装置であって、前記内部回路部にはCMOSFETが
形成され、前記入力保護回路部にはダイオードが形成さ
れ、前記ダイオードは、前記SOI基板の半導体層に形
成された第1導電型半導体層と、前記SOI基板の半導
体層に該第1導電型半導体層を挟むよう形成された高濃
度第1導電型半導体層及び高濃度第2導電型半導体層と
を含んで構成され、前記第1導電型半導体層上には絶縁
膜を介して電極が形成され、前記電極は入力パッドに接
続されていることを特徴とする。
は、p型又はn型半導体のことである。そして、「第1
導電型半導体層を挟むよう前記半導体層に形成された高
濃度第1導電型半導体層と高濃度第2導電型半導体層と
を含んで構成」とは、n++/n/p++、若しくはn++/
p/p++が半導体装置の表面に沿って形成された構造で
ある。
電極は、SOI基板の半導体層に電気的に接続されてい
る。前記高濃度第1及び第2導電型半導体層は、前記電
極及び該電極の側部に形成された側壁絶縁膜を挟むよう
に、SOI基板の半導体層に形成され、前記側壁絶縁膜
を下方に高濃度第1及び第2導電型半導体層より低濃度
且つ前記第1導電型半導体層より高濃度の第1及び第2
導電型半導体層が形成されている。
第2導電型半導体層は、前記電極及び該電極の側部に形
成された絶縁膜を挟むように、SOI基板の半導体層に
形成されている。 (2) 本発明(請求項2)の半導体集積回路装置は、
SOI基板に、内部回路部への電源供給ラインに分岐し
て接続された入力保護回路部が形成された半導体集積回
路装置であって、前記内部回路部に形成されたMOSト
ランジスタはLDD構造であり、前記入力保護回路部は
オフセット構造のpMOSトランジスタ及びnMOSト
ランジスタを具備し、前記pMOSトランジスタのゲー
ト電極及びソース・ドレインの一方が電源に接続され、
前記pMOSトランジスタのソース・ドレインの他方が
入力パッドに接続され、前記nMOSトランジスタのゲ
ート電極及びソース・ドレインの一方が電源に接続さ
れ、前記nMOSトランジスタの他方が入力パッド31
に接続されていることを特徴とする。
回路装置の製造方法は、SOI基板に、内部回路部への
電源供給ラインに分岐して接続された入力保護回路部が
形成された半導体集積回路装置の製造方法であって、前
記内部回路部領域及び入力保護回路部領域のSOI基板
の半導体層上に、絶縁膜を介してMOSトランジスタの
ゲート電極を形成する工程と、前記内部回路部領域の前
記SOI基板の半導体層に対して、前記電極をマスクと
して選択的に不純物層を形成し、MOSトランジスタの
低濃度ドレインを形成する工程と、前記内部回路部領域
及び入力保護回路部領域に、MOSトランジスタの側壁
絶縁膜を形成する工程と、前記SOI基板の半導体層に
対して、前記電極及び側壁絶縁膜をマスクとして選択的
に前記低濃度ドレインより不純物濃度が高い不純物層を
形成し、前記内部回路部領域及び入力保護回路部領域に
MOSトランジスタのソース・ドレインを形成する工程
とを含むことを特徴とする。
の作用・効果を有する。内部回路部はCMOSトランジ
スタで構成されており、CMOSトランジスタのゲート
電極形成時に、入力保護回路部領域にも電極を形成す
る。そして、CMOSトランジスタのソース・ドレイン
形成時に、該電極をマスクとして不純物を拡散させるこ
とによって、自己整合的に前記高濃度第1及び第2半導
体層を形成することができる。従って、工程数を増加さ
せることなく半導体集積回路装置を形成することができ
る。
度領域を不純物濃度の低い半導体層で分離することによ
って、耐圧が高くなり、静電気等の大電流による素子の
破壊や劣化を抑制する。
路部のLDD構造からなるトランジスタと同時に形成す
ることができるので、プロセスの増加がない。入力保護
回路部のトランジスタをオフセット構造とすることで、
耐圧が高くなり、静電気等の大電流による素子の破壊や
劣化を抑制することができる。
を参照して説明する。 [第1実施形態]本実施形態の半導体集積回路装置は、
SOI基板に、CMOSFETで構成された内部回路部
への電源供給ラインに分岐して接続された入力保護回路
部が形成されている。そして、入力保護回路部を構成す
るダイオードを図1を参照して説明する。
保護回路部のダイオードの構成を示す断面図である。先
ず、図1(a)のダイオードについて説明する。シリコ
ン基板11,絶縁層12及び半導体薄膜層13からなる
SOI基板10の半導体薄膜層13にn型薄膜層(第1
導電型半導体層)13aが形成され、n型薄膜層を挟む
ようにn++型シリコン層(高濃度第1導電型半導体層)
21及びp++型シリコン層(高濃度第2導電型半導体
層)22が形成されている。n型薄膜層13a上に絶縁
膜23を介してポリシリコン膜(電極)24が形成され
ている。
層13aの代わりに、p型薄膜層13bを用いることも
可能である。このダイオードは、n++/n/p++、また
はn++/p/p++の構造から形成されている。従って、
不純物濃度の高いn++型領域21とP++型領域22とが
直接接触することがなく、耐圧の高いダイオードとなっ
ている。
構成を図2に示す。カソードが入力パッド31に接続さ
れたダイオード32のアノードは電源Vssに接続され、
アノードが入力パッド31に接続されたダイオード33
のカソードは電源Vddに接続されている。そして、ポリ
シリコン膜23は、フローティングになっている(図2
(a))、若しくは入力パッドに接続されている(図2
(b))。
入力パッド31に接続すると、ポリシリコン膜23を電
源Vdd,Vss等の固定電源に接続した場合に比べて、絶
縁膜が破壊されにくくなる。従って、ポリシリコン膜2
3は、フローティング、又は入力パッドと同電位にする
ことが好ましい。
面図を用いて説明する。なお、以下の工程断面図では、
入力保護素子のダイオードと内部回路部のMOSトラン
ジスタの製造工程を一緒に示している。
OI基板10の半導体薄膜層13の所定領域を覆うレジ
ストパターンを形成し、レジストパターンをマスクとし
てSOI基板10の半導体薄膜層13にAs,Pまたは
Sbをイオン注入する。同様に、レジストパターンを剥
離した後、半導体薄膜層13の所定領域を覆うレジスト
パターンをマスクとして半導体薄膜層13にB,Ca又
はInをイオン注入する。レジストパターンを剥離した
後、熱拡散を行うことによって、図1(a)に示すよう
に、入力保護回路部と内部回路部の半導体層にそれぞれ
n型薄膜層13a、p型薄膜層13bを形成する。
13bの表面に数10nm程度の膜厚の酸化膜23を形
成する。そして、全面にポリシリコン膜24を堆積した
後、ポリシリコン膜24及び酸化膜23に対しパターニ
ングを行って電極を形成する。
リソグラフィ技術を用いて内部回路部のn型薄膜層13
a、並びに入力保護回路部の所定領域を覆うレジストパ
ターン41を形成し、このレジストパターン41及び電
極24をマスクとしてBF2をイオン注入し、n++型領
域21を形成する。
膜層13b、並びに入力保護回路部の所定領域を覆うレ
ジストパターン42を形成し、レジストパターン42を
マスクとしてAsをイオン注入し、p++型領域22を形
成する。
後、アニールしてn++型領域21及びp++型領域22を
活性化することによって半導体集積回路装置が完成す
る。本実施形態によれば、ゲート電極をマスクとしてn
++型領域及びp++型領域を形成することによって、耐圧
の高いダイオードを形成することができる。
シリコン膜24をマスクとして用いることによって、ポ
リシリコン膜の下層はn型又はp型のままである。従っ
て、不純物濃度の高い領域が直接接することがないダイ
オードが、特別なプロセスを追加せずに製造することが
できる。
回路装置は、第1実施形態と同様に、SOI基板に、C
MOSFETで構成された内部回路部への電源供給ライ
ンに分岐して接続された入力保護回路部が形成されい
る。そして、入力保護回路部を構成するダイオードを図
4を参照して説明する。
力保護回路部のダイオードの概略構成を示す図である。
本実施形態の特徴は、ポリシリコン膜24とシリコン薄
膜層13とが電気的に接続されていることである。
とを電気的に接続するには、例えばポリシリコン膜24
の側壁の一方に、導電性の膜を形成することで実現する
ことができる。
加え、ゲート電極の電位がシリコン薄膜層と同電位に保
たれるため、ゲート絶縁膜の破壊が生じにくい。 [第3実施形態]本実施形態の半導体集積回路装置は、
第1実施形態と同様に、SOI基板に、CMOSFET
で構成された内部回路部への電源供給ラインに分岐して
接続された入力保護回路部が形成されいる。そして、入
力保護回路部を構成するダイオードを図5を参照して説
明する。
導体集積回路装置の構成を示す断面図である。本実施形
態の特徴は、ポリシリコン膜24の側面に側壁絶縁膜2
5が形成され、側壁絶縁膜25の下部の薄膜半導体層1
3に不純物濃度の低いn+ 型拡散層27又はp+ 型拡散
層28が形成されている(以下LDD構造)ことであ
る。
バルク基板に形成されたMOSトランジスタに比べ、不
純物濃度が高い。従って、内部回路部のMOSトランジ
スタと同時に形成されたダイオードの不純物層も高くな
り、耐圧が低くなる。そこで、本実施形態では、LDD
構造をとることにより、第1実施形態のダイオードより
も一層耐圧性が高くなる。
程断面図を参照しながら説明する。先ず、第1実施形態
と同様に、入力保護回路部と内部回路部とにそれぞれn
型薄膜層13a、p型薄膜層13bを形成する。次に、
酸化膜23上にポリシリコン膜24が積層された電極を
形成する(図6(a))。
リソグラフィ技術を用いて内部回路部のn型薄膜層13
a及び入力保護回路部の所定領域を覆うレジストパター
ン43を形成し、このレジストパターン43をマスクと
してBF2 をイオン注入し、n+ 型領域27を形成す
る。
リソグラフィ技術を用いて内部回路部のp型薄膜層13
b、及び入力保護回路部の所定領域を覆うレジストパタ
ーン44を形成し、レジストパターン44をマスクとし
てAsをイオン注入し、p+型領域28を形成する。
法等によりシリコン窒化膜を堆積した後、シリコン窒化
膜をRIE法を用いてエッチングすることによって側壁
絶縁膜25を形成する。
リソグラフィ技術を用いて内部回路部のn型薄膜層13
a、及び入力保護回路部の所定領域の表面にレジストパ
ターン45を形成し、レジストパターン45,ポリシリ
コン膜24及び側壁絶縁膜25をマスクとしてBF2 を
イオン注入し、n++型領域21を形成する。
路部のp型薄膜層13b、及び入力保護回路部の所定領
域の表面にレジストパターン46を形成し、レジストパ
ターン46,ポリシリコン膜24及び側壁絶縁膜25を
マスクとしてAsをイオン注入し、p++型領域22を形
成する。
後、アニールすることによって、n+ 型領域27,p+
型領域28,n++型薄膜層21及びp++型薄膜層22を
活性化させる。
イオードをLDD構造とすることにより、第1及び第2
実施形態の入力保護回路部に比べ、耐圧が高くなる。 [第4実施形態]本実施形態の半導体集積回路装置は、
第1実施形態と同様に、SOI基板に、CMOSFET
で構成された内部回路部への電源供給ラインに分岐して
接続された入力保護回路部が形成されいる。そして、入
力保護回路部を構成するダイオードを図8を参照して説
明する。
導体集積回路装置の入力保護回路部のダイオードの構成
を示す断面図である。本実施形態の特徴は、ポリシリコ
ン膜の両側に側壁絶縁膜25が形成され、側壁絶縁膜の
下方はn型薄膜層13aであり、n++型領域21及びp
++型領域22が、ポリシリコン膜24及び側壁絶縁膜2
5を挟むように形成されていることである。
法を図9,10の工程断面図を参照して説明する。先
ず、第1実施形態と同様に、n型薄膜層13a、p型薄
膜層13bを形成する。次に、n型薄膜層13a及びp
型薄膜層13bの表面に酸化膜23上にポリシリコン膜
24が積層された電極を形成する(図9(a))。
リソグラフィ技術を用いて内部回路部のn型薄膜層13
a及び入力保護回路部を覆うレジストパターン47を形
成し、このレジストパターン47をマスクとしてBF2
をイオン注入し、内部回路部のp型薄膜層13bの表面
にn+ 型領域27を形成する。
リソグラフィ技術を用いて内部回路部のp型薄膜層13
b、及び入力保護回路部の全面を覆うレジストパターン
48を形成し、レジストパターン48をマスクとしてA
sをイオン注入し、内部回路部のn型薄膜層13aの表
面にp+ 型領域28を形成する。
D法等によりシリコン窒化膜を堆積した後、シリコン窒
化膜をRIE法を用いてエッチングすることによって側
壁絶縁膜25を形成する。
トリソグラフィ技術を用いて内部回路部のn型薄膜層1
3a及び入力保護回路部の所定領域を覆うレジストパタ
ーン49を形成し、レジストをマスクとしてAsをイオ
ン注入し、n++型領域21を形成する。
回路部のp型薄膜層13b及び入力保護回路部の所定領
域を覆うレジストパターン50を形成し、レジストパタ
ーン50をマスクとしてBF2 をイオン注入し、p++型
領域22を形成する。
後、アニールすることによって、n+ 型領域27,p+
型領域28,n++型領域21及びp++型領域22を活性
化させる。
性の領域が接する領域であるので、図11に示すよう
に、ポリシリコン膜24の片側、すなわちn型薄膜層1
3aと導電性の異なる側のみ側壁絶縁膜25を形成して
も良い。
回路装置は、SOI基板に、LDD構造で構成されたト
ランジスタを有する内部回路部への電源供給ラインに入
力保護回路部が接続されている。そして、内部回路部を
構成するダイオードを図12を参照して説明する。
半導体集積回路装置の入力保護素子用のトランジスタの
構成を示す断面図である。このトランジスタの特徴は、
オフセット構造をとっていることである。
とソース、又はゲートとドレインとの距離が離れている
ため、SOI構造で問題となるゲートとドレインとの
間、又はゲートとソースとの間の耐圧を高くすることが
でき、入力パッドに高電圧が与えられても破壊されにく
い。
図13(a)に示すように、pチャネルトランジスタ3
6のゲート電極及びソース・ドレインの一方が電源Vss
に接続され、他方が入力パッドに接続されている。ま
た、nチャネルトランジスタ37のゲート電極及びソー
ス・ドレインの一方が電源Vddに接続され、他方が入力
パッド31に接続されている。また、入力パッドは、保
護抵抗34を介して内部回路部35に接続されている。
電極を入力パッド31に接続しても良い。この半導体集
積回路装置の製造方法を図14の工程断面図を参照して
説明する。
10の薄膜層にn型薄膜層13aとp型薄膜層13bと
を形成する。次に、n型薄膜層13a及びp型薄膜層1
3bの表面に酸化膜23上にリシリコン膜24が積層さ
れた電極を形成する。次に、内部回路部にn+ 型領域2
7及びp+ 型領域28を形成する。そして、電極の側壁
に側壁絶縁膜25を形成する(図12a)。
トリソグラフィ技術を用いて、内部回路部及び周辺回路
部のn型薄膜層13aを覆うレジストパターン51を形
成し、レジストパターン51,ポリシリコン膜24及び
側壁絶縁膜25をマスクとしてBF2 をイオン注入し、
n++型領域21を形成する。
ストパターン51を剥離した後、内部回路部及び周辺回
路部のp型薄膜層13bを覆うレジストパターン52を
形成し、レジストパターン52をマスクとしてAsをイ
オン注入し、p++型領域22を形成する。
後、アニールすることによって、n+ 型領域27,p+
型領域28,n++型領域21及びp++型領域22を活性
化させる。
ランジスタをオフセット構造とすることによって、SO
I基板にの特別な加工を行うことなく、耐圧を向上させ
ることができる。
ジスタで構成されているので、特別なプロセスを追加せ
ずに製造することができる。なお、本発明は、上記実施
形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で、種々変形して実施することが可能である。
力保護回路部の素子は、内部回路部のCMOSトランジ
スタ、又はLDD構造のトランジスタの製造と同時に製
造され、内部回路部内のダイオード、又はトランジスタ
が耐圧性の高い構造となっているので、工程数を増加さ
せることなく耐圧性の向上が図られ、信頼性の高い半導
体集積回路装置を提供することができる。
力保護回路部のダイオードの構成を示す断面図。
成を示す回路図。
程を示す工程断面図。
保護回路部のダイオードの概略構成を示す図。
力保護回路部のダイオードの構成を示す断面図。
程を示す工程断面図。
程を示す工程断面図。
力保護回路部のダイオードの構成を示す断面図。
程を示す工程断面図。
工程を示す工程断面図。
入力保護回路部のダイオードの構成を示す断面図。
入力保護回路部のトランジスタの構成を示す断面図。
構成を示す回路図。
工程を示す工程断面図
Claims (3)
- 【請求項1】SOI基板に、内部回路部への電源供給ラ
インに分岐して接続された入力保護回路部が形成された
半導体集積回路装置であって、 前記内部回路部にはCMOSFETが形成され、 前記入力保護回路部にはダイオードが形成され、 前記ダイオードは、前記SOI基板の半導体層に形成さ
れた第1導電型半導体層と、前記SOI基板の半導体層
に該第1導電型半導体層を挟むよう形成された高濃度第
1導電型半導体層及び高濃度第2導電型半導体層とを含
んで構成され、 前記第1導電型半導体層上には絶縁膜を介して電極が形
成され、前記電極は入力パッドに接続されていることを
特徴とする半導体集積回路装置。 - 【請求項2】SOI基板に、内部回路部への電源供給ラ
インに分岐して接続された入力保護回路部が形成された
半導体集積回路装置であって、 前記内部回路部に形成されたMOSトランジスタはLD
D構造であり、前記入力保護回路部はオフセット構造のpMOSトラン
ジスタ及びnMOSトランジスタを具備し、 前記pMOSトランジスタのソース及びドレインの一方
が第1の電源Vddに接続され、前記pMOSトランジス
タのゲート電極並びにソース及びドレインの他方が入力
パッドに接続され、 前記nMOSトランジスタのゲート電極及びソース及び
ドレインの一方が第1の電源Vddと異なる第2の電源V
ssに接続され、前記nMOSトランジスタのゲート電極
並びにソース及びドレインの他方が前記入力パッドに接
続されている ことを特徴とする半導体集積回路装置。 - 【請求項3】SOI基板に、内部回路部への電源供給ラ
インに分岐して接続された入力保護回路部が形成された
半導体集積回路装置の製造方法であって、 前記内部回路部領域及び入力保護回路部領域のSOI基
板の半導体層上に、絶縁膜を介してMOSトランジスタ
のゲート電極を形成する工程と、 前記内部回路部領域の前記SOI基板の半導体層に対し
て、前記電極をマスクとして選択的に不純物層を形成
し、MOSトランジスタの低濃度ドレインを形成する工
程と、 前記内部回路部領域及び入力保護回路部領域に、MOS
トランジスタの側壁絶縁膜を形成する工程と、 前記SOI基板の半導体層に対して、前記電極及び側壁
絶縁膜をマスクとして選択的に前記低濃度ドレインより
不純物濃度が高い不純物層を形成し、前記内部回路部領
域及び入力保護回路部領域にMOSトランジスタのソー
ス・ドレインを形成する工程とを含むことを特徴とする
半導体集積回路装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23240697A JP3415401B2 (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23240697A JP3415401B2 (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1174530A JPH1174530A (ja) | 1999-03-16 |
JP3415401B2 true JP3415401B2 (ja) | 2003-06-09 |
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ID=16938753
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23240697A Expired - Fee Related JP3415401B2 (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
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---|---|
JP (1) | JP3415401B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7361534B2 (en) * | 2005-05-11 | 2008-04-22 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for fabricating SOI device |
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JP4784291B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2011-10-05 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置および電気光学装置 |
JP5137453B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2013-02-06 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
US7791102B2 (en) * | 2006-10-16 | 2010-09-07 | Advanced Micro Devices, Inc. | Electrostatic discharge protection devices and methods for protecting semiconductor devices against electrostatic discharge events |
JP5176444B2 (ja) * | 2007-09-07 | 2013-04-03 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
JP5279290B2 (ja) * | 2008-02-19 | 2013-09-04 | セイコーインスツル株式会社 | 半導体装置 |
JP5471427B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2014-04-16 | 富士通株式会社 | 単相差動変換回路 |
-
1997
- 1997-08-28 JP JP23240697A patent/JP3415401B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1174530A (ja) | 1999-03-16 |
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