JP3361162B2 - タンク室付ブロックバルブ - Google Patents
タンク室付ブロックバルブInfo
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- Y10T137/877—With flow control means for branched passages
- Y10T137/87877—Single inlet with multiple distinctly valved outlets
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主に半導体製造装置等
に於いて使用される高純度ガスを取り扱う配管路に組み
込んで使用するものであり、特に配管路に組み込まれた
ブロックバルブの二次側に配設されてブロックバルブが
組み込まれた配管路内の残留ガスを迅速且つ円滑に抜き
出せるようにしたタンク室付ブロックバルブに関する。 【０００２】 【従来の技術】一般に、半導体製造装置に於けるプロセ
スチャンバーへのガスの供給配管路は、図６に示す如
く、プロセスチャンバー（図示省略）へのガス供給経路
に、複数のバルブを一体的に組み合わせた構造のバルブ
所謂ブロックバルブ４０を複数個組み込み、各ブロック
バルブ４０を適宜に制御することによって、各ブロック
バルブ４０からプロセスチャンバーへ各種ガスＧ1 ，Ｇ
2 ，Ｇ3 ，Ｇ4 ，Ｇ5 を交互に供給できるように構成さ
れている。尚、図６に於いて、４１はガス供給経路に接
続された分岐管、４２は分岐管４１に介設された開閉
弁、４３は分岐管４１に接続された真空ポンプである。
而して、ブロックバルブ４０を組み込んだ配管路は、単
体のバルブを複数個組み込んだ配管路に比較して管路内
の内容積を小さくすることができる為、ガスの置換性の
向上を図れると共に、パーティクルの発生を防止できる
等、優れた利点を有する。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体製造
装置では、プロセスチャンバーへ供給するガスの種類を
切り換えたり、或いは配管路内のガスを抜き出したりす
ることがある。その為にはブロックバルブ４０が組み込
まれた配管路内（図６の太線部分）の残留ガスを抜き出
す必要がある。従来、ブロックバルブ４０が組み込まれ
た配管路内の残留ガスを抜き出す場合には、ガスの供給
を停止した後、ブロックバルブ４０よりも下流側のガス
供給経路に接続した分岐管４１及び真空ポンプ４３等を
利用して残留ガスの抜き出しを行うようにしていた。然
し乍ら、残留ガスの抜き出し時には、連続運転中の真空
ポンプ４３の吸気側に設けた閉止バルブを開にして配管
路内の残留ガスを抜き出すようにしている為、大気圧の
ガスを真空ポンプ４３により所望の真空度まで減圧する
のに時間が掛り、配管路内の残留ガスを迅速且つ円滑に
抜き出せないと云う問題があった。 【０００４】本発明は、上記の問題点を解消する為に創
案されたものであり、その目的はブロックバルブが組み
込まれた配管路内の残留ガスを迅速且つ円滑に抜き出せ
るようにしたタンク室付ブロックバルブを提供するにあ
る。 【０００５】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本発明のタンク室付ブロックバルブは、入口及び出
口を有するガス供給通路と、ガス供給通路に連通状態で
接続され、出口を有する分岐通路と、分岐通路の途中に
形成されたタンク室とを備えたボディと；ボディに設け
られ、分岐通路が接続された部分よりも下流側のガス供
給通路を開閉する第１バルブと；ボディに設けられ、タ
ンク室よりも上流側の分岐通路を開閉する第２バルブと
から構成したものである。 【０００６】 【作用】前記タンク室付ブロックバルブは、半導体製造
装置のプロセスチャンバーへガスを供給する配管路に組
み込まれて居り、ガス供給通路の入口及び出口がガス供
給経路に接続され、又、分岐通路の出口が分岐管を介し
て真空ポンプに接続されている。而して、第２バルブを
操作して分岐通路を閉鎖すると共に、第１バルブを操作
してガス供給通路を開放すると、ガス供給源から供給さ
れたガスがガス供給通路を通ってプロセスチャンバー側
へ流れる。又、タンク室内を真空ポンプにより予め真空
状態にしておき、ガスの供給を停止し、第１バルブを操
作してガス供給通路を閉鎖すると共に、第２バルブを操
作して分岐通路を開放すると、ガス供給通路及び分岐通
路内の残留ガスと配管路内の残留ガスはタンク室内へ強
制的に吸引される。その結果、配管路内の残留ガスを迅
速且つ確実に抜き出すことができる。 【０００７】 【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図１乃至図４は本発明の実施例に係るタン
ク室付ブロックバルブを示し、当該タンク室付ブロック
バルブは、ボディ１、第１バルブ２、第２バルブ３、第
１継手４及び第２継手５等から構成されて居り、第１バ
ルブ２及び第２バルブ３にはダイレクトダイヤフラム式
バルブが使用されている。 【０００８】前記ボディ１は、ステンレス鋼等の金属材
により略ブロック状に形成されて居り、ブロック状の本
体部１ａと本体部１ａの左側面に溶着された板状の蓋部
１ｂとから成る。又、ボディ１には、図３及び図４に示
す如く、本体部１ａの後面（図３の後方側）に入口６ａ
を、本体部１ａの前面（図３の前方側）に出口６ｂを夫
々有するガス供給通路６と、ガス供給通路６に連通状態
で接続され、蓋部１ｂに出口７ａを有する分岐通路７と
が夫々形成されている。更に、分岐通路７の途中には、
適宜の容量を有するタンク室８が形成されている。本実
施例では、タンク室８は、図３に示す如く、本体部１ａ
の左側面部に側方が開放された凹部を形成し、当該凹部
の開口を蓋部１ｂで密閉状に閉塞することにより形成さ
れている。 【０００９】前記第１バルブ２は、ボディ１の上面側に
設けられて居り、分岐通路７が接続された部分よりも下
流側のガス供給通路６を開閉するようにしたものであ
る。即ち、第１バルブ２は、ボディ１の上面部に形成さ
れ、ガス供給通路６に連通する上方が開放された凹状の
第１弁室９と、第１弁室９の底面に埋設状態で設けられ
た合成樹脂製の環状の第１弁座１０と、第１弁室９内に
配設され、第１弁室９の気密を保持すると共にその中央
部が上下動して第１弁座１０に当離座する金属薄板製
（ステンレス鋼、インコネル等）の第１ダイヤフラム１
１と、第１弁室９内に挿入され、第１ダイヤフラム１１
の外周縁部をボディ１との間で気密状に挾持固定し得る
金属製の筒状の第１ボンネット１２と、ボディ１側に螺
着され、第１ボンネット１２をボディ１側へ押圧固定す
る第１ボンネットナット１３と、第１ボンネット１２に
昇降自在に支持され、先端部に第１ダイヤフラム１１の
中央部に当接する第１ダイヤフラム押え１４を設けた金
属製の第１ステム１５と、第１ステム１５を下方側へ附
勢して第１ダイヤフラム１１を第１弁座１０へ当座させ
る第１スプリング１６と、第１ステム１５に連結され、
第１ステム１５を第１スプリング１６の附勢力に抗して
上昇させる流体アクチュエータ等から成る第１駆動装置
１７とから構成されている。而して、前記第１バルブ２
は、第１駆動装置１７へ駆動流体（エアー等）を供給す
ると、第１ステム１５が第１スプリング１６の附勢力に
抗して上昇すると共に、これに伴って第１ダイヤフラム
１１がその弾性力や流体圧により上方へ変位して第１弁
座１０から離座し、又、作動流体の供給を停止すると、
第１ステム１５が第１スプリング１６の附勢力により下
降すると共に、第１ダイヤフラム１１の中央部が第１ス
テム１５により下方へ押圧されて第１弁座１０へ当座す
るようになっている。 【００１０】前記第２バルブ３は、ボディ１の下面側に
設けられ、タンク室８よりも上流側の分岐通路７を開閉
するようにしたものであり、第１バルブ２と同様構造に
構成されている。即ち、第２バルブ３は、ボディ１の下
面部に形成され、分岐通路７に連通する下方が開放され
た凹状の第２弁室１８と、第２弁室１８の底面に設けら
れた第２弁座１９と、第２弁室１８内に配設され、第２
弁室１８の気密を保持すると共にその中央部が上下動し
て第２弁座１９に当離座する第２ダイヤフラム２０と、
第２弁室１８内に挿入され、第２ダイヤフラム２０の外
周縁部をボディ１との間で気密状に挾持固定し得る第２
ボンネット２１と、ボディ１側に螺着され、第２ボンネ
ット２１をボディ１側へ押圧固定する第２ボンネットナ
ット２２と、第２ボンネット２１に昇降自在に支持さ
れ、先端部に第２ダイヤフラム２０の中央部に当接する
第２ダイヤフラム押え２３を設けた第２ステム２４と、
第２ステム２４を第２弁座１９側へ附勢して第２ダイヤ
フラム２０を弁座へ当座させる第２スプリング２５と、
第２ステム２４に連結され、第２ステム２４を第２スプ
リング２５の附勢力に抗して駆動する流体アクチュエー
タ等から成る第２駆動装置２６とから構成されている。 【００１１】前記第１及び第２継手４，５は、ガス供給
通路６の出口６ｂ及び分岐通路７の出口７ａに夫々設け
られて居り、ガスの配管路への接続を容易にするもので
ある。即ち、第１継手４は、ステンレス綱等の金属材に
より形成されてガス供給通路６の出口６ｂに溶着された
第１スリーブ２７と、第１スリーブ２７に外嵌されたス
テンレス綱製の第１ユニオンナット２８とから成り、
又、第２継手５は、分岐通路７の出口７ａに溶着された
第２スリーブ２９と、第２スリーブ２９に外嵌された第
２ユニオンナット３０と、第２スリーブ２９と第２ユニ
オンナット３０との間に介設されたベアリング３１とか
ら成る。 【００１２】次に前記タンク室付ブロックバルブの作用
について説明する。当該タンク室付ブロックバルブは、
図５に示す如く、半導体製造装置のプロセスチャンバー
（図示省略）へガスを供給する配管路に組み込まれて居
り、配管路に組み込まれた複数個のブロックバルブ３２
の二次側に配設されている。即ち、ガス供給通路６の入
口６ａは接続金具３３を介してブロックバルブ３２の出
口に接続され、ガス供給通路６の出口６ｂに設けた第１
継手４はプロセスチャンバーへガスを導くガス供給管３
４に接続されている。又、分岐通路７の出口７ａに設け
た第２継手５は、開閉弁３５を介設した分岐管３６に接
続されている。この分岐管３６はロータリーポンプ等の
真空ポンプ（図示省略）に接続されている。尚、タンク
室８の内容積は、ブロックバルブ３２が組み込まれた配
管路の内容積（図５の太線部分）よりも大きめに設定さ
れている。又、第１バルブ２及び第２バルブ３は、常時
閉弁状態になっている。 【００１３】而して、タンク室付ブロックバルブを組み
込んだ配管路を用いてプロセスチャンバーへガスを流す
場合には、第２バルブ３を閉鎖した状態で第１バルブ２
を開放する。即ち、第１駆動装置１７により第１ステム
１５を上昇させる。そうすると、第１ダイヤフラム１１
はその弾性力や流体圧によりその中央部が上方へ変位
し、第１弁座１０から離座する。その結果、ガス供給通
路６が開放され、ブロックバルブ３２からガス供給通路
６の入口６ａに流入したガスは、図４に実線の矢印で示
すように、ガス供給通路６の一次側通路（入口６ａから
第１弁室９までの間）、第１弁室１８及びガス供給通路
６の二次側通路（第１弁室９から出口６ｂまでの間）を
経てガス供給管３４側へ流れて行き、ガス供給管３５か
らプロセスチャンバーへ導かれる。 【００１４】一方、プロセスチャンバーへ供給するガス
を切り換えたりする際には、ガスの供給を停止し、配管
路内（図５の太線部分）の残留ガスを抜く必要がある。
この場合、タンク室８内を予め真空状態にしておく。即
ち、第２バルブ３を閉鎖状態に、又、開閉弁３６を開放
状態にし、真空ポンプを作動してタンク室８内を１０ -4
ｔｏｒｒ程度の真空にしておく。そして、配管路内の残
留ガスを抜く場合には、第１バルブ２を閉鎖すると共
に、第２バルブ３を開放する。即ち、第１駆動装置１７
への駆動流体の供給を停止すると共に、第２駆動装置２
６により第２ステム２４を上昇させる。そうすると、第
１ダイヤフラム１１の中央部が第１ステム１５により下
方へ押圧されて第１弁座１０に当座すると共に、第２ダ
イヤフラム２０がその弾性力や流体圧により変位して第
２弁座１９から離座する。その結果、ガス供給通路６が
閉鎖される共に、分岐通路７が開放され、配管路内の残
留ガスは、図３に破線の矢印で示すように、ガス供給通
路６の入口６ａからガス供給通路６の一次側通路、分岐
通路７の一次側通路、第２弁室１８及び分岐通路７の二
次側通路を順次経て真空のタンク室８内に吸引され、タ
ンク室８から分岐管３７側へ排出されて行く。尚、真空
ポンプは、タンク室８内に流入した残留ガスが迅速に排
出されるように常時自動運転されている。 【００１５】このように、本考案のタンク室付ブロック
バルブは、ボディ１内に形成したタンク室８を真空に
し、各バルブ２，３を開閉操作してブロックバルブ３２
が組み込まれた配管路内の残留ガスをタンク室８内へ強
制的に引き抜くようにしている為、配管路内の残留ガス
を迅速且つ確実に抜き出すことができる。又、タンク室
付ブロックバルブは、一つのボディ１に二つのバルブ
２，３を設け、然もタンク室８をボディ１内に形成する
構成としている為、ブロックバルブ自体が大型化すると
云うことがなく、配管路に介設しても設置スペースを広
く必要とせず、設置スペースが少なくて済む。 【００１６】上記実施例に於いては、第１バルブ２及び
第２バルブ３にダイレクトダイヤフラム式バルブを使用
したが、各バルブ２，３には他の形式のバルブを使用し
ても良い。 【００１７】上記実施例に於いては、第１ステム１５及
び第２ステム２４の上端部に流体圧アクチュエータ等か
ら成る駆動装置１７，２６を連結したが、他の実施例に
於いては、第１ステム１５及び第２ステム２４に手動式
のハンドルを設け、手動操作によってに各ステム１５，
２４を昇降動させるようにしても良い。 【００１８】上記実施例に於いては、ガス供給通路６の
出口６ｂ及び分岐通路７の出口７ａに第１継手４及び第
２継手５を設けるようにしたが、他の実施例に於いて
は、各継手４，５を省略するようにしても良い。 【００１９】上記実施例に於いては、分岐管３６に設け
た開閉弁３５を開放状態にし、真空ポンプを常時自動運
転してタンク室８内に吸引された残留ガスを順次排出す
るようにしたが、他の実施例に於いては、タンク室８内
を真空にした後、分岐管３６に設けた開閉弁３５を閉鎖
し、残留ガスの抜き出し時に開閉弁３５を開放してタン
ク室８内へ残留ガスを吸引させるようにしても良い。 【００２０】 【発明の効果】上述の通り、本発明のタンク室付ブロッ
クバルブは、ボディにガス供給通路及びこれに連通接続
する分岐通路を形成すると共に、分岐通路の途中にタン
ク室を形成し、前記ボディに、分岐通路が接続された部
分よりも下流側のガス供給通路を開閉する第１バルブ
を、又、タンク室よりも上流側の分岐通路を開閉する第
２バルブを夫々設ける構成としている為、当該タンク室
付ブロックバルブをブロックバルブが組み込まれた配管
路の下流側に組み込み、タンク室内を真空にして各バル
ブを開閉操作することによって、配管路内の残留ガスを
真空のタンク室内へ強制的に引き抜くことができる。そ
の結果、配管路内の残留ガスを迅速且つ確実に抜き出す
ことができる。延いては、半導体等の品質の向上を図り
得る。又、本発明のタンク室付ブロックバルブは、一つ
のボディに二つのバルブを設け、然もボディ内にタンク
室を形成している為、ブロックバルブ自体が大型化する
と云うこともなく、配管路に介設しても設置スペースを
広く必要とせず、設置スペースが少なくて済む。
に於いて使用される高純度ガスを取り扱う配管路に組み
込んで使用するものであり、特に配管路に組み込まれた
ブロックバルブの二次側に配設されてブロックバルブが
組み込まれた配管路内の残留ガスを迅速且つ円滑に抜き
出せるようにしたタンク室付ブロックバルブに関する。 【０００２】 【従来の技術】一般に、半導体製造装置に於けるプロセ
スチャンバーへのガスの供給配管路は、図６に示す如
く、プロセスチャンバー（図示省略）へのガス供給経路
に、複数のバルブを一体的に組み合わせた構造のバルブ
所謂ブロックバルブ４０を複数個組み込み、各ブロック
バルブ４０を適宜に制御することによって、各ブロック
バルブ４０からプロセスチャンバーへ各種ガスＧ1 ，Ｇ
2 ，Ｇ3 ，Ｇ4 ，Ｇ5 を交互に供給できるように構成さ
れている。尚、図６に於いて、４１はガス供給経路に接
続された分岐管、４２は分岐管４１に介設された開閉
弁、４３は分岐管４１に接続された真空ポンプである。
而して、ブロックバルブ４０を組み込んだ配管路は、単
体のバルブを複数個組み込んだ配管路に比較して管路内
の内容積を小さくすることができる為、ガスの置換性の
向上を図れると共に、パーティクルの発生を防止できる
等、優れた利点を有する。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体製造
装置では、プロセスチャンバーへ供給するガスの種類を
切り換えたり、或いは配管路内のガスを抜き出したりす
ることがある。その為にはブロックバルブ４０が組み込
まれた配管路内（図６の太線部分）の残留ガスを抜き出
す必要がある。従来、ブロックバルブ４０が組み込まれ
た配管路内の残留ガスを抜き出す場合には、ガスの供給
を停止した後、ブロックバルブ４０よりも下流側のガス
供給経路に接続した分岐管４１及び真空ポンプ４３等を
利用して残留ガスの抜き出しを行うようにしていた。然
し乍ら、残留ガスの抜き出し時には、連続運転中の真空
ポンプ４３の吸気側に設けた閉止バルブを開にして配管
路内の残留ガスを抜き出すようにしている為、大気圧の
ガスを真空ポンプ４３により所望の真空度まで減圧する
のに時間が掛り、配管路内の残留ガスを迅速且つ円滑に
抜き出せないと云う問題があった。 【０００４】本発明は、上記の問題点を解消する為に創
案されたものであり、その目的はブロックバルブが組み
込まれた配管路内の残留ガスを迅速且つ円滑に抜き出せ
るようにしたタンク室付ブロックバルブを提供するにあ
る。 【０００５】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本発明のタンク室付ブロックバルブは、入口及び出
口を有するガス供給通路と、ガス供給通路に連通状態で
接続され、出口を有する分岐通路と、分岐通路の途中に
形成されたタンク室とを備えたボディと；ボディに設け
られ、分岐通路が接続された部分よりも下流側のガス供
給通路を開閉する第１バルブと；ボディに設けられ、タ
ンク室よりも上流側の分岐通路を開閉する第２バルブと
から構成したものである。 【０００６】 【作用】前記タンク室付ブロックバルブは、半導体製造
装置のプロセスチャンバーへガスを供給する配管路に組
み込まれて居り、ガス供給通路の入口及び出口がガス供
給経路に接続され、又、分岐通路の出口が分岐管を介し
て真空ポンプに接続されている。而して、第２バルブを
操作して分岐通路を閉鎖すると共に、第１バルブを操作
してガス供給通路を開放すると、ガス供給源から供給さ
れたガスがガス供給通路を通ってプロセスチャンバー側
へ流れる。又、タンク室内を真空ポンプにより予め真空
状態にしておき、ガスの供給を停止し、第１バルブを操
作してガス供給通路を閉鎖すると共に、第２バルブを操
作して分岐通路を開放すると、ガス供給通路及び分岐通
路内の残留ガスと配管路内の残留ガスはタンク室内へ強
制的に吸引される。その結果、配管路内の残留ガスを迅
速且つ確実に抜き出すことができる。 【０００７】 【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図１乃至図４は本発明の実施例に係るタン
ク室付ブロックバルブを示し、当該タンク室付ブロック
バルブは、ボディ１、第１バルブ２、第２バルブ３、第
１継手４及び第２継手５等から構成されて居り、第１バ
ルブ２及び第２バルブ３にはダイレクトダイヤフラム式
バルブが使用されている。 【０００８】前記ボディ１は、ステンレス鋼等の金属材
により略ブロック状に形成されて居り、ブロック状の本
体部１ａと本体部１ａの左側面に溶着された板状の蓋部
１ｂとから成る。又、ボディ１には、図３及び図４に示
す如く、本体部１ａの後面（図３の後方側）に入口６ａ
を、本体部１ａの前面（図３の前方側）に出口６ｂを夫
々有するガス供給通路６と、ガス供給通路６に連通状態
で接続され、蓋部１ｂに出口７ａを有する分岐通路７と
が夫々形成されている。更に、分岐通路７の途中には、
適宜の容量を有するタンク室８が形成されている。本実
施例では、タンク室８は、図３に示す如く、本体部１ａ
の左側面部に側方が開放された凹部を形成し、当該凹部
の開口を蓋部１ｂで密閉状に閉塞することにより形成さ
れている。 【０００９】前記第１バルブ２は、ボディ１の上面側に
設けられて居り、分岐通路７が接続された部分よりも下
流側のガス供給通路６を開閉するようにしたものであ
る。即ち、第１バルブ２は、ボディ１の上面部に形成さ
れ、ガス供給通路６に連通する上方が開放された凹状の
第１弁室９と、第１弁室９の底面に埋設状態で設けられ
た合成樹脂製の環状の第１弁座１０と、第１弁室９内に
配設され、第１弁室９の気密を保持すると共にその中央
部が上下動して第１弁座１０に当離座する金属薄板製
（ステンレス鋼、インコネル等）の第１ダイヤフラム１
１と、第１弁室９内に挿入され、第１ダイヤフラム１１
の外周縁部をボディ１との間で気密状に挾持固定し得る
金属製の筒状の第１ボンネット１２と、ボディ１側に螺
着され、第１ボンネット１２をボディ１側へ押圧固定す
る第１ボンネットナット１３と、第１ボンネット１２に
昇降自在に支持され、先端部に第１ダイヤフラム１１の
中央部に当接する第１ダイヤフラム押え１４を設けた金
属製の第１ステム１５と、第１ステム１５を下方側へ附
勢して第１ダイヤフラム１１を第１弁座１０へ当座させ
る第１スプリング１６と、第１ステム１５に連結され、
第１ステム１５を第１スプリング１６の附勢力に抗して
上昇させる流体アクチュエータ等から成る第１駆動装置
１７とから構成されている。而して、前記第１バルブ２
は、第１駆動装置１７へ駆動流体（エアー等）を供給す
ると、第１ステム１５が第１スプリング１６の附勢力に
抗して上昇すると共に、これに伴って第１ダイヤフラム
１１がその弾性力や流体圧により上方へ変位して第１弁
座１０から離座し、又、作動流体の供給を停止すると、
第１ステム１５が第１スプリング１６の附勢力により下
降すると共に、第１ダイヤフラム１１の中央部が第１ス
テム１５により下方へ押圧されて第１弁座１０へ当座す
るようになっている。 【００１０】前記第２バルブ３は、ボディ１の下面側に
設けられ、タンク室８よりも上流側の分岐通路７を開閉
するようにしたものであり、第１バルブ２と同様構造に
構成されている。即ち、第２バルブ３は、ボディ１の下
面部に形成され、分岐通路７に連通する下方が開放され
た凹状の第２弁室１８と、第２弁室１８の底面に設けら
れた第２弁座１９と、第２弁室１８内に配設され、第２
弁室１８の気密を保持すると共にその中央部が上下動し
て第２弁座１９に当離座する第２ダイヤフラム２０と、
第２弁室１８内に挿入され、第２ダイヤフラム２０の外
周縁部をボディ１との間で気密状に挾持固定し得る第２
ボンネット２１と、ボディ１側に螺着され、第２ボンネ
ット２１をボディ１側へ押圧固定する第２ボンネットナ
ット２２と、第２ボンネット２１に昇降自在に支持さ
れ、先端部に第２ダイヤフラム２０の中央部に当接する
第２ダイヤフラム押え２３を設けた第２ステム２４と、
第２ステム２４を第２弁座１９側へ附勢して第２ダイヤ
フラム２０を弁座へ当座させる第２スプリング２５と、
第２ステム２４に連結され、第２ステム２４を第２スプ
リング２５の附勢力に抗して駆動する流体アクチュエー
タ等から成る第２駆動装置２６とから構成されている。 【００１１】前記第１及び第２継手４，５は、ガス供給
通路６の出口６ｂ及び分岐通路７の出口７ａに夫々設け
られて居り、ガスの配管路への接続を容易にするもので
ある。即ち、第１継手４は、ステンレス綱等の金属材に
より形成されてガス供給通路６の出口６ｂに溶着された
第１スリーブ２７と、第１スリーブ２７に外嵌されたス
テンレス綱製の第１ユニオンナット２８とから成り、
又、第２継手５は、分岐通路７の出口７ａに溶着された
第２スリーブ２９と、第２スリーブ２９に外嵌された第
２ユニオンナット３０と、第２スリーブ２９と第２ユニ
オンナット３０との間に介設されたベアリング３１とか
ら成る。 【００１２】次に前記タンク室付ブロックバルブの作用
について説明する。当該タンク室付ブロックバルブは、
図５に示す如く、半導体製造装置のプロセスチャンバー
（図示省略）へガスを供給する配管路に組み込まれて居
り、配管路に組み込まれた複数個のブロックバルブ３２
の二次側に配設されている。即ち、ガス供給通路６の入
口６ａは接続金具３３を介してブロックバルブ３２の出
口に接続され、ガス供給通路６の出口６ｂに設けた第１
継手４はプロセスチャンバーへガスを導くガス供給管３
４に接続されている。又、分岐通路７の出口７ａに設け
た第２継手５は、開閉弁３５を介設した分岐管３６に接
続されている。この分岐管３６はロータリーポンプ等の
真空ポンプ（図示省略）に接続されている。尚、タンク
室８の内容積は、ブロックバルブ３２が組み込まれた配
管路の内容積（図５の太線部分）よりも大きめに設定さ
れている。又、第１バルブ２及び第２バルブ３は、常時
閉弁状態になっている。 【００１３】而して、タンク室付ブロックバルブを組み
込んだ配管路を用いてプロセスチャンバーへガスを流す
場合には、第２バルブ３を閉鎖した状態で第１バルブ２
を開放する。即ち、第１駆動装置１７により第１ステム
１５を上昇させる。そうすると、第１ダイヤフラム１１
はその弾性力や流体圧によりその中央部が上方へ変位
し、第１弁座１０から離座する。その結果、ガス供給通
路６が開放され、ブロックバルブ３２からガス供給通路
６の入口６ａに流入したガスは、図４に実線の矢印で示
すように、ガス供給通路６の一次側通路（入口６ａから
第１弁室９までの間）、第１弁室１８及びガス供給通路
６の二次側通路（第１弁室９から出口６ｂまでの間）を
経てガス供給管３４側へ流れて行き、ガス供給管３５か
らプロセスチャンバーへ導かれる。 【００１４】一方、プロセスチャンバーへ供給するガス
を切り換えたりする際には、ガスの供給を停止し、配管
路内（図５の太線部分）の残留ガスを抜く必要がある。
この場合、タンク室８内を予め真空状態にしておく。即
ち、第２バルブ３を閉鎖状態に、又、開閉弁３６を開放
状態にし、真空ポンプを作動してタンク室８内を１０ -4
ｔｏｒｒ程度の真空にしておく。そして、配管路内の残
留ガスを抜く場合には、第１バルブ２を閉鎖すると共
に、第２バルブ３を開放する。即ち、第１駆動装置１７
への駆動流体の供給を停止すると共に、第２駆動装置２
６により第２ステム２４を上昇させる。そうすると、第
１ダイヤフラム１１の中央部が第１ステム１５により下
方へ押圧されて第１弁座１０に当座すると共に、第２ダ
イヤフラム２０がその弾性力や流体圧により変位して第
２弁座１９から離座する。その結果、ガス供給通路６が
閉鎖される共に、分岐通路７が開放され、配管路内の残
留ガスは、図３に破線の矢印で示すように、ガス供給通
路６の入口６ａからガス供給通路６の一次側通路、分岐
通路７の一次側通路、第２弁室１８及び分岐通路７の二
次側通路を順次経て真空のタンク室８内に吸引され、タ
ンク室８から分岐管３７側へ排出されて行く。尚、真空
ポンプは、タンク室８内に流入した残留ガスが迅速に排
出されるように常時自動運転されている。 【００１５】このように、本考案のタンク室付ブロック
バルブは、ボディ１内に形成したタンク室８を真空に
し、各バルブ２，３を開閉操作してブロックバルブ３２
が組み込まれた配管路内の残留ガスをタンク室８内へ強
制的に引き抜くようにしている為、配管路内の残留ガス
を迅速且つ確実に抜き出すことができる。又、タンク室
付ブロックバルブは、一つのボディ１に二つのバルブ
２，３を設け、然もタンク室８をボディ１内に形成する
構成としている為、ブロックバルブ自体が大型化すると
云うことがなく、配管路に介設しても設置スペースを広
く必要とせず、設置スペースが少なくて済む。 【００１６】上記実施例に於いては、第１バルブ２及び
第２バルブ３にダイレクトダイヤフラム式バルブを使用
したが、各バルブ２，３には他の形式のバルブを使用し
ても良い。 【００１７】上記実施例に於いては、第１ステム１５及
び第２ステム２４の上端部に流体圧アクチュエータ等か
ら成る駆動装置１７，２６を連結したが、他の実施例に
於いては、第１ステム１５及び第２ステム２４に手動式
のハンドルを設け、手動操作によってに各ステム１５，
２４を昇降動させるようにしても良い。 【００１８】上記実施例に於いては、ガス供給通路６の
出口６ｂ及び分岐通路７の出口７ａに第１継手４及び第
２継手５を設けるようにしたが、他の実施例に於いて
は、各継手４，５を省略するようにしても良い。 【００１９】上記実施例に於いては、分岐管３６に設け
た開閉弁３５を開放状態にし、真空ポンプを常時自動運
転してタンク室８内に吸引された残留ガスを順次排出す
るようにしたが、他の実施例に於いては、タンク室８内
を真空にした後、分岐管３６に設けた開閉弁３５を閉鎖
し、残留ガスの抜き出し時に開閉弁３５を開放してタン
ク室８内へ残留ガスを吸引させるようにしても良い。 【００２０】 【発明の効果】上述の通り、本発明のタンク室付ブロッ
クバルブは、ボディにガス供給通路及びこれに連通接続
する分岐通路を形成すると共に、分岐通路の途中にタン
ク室を形成し、前記ボディに、分岐通路が接続された部
分よりも下流側のガス供給通路を開閉する第１バルブ
を、又、タンク室よりも上流側の分岐通路を開閉する第
２バルブを夫々設ける構成としている為、当該タンク室
付ブロックバルブをブロックバルブが組み込まれた配管
路の下流側に組み込み、タンク室内を真空にして各バル
ブを開閉操作することによって、配管路内の残留ガスを
真空のタンク室内へ強制的に引き抜くことができる。そ
の結果、配管路内の残留ガスを迅速且つ確実に抜き出す
ことができる。延いては、半導体等の品質の向上を図り
得る。又、本発明のタンク室付ブロックバルブは、一つ
のボディに二つのバルブを設け、然もボディ内にタンク
室を形成している為、ブロックバルブ自体が大型化する
と云うこともなく、配管路に介設しても設置スペースを
広く必要とせず、設置スペースが少なくて済む。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係るタンク室付ブロックバル
ブの正面図である。 【図２】タンク室付ブロックバルブの平面図である。 【図３】タンク室付ブロックバルブの一部破断正面図で
ある。 【図４】タンク室付ブロックバルブの一部破断左側面図
である。 【図５】タンク室付ブロックバルブをガスの配管路に組
み込んだ概略系統図である。 【図６】複数個のブロックバルブをガスの配管路に組み
込んだ概略系統図である。 【符号の説明】 １はボディ、２は第１バルブ、３は第２バルブ、６はガ
ス供給通路、６ａはガス供給通路の入口、６ｂはガス供
給通路の出口、７は分岐通路、７ａは分岐通路の出口、
８はタンク室。
ブの正面図である。 【図２】タンク室付ブロックバルブの平面図である。 【図３】タンク室付ブロックバルブの一部破断正面図で
ある。 【図４】タンク室付ブロックバルブの一部破断左側面図
である。 【図５】タンク室付ブロックバルブをガスの配管路に組
み込んだ概略系統図である。 【図６】複数個のブロックバルブをガスの配管路に組み
込んだ概略系統図である。 【符号の説明】 １はボディ、２は第１バルブ、３は第２バルブ、６はガ
ス供給通路、６ａはガス供給通路の入口、６ｂはガス供
給通路の出口、７は分岐通路、７ａは分岐通路の出口、
８はタンク室。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 入口（６ａ）及び出口（６ｂ）を有する
ガス供給通路（６）と、ガス供給通路（６）に連通状態
で接続され、出口（７ａ）を有する分岐通路（７）と、
分岐通路（７）の途中に形成されたタンク室（８）とを
備えたボディ（１）と；ボディ（１）に設けられ、分岐
通路（７）が接続された部分よりも下流側のガス供給通
路（６）を開閉する第１バルブ（２）と；ボディ（１）
に設けられ、タンク室（８）よりも上流側の分岐通路
（７）を開閉する第２バルブ（３）とから構成したこと
を特徴とするタンク室付ブロックバルブ。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26869093A JP3361162B2 (ja) | 1993-10-27 | 1993-10-27 | タンク室付ブロックバルブ |
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| KR1019940025436A KR0170018B1 (ko) | 1993-10-27 | 1994-10-05 | 탱크실을 가진 블록밸브 |
| US08/326,852 US5469885A (en) | 1993-10-27 | 1994-10-21 | Block valve with tank chamber |
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| EP19940307785 EP0651189B1 (en) | 1993-10-27 | 1994-10-24 | Fluid flow control valve |
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| CA 2134425 CA2134425C (en) | 1993-10-27 | 1994-10-26 | Block valve with tank chamber |
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| JP (1) | JP3361162B2 (ja) |
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| CN107701788A (zh) * | 2017-08-15 | 2018-02-16 | 叶子建 | 一种可控性较强的蓄水池控制阀门 |
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| KR102243713B1 (ko) | 2020-11-30 | 2021-04-26 | 주식회사 대성이노텍 | 목재 및 합판의 방염처리장치 |
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| FR2043936A5 (ja) * | 1969-05-02 | 1971-02-19 | Dubois Roger | |
| DE2408208A1 (de) * | 1974-02-21 | 1975-09-11 | Hansa Metallwerke Ag | Mischbatterie fuer kalt- und warmwasser mit zwei drucktastenventilen |
| US4714091A (en) * | 1985-06-10 | 1987-12-22 | Emcore, Inc. | Modular gas handling apparatus |
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