JP3413394B2 - 光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法及び光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理方法 - Google Patents
光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法及び光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理方法Info
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- JP3413394B2 JP3413394B2 JP2000217057A JP2000217057A JP3413394B2 JP 3413394 B2 JP3413394 B2 JP 3413394B2 JP 2000217057 A JP2000217057 A JP 2000217057A JP 2000217057 A JP2000217057 A JP 2000217057A JP 3413394 B2 JP3413394 B2 JP 3413394B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学研磨用酸化セ
リウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法及び光学
研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理方法に関
する。
リウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法及び光学
研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】酸化セリウムは、日本国内では産出しな
い鉱物から得られるため、輸入に頼っている資源であ
る。この酸化セリウムは硬度が高い微粒子であるため、
光学レンズや半導体シリコン基板及び液晶画面のガラス
板など、電子部品関係の光学研磨剤として大量に使用さ
れている重要な資源であり、その再利用を強く望まれて
いる資源である。また、光学研磨用の研磨剤としては、
上述の酸化セリウムを主成分としてナトリウム塩やクロ
ム塩などの遷移金属元素、そのイットリウムやデシプロ
シウムなど希土類元素の微粒子を含んでいるため、単純
な廃棄は環境上強く禁止されている。そのため、研磨に
使用した後の廃液の無公害化処理が強く望まれている。
このように酸化セリウムを含有する光学研磨剤廃液につ
いては、資源の再利用化の目的においても無公害化の目
的においても重要である。
い鉱物から得られるため、輸入に頼っている資源であ
る。この酸化セリウムは硬度が高い微粒子であるため、
光学レンズや半導体シリコン基板及び液晶画面のガラス
板など、電子部品関係の光学研磨剤として大量に使用さ
れている重要な資源であり、その再利用を強く望まれて
いる資源である。また、光学研磨用の研磨剤としては、
上述の酸化セリウムを主成分としてナトリウム塩やクロ
ム塩などの遷移金属元素、そのイットリウムやデシプロ
シウムなど希土類元素の微粒子を含んでいるため、単純
な廃棄は環境上強く禁止されている。そのため、研磨に
使用した後の廃液の無公害化処理が強く望まれている。
このように酸化セリウムを含有する光学研磨剤廃液につ
いては、資源の再利用化の目的においても無公害化の目
的においても重要である。
【０００３】一般的に各種の工業において発生する懸濁
粒子を含む廃水の処理としては、中和剤や無機凝集剤、
高分子凝集剤等を用いて懸濁粒子を凝集分離し、処理水
は放流し、凝集分離した汚泥は廃棄処理されている。
粒子を含む廃水の処理としては、中和剤や無機凝集剤、
高分子凝集剤等を用いて懸濁粒子を凝集分離し、処理水
は放流し、凝集分離した汚泥は廃棄処理されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般的
に研磨剤は、無機微粒子を表面活性剤を用いて沈降防止
を図った安定なスラリーであり、使用後の研磨屑を含む
廃液は沈殿槽に２乃至３週間放置してある程度の沈殿物
（ケーキ）として産業廃棄物処理を行い、残った大量の
廃液は化学処理を行って廃棄しているのが現状である
が、沈殿物ケーキの処理費用は極めてコストがかかり、
大量の廃液は廃棄処理の能力以上にストックされ、困っ
た状態になっていた。また、研磨剤廃液から酸化セリウ
ムを回収する方法としては、沈殿物の化学精製処理法が
知られているが、研磨剤の性質上、沈殿させるために長
時間を必要とすること、並びに規模の大きい沈殿槽の設
備投資の困難さから実用化に至っていなかった。
に研磨剤は、無機微粒子を表面活性剤を用いて沈降防止
を図った安定なスラリーであり、使用後の研磨屑を含む
廃液は沈殿槽に２乃至３週間放置してある程度の沈殿物
（ケーキ）として産業廃棄物処理を行い、残った大量の
廃液は化学処理を行って廃棄しているのが現状である
が、沈殿物ケーキの処理費用は極めてコストがかかり、
大量の廃液は廃棄処理の能力以上にストックされ、困っ
た状態になっていた。また、研磨剤廃液から酸化セリウ
ムを回収する方法としては、沈殿物の化学精製処理法が
知られているが、研磨剤の性質上、沈殿させるために長
時間を必要とすること、並びに規模の大きい沈殿槽の設
備投資の困難さから実用化に至っていなかった。
【０００５】さらに、例えば特開平９−３２７６０３号
公報には、凝集が困難視されていた酸化セリウム含有研
磨剤廃液に対して、水中に懸濁する微粒子を捕集してフ
ロックを形成させる凝集剤として、アルミナ、カルシ
ア、シリカ、及び酸化ナトリウムからなる凝集剤が提案
され、特開平１１−９０８２５号公報には、水酸化ナト
リウム又は水酸化カリウムの水溶液に、酸化セリウム含
有研磨廃棄物を混合して固液分離し、固形物を篩分けし
て微細な研磨剤を回収する方法などが提案されている。
しかし、前者の凝集剤を用いる方法では、凝集効果は考
えられるが、回収すべき酸化セリウムもその他の成分と
共に凝集させてしまうものであるため、回収方法として
は有効ではなかった。また、後者の方法は、極めて多量
のアルカリを使用する（２〜６ＮのＮａＯＨａｑ又はＫ
ＯＨａｑを乾物ベースの研磨廃棄物に対して５〜７倍以
上添加する）上、酸化セリウム含有廃液を凝縮して固形
化する必要があった。したがって、酸化セリウム含有研
磨剤廃液から酸化セリウムを回収したり、或いは無公害
化するに当たり、効率良く、処理コストが低廉で、手間
もかからない方法が希求されていた。
公報には、凝集が困難視されていた酸化セリウム含有研
磨剤廃液に対して、水中に懸濁する微粒子を捕集してフ
ロックを形成させる凝集剤として、アルミナ、カルシ
ア、シリカ、及び酸化ナトリウムからなる凝集剤が提案
され、特開平１１−９０８２５号公報には、水酸化ナト
リウム又は水酸化カリウムの水溶液に、酸化セリウム含
有研磨廃棄物を混合して固液分離し、固形物を篩分けし
て微細な研磨剤を回収する方法などが提案されている。
しかし、前者の凝集剤を用いる方法では、凝集効果は考
えられるが、回収すべき酸化セリウムもその他の成分と
共に凝集させてしまうものであるため、回収方法として
は有効ではなかった。また、後者の方法は、極めて多量
のアルカリを使用する（２〜６ＮのＮａＯＨａｑ又はＫ
ＯＨａｑを乾物ベースの研磨廃棄物に対して５〜７倍以
上添加する）上、酸化セリウム含有廃液を凝縮して固形
化する必要があった。したがって、酸化セリウム含有研
磨剤廃液から酸化セリウムを回収したり、或いは無公害
化するに当たり、効率良く、処理コストが低廉で、手間
もかからない方法が希求されていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記に鑑み提
案されたもので、酸化セリウム研磨剤廃液中に水酸化ナ
トリウム等のアルカリ成分を添加してｐＨ７〜１１のア
ルカリ溶液に調整して研磨剤廃液のゼータ電位を負の２
５ｍＶ（−２５ｍＶ）から負の７０ｍＶ（−７０ｍＶ）
に変化させた後、酸化セリウム成分を分離処理すること
を特徴とする光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液からの
酸化セリウム回収方法に関するものである。また、本発
明は、酸化セリウム研磨剤廃液中にアルカリ成分を添加
してｐＨ７〜１１のアルカリ溶液に調整して廃液のゼー
タ電位を−２５〜−７０ｍＶに変化させた後、酸化セリ
ウム成分及びその他の固形分を分離処理することを特徴
とする光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処
理方法をも提案するものである。
案されたもので、酸化セリウム研磨剤廃液中に水酸化ナ
トリウム等のアルカリ成分を添加してｐＨ７〜１１のア
ルカリ溶液に調整して研磨剤廃液のゼータ電位を負の２
５ｍＶ（−２５ｍＶ）から負の７０ｍＶ（−７０ｍＶ）
に変化させた後、酸化セリウム成分を分離処理すること
を特徴とする光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液からの
酸化セリウム回収方法に関するものである。また、本発
明は、酸化セリウム研磨剤廃液中にアルカリ成分を添加
してｐＨ７〜１１のアルカリ溶液に調整して廃液のゼー
タ電位を−２５〜−７０ｍＶに変化させた後、酸化セリ
ウム成分及びその他の固形分を分離処理することを特徴
とする光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処
理方法をも提案するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】酸化セリウム研磨剤廃液のｐＨ値
は７より小さい値である。図１は研磨剤廃液のｐＨ値と
ゼータ電位との関係を示すものであり、縦軸は負のゼー
タ電位ｍＶ、横軸はｐＨ値を示している。ゼータ電位の
測定は顕微鏡電気泳動装置による測定値である。尚、図
中には研磨剤廃液中に存在する固形分として、研磨剤の
主成分である酸化セリウム（ＣｅＯ2）、研磨屑である
光学レンズの主成分であるシリカ（ＳｉＯ2)、凝集剤で
ある水酸化アルミニウムＡｌ(ＯＨ) 3について示した。
この図１より明らかなように酸化セリウム研磨剤廃液中
にアルカリ成分を微量添加してｐＨ７〜１１までの範囲
のアルカリ溶液に調整すると、研磨剤廃液のゼータ電位
が−２５〜−７０ｍＶになる。ｐＨ値を４から１１に上
昇させると、ゼータ電位は−１７ｍＶから−６０ｍＶに
変化する。尚、ゼータ電位は、通常、同符号で２０ｍＶ
以上の場合、粒子間のポテンシャルが１５ｋＴ（ｋ：ボ
ルツマン定数、Ｔ：絶対温度）以上となり、粒子は相互
に分散することができる。しかし、絶対値が２０ｍＶ以
下では相互に凝集し、分散しにくくなる。過剰にアルカ
リ成分を添加してｐＨ１２より大きなアルカリ溶液にし
た場合には、電位が極めて低下し、負の同符号で２０ｍ
Ｖ以下となり、相互に凝集してしまい、研磨屑（研削ガ
ラス屑）と酸化セリウムの分離ができなくなる。
は７より小さい値である。図１は研磨剤廃液のｐＨ値と
ゼータ電位との関係を示すものであり、縦軸は負のゼー
タ電位ｍＶ、横軸はｐＨ値を示している。ゼータ電位の
測定は顕微鏡電気泳動装置による測定値である。尚、図
中には研磨剤廃液中に存在する固形分として、研磨剤の
主成分である酸化セリウム（ＣｅＯ2）、研磨屑である
光学レンズの主成分であるシリカ（ＳｉＯ2)、凝集剤で
ある水酸化アルミニウムＡｌ(ＯＨ) 3について示した。
この図１より明らかなように酸化セリウム研磨剤廃液中
にアルカリ成分を微量添加してｐＨ７〜１１までの範囲
のアルカリ溶液に調整すると、研磨剤廃液のゼータ電位
が−２５〜−７０ｍＶになる。ｐＨ値を４から１１に上
昇させると、ゼータ電位は−１７ｍＶから−６０ｍＶに
変化する。尚、ゼータ電位は、通常、同符号で２０ｍＶ
以上の場合、粒子間のポテンシャルが１５ｋＴ（ｋ：ボ
ルツマン定数、Ｔ：絶対温度）以上となり、粒子は相互
に分散することができる。しかし、絶対値が２０ｍＶ以
下では相互に凝集し、分散しにくくなる。過剰にアルカ
リ成分を添加してｐＨ１２より大きなアルカリ溶液にし
た場合には、電位が極めて低下し、負の同符号で２０ｍ
Ｖ以下となり、相互に凝集してしまい、研磨屑（研削ガ
ラス屑）と酸化セリウムの分離ができなくなる。
【０００８】例えばｐＨ１０のアルカリ廃液の状態で
は、ゼータ電位が−５０ｍＶの領域に達し、研磨剤廃液
中の酸化セリウムや研磨時に生じた研磨屑などの分散状
態は極めて良好になることが見出された。即ち、研磨剤
廃液のゼータ電位を高めることによって研磨剤廃液中に
酸化セリウム成分の分散状態の良い状態を作ることがで
きる。分散状態が良い状態に達すると酸化セリウムは長
い時間をかけても沈降せずに研磨剤廃液中に浮遊して沈
殿物として堆積することはない。
は、ゼータ電位が−５０ｍＶの領域に達し、研磨剤廃液
中の酸化セリウムや研磨時に生じた研磨屑などの分散状
態は極めて良好になることが見出された。即ち、研磨剤
廃液のゼータ電位を高めることによって研磨剤廃液中に
酸化セリウム成分の分散状態の良い状態を作ることがで
きる。分散状態が良い状態に達すると酸化セリウムは長
い時間をかけても沈降せずに研磨剤廃液中に浮遊して沈
殿物として堆積することはない。
【０００９】しかし、思考を変えて考えると、このよう
に分散状態が良い状況下では原子番号の大きい酸化セリ
ウムは遠心分離させる好条件を与えることになる。即ち
この状況下の研磨剤廃液中の酸化セリウム（ＣｅＯ2)
と、研磨屑である光学レンズの主成分であるシリカ（Ｓ
ｉＯ2)とを例にとると、酸化セリウムの比重は７．２２
と重く、粒子径も数μｍ程度であるのに対し、シリカの
比重は２．７と軽く、粒子径もその十分の一程度であ
る。そのため、この研磨剤廃液を遠心分離機を用いて分
離処理すると、遠心分離機の底に酸化セリウム成分のみ
が選択的に分離されて堆積する。尚、分離処理は、上述
の遠心分離に限定するものではなく、例えばシックナー
装置（濃縮機）による自然沈降を利用した方法により、
酸化セリウムを回収してもよい。
に分散状態が良い状況下では原子番号の大きい酸化セリ
ウムは遠心分離させる好条件を与えることになる。即ち
この状況下の研磨剤廃液中の酸化セリウム（ＣｅＯ2)
と、研磨屑である光学レンズの主成分であるシリカ（Ｓ
ｉＯ2)とを例にとると、酸化セリウムの比重は７．２２
と重く、粒子径も数μｍ程度であるのに対し、シリカの
比重は２．７と軽く、粒子径もその十分の一程度であ
る。そのため、この研磨剤廃液を遠心分離機を用いて分
離処理すると、遠心分離機の底に酸化セリウム成分のみ
が選択的に分離されて堆積する。尚、分離処理は、上述
の遠心分離に限定するものではなく、例えばシックナー
装置（濃縮機）による自然沈降を利用した方法により、
酸化セリウムを回収してもよい。
【００１０】このように研磨剤廃液にアルカリ成分を微
量添加することにより、−２５〜−７０ｍＶの範囲に高
ゼータ電位を持つ研磨剤廃液の状態を作ることができ、
この状態で安定な浮遊状態を維持する酸化セリウム成分
を、遠心分離機やシックナー装置により容易に分離、回
収することができる。
量添加することにより、−２５〜−７０ｍＶの範囲に高
ゼータ電位を持つ研磨剤廃液の状態を作ることができ、
この状態で安定な浮遊状態を維持する酸化セリウム成分
を、遠心分離機やシックナー装置により容易に分離、回
収することができる。
【００１１】研磨剤廃液の高ゼータ電位液から酸化セリ
ウムを回収した後の研磨剤廃液には、酸化セリウムより
も軽い固形分である鉛成分など第３の元素成分の微細粒
子や研磨屑などが分離されずに含まれており、これらは
依然として研磨剤廃液中に安定に浮遊し、それらの物質
の自然沈降には長時間を必要とする。そのため、そのま
ま放流することができないし、より短時間に処理するた
めには、以下に示す方法を行うことが望ましい。
ウムを回収した後の研磨剤廃液には、酸化セリウムより
も軽い固形分である鉛成分など第３の元素成分の微細粒
子や研磨屑などが分離されずに含まれており、これらは
依然として研磨剤廃液中に安定に浮遊し、それらの物質
の自然沈降には長時間を必要とする。そのため、そのま
ま放流することができないし、より短時間に処理するた
めには、以下に示す方法を行うことが望ましい。
【００１２】第１段階として、研磨剤廃液に、ベントナ
イト或いはモンゴリオナイトなどを主成分とする粘土鉱
物微粒子及びゼオライトを懸濁させた溶液を撹拌添加す
る。第２段階として、研磨剤廃液に、硫酸バンド溶液を
撹拌添加する。第３段階として、高分子凝集剤溶液を撹
拌添加する。第１、第２そして第３段階の撹拌添加を行
うことによって、廃液中に浮遊している微粒子の物質は
急速に凝集沈降し、沈殿物として堆積させることが可能
である。
イト或いはモンゴリオナイトなどを主成分とする粘土鉱
物微粒子及びゼオライトを懸濁させた溶液を撹拌添加す
る。第２段階として、研磨剤廃液に、硫酸バンド溶液を
撹拌添加する。第３段階として、高分子凝集剤溶液を撹
拌添加する。第１、第２そして第３段階の撹拌添加を行
うことによって、廃液中に浮遊している微粒子の物質は
急速に凝集沈降し、沈殿物として堆積させることが可能
である。
【００１３】尚、シックナー装置（濃縮機）による自然
沈降を利用した酸化セリウムの回収並びに研磨剤廃液の
無公害化について説明すると、この場合、廃液を例えば
ｐＨ１０の高ゼータ電位状態にした後、シックナー装置
にて重い酸化セリウムなどを沈降回収させた後、濁った
上澄み液を別のシックナー装置に移し、硫酸アルミニウ
ム及びベントナイトなどの粘土鉱物の上澄みを添加し、
緩く撹拌することで、濁った上澄み中のシリカや水酸化
物を自然沈降させ、清澄水を放流することができる。或
いは始めからシックナー装置に硫酸アルミニウム及びベ
ントナイトを入れ、水酸化物、シリカ及び酸化セリウム
を全て沈殿させた後、沈殿物にＳＤＳ（ドデシルスルホ
ン酸ナトリウム）等の表面活性剤などを添加し浮選にて
酸化セリウムを回収することもできる。
沈降を利用した酸化セリウムの回収並びに研磨剤廃液の
無公害化について説明すると、この場合、廃液を例えば
ｐＨ１０の高ゼータ電位状態にした後、シックナー装置
にて重い酸化セリウムなどを沈降回収させた後、濁った
上澄み液を別のシックナー装置に移し、硫酸アルミニウ
ム及びベントナイトなどの粘土鉱物の上澄みを添加し、
緩く撹拌することで、濁った上澄み中のシリカや水酸化
物を自然沈降させ、清澄水を放流することができる。或
いは始めからシックナー装置に硫酸アルミニウム及びベ
ントナイトを入れ、水酸化物、シリカ及び酸化セリウム
を全て沈殿させた後、沈殿物にＳＤＳ（ドデシルスルホ
ン酸ナトリウム）等の表面活性剤などを添加し浮選にて
酸化セリウムを回収することもできる。
【００１４】
【実施例】〔研磨剤廃液からの酸化セリウムの回収〕光
学レンズの研磨剤廃液に１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液
を微量添加してｐＨ１０に調整し、−５０ｍＶの高ゼー
タ電位状態になったことを確認した後、遠心分離機を用
いて１０００r.p.m.の回転を１０分間程度行ったとこ
ろ、遠心分離機の底に酸化セリウム成分が堆積すること
が確認された。その後、上澄み液を流し出した遠心分離
機にｐＨ１０の蒸留水を入れて、さらに数回の繰り返し
遠心分離を行い、堆積した酸化セリウムに付着した研磨
剤廃液を洗浄することができた。尚、上述の研磨剤廃液
は、光学レンズの研磨屑であるシリカ（ＳｉＯ2）、並
びに研磨剤の主成分として酸化セリウムを含んでいる
が、研磨するガラスレンズによっては鉛イオン、リチウ
ムイオン、レアメタルイオンなどが含まれるものもあっ
たが、同様に酸化セリウムを選択的に回収することがで
きた。
学レンズの研磨剤廃液に１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液
を微量添加してｐＨ１０に調整し、−５０ｍＶの高ゼー
タ電位状態になったことを確認した後、遠心分離機を用
いて１０００r.p.m.の回転を１０分間程度行ったとこ
ろ、遠心分離機の底に酸化セリウム成分が堆積すること
が確認された。その後、上澄み液を流し出した遠心分離
機にｐＨ１０の蒸留水を入れて、さらに数回の繰り返し
遠心分離を行い、堆積した酸化セリウムに付着した研磨
剤廃液を洗浄することができた。尚、上述の研磨剤廃液
は、光学レンズの研磨屑であるシリカ（ＳｉＯ2）、並
びに研磨剤の主成分として酸化セリウムを含んでいる
が、研磨するガラスレンズによっては鉛イオン、リチウ
ムイオン、レアメタルイオンなどが含まれるものもあっ
たが、同様に酸化セリウムを選択的に回収することがで
きた。
【００１５】〔研磨剤廃液の無公害化処理〕廃液中に酸
を点滴してｐＨ７の廃液とした。第１段階として、ベン
トナイト或いはモンゴリオナイトなどを主成分とする粘
土鉱物微粒子及びゼオライトを０．１％／４０ｍｌの濃
度に懸濁させた溶液を撹拌添加した。第２段階として、
硫酸バンドの１００ｐｐｍ／ｌ濃度溶液を撹拌添加し
た。第３段階として、アコフロックＡ９５など高分子凝
集剤溶液２ｐｐｍ／ｌから４ｐｐｍ／ｌを点滴しながら
撹拌添加した。第１、第２そして第３段階の撹拌添加を
行うことによって、廃液中に浮遊している微粒子の物質
は急速に凝集沈降し、沈殿物として堆積させることが可
能であった。第３の段階の高分子凝集剤溶液を投入する
と同時に浮遊物が沈殿し、上澄み液は瞬間的に透明な液
に変わった。即ち、残債の微粒子及び第１、第２段階で
投入した添加物質は、凝集剤によって１００％凝固して
沈殿した。
を点滴してｐＨ７の廃液とした。第１段階として、ベン
トナイト或いはモンゴリオナイトなどを主成分とする粘
土鉱物微粒子及びゼオライトを０．１％／４０ｍｌの濃
度に懸濁させた溶液を撹拌添加した。第２段階として、
硫酸バンドの１００ｐｐｍ／ｌ濃度溶液を撹拌添加し
た。第３段階として、アコフロックＡ９５など高分子凝
集剤溶液２ｐｐｍ／ｌから４ｐｐｍ／ｌを点滴しながら
撹拌添加した。第１、第２そして第３段階の撹拌添加を
行うことによって、廃液中に浮遊している微粒子の物質
は急速に凝集沈降し、沈殿物として堆積させることが可
能であった。第３の段階の高分子凝集剤溶液を投入する
と同時に浮遊物が沈殿し、上澄み液は瞬間的に透明な液
に変わった。即ち、残債の微粒子及び第１、第２段階で
投入した添加物質は、凝集剤によって１００％凝固して
沈殿した。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学研磨
用酸化セリウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法
及び光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理
方法は、使用するアルカリ成分も微量であり、その後の
分離処理も遠心分離やシックナー装置による自然沈降を
利用して容易に且つ短時間に実施できるので、効率良
く、処理コストが低廉で、手間もかからない方法であっ
て、極めて実用的価値が高いものである。
用酸化セリウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法
及び光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理
方法は、使用するアルカリ成分も微量であり、その後の
分離処理も遠心分離やシックナー装置による自然沈降を
利用して容易に且つ短時間に実施できるので、効率良
く、処理コストが低廉で、手間もかからない方法であっ
て、極めて実用的価値が高いものである。
【図１】酸化セリウム含有研磨剤廃液のｐＨ値とゼータ
電位との関係を示すグラフである。
電位との関係を示すグラフである。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｃ０９Ｋ 3/14 ５５０ Ｃ０９Ｋ 3/14 ５５０Ｄ
(56)参考文献 特開2001−34107（ＪＰ，Ａ)
特開2001−329250（ＪＰ，Ａ)
特開2001−121144（ＪＰ，Ａ)
特開2000−263441（ＪＰ，Ａ)
特開2000−254659（ＪＰ，Ａ)
特開2000−126768（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−138162（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−121408（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−28338（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−118899（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−115892（ＪＰ，Ａ)
実用新案登録3072151（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C02F 1/52
B01D 21/01
B03B 5/28
B24B 37/00
B24B 57/02
C09K 3/14
Claims (2)
- 【請求項１】 酸化セリウム研磨剤廃液中にアルカリ成
分を添加してｐＨ７〜１１のアルカリ溶液に調整して研
磨剤廃液のゼータ電位を−２５〜−７０ｍＶに変化させ
た後、酸化セリウム成分を分離処理することを特徴とす
る光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液からの酸化セリウ
ム回収方法。 - 【請求項２】 酸化セリウム研磨剤廃液中にアルカリ成
分を添加してｐＨ７〜１１のアルカリ溶液に調整して研
磨剤廃液のゼータ電位を−２５〜−７０ｍＶに変化させ
た後、酸化セリウム成分及びその他の固形分を分離処理
することを特徴とする光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃
液の無公害化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000217057A JP3413394B2 (ja) | 2000-07-18 | 2000-07-18 | 光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法及び光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000217057A JP3413394B2 (ja) | 2000-07-18 | 2000-07-18 | 光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液からの酸化セリウム回収方法及び光学研磨用酸化セリウム研磨剤廃液の無公害化処理方法 |
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