JP3372029B2 - 半導体集積回路試験装置およびその故障時の復旧方法 - Google Patents

半導体集積回路試験装置およびその故障時の復旧方法

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JP3372029B2 JP21463799A JP21463799A JP3372029B2 JP 3372029 B2 JP3372029 B2 JP 3372029B2 JP 21463799 A JP21463799 A JP 21463799A JP 21463799 A JP21463799 A JP 21463799A JP 3372029 B2 JP3372029 B2 JP 3372029B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路の電
気的特性を試験する試験装置およびその故障時の復旧方
法に関し、さらに言えば、起動時に動作安定化のためウ
ォームアップが実行される半導体集積回路試験装置およ
びその故障時の復旧方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体集積回路(以下、IC
(Integrated Circuit)と呼ぶ)試験装置では、被試験
ICに所定の電源電圧および試験信号を供給し、供給さ
れた試験信号に対する被試験ICの出力信号を所定の期
待値と比較することにより、被試験ICの電気的特性の
試験(以下、IC試験という)がなされる。
【0003】このようなIC試験装置において必要な試
験精度を得るためには、試験信号を高いタイミング精度
および高い振幅精度で被試験ICに供給しなければなら
ない。さらには、被試験ICに供給する電源電圧の値に
も高い精度が要求される。そして、これらの精度は、I
C試験装置を構成する集積回路素子などの電子部品の温
度特性の影響を強く受ける。
【0004】このため、通常、IC試験装置の起動(す
なわち、IC試験装置の主電源を投入)した直後にウォ
ームアップが実行される。このウォームアップにより電
子部品を熱的に十分安定させた後、被試験ICに供給す
る試験信号および電源電圧の自動較正(いわゆる、シス
テムキャリブレーション)を行うことで、必要な試験精
度を確保している。
【0005】従来のIC試験装置では、ウォームアップ
の実行時間は予め設定されており、常に一定時間のウォ
ームアップが行われる。ウォームアップの実行時間は、
IC試験装置を構成する全ての電子部品が熱的に安定す
るように、通常、30分程度に設定される。
【0006】図6は、従来のIC試験装置における起動
からIC試験の実行までの動作を示すフローチャートで
ある。従来のIC試験装置は、以下のように動作する。
【0007】まず最初に、IC試験装置の主電源が手動
で投入され、IC試験装置が起動する(ステップS10
1)。
【0008】起動直後に、ウォームアップの実行を開始
する(ステップS102)。
【0009】ウォームアップの実行は所定の時間を経過
するまで継続され(ステップS103)、所定の時間が
経過した時点でウォームアップの実行を停止する(ステ
ップS104)。
【0010】さらに、システムキャリブレーションを実
行(ステップS105)した後、IC試験を実行する
(ステップS106)。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】近年、IC試験装置の
高機能化および高速化に伴い、IC試験装置の製作コス
トがますます高くなっており、IC試験装置の稼働率の
向上が望まれている。
【0012】一般に、IC試験装置の故障時には、IC
試験装置の主電源を切断して一旦停止し、故障個所を修
復する。修復は故障した回路を基板単位で交換して行わ
れため、修復に要する時間は数分程度である。修復が終
わると、電源が再度投入されて、ウォームアップおよび
システムキャリブレーションをその順で実行した後、I
C試験が再開される。こうして、IC試験装置の復旧が
なされる。
【0013】本来、故障修復後に必要なウォームアップ
の実行時間は修復に要する時間(すなわち、IC試験装
置の停止時間)に対応して増減するため、修復に要する
時間が短かければ、ウォームアップの実行時間を短縮す
ることが可能である。しかしながら、従来のIC試験装
置では、故障修復の後でも、図6のフローチャートに従
って一定時間のウォームアップが実行される。このた
め、不要な時間がウォームアップに費やされることにな
り、故障時の復旧に要する時間を短縮できない。よっ
て、故障に起因する稼働率の低下が大きいという問題が
ある。
【0014】そこで、本発明の目的は、故障修復後のウ
ォームアップの実行時間を短縮できる半導体集積回路試
験装置およびその故障時の復旧方法を提供することにあ
る。
【0015】本発明の他の目的は、故障に起因する稼働
率の低下を抑制できる半導体集積回路試験装置およびそ
の故障時の復旧方法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】(1) 本発明の半導体
集積回路試験装置は、起動時に動作安定化のためウォー
ムアップが実行される半導体集積回路試験装置であっ
て、故障時に故障発生基板に換えて実装可能な予備基板
と、前記予備基板が実装された時に前記予備基板の温度
を検出する温度検出手段とを備えてなり、前記予備基板
は、実装前に予め加熱されており、しかも、前記予備基
板の実装により前記故障を修復した時に、再起動により
実行される前記ウォームアップを、検出された前記予備
基板の温度に基づき停止することを特徴とする。
【0017】(2) 本発明の半導体集積回路試験装置
では、前記温度検出手段が、前記故障の修復のために実
装された前記予備基板の温度を検出する。そして、検出
された前記予備基板の温度に基づいて、前記故障の修復
後に実行されるウォームアップが停止される。しかも、
前記予備基板は実装前に予め加熱(すなわち、予備加
熱)されている。
【0018】このため、動作の安定化がなされた直後に
ウォームアップの実行を確実に停止でき、ウォームアッ
プに不要な時間が費やされることがない。さらに、前記
予備基板の予備加熱により、動作の安定化に必要な時間
が短縮される。よって、故障修復後のウォームアップの
実行時間を短縮でき、ひいては、故障に起因する稼働率
の低下が抑制される。
【0019】好ましくは、前記予備基板の温度を直接検
出できるように、前記温度検出手段が前記予備基板に設
けられている。
【0020】(3) なお、特開平9−61503号公
報には、温度変化検出手段により装置内温度を検出する
半導体試験装置が開示されている。しかし、特開平9−
61503号公報の半導体試験装置では、温度変化検出
手段による装置内温度の検出は、装置内の温度変化に応
じて試験信号の遅延時間を調整することによりスキュー
誤差を抑制することを目的として行われるものである。
【0021】他方、特開平10−170603号公報に
は、温度検出手段によりICテスタ内の雰囲気温度を検
出するICテスタのキャリブレーション方法が開示され
ている。しかし、特開平10−170603号公報のI
Cテスタのキャリブレーション方法では、温度検出手段
によるICテスタ内の雰囲気温度の検出は、キャリブレ
ーションを行うか否かを判断するためのものであり、キ
ャリブレーション時間の短縮を目的として行われるもの
である。
【0022】さらに、特開昭63−163290号公報
や特開平4−190175号公報にも温度センサを有す
るIC検査装置が開示されている。しかし、これらの公
報のIC検査装置においても、温度センサによる温度の
検出は、試験信号のタイミングを調整してスキュー精度
を向上させることを目的とするものである。
【0023】したがって、検出された予備基板の温度に
基づいてウォームアップを停止することによって故障修
復後のウォームアップの実行時間を短縮し、故障に起因
する稼働率の低下を抑制することを目的とする本発明と
上記特開平9−61503号公報、特開平10−170
603号公報、特開昭63−163290号公報および
特開平4−190175号公報とは明らかに異なる。
【0024】(4) 本発明の半導体集積回路試験装置
の好ましい例では、前記予備基板に複数の前記温度検出
手段が設けられており、それらの複数の前記温度検出手
段のそれぞれが検出した温度の最小値を前記予備基板の
温度とする。この場合、前記予備基板に温度分布が生じ
ても、その温度分布の影響を受け難くなる利点がある。
【0025】本発明の半導体集積回路試験装置の他の好
ましい例では、前記温度検出手段が前記予備基板の接地
配線領域に密着して設けられている。この場合、接地配
線領域が比較的大きい比熱を持つため、前記接地配線領
域では急激な温度の変動が抑制される。また、前記接地
配線領域に密着させることにより、前記温度検出手段へ
の熱伝導が促進される。したがって、外乱の影響を受け
難くなり、前記予備基板の温度をより正確に検出できる
利点がある。
【0026】本発明の半導体集積回路試験装置のさらに
他の好ましい例では、前記温度検出手段が、縦続接続さ
れた複数の位相反転器と、初段の前記位相反転器への入
力信号と最終段の前記位相反転器の出力信号との位相差
を検出する位相比較器とを有しており、前記位相比較器
が、実装された前記予備基板の温度に対応する信号を
前記ウォームアップを制御する制御手段に出力する。
【0027】本発明の半導体集積回路試験装置のさらに
他の好ましい例では、実装基板保持手段に隣接して設け
られた予備基板保持手段をさらに備えており、実装前の
前記予備基板が前記予備基板保持手段に保持されてお
り、前記実装基板保持手段に実装された基板の発熱によ
り、前記予備基板が実装前に予め加熱される。
【0028】本発明の半導体集積回路試験装置のさらに
他の好ましい例では、収納された実装前の前記予備基板
を加熱可能な予備基板保管手段をさらに備えている。
【0029】(5) 本発明の半導体集積回路試験装置
の故障時の復旧方法は、起動時に動作安定化のためウォ
ームアップが実行される半導体集積回路試験装置の故障
時の復旧方法であって、故障時に故障発生基板に換えて
予め加熱された予備基板を実装し、前記故障を修復する
ステップと、前記故障を修復した後、再起動して前記ウ
ォームアップを実行するステップと、前記ウォームアッ
プの実行中に、実装された前記予備基板の温度を検出す
るステップと、検出された前記予備基板の温度に基づき
前記ウォームアップを停止するステップとを備えること
を特徴とする。
【0030】(6) 本発明の半導体集積回路試験装置
の故障時の復旧方法では、故障発生基板に換えて予め加
熱された予備基板を実装して前記故障を修復した後、再
起動して前記ウォームアップを実行し、前記ウォームア
ップを実行中に検出された前記予備基板の温度に基づき
前記ウォームアップを停止する。
【0031】このため、本発明の半導体集積回路試験装
置で述べたと同じ理由で、故障修復後のウォームアップ
の実行時間を短縮でき、ひいては、故障に起因する稼働
率の低下が抑制される。
【0032】(7) 本発明の半導体集積回路試験装置
の故障時の復旧方法の好ましい例では、前記予備基板の
複数の部位の温度を検出し、それら複数の部位の温度
最小値を前記予備基板の温度とする。この場合、前記予
備基板に温度分布が生じても、その温度分布の影響を受
け難くなる利点がある。
【0033】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面を参照しながら具体的に説明する。
【0034】図1は、本発明の一実施形態のIC試験装
置の構成を示す。
【0035】図1に示すように、当該IC試験装置は、
CPU(Central Processing Unit、中央演算処理装
置)1と、メモリ2と、タイミング制御部10と、デバ
イス電源部20と、ピンエレクトロニクス部30と、故
障修復用予備基板15、25、35とを備えている。
【0036】CPU1は、所定の制御プログラムに基づ
いて当該IC試験装置の全体の制御を行うものであり、
バスライン3に電気的に接続されている。当該IC試験
装置の故障時には、CPU1は、制御プログラムの一部
分である故障診断プログラムを実行して、故障箇所の特
定を行う。
【0037】メモリ2は、制御プログラムおよび所定の
データを格納するものであり、バスライン3に電気的に
接続されている。
【0038】タイミング制御部10は、バスライン3に
電気的に接続されたインターフェース11と、タイミン
グ制御回路16および温度検出部17がそれぞれ設けら
れた複数の基板とを有している。実際には、被試験IC
(図示せず)の入出力ピン数に対応した数の基板を有し
ているが、ここでは、図面を簡略化するため2つの基板
13、14を図示している。以下、タイミング制御部1
0が基板13、14のみを有するとして説明する。
【0039】基板13、14のタイミング制御回路16
は、クロックパルスや判定ストローブなどのタイミング
信号を生成するものである。基板13、14の温度検出
部17は、基板13、14の温度を検出するものであ
る。
【0040】基板13、14は、対応する実装用ソケッ
ト18にそれぞれ装着されてタイミング制御部10に実
装されている。実装用ソケット18はフレーム7にそれ
ぞれ固定されており、実装用ソケット18にはバスライ
ン12との電気的な接続がそれぞれなされている。この
ため、基板13、14のタイミング制御回路16および
温度検出部17は、対応する実装用ソケット18を介し
てインターフェース11にそれぞれ電気的に接続されて
いる。基板13、14の温度検出部17は、検出した温
度に基づく温度データ信号TD1、TD2をバスライン
12にそれぞれ出力する。
【0041】図2は、基板13の温度検出部17の構成
を示す。
【0042】図2の温度検出部17は、基板13の上に
設けられた2つの温度センサ41a、41bと、温度デ
ータ生成部43とを有している。温度センサ41a、4
1bは、基板13の所定部分の温度をそれぞれ検出し、
検出した温度に対応した出力信号TS1、TS2を温度
データ生成部43にそれぞれ供給する。温度データ生成
部43は、温度センサ41a、41bの出力信号TS
1、TS2に基づいて温度データ信号TD1を生成し、
バスライン12に出力する。
【0043】温度センサ41a、41bは、基板13の
表面に形成された2つのアース・プレーン(すなわち、
接地配線領域)42a、42bにそれぞれ密着して設け
られている。アース・プレーン42a、42bは、通
常、基体としての銅材に金メッキやはんだメッキが施さ
れたものが使用されており、エポキシ材などからなる基
板13本体に比べて大きな熱容量を持つ。このため、ア
ース・プレーン42a、42bでは、急激な熱変動が起
こり難く、温度が安定している。こうした特性を持つア
ース・プレーン42a、42bに温度センサ41a、4
1bを密着させることにより、熱の外乱に対する耐性が
高まり、安定した出力信号TS1、TS2を得ることが
できる。すなわち、基板13の温度をより正確に検出で
きる。
【0044】なお、図2の温度検出部17は、2つの温
度センサ41a、41bを有しているが、これは基板1
3に温度分布が生じた場合を考慮しているからである。
すなわち、温度センサ41a、41bの検出した温度の
低い方を基板13の温度とすればよい。そうすれば、温
度分布の影響を受け難くなる。温度分布の程度によって
は、温度センサ41a、41bの他にさらに多数の温度
センサを設けることも有効である。
【0045】逆に、温度センサ41a、41bのいずれ
か一方だけを設けてもよい。その場合には、後述するウ
ォームアップ停止の判定条件の温度範囲を高く設定す
る。そうすれば、温度分布の影響を受け難くなる。
【0046】図3は、温度センサ41aの具体例を示
す。
【0047】図3の温度センサ41aは、縦続接続され
た7つの位相反転器(インバータ)61a、61b、6
1c、61d、61e、61f、61gと、位相比較器
62とを備えたICからなる。
【0048】第1段の位相反転器61aには基準信号B
Sが入力され、基準信号BSの位相を反転した信号が位
相反転器61aから出力される。基準信号BSとして
は、例えば、タイミング制御回路16で生成されるクロ
ックパルスを使用する。
【0049】第2段〜第7段の位相反転器61b、61
c、61d、61e、61f、61gには第1段〜第6
段の位相反転器61a、61b、61c、61d、61
e、61fの出力信号がそれぞれ入力され、位相反転器
61a、61b、61c、61d、61e、61fの出
力信号の位相を反転した信号が位相反転器61b、61
c、61d、61e、61f、61gからそれぞれ出力
される。位相反転器61gの出力信号PSは、位相比較
器62の一方の入力端子に供給される。
【0050】位相比較器62の他方の入力端子には、基
準信号BSが供給される。位相比較器62は、基準信号
BSと位相反転器61gの出力信号PSの位相差に対応
する信号TS1を出力する。
【0051】上記の構成からなる温度センサ41aは、
位相反転器61a、61b、61c、61d、61e、
61f、61gの出力信号の位相が動作温度に対応して
変化することを利用したものである。すなわち、動作温
度が高くなるに従い、位相反転器61gの出力信号PS
の位相ずれが大きくなり、位相比較器62の出力信号T
S1も大きくなる。こうして、動作温度(すなわち、基
板13の温度)に対応した信号が得られるのである。
【0052】なお、温度センサ41bも上記の温度セン
サ41aと同一の構成を持つ。
【0053】ここからは、再び図1の説明に戻る。
【0054】デバイス電源部20は、バスライン3に電
気的に接続されたインターフェース21と、デバイス電
源回路26および温度検出部27がそれぞれ設けられた
複数の基板とを有している。実際には、タイミング制御
部10と同様に、被試験ICの入出力ピン数に対応した
数の基板を有しているが、ここでは、図面を簡略化する
ため2つの基板23、24を示している。以下、デバイ
ス電源部20が基板23、24のみを有するとして説明
する。
【0055】基板23、24のデバイス電源回路26
は、被試験ICに電源電圧を供給するものである。基板
23、24の温度検出部27は、基板23、24の温度
を検出するものであり、温度検出部17と実質的に同じ
構成を持つ。
【0056】基板23、24は、対応する実装用ソケッ
ト28にそれぞれ装着されてデバイス電源部20に実装
されている。実装用ソケット28はフレーム8にそれぞ
れ固定されており、実装用ソケット28にはバスライン
22との電気的な接続がそれぞれなされている。このた
め、基板23、24のデバイス電源回路26および温度
検出部27は対応する実装用ソケット28を介してイン
ターフェース21にそれぞれ電気的に接続される。基板
23、24の温度検出部27は、検出した温度に基づく
温度データ信号TD3、TD4をバスライン22にそれ
ぞれ出力する。
【0057】ピンエレクトロニクス部30は、バスライ
ン3に電気的に接続されたインターフェース31と、ピ
ンエレクトロニクス回路36および温度検出部37がそ
れぞれ設けられた複数の基板とを備えている。実際に
は、タイミング制御部10と同様に、被試験ICの入出
力ピン数に対応した数の基板を有しているが、ここで
は、図面を簡略化するため2つの基板33、34を図示
している。以下、ピンエレクトロニクス部30が基板3
3、34のみを有するとして説明する。
【0058】基板33、34のピンエレクトロニクス回
路36は、被試験ICに試験用信号を供給すると共に被
試験ICからの出力信号とメモリ2に予め格納された所
定の期待値との比較を行うものである。基板33、34
の温度検出部37は、基板33、34の温度を検出する
ものであり、温度検出部17と実質的に同じ構成を持
つ。
【0059】基板33、34は、対応する実装用ソケッ
ト38にそれぞれ装着されてピンエレクトロニクス部3
0に実装されている。実装用ソケット38はフレーム9
にそれぞれ固定されており、実装用ソケット38にはバ
スライン32との電気的な接続がそれぞれなされてい
る。このため、基板33、34のピンエレクトロニクス
回路36および温度検出部37は対応する実装用ソケッ
ト38を介してインターフェース31にそれぞれ電気的
に接続される。基板33、34の温度検出部37は、検
出した温度に基づく温度データ信号TD5、TD6をバ
スライン32にそれぞれ出力する。
【0060】上記のCPU1、メモリ2、タイミング制
御部10、デバイス電源部20およびピンエレクトロニ
クス部30により、IC試験が実行される。
【0061】予備基板15は、基板13、14と同じの
タイミング制御回路16および温度検出部17を有して
おり、ダミー・ソケット19に装着されている。ダミー
・ソケット19は実装用ソケット18と同様にフレーム
7に固定されているが、ダミー・ソケット19にはバス
ライン12との電気的な接続はなされていない。このた
め、予備基板15のタイミング制御回路16および温度
検出部17は、インターフェース11に電気的に接続さ
れていない。
【0062】予備基板25は、基板23、24と同じの
デバイス電源回路26および温度検出部27を有してお
り、ダミー・ソケット29に装着されている。ダミー・
ソケット29は実装用ソケット28と同様にフレーム8
に固定されているが、ダミー・ソケット29にはバスラ
イン22との電気的な接続はなされていない。このた
め、予備基板25のデバイス電源回路26および温度検
出部27は、インターフェース21に電気的に接続され
ていない。
【0063】予備基板35は、基板33、34と同じの
ピンエレクトロニクス回路36および温度検出部37を
有しており、ダミー・ソケット39に装着されている。
ダミー・ソケット39は実装用ソケット38と同様にフ
レーム9に固定されているが、ダミー・ソケット39に
はバスライン32との電気的な接続はなされていない。
このため、予備基板35のピンエレクトロニクス回路3
6および温度検出部37は、インターフェース31に電
気的に接続されていない。
【0064】図1のIC試験装置では、基板13、14
のいずれか一方を実装用ソケット18から取り外し、予
備基板15を実装用ソケット18のいずれか一方に装着
することにより、タイミング制御回路16に故障が生じ
た際に、基板単位で交換できる。デバイス電源回路26
とピンエレクトロニクス回路36についても同様に、基
板単位での交換が可能である。
【0065】図4は、基板13、14および予備基板1
5が実装用ソケット18およびダミー・ソケット19に
装着された状態を示す。
【0066】図4に示すように、実装用ソケット18お
よびダミー・ソケット19は、装着された基板13、1
4および基板15のそれぞれの表面が所定の間隔で対向
するように、隣接して配置されている。このため、基板
13、14のタイミング制御回路16が動作中に熱を発
生すると、輻射または対流によって予備基板15が実装
前に予め加熱(すなわち、予備加熱)される。この予備
加熱が十分に行われた場合、予備基板15は基板13と
ほぼ同等の温度(例えば、約50℃)になる。
【0067】基板23、24および予備基板25が実装
用ソケット28およびダミー・ソケット29に装着され
た状態は、基板13、14および予備基板15の場合と
同様である。また、基板33、34および予備基板35
が実装用ソケット38およびダミー・ソケット39に装
着された状態も、基板13、14および予備基板15の
場合と同様である。したがって、基板23、24のデバ
イス電源回路26の動作中に、予備基板25は基板2
3、24とほぼ同等の温度になるまで予備加熱される。
基板33、34のピンエレクトロニクス回路36の動作
中に、予備基板35は基板33、34とほぼ同等の温度
になるまで予備加熱される。
【0068】次に、温度検出部17、27、37による
温度の検出と、CPU1によるウォームアップの制御に
関する動作を図1および図2を用いて説明する。
【0069】図1のIC試験装置が起動すると、タイミ
ング制御部10、デバイス電源部20およびピンエレク
トロニクス部30にそれぞれ通電がなされてウォームア
ップの実行が開始される。
【0070】このウォームアップの開始直後から、基板
13、14の温度検出部17は、基板13、14の温度
をそれぞれ検出し、温度データ信号TD1、TD2をバ
スライン12にそれぞれ出力する。同様に、基板23、
24の温度検出部27は、基板23、24の温度をそれ
ぞれ検出し、温度データ信号TD3、TD4をバスライ
ン22にそれぞれ出力する。また、基板33、34の温
度検出部37は、基板33、34の温度をそれぞれ検出
し、温度データ信号TD5、TD6をバスライン32に
それぞれ出力する。バスライン12、22、32にそれ
ぞれ出力された温度データ信号TD1、TD2、温度デ
ータ信号TD3、TD4、および温度データ信号TD
5、TD6は、インターフェース11、21、31を介
してバスライン3にそれぞれ供給される。
【0071】CPU1は、ウォームアップの経過時間を
計測(タイムカウント)すると共に、メモリ2に格納さ
れた制御プログラムを実行して基板13、14、23、
24、33、34のうち予め指定された基板の温度を監
視する。基板の指定は、作業者のCPU1に対する指令
によりなされる。以下、基板13が指定されたと仮定し
て説明する。
【0072】CPU1は、バスライン3から供給された
温度データ信号TD1、TD2、TD3、TD4、TD
5、TD6の中から、基板13の温度に対応する温度デ
ータ信号TD1のみを抽出する。そして、基板13の温
度が所定の条件を満たしているか否かをCPU1が判定
する。判定に使用される条件は、タイミング制御回路1
6、デバイス電源回路26およびピンエレクトロニクス
回路36の動作が安定するように、基板13、14、2
3、24、33、34のそれぞれについて設定されてお
り、メモリ2に予め格納されている。ここでは、指定さ
れた基板13の判定条件が適用される。
【0073】基板13の場合、温度データ信号TD1は
図2の温度センサ41a、41bによりそれぞれ検出さ
れた温度を示しており、より低い方の温度が基板13の
温度とされる。そして、その基板13の温度が所定の温
度範囲内にある否かをCPU1が判定する。
【0074】基板13の温度が所定の温度範囲内にある
場合、CPU1は制御データ信号CD1、CD2、CD
3、CD4、CD5、CD6をバスライン3にそれぞれ
出力する。
【0075】基板13の温度が所定の温度範囲外の場
合、CPU1は計測したウォームアップの経過時間が所
定の制限時間を超過しているか否かを判定する。制限時
間を超えない場合、そのままウォームアップを継続す
る。制限時間を超えた場合、警報を発するなどのエラー
処理を行う。
【0076】CPU1から出力された制御データ信号C
D1、CD2は、インターフェース11およびバスライ
ン12を介して、基板13、14のタイミング制御回路
16にそれぞれ供給される。制御データ信号CD3、C
D4は、インターフェース21およびバスライン22を
介して、基板23、24のデバイス電源回路26にそれ
ぞれ供給される。制御データ信号CD5、CD6は、イ
ンターフェース31およびバスライン32を介して、基
板33、34のピンエレクトロニクス回路36にそれぞ
れ供給される。
【0077】基板13、14のタイミング制御回路16
は、供給された制御データ信号CD1、CD2に基づい
て、ウォームアップの実行をそれぞれ停止すると共に、
システムキャリブレーションをそれぞれ実行する。基板
23、24のデバイス電源回路26は、供給された制御
データ信号CD3、CD4に基づいて、ウォームアップ
の実行をそれぞれ停止すると共に、システムキャリブレ
ーションをそれぞれ実行する。基板33、34のピンエ
レクトロニクス回路36は、供給された制御データ信号
CD5、CD6に基づいて、ウォームアップの実行をそ
れぞれ停止すると共に、システムキャリブレーションを
それぞれ実行する。
【0078】次に、図1のIC試験装置の故障時の復旧
方法について説明する。
【0079】図5は、図1のIC試験装置における故障
時の復旧方法を示すフローチャートである。
【0080】当該IC試験装置に故障が発生すると、メ
モリ2に格納された故障診断プログラムがCPU1によ
り自動的に実行され、故障個所の特定がなされる(ステ
ップS1)。
【0081】ここでは、図1の基板13のタイミング制
御回路16が故障したものと仮定する。
【0082】次に、手動で主電源を切断して、当該IC
試験装置を停止する(ステップS2)。
【0083】続いて、基板13を予備基板15に交換す
る作業を行い、予備基板15をタイミング制御部10に
実装する(ステップS3)。この時、再度の故障に備え
るため、予備基板15と同じ構成を持つ他の基板を、ダ
ミー・ソケット19に装着する。
【0084】交換作業に要する時間は数分程度であり、
交換作業に伴う基板14、23、24、33、34の温
度の低下はいずれも小さい。さらに、前述したように、
予備基板15は既に予備加熱されており、交換の作業が
終了した時点の予備基板15の温度は基板14とほぼ同
等である。
【0085】なお、以下の説明では、図1において、ス
テップS3で実装された予備基板15が基板13である
ものとする。
【0086】次に、手動で主電源を投入し、当該IC試
験装置を再起動する(ステップS4)。その直後に、ウ
ォームアップの実行が自動的に開始される(ステップS
5)。
【0087】ウォームアップの実行中、基板13、14
の温度検出部17、基板23、24の温度検出部27、
および基板33、34の温度検出部37は、基板13、
14、基板23、24、および基板33、34の温度を
それぞれ検出する(ステップS6)。基板13、14の
温度検出部17は温度データ信号TD1、TD2をそれ
ぞれ出力し、基板23、24の温度検出部27は温度デ
ータ信号TD3、TD4をそれぞれ出力し、基板33、
34の温度検出部37は温度データ信号TD5、TD6
をそれぞれ出力する。
【0088】CPU1は、温度データ信号TD1、TD
2、TD3、TD4、TD5、TD6の中から、作業者
により指定された基板13の温度データ信号TD1を抽
出し、基板13の温度が所定の条件を満たしているか否
かを判定する(ステップS7)。そして、基板13の温
度が所定の温度範囲内にある場合、CPU1はウォーム
アップの停止を決定して、制御データ信号CD1、CD
2、CD3、CD4、CD5、CD6を出力する。
【0089】CPU1から出力された制御データ信号C
D1、CD2、制御データ信号CD3、CD4、および
制御データ信号CD5、CD6に基づいて、基板13、
14のタイミング制御回路16、基板23、24のデバ
イス電源回路26、および基板33、34のピンエレク
トロニクス回路36は、ウォームアップの実行をそれぞ
れ停止し(ステップS8)、システムキャリブレーショ
ンをそれぞれ実行する(ステップS9)。
【0090】システムキャリブレーションの後、IC試
験が実行されて(ステップS10)、当該IC試験装置
が復旧する。
【0091】ステップS7において、基板13の温度が
所定の温度範囲外の場合、CPU1はウォームアップの
制限時間を超過しているか否かを判定する(ステップS
11)。制限時間を超えない場合、そのままウォームア
ップを継続する。制限時間を超えた場合、エラー処理を
行う(ステップS12)。
【0092】上記の復旧方法では、予備加熱された予備
基板15を用いて故障の修復を行い、しかも、実装され
た予備基板15の温度に基づいてウォームアップの停止
を判定している。このため、ウォームアップに要する時
間は数分(例えば、5分程度)である。
【0093】上述した通り、本発明の実施形態では、実
装された基板13、14に換えて実装可能な予備基板1
5と、実装された基板23、24に換えて実装可能な予
備基板25と、実装された基板33、34に換えて実装
可能な予備基板35とを備えている。しかも、それらの
予備基板15、25、35は、温度検出部17、27、
37をそれぞれ有すると共に、実装前に予備加熱されて
いる。そして、当該IC試験装置の故障時には、予備加
熱された予備基板15、25または35を故障基板に換
えて実装することで修復がなされる。実装された予備基
板15の温度検出部17、予備基板25の温度検出部2
7、または予備基板35の温度検出部37がウォームア
ップ中に予備基板15、25または35の温度を検出
し、検出された温度に基づいてウォームアップの実行が
停止される。このため、ウォームアップの実行時間を従
来の約1/6程度に短縮することができ、故障に起因す
る稼働率の低下が抑制される。
【0094】なお、上述した実施形態では、当該IC試
験装置に設けられたダミー・ソケットに予備基板を装着
し、動作中の基板の発する熱を伝達させることにより、
予備基板を予備加熱している。しかし、本発明はこれに
限定されるものではなく、温度制御が可能な保管手段
(例えば、恒温漕など)を設け、その保管手段に実装前
の予備基板を収納しておくことにより、予備基板を予備
加熱することもできる。
【0095】また、温度センサとしては、バイメタルや
サーミスタなどを応用したものも使用可能である。
【0096】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の半導体集積
回路試験装置およびその故障時の復旧方法によれば、故
障修復後のウォームアップの実行時間を短縮できる。こ
のため、故障に起因する稼働率の低下を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の半導体集積回路試験装置
の構成を示す図である。
【図2】図1の半導体集積回路試験装置の温度検出部を
示す斜視図である。
【図3】図2の温度検出部の温度センサを示すブロック
図である。
【図4】図1の半導体集積回路試験装置の基板および予
備基板の装着状態を示す斜視図である。
【図5】図1の半導体集積回路試験装置における故障時
の復旧方法を示すフローチャートである。
【図6】従来の半導体集積回路試験装置の動作を示すフ
ローチャートである。
【符号の説明】
1 CPU 2 メモリ 3 バスライン 7、8、9 フレーム 10 タイミング制御部 11 インターフェース 12 バスライン 13、14 実装された基板 15 予備基板 16 タイミング制御回路 17 温度検出部 18 実装用ソケット 19 ダミー・ソケット 20 デバイス電源部 21 インターフェース 22 バスライン 23、24 実装された基板 25 予備基板 26 デバイス電源回路 27 温度検出部 28 実装用ソケット 29 ダミー・ソケット 30 ピンエレクトロニクス部 31 インターフェース 32 バスライン 33、34 実装された基板 35 予備基板 36 ピンエレクトロニクス回路 37 温度検出部 38 実装用ソケット 39 ダミー・ソケット 41a、41b 温度センサ 42a、42b アース・プレーン 43 温度データ生成部 61a、61b、61c、61d、61e 位相反転器 61f、61g 位相反転器 62 位相比較器

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 起動時に動作安定化のためウォームアッ
    プが実行される半導体集積回路試験装置であって、 故障時に故障発生基板に換えて実装可能な予備基板と、 前記予備基板が実装された時に前記予備基板の温度を検
    出する温度検出手段とを備えてなり、 前記予備基板は、実装前に予め加熱されており、 しかも、前記予備基板の実装により前記故障を修復した
    時に、再起動により実行される前記ウォームアップを、
    検出された前記予備基板の温度に基づき停止することを
    特徴とする半導体集積回路試験装置。
  2. 【請求項2】 前記温度検出手段が前記予備基板に設け
    られてなる請求項1に記載の半導体集積回路試験装置。
  3. 【請求項3】 前記予備基板に複数の前記温度検出手段
    が設けられており、それらの複数の前記温度検出手段の
    それぞれが検出した温度の最小値を前記予備基板の温度
    とする請求項1に記載の半導体集積回路試験装置。
  4. 【請求項4】 前記温度検出手段が前記予備基板の接地
    配線領域に密着して設けられてなる請求項2または3に
    記載の半導体集積回路試験装置。
  5. 【請求項5】 前記温度検出手段が、縦続接続された複
    数の位相反転器と、初段の前記位相反転器への入力信号
    と最終段の前記位相反転器の出力信号との位相差を検出
    する位相比較器とを有しており、前記位相比較器が、実
    装された前記予備基板の温度に対応する信号を、前記ウ
    ォームアップを制御する制御手段に出力する請求項2〜
    4のいずれか1項に記載の半導体集積回路試験装置。
  6. 【請求項6】 実装基板保持手段に隣接して設けられた
    予備基板保持手段をさらに備えており、実装前の前記予
    備基板が前記予備基板保持手段に保持されており、前記
    実装基板保持手段に実装された基板の発熱により、前記
    予備基板が実装前に予め加熱される請求項1〜5のいず
    れか1項に記載の半導体集積回路試験装置。
  7. 【請求項7】 収納された実装前の前記予備基板を加熱
    可能な予備基板保管手段をさらに備えている請求項1〜
    5のいずれか1項に記載の半導体集積回路試験装置。
  8. 【請求項8】 起動時に動作安定化のためウォームアッ
    プが実行される半導体集積回路試験装置の故障時の復旧
    方法であって、 故障時に故障発生基板に換えて予め加熱された予備基板
    を実装し、前記故障を修復するステップと、 前記故障を修復した後、再起動して前記ウォームアップ
    を実行するステップと、 前記ウォームアップの実行中に、実装された前記予備基
    板の温度を検出するステップと、 検出された前記予備基板の温度に基づき前記ウォームア
    ップを停止するステップとを備えることを特徴とする半
    導体集積回路試験装置の復旧方法。
  9. 【請求項9】 前記予備基板の複数の部位の温度を検出
    し、それら複数の部位の温度の最小値を前記予備基板の
    温度とする請求項8に記載の半導体集積回路試験装置の
    復旧方法。
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