JP3409408B2 - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
- Publication number
- JP3409408B2 JP3409408B2 JP35082993A JP35082993A JP3409408B2 JP 3409408 B2 JP3409408 B2 JP 3409408B2 JP 35082993 A JP35082993 A JP 35082993A JP 35082993 A JP35082993 A JP 35082993A JP 3409408 B2 JP3409408 B2 JP 3409408B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- container
- powder container
- horizontal direction
- wall surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、真空中で粉体にイオ
ン注入を行うイオン注入装置に関し、より具体的には、
その粉体容器内の粉体に均一性良くイオン注入を行う手
段に関する。
ン注入を行うイオン注入装置に関し、より具体的には、
その粉体容器内の粉体に均一性良くイオン注入を行う手
段に関する。
【０００２】
【従来の技術】粉体にイオン注入を行う従来のイオン注
入装置は、例えば実開平４−１０２１５５号公報に開示
されているように、粉体容器内に攪拌用の羽根を設け、
この羽根によって粉体を攪拌しながらイオン注入を行う
という構成であった。
入装置は、例えば実開平４−１０２１５５号公報に開示
されているように、粉体容器内に攪拌用の羽根を設け、
この羽根によって粉体を攪拌しながらイオン注入を行う
という構成であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、そのような
従来のイオン注入装置では、攪拌用の羽根が回転して
も、粉体の上下は入れ替わらず、一番上層部の粉体だけ
にしかイオン注入されないという問題があった。
従来のイオン注入装置では、攪拌用の羽根が回転して
も、粉体の上下は入れ替わらず、一番上層部の粉体だけ
にしかイオン注入されないという問題があった。
【０００４】また、羽根が回転しても、粉体は羽根に単
に押されて攪拌されないままの状態で全体がそのまま回
転するので、均一に攪拌することができず、従ってこの
ような理由からも粉体に均一性良くイオン注入を行うこ
とができないという問題があった。
に押されて攪拌されないままの状態で全体がそのまま回
転するので、均一に攪拌することができず、従ってこの
ような理由からも粉体に均一性良くイオン注入を行うこ
とができないという問題があった。
【０００５】そこでこの発明は、粉体容器内の粉体を上
下および水平方向に均一性良く攪拌して、当該粉体に均
一性良くイオン注入を行うことができるようにしたイオ
ン注入装置を提供することを主たる目的とする。
下および水平方向に均一性良く攪拌して、当該粉体に均
一性良くイオン注入を行うことができるようにしたイオ
ン注入装置を提供することを主たる目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係るイオン注入装置の一つは、前記粉体
容器を水平に対して斜め上下方向に振動可能に支持し、
同粉体容器に前記斜め上下方向の振動を与えて内部の粉
体を水平方向の一方向に移動させる加振装置を設け、か
つ同粉体容器の前記水平方向の一方向側の内壁に、上部
の方が下部よりも急勾配になっている傾斜壁面を設け、
前記イオンビームをこの傾斜壁面付近に向けて照射する
ようにしたことを特徴とする。
め、この発明に係るイオン注入装置の一つは、前記粉体
容器を水平に対して斜め上下方向に振動可能に支持し、
同粉体容器に前記斜め上下方向の振動を与えて内部の粉
体を水平方向の一方向に移動させる加振装置を設け、か
つ同粉体容器の前記水平方向の一方向側の内壁に、上部
の方が下部よりも急勾配になっている傾斜壁面を設け、
前記イオンビームをこの傾斜壁面付近に向けて照射する
ようにしたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】上記構成によれば、加振装置を動作させると、
粉体容器は、斜め上下方向の振動が与えられて振動し、
それによって内部の粉体が水平方向の一方向に移動す
る。粉体容器の当該一方向側の内壁には、上記のような
傾斜壁面が設けられており、そこで粉体は当該傾斜壁面
に沿って上方に押し上がるが、この傾斜壁面は上部の方
が下部よりも急勾配になっているため、ある高さまで上
がると、粉体は重力によって傾斜壁面から離れて下方に
落下する。これによって、壁面に近い部分即ち下部にあ
った粉体が落ちて上部に位置することになり、上下が入
れ替わると共に左右も入れ替わる。
粉体容器は、斜め上下方向の振動が与えられて振動し、
それによって内部の粉体が水平方向の一方向に移動す
る。粉体容器の当該一方向側の内壁には、上記のような
傾斜壁面が設けられており、そこで粉体は当該傾斜壁面
に沿って上方に押し上がるが、この傾斜壁面は上部の方
が下部よりも急勾配になっているため、ある高さまで上
がると、粉体は重力によって傾斜壁面から離れて下方に
落下する。これによって、壁面に近い部分即ち下部にあ
った粉体が落ちて上部に位置することになり、上下が入
れ替わると共に左右も入れ替わる。
【０００８】このような動作の繰り返しにより、粉体は
粉体容器内の傾斜壁面付近において上下および水平方向
に攪拌され、従来よりも格段に均一性良く（即ち万遍無
く）攪拌される。そして、このようにして粉体が均一性
良く攪拌される部分にイオンビームが照射されるので、
当該粉体に均一性良くイオン注入を行うことができる。
粉体容器内の傾斜壁面付近において上下および水平方向
に攪拌され、従来よりも格段に均一性良く（即ち万遍無
く）攪拌される。そして、このようにして粉体が均一性
良く攪拌される部分にイオンビームが照射されるので、
当該粉体に均一性良くイオン注入を行うことができる。
【０００９】
【実施例】図１は、この発明の一実施例に係るイオン注
入装置を示す概略断面図である。このイオン注入装置
は、図示しない真空排気装置によって真空排気される共
に、イオンビーム４が導入される真空容器２内に、粉体
８を入れる粉体容器６を、可撓性支柱１０によって矢印
Ａのように水平方向含む斜め方向に振動可能に支持して
いる。可撓性支柱１０の下端部は真空容器２内に固定さ
れた台１２に取り付けられており、両端部は絶縁座１４
を介して粉体容器６の下部に接続されている。絶縁座１
４を設けているのは、粉体容器６に流れる電流によって
イオンビーム４のビーム電流を計測することに供するた
めである。
入装置を示す概略断面図である。このイオン注入装置
は、図示しない真空排気装置によって真空排気される共
に、イオンビーム４が導入される真空容器２内に、粉体
８を入れる粉体容器６を、可撓性支柱１０によって矢印
Ａのように水平方向含む斜め方向に振動可能に支持して
いる。可撓性支柱１０の下端部は真空容器２内に固定さ
れた台１２に取り付けられており、両端部は絶縁座１４
を介して粉体容器６の下部に接続されている。絶縁座１
４を設けているのは、粉体容器６に流れる電流によって
イオンビーム４のビーム電流を計測することに供するた
めである。
【００１０】上記可撓性支柱１０の中間部には、矢印Ａ
方向に振動する圧電振動子２１が設けられており、それ
に、真空容器２外に設けた交流電源２３から電流導入端
子２２を介して交流電圧を印加するようにしており、こ
れによって加振装置２０を構成している。圧電振動子２
１は、圧電ブザーと同じ原理のものであり、圧電セラミ
ック基板を挟むように電極を配置した構造をしており、
両電極間に交流電源２３から交流電圧を印加すると矢印
Ａ方向に機械的に振動する。
方向に振動する圧電振動子２１が設けられており、それ
に、真空容器２外に設けた交流電源２３から電流導入端
子２２を介して交流電圧を印加するようにしており、こ
れによって加振装置２０を構成している。圧電振動子２
１は、圧電ブザーと同じ原理のものであり、圧電セラミ
ック基板を挟むように電極を配置した構造をしており、
両電極間に交流電源２３から交流電圧を印加すると矢印
Ａ方向に機械的に振動する。
【００１１】この圧電振動子２１に交流電源２３から交
流電圧を印加すると、当該圧電振動子２１ひいてはそれ
につながる可撓性支柱１０の上部が矢印Ａに示す斜め方
向に振動し、それによって、粉体容器６に水平方向およ
び垂直方向の両成分を持つ斜め方向の振動を与えること
ができる。この斜め方向の振動は、より具体的には粉体
容器６を左斜め上方へ持ち上げる振動であり、それによ
って粉体容器６内の粉体８には、左斜め上方へ突き上げ
るような格好で力が繰り返して加えられ、結果的に水平
方向の内の左方向（図中で左方向。以下同じ）へ進む力
が与えられ、粉体容器６内の粉体８は、矢印Ｂのように
左方向へ移動する。
流電圧を印加すると、当該圧電振動子２１ひいてはそれ
につながる可撓性支柱１０の上部が矢印Ａに示す斜め方
向に振動し、それによって、粉体容器６に水平方向およ
び垂直方向の両成分を持つ斜め方向の振動を与えること
ができる。この斜め方向の振動は、より具体的には粉体
容器６を左斜め上方へ持ち上げる振動であり、それによ
って粉体容器６内の粉体８には、左斜め上方へ突き上げ
るような格好で力が繰り返して加えられ、結果的に水平
方向の内の左方向（図中で左方向。以下同じ）へ進む力
が与えられ、粉体容器６内の粉体８は、矢印Ｂのように
左方向へ移動する。
【００１２】粉体容器６の左方向側の内壁には、この例
では、上方に行くに従って急勾配になっている曲面状の
傾斜壁面６ａが設けられている。そして、前記イオンビ
ーム４をこの傾斜壁面６ａ付近に向けて照射するように
している。
では、上方に行くに従って急勾配になっている曲面状の
傾斜壁面６ａが設けられている。そして、前記イオンビ
ーム４をこの傾斜壁面６ａ付近に向けて照射するように
している。
【００１３】加振装置２０を動作させて粉体容器６を上
記のように振動させると、上記のような作用で、粉体容
器６内で粉体８は左方向に移動する。この粉体容器６の
左方向側には傾斜壁面６ａが設けられているので、そこ
で粉体８は傾斜壁面６ａに沿って押し上がるが、この傾
斜壁面６ａは上方に行くに従って急勾配になっているた
め、ある高さまで上がると、矢印Ｃに示すように、粉体
８は重力によって傾斜壁面６ａから離れて下方に落下す
る。これによって、壁面に近い部分即ち下部にあった粉
体８が落ちて上部に位置するようになり、上下が入れ替
わる。かつそれと共に左右も入れ替わる。
記のように振動させると、上記のような作用で、粉体容
器６内で粉体８は左方向に移動する。この粉体容器６の
左方向側には傾斜壁面６ａが設けられているので、そこ
で粉体８は傾斜壁面６ａに沿って押し上がるが、この傾
斜壁面６ａは上方に行くに従って急勾配になっているた
め、ある高さまで上がると、矢印Ｃに示すように、粉体
８は重力によって傾斜壁面６ａから離れて下方に落下す
る。これによって、壁面に近い部分即ち下部にあった粉
体８が落ちて上部に位置するようになり、上下が入れ替
わる。かつそれと共に左右も入れ替わる。
【００１４】このような動作の繰り返しにより、粉体８
は粉体容器６内の傾斜壁面６ａ付近において上下および
水平方向に攪拌され、従来よりも格段に均一性良く攪拌
される。そして、このようにして粉体８が均一性良く攪
拌される部分にイオンビーム４が照射されるので、当該
粉体８に均一性良くイオン注入を行うことができる。
は粉体容器６内の傾斜壁面６ａ付近において上下および
水平方向に攪拌され、従来よりも格段に均一性良く攪拌
される。そして、このようにして粉体８が均一性良く攪
拌される部分にイオンビーム４が照射されるので、当該
粉体８に均一性良くイオン注入を行うことができる。
【００１５】上記の場合、交流電源２３を周波数可変の
ものにして、圧電振動子２１に印加する交流電圧の周波
数を可変にしても良く、そのようにすれば、粉体８の攪
拌に最適な加振周波数を選ぶことができる。
ものにして、圧電振動子２１に印加する交流電圧の周波
数を可変にしても良く、そのようにすれば、粉体８の攪
拌に最適な加振周波数を選ぶことができる。
【００１６】また、圧電振動子２１の共振周波数および
それに印加する交流電圧の周波数を、粉体８を入れた粉
体容器６およびその支持部を含めた系の固有振動数また
はその整数倍の周波数に一致させるようにしても良く、
そのようにすれば、共振現象を利用することができるの
で、粉体容器６を非常に効率良く加振することができ
る。
それに印加する交流電圧の周波数を、粉体８を入れた粉
体容器６およびその支持部を含めた系の固有振動数また
はその整数倍の周波数に一致させるようにしても良く、
そのようにすれば、共振現象を利用することができるの
で、粉体容器６を非常に効率良く加振することができ
る。
【００１７】また、粉体容器６の左方向側の内壁には、
上記のような曲面状の傾斜壁面６ａの代わりに、上部の
方が下部よりも急勾配になっている、より好ましくは上
部に行くに従って急勾配になっている複数段階の傾斜壁
面を設けても良く、そのような傾斜壁面によっても、上
記曲面状の傾斜壁面６ａと同様の作用によって、粉体８
を均一性良く攪拌することができる。
上記のような曲面状の傾斜壁面６ａの代わりに、上部の
方が下部よりも急勾配になっている、より好ましくは上
部に行くに従って急勾配になっている複数段階の傾斜壁
面を設けても良く、そのような傾斜壁面によっても、上
記曲面状の傾斜壁面６ａと同様の作用によって、粉体８
を均一性良く攪拌することができる。
【００１８】図２は、この発明の他の実施例に係るイオ
ン注入装置を示す概略断面図である。図１の実施例との
相違点を主体に説明すると、この実施例では、真空容器
２の下部内に絶縁座１４を介して粉体容器６を固定し、
そのような真空容器２の途中にベローズ１６を設け、そ
れによって、真空容器２の下部を粉体容器６ごとに矢印
Ｅのようにほぼ水平方向に振動可能に支持している。
ン注入装置を示す概略断面図である。図１の実施例との
相違点を主体に説明すると、この実施例では、真空容器
２の下部内に絶縁座１４を介して粉体容器６を固定し、
そのような真空容器２の途中にベローズ１６を設け、そ
れによって、真空容器２の下部を粉体容器６ごとに矢印
Ｅのようにほぼ水平方向に振動可能に支持している。
【００１９】また、この粉体容器６を真空容器２ごとに
ほぼ水平方向に加振する加振装置として、次のような電
鈴構造の加振装置３０を真空容器２の左側に設けてい
る。
ほぼ水平方向に加振する加振装置として、次のような電
鈴構造の加振装置３０を真空容器２の左側に設けてい
る。
【００２０】即ちこの加振装置３０は、一端が支点３１
に支持され他端に重り３３が取り付けられた振動片３２
を有しており、その中間部には鉄片３５が、その上部左
側にはコイルばね３４が、その下部左側には接点３７
が、それぞれ取り付けられている。鉄片３５の右側近傍
にはそれを吸引する電磁石３６が設けられており、それ
に、接点３７を直列に介して直流電源３８が接続されて
いる。
に支持され他端に重り３３が取り付けられた振動片３２
を有しており、その中間部には鉄片３５が、その上部左
側にはコイルばね３４が、その下部左側には接点３７
が、それぞれ取り付けられている。鉄片３５の右側近傍
にはそれを吸引する電磁石３６が設けられており、それ
に、接点３７を直列に介して直流電源３８が接続されて
いる。
【００２１】このような加振装置３０によれば、振動片
３２の振動によって接点３７が入切するので、直流電源
３８から電磁石３６に断続的に電流が供給され、重り３
３の部分が矢印Ｄに示すようにほぼ水平方向に振動して
真空容器２の左側を叩き、それによってベローズ１６よ
り下の真空容器２およびその内部の粉体容器６に、矢印
Ｅに示すようなほぼ水平方向の振動を与えることができ
る。
３２の振動によって接点３７が入切するので、直流電源
３８から電磁石３６に断続的に電流が供給され、重り３
３の部分が矢印Ｄに示すようにほぼ水平方向に振動して
真空容器２の左側を叩き、それによってベローズ１６よ
り下の真空容器２およびその内部の粉体容器６に、矢印
Ｅに示すようなほぼ水平方向の振動を与えることができ
る。
【００２２】この場合、重り３３が真空容器２に衝突し
た瞬間を考えると、真空容器２および粉体容器６は急に
右へ移動するのに対して粉体８は慣性でその場に残るた
め、結果的に粉体容器６内の粉体８には、図１の実施例
の場合と同様、水平方向の内の左方向へ進む力が与えら
れ、粉体８は矢印Ｂのように左方向へ移動する。それ以
降の作用は、図１の実施例の場合と同様であるので、重
複説明を省略する。
た瞬間を考えると、真空容器２および粉体容器６は急に
右へ移動するのに対して粉体８は慣性でその場に残るた
め、結果的に粉体容器６内の粉体８には、図１の実施例
の場合と同様、水平方向の内の左方向へ進む力が与えら
れ、粉体８は矢印Ｂのように左方向へ移動する。それ以
降の作用は、図１の実施例の場合と同様であるので、重
複説明を省略する。
【００２３】図３は、この発明の更に他の実施例に係る
イオン注入装置を示す概略断面図である。図２の実施例
との相違点を主体に説明すると、この実施例では、真空
容器２内に粉体容器６を、可撓性支柱１８によって矢印
Ｅのようにほぼ水平方向に振動可能に支持している。１
４は絶縁座である。そして電鈴構造の加振装置３０は、
その直流電源３８を除いて、真空容器２内に収納してい
る。３９は電流導入端子である。この実施例の動作は、
図２の実施例のそれと同様であるので、重複説明を省略
する。
イオン注入装置を示す概略断面図である。図２の実施例
との相違点を主体に説明すると、この実施例では、真空
容器２内に粉体容器６を、可撓性支柱１８によって矢印
Ｅのようにほぼ水平方向に振動可能に支持している。１
４は絶縁座である。そして電鈴構造の加振装置３０は、
その直流電源３８を除いて、真空容器２内に収納してい
る。３９は電流導入端子である。この実施例の動作は、
図２の実施例のそれと同様であるので、重複説明を省略
する。
【００２４】図４は、この発明の更に他の実施例に係る
イオン注入装置を示す概略断面図である。図１ないし図
３の実施例との相違点を主体に説明すると、この実施例
では、次のような構造の加振装置４０を粉体容器６の左
側に設けている。
イオン注入装置を示す概略断面図である。図１ないし図
３の実施例との相違点を主体に説明すると、この実施例
では、次のような構造の加振装置４０を粉体容器６の左
側に設けている。
【００２５】即ちこの加振装置４０は、粉体容器６の左
側に絶縁座１４を介して鉄片４１を取り付け、その左側
近傍にそれを吸引する電磁石４２を設け、前記可撓性支
柱１８の右側に接点４３を取り付けている。そして、真
空容器２外に設けた直流電源４４は、接点４３を直列に
介して、かつ電流導入端子４５を経由して、電磁石４２
に接続している。
側に絶縁座１４を介して鉄片４１を取り付け、その左側
近傍にそれを吸引する電磁石４２を設け、前記可撓性支
柱１８の右側に接点４３を取り付けている。そして、真
空容器２外に設けた直流電源４４は、接点４３を直列に
介して、かつ電流導入端子４５を経由して、電磁石４２
に接続している。
【００２６】このような加振装置４０によれば、粉体容
器６の振動によって接点４３が入切するので、直流電源
４４から電磁石４２に断続的に電流が供給され、粉体容
器６が矢印Ｅに示すようにほぼ水平方向に振動させられ
る。
器６の振動によって接点４３が入切するので、直流電源
４４から電磁石４２に断続的に電流が供給され、粉体容
器６が矢印Ｅに示すようにほぼ水平方向に振動させられ
る。
【００２７】この場合、鉄片４１および粉体容器６は電
磁石４２に吸引されて鉄片４１が電磁石４２に衝突する
ように配置されており、その衝突の瞬間を考えると、粉
体容器６は急に止まるのに対して粉体８は慣性で左へ進
むため、結果的に粉体容器６内の粉体８には、図１ない
し図３の実施例の場合と同様、水平方向の内の左方向へ
進む力が与えられ、粉体８は矢印Ｂのように左方向へ移
動する。それ以降の作用は、図１ないし図３の実施例の
場合と同様であるので、重複説明を省略する。
磁石４２に吸引されて鉄片４１が電磁石４２に衝突する
ように配置されており、その衝突の瞬間を考えると、粉
体容器６は急に止まるのに対して粉体８は慣性で左へ進
むため、結果的に粉体容器６内の粉体８には、図１ない
し図３の実施例の場合と同様、水平方向の内の左方向へ
進む力が与えられ、粉体８は矢印Ｂのように左方向へ移
動する。それ以降の作用は、図１ないし図３の実施例の
場合と同様であるので、重複説明を省略する。
【００２８】なお、図２ないし図３の実施例において
も、上記加振装置３０または４０によって粉体容器６を
加振する周波数を、振動系の固有振動周波数またはその
整数倍に一致させても良いのは、図１の実施例の場合と
同様である。
も、上記加振装置３０または４０によって粉体容器６を
加振する周波数を、振動系の固有振動周波数またはその
整数倍に一致させても良いのは、図１の実施例の場合と
同様である。
【００２９】また、図２ないし図３の実施例において、
粉体容器６の左方向側の内壁に、上記のような曲面状の
傾斜壁面６ａの代わりに、上部の方が下部よりも急勾配
になっている、より好ましくは上部に行くに従って急勾
配になっている複数段階の傾斜壁面を設けても良いの
は、図１の実施例の場合と同様である。
粉体容器６の左方向側の内壁に、上記のような曲面状の
傾斜壁面６ａの代わりに、上部の方が下部よりも急勾配
になっている、より好ましくは上部に行くに従って急勾
配になっている複数段階の傾斜壁面を設けても良いの
は、図１の実施例の場合と同様である。
【００３０】また、図１の実施例において粉体容器６を
圧電振動子２１によって右斜め上方に持ち上げるように
加振する場合、あるいは図２ないし図４の実施例におい
て加振装置３０または４０を粉体容器６の右側に配置し
て粉体容器６を右側から加振する場合は、粉体容器６内
で粉体８は右方向に移動するので、粉体容器６の右方向
側の内壁に前述したような傾斜壁面を設け、その付近に
イオンビーム４を照射するようにすれば良い。
圧電振動子２１によって右斜め上方に持ち上げるように
加振する場合、あるいは図２ないし図４の実施例におい
て加振装置３０または４０を粉体容器６の右側に配置し
て粉体容器６を右側から加振する場合は、粉体容器６内
で粉体８は右方向に移動するので、粉体容器６の右方向
側の内壁に前述したような傾斜壁面を設け、その付近に
イオンビーム４を照射するようにすれば良い。
【００３１】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、粉体容
器を加振装置によって上記のように加振するようにした
ので、粉体を粉体容器内の傾斜壁面付近において上下お
よび水平方向に均一性良く攪拌することができる。そし
て、このようにして粉体が均一性良く攪拌される部分に
イオンビームが照射されるので、当該粉体に均一性良く
イオン注入を行うことができる。
器を加振装置によって上記のように加振するようにした
ので、粉体を粉体容器内の傾斜壁面付近において上下お
よび水平方向に均一性良く攪拌することができる。そし
て、このようにして粉体が均一性良く攪拌される部分に
イオンビームが照射されるので、当該粉体に均一性良く
イオン注入を行うことができる。
【図１】この発明の一実施例に係るイオン注入装置を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図２】この発明の他の実施例に係るイオン注入装置を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図３】この発明の更に他の実施例に係るイオン注入装
置を示す概略断面図である。
置を示す概略断面図である。
【図４】この発明の更に他の実施例に係るイオン注入装
置を示す概略断面図である。
置を示す概略断面図である。
２ 真空容器
４ イオンビーム
６ 粉体容器
６ａ 傾斜壁面
８ 粉体
１０ 可撓性支柱
１６ ベローズ
１８ 可撓性支柱
２０ 加振装置
２１ 圧電振動子
３０ 加振装置
４０ 加振装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01J 37/317
C23C 14/48
Claims (2)
- 【請求項１】 粉体容器に入れた粉体に真空雰囲気中で
イオンビームを照射して当該粉体にイオン注入を行うイ
オン注入装置において、前記粉体容器を水平に対して斜
め上下方向に振動可能に支持し、同粉体容器に前記斜め
上下方向の振動を与えて内部の粉体を水平方向の一方向
に移動させる加振装置を設け、かつ同粉体容器の前記水
平方向の一方向側の内壁に、上部の方が下部よりも急勾
配になっている傾斜壁面を設け、前記イオンビームをこ
の傾斜壁面付近に向けて照射するようにしたことを特徴
とするイオン注入装置。 - 【請求項２】 粉体容器に入れた粉体に真空雰囲気中で
イオンビームを照射して当該粉体にイオン注入を行うイ
オン注入装置において、前記粉体容器をほぼ水平方向に
振動可能に支持し、同粉体容器に、ほぼ水平方向の振動
であってその内の一方の向きにおいて他方の向きよりも
急に粉体容器を移動または停止させる振動を与えて内部
の粉体を水平方向の一方向に移動させる加振装置を設
け、かつ同粉体容器の前記水平方向の一方向側の内壁
に、上部の方が下部よりも急勾配になっている傾斜壁面
を設け、前記イオンビームをこの傾斜壁面付近に向けて
照射するようにしたことを特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35082993A JP3409408B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35082993A JP3409408B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07192683A JPH07192683A (ja) | 1995-07-28 |
| JP3409408B2 true JP3409408B2 (ja) | 2003-05-26 |
Family
ID=18413172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35082993A Expired - Fee Related JP3409408B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3409408B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103052734A (zh) * | 2010-08-04 | 2013-04-17 | 株式会社岛津制作所 | 表面处理装置和表面处理方法 |
| CN103046012A (zh) * | 2012-11-16 | 2013-04-17 | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 | 一种真空磁控溅射制备热喷涂用包覆型复合粉末的方法 |
| KR20230117636A (ko) * | 2016-09-16 | 2023-08-08 | 피코순 오와이 | 원자층 증착에 의한 입자 코팅 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP35082993A patent/JP3409408B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07192683A (ja) | 1995-07-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW386309B (en) | Method and apparatus for capturing and removing contaminant particles from an interior region | |
| JP5472861B2 (ja) | 基板から層をへき開する方法及びデバイス | |
| JP3409408B2 (ja) | イオン注入装置 | |
| KR20080078703A (ko) | 이온 빔을 통해 가공물을 스캐닝하기 위한 방법 및 장치 | |
| JP3139378B2 (ja) | イオン注入装置 | |
| JP4056970B2 (ja) | 異極像結晶体を用いたｘ線発生装置 | |
| JPH05508744A (ja) | 複数の孔を有する被処理製品をその湿式化学処理時、例えば電気メッキ時に運動させる方法並びに該方法を実施する装置 | |
| JPH0254867A (ja) | 電池用多孔質電極骨格の振動充填装置 | |
| JPS5831076A (ja) | 物理的蒸着法による被膜形成方法及びその装置 | |
| JP3417175B2 (ja) | イオン照射装置 | |
| JP3525330B2 (ja) | 荷電粒子描画装置 | |
| EP0066175A1 (en) | Ion implanter | |
| JPH02233185A (ja) | 振動篩機 | |
| JP2001133356A (ja) | 振動試験装置および振動試験方法 | |
| JP2001318200A (ja) | 電子線照射装置 | |
| JPH09176845A (ja) | スパッタ装置 | |
| JP2724461B2 (ja) | 電子ビーム励起イオン源 | |
| JPH05258710A (ja) | イオン注入装置 | |
| JP2003288856A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JP3646756B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP2531447B2 (ja) | 高周波四重極装置 | |
| JPH0992197A (ja) | ビーム走査制御方法 | |
| JPH089161Y2 (ja) | イオン注入装置 | |
| JP2750465B2 (ja) | イオン発生装置 | |
| JPH01276556A (ja) | イオン注入装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |