JPH04231784A - 制御弁用のパイロツト弁及び作動方法 - Google Patents
制御弁用のパイロツト弁及び作動方法Info
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- JPH04231784A JPH04231784A JP3155072A JP15507291A JPH04231784A JP H04231784 A JPH04231784 A JP H04231784A JP 3155072 A JP3155072 A JP 3155072A JP 15507291 A JP15507291 A JP 15507291A JP H04231784 A JPH04231784 A JP H04231784A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/126—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a diaphragm, bellows, or the like
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D16/00—Control of fluid pressure
- G05D16/024—Controlling the inlet pressure, e.g. back-pressure regulator
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- G—PHYSICS
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- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
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- G05D16/04—Control of fluid pressure without auxiliary power
- G05D16/10—Control of fluid pressure without auxiliary power the sensing element being a piston or plunger
- G05D16/101—Control of fluid pressure without auxiliary power the sensing element being a piston or plunger the controller being arranged as a multiple-way valve
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は主管路における制御弁用
のパイロット弁に関し、特に主管路内の圧力流体とは別
の流体源を用いるかかるパイロット弁及び作動方法に関
する。
のパイロット弁に関し、特に主管路内の圧力流体とは別
の流体源を用いるかかるパイロット弁及び作動方法に関
する。
【０００２】
【従来技術及びその課題】従来、主制御弁用のパイロッ
ト弁の作動についは、検知している主管路内のプロセス
流体のみを使用することが普通であった。しばしば、主
管路中のプロセス流体は、流路を詰まらせ又は狭窄化し
、また、向かい合いの閉鎖面又は摺動面を固着させ又は
隙間を空けさせることのある異物を含む。パイロット弁
はかかる応用例に効果的に使用しうるが、パイロット弁
が完全に機能するためには、パイロット弁の適切な保守
と清掃とが要求される。かかるパイロット弁の連続的、
又は度々の保守は望ましくない性質である。
ト弁の作動についは、検知している主管路内のプロセス
流体のみを使用することが普通であった。しばしば、主
管路中のプロセス流体は、流路を詰まらせ又は狭窄化し
、また、向かい合いの閉鎖面又は摺動面を固着させ又は
隙間を空けさせることのある異物を含む。パイロット弁
はかかる応用例に効果的に使用しうるが、パイロット弁
が完全に機能するためには、パイロット弁の適切な保守
と清掃とが要求される。かかるパイロット弁の連続的、
又は度々の保守は望ましくない性質である。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は、主流路内の制
御弁用のパイロット弁に向けられ、本発明においては、
管路内のプロセス流体は、パイロット弁により感知され
るが、流路、パイロット弁のシール面とその弁座、及び
主弁のドーム室を含んだパイロット弁の重要な作動部品
及び組み合わせられた主制御弁から隔離される。主弁の
ドーム室及びパイロット弁のシール面とその弁座に接触
する高圧気体のような別の清浄な補助流体源が利用され
、これによりかかる重要な部材は清浄な乾燥気体のみに
曝される。パイロット弁に予定の一定流体圧力で気体を
供給するために、加圧気体源用の流体圧力調整器が設け
られる。
御弁用のパイロット弁に向けられ、本発明においては、
管路内のプロセス流体は、パイロット弁により感知され
るが、流路、パイロット弁のシール面とその弁座、及び
主弁のドーム室を含んだパイロット弁の重要な作動部品
及び組み合わせられた主制御弁から隔離される。主弁の
ドーム室及びパイロット弁のシール面とその弁座に接触
する高圧気体のような別の清浄な補助流体源が利用され
、これによりかかる重要な部材は清浄な乾燥気体のみに
曝される。パイロット弁に予定の一定流体圧力で気体を
供給するために、加圧気体源用の流体圧力調整器が設け
られる。
【０００４】パイロット弁は、主管路からのプロセス流
体と連通している流体入り口感知室、及びプロセス流体
とは隔離された別の補助圧力流体源と連通している分離
流体入り口供給室を持つ。感知室においてプロセス流体
の予定された低い流体圧力への到達を感知したとき、ド
ーム室に流体を供給するため、制御弁のドーム室と連通
している中間流体室が流体入り口供給室と選択的に連通
するようにされる。また、感知室においてプロセス流体
の予定の高い流体圧力への到達を感知したとき、ドーム
室から流体を逃がすために、中間流体室もまた大気と選
択的に連通するようにされる。感知室内のプロセス流体
の圧力に応答する適切な弁手段が設けられ、プロセス流
体の予定された低い流体圧力においては、中間室と補助
流体のある流体入り口供給室とを選択的に連通させ、更
にプロセス流体の予定された高い流体圧力においては、
中間室と排出室とを選択的に連通させる。パイロット弁
の全作動中、プロセス流体と補助流体源とは互いに隔離
された状態である。
体と連通している流体入り口感知室、及びプロセス流体
とは隔離された別の補助圧力流体源と連通している分離
流体入り口供給室を持つ。感知室においてプロセス流体
の予定された低い流体圧力への到達を感知したとき、ド
ーム室に流体を供給するため、制御弁のドーム室と連通
している中間流体室が流体入り口供給室と選択的に連通
するようにされる。また、感知室においてプロセス流体
の予定の高い流体圧力への到達を感知したとき、ドーム
室から流体を逃がすために、中間流体室もまた大気と選
択的に連通するようにされる。感知室内のプロセス流体
の圧力に応答する適切な弁手段が設けられ、プロセス流
体の予定された低い流体圧力においては、中間室と補助
流体のある流体入り口供給室とを選択的に連通させ、更
にプロセス流体の予定された高い流体圧力においては、
中間室と排出室とを選択的に連通させる。パイロット弁
の全作動中、プロセス流体と補助流体源とは互いに隔離
された状態である。
【０００５】感知されたプロセス流体源が制御弁のドー
ム室及びパイロット弁の座とシール面から絶縁されるよ
うな制御弁用のパイロット弁を提供することが本発明の
目的である。
ム室及びパイロット弁の座とシール面から絶縁されるよ
うな制御弁用のパイロット弁を提供することが本発明の
目的である。
【０００６】主管路内のプロセス流体を感知する入り口
感知室及びパイロット弁の作動用の別の補助流体源を有
する分離した補助流体入り口供給室を持った主管路制御
用パイロット弁を提供することが本発明の別の目的であ
る。
感知室及びパイロット弁の作動用の別の補助流体源を有
する分離した補助流体入り口供給室を持った主管路制御
用パイロット弁を提供することが本発明の別の目的であ
る。
【０００７】主管路内のプロセス流体を感知しかつパイ
ロット弁の作動用の別の補助流体を有し、別の補助流体
源の使用によるパイロット弁の改良された作動方法を提
供することが本発明の更に別の目的である。
ロット弁の作動用の別の補助流体を有し、別の補助流体
源の使用によるパイロット弁の改良された作動方法を提
供することが本発明の更に別の目的である。
【０００８】本発明のなお別の目的は、感知されたプロ
セス流体とは隔離された補助加圧気体源がパイロット弁
の作動用として予定の一定圧力でパイロット弁に供給さ
れかつ制御弁のドーム室と選択的に連通するような制御
弁用のパイロット弁を提供することである。
セス流体とは隔離された補助加圧気体源がパイロット弁
の作動用として予定の一定圧力でパイロット弁に供給さ
れかつ制御弁のドーム室と選択的に連通するような制御
弁用のパイロット弁を提供することである。
【０００９】本発明のその他の目的、利点、及び特徴は
以下の説明及び図面を参照し更に明らかとなるであろう
。
以下の説明及び図面を参照し更に明らかとなるであろう
。
【００１０】
【実施例】本発明の最も良く理解するために図面、特に
本発明の改良されたパイロット弁を備えた安全システム
を示す図１を参照すれば、圧力容器又はタンクが１０で
部分的に示され、これは上部フランジ１２を有し圧力容
器から延びている出口を持つ。一般に１４で示された主
圧力安全弁は、一般に２０で示された適切なナット及び
ボルト結合によりフランジ１２に連結された下部フラン
ジ１８を有する弁体１６を持つ。
本発明の改良されたパイロット弁を備えた安全システム
を示す図１を参照すれば、圧力容器又はタンクが１０で
部分的に示され、これは上部フランジ１２を有し圧力容
器から延びている出口を持つ。一般に１４で示された主
圧力安全弁は、一般に２０で示された適切なナット及び
ボルト結合によりフランジ１２に連結された下部フラン
ジ１８を有する弁体１６を持つ。
【００１１】弁体１６は弁室２２を有し、これと入り口
流路２４と出口流路２６とが連通する。一般に２８で示
されたピストン形の安全弁部材が往復運動できるように
弁室２２内に取り付けられ、この部材は入り口流路２４
の回りの環状の弁座３０に座る座を形成する内面２９を
持つ。弁部材２８の内面２９は、通常は、入り口流路２
４及びタンク１０からのプロセス流体に曝され、更にド
ーム室３６からの流体に曝される後面３４を持つ。閉鎖
位置において入り口流路２４からの流体圧力に曝される
内面２９の面積はドーム室３６内の流体圧力に曝される
外面３４の面積よりも小さい。このようにして面２９と
３４との間には流体圧力を受ける面積の差が形成され、
入り口流路２４内の流体圧力よりも低圧のドーム室３６
内の流体圧力が弁部材２８を弁座３０上の適正位置に座
らせるであろう。
流路２４と出口流路２６とが連通する。一般に２８で示
されたピストン形の安全弁部材が往復運動できるように
弁室２２内に取り付けられ、この部材は入り口流路２４
の回りの環状の弁座３０に座る座を形成する内面２９を
持つ。弁部材２８の内面２９は、通常は、入り口流路２
４及びタンク１０からのプロセス流体に曝され、更にド
ーム室３６からの流体に曝される後面３４を持つ。閉鎖
位置において入り口流路２４からの流体圧力に曝される
内面２９の面積はドーム室３６内の流体圧力に曝される
外面３４の面積よりも小さい。このようにして面２９と
３４との間には流体圧力を受ける面積の差が形成され、
入り口流路２４内の流体圧力よりも低圧のドーム室３６
内の流体圧力が弁部材２８を弁座３０上の適正位置に座
らせるであろう。
【００１２】本発明を形成する改良されたパイロット弁
は一般に４０で示され、下部本体部分４４を定める弁体
４２と上部本体部分４６とを持つ。下部本体部分４４は
上部フランジ４８を有し、上部本体部分４６は下部フラ
ンジ５０を有し、これらの間に感知用ダイヤフラム５２
を把持する。ばね５４がダイヤフラム５２を下方に押し
、ばね５４により加わる圧力を調整するために調整用ね
じ５６が手動で動かされる。上部本体部分４６から大気
への出口が５８に設けられる。
は一般に４０で示され、下部本体部分４４を定める弁体
４２と上部本体部分４６とを持つ。下部本体部分４４は
上部フランジ４８を有し、上部本体部分４６は下部フラ
ンジ５０を有し、これらの間に感知用ダイヤフラム５２
を把持する。ばね５４がダイヤフラム５２を下方に押し
、ばね５４により加わる圧力を調整するために調整用ね
じ５６が手動で動かされる。上部本体部分４６から大気
への出口が５８に設けられる。
【００１３】下部本体部分４４は、プロセス流体のある
入り口流路２４と感知用管路６２を通じて連通している
流体入り口感知室６０を、感知用ダイヤフラム５２に隣
接して定める。従って、入り口感知室６０は常にタンク
１０からのプロセス流体に曝される。下部本体部分４４
は、流体感知室６０と接した大直径の中央円孔部分６６
及び円孔部分６６と連なった小直径の端部円孔部分６８
を持つ。一般に７０で示されたピストンがダイヤフラム
５２と一緒に動くようにこれに固定され、更に大直径の
円孔部分６６内に往復運動できるように取り付けられる
。ピストン７０は、流体入り口供給室を形成する大直径
の内部円孔部分７２、及び大直径の内部円孔部分７２と
連なる小直径のエントランス円孔部分７４を持つ。
入り口流路２４と感知用管路６２を通じて連通している
流体入り口感知室６０を、感知用ダイヤフラム５２に隣
接して定める。従って、入り口感知室６０は常にタンク
１０からのプロセス流体に曝される。下部本体部分４４
は、流体感知室６０と接した大直径の中央円孔部分６６
及び円孔部分６６と連なった小直径の端部円孔部分６８
を持つ。一般に７０で示されたピストンがダイヤフラム
５２と一緒に動くようにこれに固定され、更に大直径の
円孔部分６６内に往復運動できるように取り付けられる
。ピストン７０は、流体入り口供給室を形成する大直径
の内部円孔部分７２、及び大直径の内部円孔部分７２と
連なる小直径のエントランス円孔部分７４を持つ。
【００１４】一般に７６で示されたスプール弁部材は、
これを通って延びる中央円孔７８を有し、更に大直径の
端部８０と端部８０から延びている小直径部分８２とを
定める。端部８０は円孔６８内に適合し、小直径部分８
２は円孔６８内を通りかつピストン７０の小直径エント
ランス円孔７４を通って延びる。円孔８６内の環状の隙
間８４が小直径円孔部分８２の周囲に設けられ、更にピ
ストン７０のエントランス円孔７４内の環状の隙間８６
が小直径部分８２の回りに設けられる。スプール弁部材
７６は内面の回りにＯリング９０のある上端フランジ８
８を有し、このＯリングは小直径部分７４の回りの環状
の弁座９２上に座る。中間フランジ９４は、円孔６８の
上端の周囲を延びている弁座９８を閉鎖するようにされ
たＯリングをその内面の周囲に持つ。比較的弱いばね１
００がピストン７０とスプール弁部材７６の上端フラン
ジ８８との間で押され、スプール弁部材７６を図２に示
された通常の閉鎖位置に強制し、Ｏリング９０を弁座９
２に座るように組み合わせ、かつＯリング９６を弁座９
８に座るように組み合わせさせる。出口流路１０２が円
孔６８から弁体４４を通って大気に延び、通気口又は排
出室を提供する。
これを通って延びる中央円孔７８を有し、更に大直径の
端部８０と端部８０から延びている小直径部分８２とを
定める。端部８０は円孔６８内に適合し、小直径部分８
２は円孔６８内を通りかつピストン７０の小直径エント
ランス円孔７４を通って延びる。円孔８６内の環状の隙
間８４が小直径円孔部分８２の周囲に設けられ、更にピ
ストン７０のエントランス円孔７４内の環状の隙間８６
が小直径部分８２の回りに設けられる。スプール弁部材
７６は内面の回りにＯリング９０のある上端フランジ８
８を有し、このＯリングは小直径部分７４の回りの環状
の弁座９２上に座る。中間フランジ９４は、円孔６８の
上端の周囲を延びている弁座９８を閉鎖するようにされ
たＯリングをその内面の周囲に持つ。比較的弱いばね１
００がピストン７０とスプール弁部材７６の上端フラン
ジ８８との間で押され、スプール弁部材７６を図２に示
された通常の閉鎖位置に強制し、Ｏリング９０を弁座９
２に座るように組み合わせ、かつＯリング９６を弁座９
８に座るように組み合わせさせる。出口流路１０２が円
孔６８から弁体４４を通って大気に延び、通気口又は排
出室を提供する。
【００１５】図１及び図２に示されようにＯリング９０
と９６とがそれぞれ弁座９２と９８の上の定位置にある
とき、流体入り口供給室７２がピストン７０の内部円孔
により形成され、また、中間流体室１０４がピストン７
０と隣接する大きな円孔部分６６内に形成される。室１
０４は、これからドーム管路１０６を経てドーム室３６
と連通する。更に、排出流路１０２により大気と連通し
ている円孔部分６８内の流体出口室又は排出室が形成さ
れる。入り口室７２、中間室１０４、及びドーム室３６
に清浄な流体を供給するため、窒素のような高圧気体源
が１０６に設けられる。流体入り口室７２に気体を供給
するために、流体源１０６に隣接した減圧調整器１０８
が管路１１０を経てスプール弁部材７６の中央円孔７８
に一定の予定圧力を与える。管路６２及び入り口感知室
６０を通る感知されたプロセス流体は、入り口室７２、
中間室１０４、ドーム室３６、及びスプール弁７６から
完全に隔離され分離され、従ってこれらの部分を汚染し
ないことが注意される。図１及び２に示されたパイロッ
ト弁４０の正常位置においては、流体入り口供給室を定
める内部円孔部分７２内に流体圧力差領域が形成され、
ピストン７０はばね５４の強制力に反して上向きに押さ
れる。
と９６とがそれぞれ弁座９２と９８の上の定位置にある
とき、流体入り口供給室７２がピストン７０の内部円孔
により形成され、また、中間流体室１０４がピストン７
０と隣接する大きな円孔部分６６内に形成される。室１
０４は、これからドーム管路１０６を経てドーム室３６
と連通する。更に、排出流路１０２により大気と連通し
ている円孔部分６８内の流体出口室又は排出室が形成さ
れる。入り口室７２、中間室１０４、及びドーム室３６
に清浄な流体を供給するため、窒素のような高圧気体源
が１０６に設けられる。流体入り口室７２に気体を供給
するために、流体源１０６に隣接した減圧調整器１０８
が管路１１０を経てスプール弁部材７６の中央円孔７８
に一定の予定圧力を与える。管路６２及び入り口感知室
６０を通る感知されたプロセス流体は、入り口室７２、
中間室１０４、ドーム室３６、及びスプール弁７６から
完全に隔離され分離され、従ってこれらの部分を汚染し
ないことが注意される。図１及び２に示されたパイロッ
ト弁４０の正常位置においては、流体入り口供給室を定
める内部円孔部分７２内に流体圧力差領域が形成され、
ピストン７０はばね５４の強制力に反して上向きに押さ
れる。
【００１６】作動の際は、感知室６０においてダイヤフ
ラム５２に対してタンク１０内のプロセス流体により加
えられる一定圧力のある状態で、スプール弁部材７６上
のＯリング９０及び９６は隣接の弁座９２及び９８の上
に座る。この位置においては、中間流体室１０４とドー
ム室３６とは、流体入り口室７２又は排出室１０２と連
通しない。タンク１０と入り口感知室６０内のプロセス
流体の圧力が予定圧に増加すると、ダイヤフラム５２及
びピストン７０は図３に示された位置に上昇し、中間流
体室１０４を円孔６８及び排出流路１０２に連通する位
置に置き、ドーム室３６内の圧力を低下させる。補助気
体が排出室１０２から大気中に排出されると、ピストン
７０に対して作用している補助供給気体からの圧力が減
少し、ピストン７０はばね５４の強制力により下降し、
Ｏリング９６を弁座９８に座らせる。感知室６０内で感
知されるプロセス気体の圧力が再び上昇すると、ピスト
ン７０はドーム室３６が更に減圧するまで再び上昇する
。ドーム室３６内の圧力が減少しピストン弁部材２８の
大きさの異なった端部又は面２９と３４とに作用してい
る反対方向の力が等しくなると、弁部材２８は、弁座３
６から離れて開口し、タンク１０内の圧力を低下させる
ように入り口流路２４からのプロセス圧力は弁１４及び
出口流路２６を通りうる。流量がプロセス流体の流体圧
力の増加を防止するに十分であるならば、ピストン７０
はばね５４の作用で下降しパイロットの出口の弁座９８
を閉鎖するであろう。
ラム５２に対してタンク１０内のプロセス流体により加
えられる一定圧力のある状態で、スプール弁部材７６上
のＯリング９０及び９６は隣接の弁座９２及び９８の上
に座る。この位置においては、中間流体室１０４とドー
ム室３６とは、流体入り口室７２又は排出室１０２と連
通しない。タンク１０と入り口感知室６０内のプロセス
流体の圧力が予定圧に増加すると、ダイヤフラム５２及
びピストン７０は図３に示された位置に上昇し、中間流
体室１０４を円孔６８及び排出流路１０２に連通する位
置に置き、ドーム室３６内の圧力を低下させる。補助気
体が排出室１０２から大気中に排出されると、ピストン
７０に対して作用している補助供給気体からの圧力が減
少し、ピストン７０はばね５４の強制力により下降し、
Ｏリング９６を弁座９８に座らせる。感知室６０内で感
知されるプロセス気体の圧力が再び上昇すると、ピスト
ン７０はドーム室３６が更に減圧するまで再び上昇する
。ドーム室３６内の圧力が減少しピストン弁部材２８の
大きさの異なった端部又は面２９と３４とに作用してい
る反対方向の力が等しくなると、弁部材２８は、弁座３
６から離れて開口し、タンク１０内の圧力を低下させる
ように入り口流路２４からのプロセス圧力は弁１４及び
出口流路２６を通りうる。流量がプロセス流体の流体圧
力の増加を防止するに十分であるならば、ピストン７０
はばね５４の作用で下降しパイロットの出口の弁座９８
を閉鎖するであろう。
【００１７】感知室６０内でプロセス流体の圧力がパイ
ロット弁４０の設定圧力点以下に低下すると、ピストン
７０は図４に示されるように下降し、管路１０６と中間
室１０４とを経て入り口室７２とドーム室３６とを連通
させ、これによりドーム室３６を再び加圧する。ドーム
室３６内の圧力が増加すると、主弁２８は再び閉じ、入
り口室７２内の流体圧力の増加のためピストン７０が上
昇し、Ｏリング９０を弁座９２に座らせ、これにより入
り口室７２とドーム室３６との間の連通を遮断する。プ
ロセス流体の流体圧力が感知室６０内において予定値に
達したときを除いてＯリング９６は常に弁座９６上に座
っていることが注意される。従って、流体源１０６から
の少量の供給流体のみが排出流路１０２から大気中に漏
洩するだけである。
ロット弁４０の設定圧力点以下に低下すると、ピストン
７０は図４に示されるように下降し、管路１０６と中間
室１０４とを経て入り口室７２とドーム室３６とを連通
させ、これによりドーム室３６を再び加圧する。ドーム
室３６内の圧力が増加すると、主弁２８は再び閉じ、入
り口室７２内の流体圧力の増加のためピストン７０が上
昇し、Ｏリング９０を弁座９２に座らせ、これにより入
り口室７２とドーム室３６との間の連通を遮断する。プ
ロセス流体の流体圧力が感知室６０内において予定値に
達したときを除いてＯリング９６は常に弁座９６上に座
っていることが注意される。従って、流体源１０６から
の少量の供給流体のみが排出流路１０２から大気中に漏
洩するだけである。
【００１８】特別な例として、（１）調整ねじ５６によ
り決定された設定圧力の９５％以上の感知室７０内のプ
ロセス流体圧力においてスプール弁部材７６を図３に示
された開口状態にするため、（２）設定圧力の９２％以
下の感知室６０内のプロセス流体圧力においてスプール
弁部材７６を図４に示された開口状態にするため、及び
（３）設定圧力の９２％と９５％の間の感知室６０内の
プロセス流体圧力においてスプール弁部材７６を図２に
示された閉鎖位置に止どまらせるために、パイロット弁
４０の調整が行なわれる。この場合、感知室６０内の流
体圧力が設定圧力の９２％以下のときは、ピストン７０
は下方に動きスプール弁部材７６は弁座から離れ、中間
流体室１０４を経てドーム室３６に清浄な気体の供給が
できる。感知室６０内のプロセス流体圧力が設定圧力の
９２％に増加すると、ダイヤフラム５２とピストン７０
とが上昇しＯリング９０を再び弁座９２に着座させ、こ
れによりドーム室３６と入り口室７２との間の流体の流
れを阻止する。
り決定された設定圧力の９５％以上の感知室７０内のプ
ロセス流体圧力においてスプール弁部材７６を図３に示
された開口状態にするため、（２）設定圧力の９２％以
下の感知室６０内のプロセス流体圧力においてスプール
弁部材７６を図４に示された開口状態にするため、及び
（３）設定圧力の９２％と９５％の間の感知室６０内の
プロセス流体圧力においてスプール弁部材７６を図２に
示された閉鎖位置に止どまらせるために、パイロット弁
４０の調整が行なわれる。この場合、感知室６０内の流
体圧力が設定圧力の９２％以下のときは、ピストン７０
は下方に動きスプール弁部材７６は弁座から離れ、中間
流体室１０４を経てドーム室３６に清浄な気体の供給が
できる。感知室６０内のプロセス流体圧力が設定圧力の
９２％に増加すると、ダイヤフラム５２とピストン７０
とが上昇しＯリング９０を再び弁座９２に着座させ、こ
れによりドーム室３６と入り口室７２との間の流体の流
れを阻止する。
【００１９】プロセス流体の圧力が設定圧力の９５％以
上に増加すると、ダイヤフラム５２とピストン７０とが
上昇し、スプール弁部材７６は弁座９８から離れ、ドー
ム室３６内の流体圧力を流路１０２を経て大気中に排出
する。プロセス圧力の増加が止むと、室３６内の低いド
ーム圧力のため、ピストン７０は下降する。流体のプロ
セス圧力が再び増加すると、ピストン７０は再び上昇し
スプール弁部材７６を弁座９８から離し、ドーム室３６
を減圧する。室３６内のドーム圧力が低下して両側の面
２９と３４に作用する流体圧力が全体的に等しくなると
、弁部材２８は上昇し、出口流路２６を通じてプロセス
流体を逃がす。もし流量が感知室６０内のプロセス流体
を増加から保つに（ｋｅｅｐ ｆｒｏｍ ｉｎｃｒｅａ
ｓｉｎｇ）十分であれば、ピストン７０は下降しスプー
ル弁部材７６を弁座９８に再び着座させる。感知室６０
内のプロセス流体の圧力が設定点の圧力の９２％以下に
低下したときは、ピストン７０は図４に示されたように
低下し、ドーム室３６はドーム室３６への入り口供給室
７２からの流体の流れにより再び加圧される。ドーム室
３６内のドーム圧力が予定点に増加すると、ピストン７
０は下降してＯリング９０を弁座９２に座らせる。
上に増加すると、ダイヤフラム５２とピストン７０とが
上昇し、スプール弁部材７６は弁座９８から離れ、ドー
ム室３６内の流体圧力を流路１０２を経て大気中に排出
する。プロセス圧力の増加が止むと、室３６内の低いド
ーム圧力のため、ピストン７０は下降する。流体のプロ
セス圧力が再び増加すると、ピストン７０は再び上昇し
スプール弁部材７６を弁座９８から離し、ドーム室３６
を減圧する。室３６内のドーム圧力が低下して両側の面
２９と３４に作用する流体圧力が全体的に等しくなると
、弁部材２８は上昇し、出口流路２６を通じてプロセス
流体を逃がす。もし流量が感知室６０内のプロセス流体
を増加から保つに（ｋｅｅｐ ｆｒｏｍ ｉｎｃｒｅａ
ｓｉｎｇ）十分であれば、ピストン７０は下降しスプー
ル弁部材７６を弁座９８に再び着座させる。感知室６０
内のプロセス流体の圧力が設定点の圧力の９２％以下に
低下したときは、ピストン７０は図４に示されたように
低下し、ドーム室３６はドーム室３６への入り口供給室
７２からの流体の流れにより再び加圧される。ドーム室
３６内のドーム圧力が予定点に増加すると、ピストン７
０は下降してＯリング９０を弁座９２に座らせる。
【００２０】パイロット弁４０の作動のための窒素ガス
のような別の補助高圧流体の利用により、スプール弁部
材７６及びドーム室３６は、いかなるプロセス流体とも
絶縁状態に保たれ、これにより異物を含んだ汚れたプロ
セス流体によるいかなる汚染又は故障も防ぐ。パイロッ
ト弁４０は非流パイロット弁（ｎｏｎ−ｆｌｏｗｉｎｇ
ｐｉｌｏｔ ｖａｌｖｅ）であり、正常な作動位置に
おいてこれを通過する連続流はない。図３に示されるよ
うなプロセス流体の予定値以下の流体圧力の低下中にお
いてのみ、ごく少量の補助流体が大気中に排出されるだ
けである。更に、調整器１０８が弁座又は類似の処にお
いて漏洩を起こす場合、及びドーム室３６を設定圧力の
９２％以上の圧力に加圧する場合には、ドーム室３６が
図３に示されるように大気中に排出することのないよう
に、ピストン７０に作用している入り口室７２内の流体
圧力差が調整用ばね５４の下向きの力に打ち勝ち、設定
圧力は低下するであろう。 約３５２ｋｇ／ｃｍ２（約５０００ポンド／平方インチ
）までの補助気体の流体圧力が一定圧力調整器１０８の
利用により与えられ、これにより源１０６における気体
圧力の補充を最小にする。
のような別の補助高圧流体の利用により、スプール弁部
材７６及びドーム室３６は、いかなるプロセス流体とも
絶縁状態に保たれ、これにより異物を含んだ汚れたプロ
セス流体によるいかなる汚染又は故障も防ぐ。パイロッ
ト弁４０は非流パイロット弁（ｎｏｎ−ｆｌｏｗｉｎｇ
ｐｉｌｏｔ ｖａｌｖｅ）であり、正常な作動位置に
おいてこれを通過する連続流はない。図３に示されるよ
うなプロセス流体の予定値以下の流体圧力の低下中にお
いてのみ、ごく少量の補助流体が大気中に排出されるだ
けである。更に、調整器１０８が弁座又は類似の処にお
いて漏洩を起こす場合、及びドーム室３６を設定圧力の
９２％以上の圧力に加圧する場合には、ドーム室３６が
図３に示されるように大気中に排出することのないよう
に、ピストン７０に作用している入り口室７２内の流体
圧力差が調整用ばね５４の下向きの力に打ち勝ち、設定
圧力は低下するであろう。 約３５２ｋｇ／ｃｍ２（約５０００ポンド／平方インチ
）までの補助気体の流体圧力が一定圧力調整器１０８の
利用により与えられ、これにより源１０６における気体
圧力の補充を最小にする。
【００２１】本発明の好ましい実施例が詳細に図示され
たが、この好ましい実施例の変化及び変更が当業者によ
りなしうることは明らかである。しかし、かかる変化及
び変更は特許請求の範囲に説明された本発明の精神及び
範囲内にあることを特に理解すべきである。
たが、この好ましい実施例の変化及び変更が当業者によ
りなしうることは明らかである。しかし、かかる変化及
び変更は特許請求の範囲に説明された本発明の精神及び
範囲内にあることを特に理解すべきである。
【００２２】本発明の特徴及び態様は以下の通りである
： １．主管路における制御弁用のパイロット弁にして、主
管路内のプロセス流体と連通している流体入り口感知室
、前記プロセス流体より隔離されかつ補助流体源と連通
している補助流体供給用の流体入り口供給室、制御弁の
ドーム室に流体を供給するために前記流体入り口供給室
と選択的に連通する中間流体室、及び前記ドーム室内の
流体圧力を低下させるために前記中間流体室と選択的に
連通する流体排出室を有する弁本体、及び正常運転中に
おける前記中間流体室と前記排出室との間の連通を阻止
するために前記流体入り口感知室内のプロセス流体の圧
力の変化に応答する前記中間流体室と前記排出室との間
の弁手段を備え、前記弁手段は前記流体入り口感知室に
おける予定された高い流体圧力への到達の際に、前記中
間室と前記排出室との間の連通を許すパイロット弁。
： １．主管路における制御弁用のパイロット弁にして、主
管路内のプロセス流体と連通している流体入り口感知室
、前記プロセス流体より隔離されかつ補助流体源と連通
している補助流体供給用の流体入り口供給室、制御弁の
ドーム室に流体を供給するために前記流体入り口供給室
と選択的に連通する中間流体室、及び前記ドーム室内の
流体圧力を低下させるために前記中間流体室と選択的に
連通する流体排出室を有する弁本体、及び正常運転中に
おける前記中間流体室と前記排出室との間の連通を阻止
するために前記流体入り口感知室内のプロセス流体の圧
力の変化に応答する前記中間流体室と前記排出室との間
の弁手段を備え、前記弁手段は前記流体入り口感知室に
おける予定された高い流体圧力への到達の際に、前記中
間室と前記排出室との間の連通を許すパイロット弁。
【００２３】２．正常運転中における前記中間流体室と
前記流体入り口供給室との間の連通を阻止するために前
記流体入り口感知室内のプロセス流体の圧力変化に応答
する前記中間流体室と前記流体入り口供給室との間の付
加的な弁手段、前記付加的な弁手段は前記流体入り口感
知室内の予定された低い流体圧力への到達の際に前記中
間室と前記流体入り口室との間の連通を許しこれにより
前記制御弁用のドーム室に補助流体圧力を与える上記１
に説明のパイロット弁。
前記流体入り口供給室との間の連通を阻止するために前
記流体入り口感知室内のプロセス流体の圧力変化に応答
する前記中間流体室と前記流体入り口供給室との間の付
加的な弁手段、前記付加的な弁手段は前記流体入り口感
知室内の予定された低い流体圧力への到達の際に前記中
間室と前記流体入り口室との間の連通を許しこれにより
前記制御弁用のドーム室に補助流体圧力を与える上記１
に説明のパイロット弁。
【００２４】３．プロセス流体用の主管路の制御弁のド
ーム室と連通するようにされた改良されたパイロット弁
にして、主管路円孔からのプロセス流体を検知する流体
入り口感知室を内部に定める中央円孔、別の補助流体の
供給を受け入れる流体入り口供給室、前記ドーム室と連
通しかつ前記流体入り口供給室と選択的に連通するよう
にされた中間流体室、及び前記中間流体室と選択的に連
通するようにされた大気への排出流体室を有する細長い
本体、前記制御弁の正常作動中は前記中間流体室と前記
流体入り口供給室、排出室との間の連通を阻止する弁手
段、及び前記主管路内の前記プロセス流体の圧力変化に
応答する前記流体入り口感知室内の流体感知部材を備え
、前記流体感知部材に応答する前記弁手段は、前記プロ
セス流体が予定された高い圧力に到達したとき前記ドー
ム室内の流体圧力を低下させるために前記中間流体室と
前記排出室との間の連通を許し、更に前記プロセス流体
が予定された低い圧力に到達したときに前記ドーム室を
補助流体供給から加圧するために前記中間流体室と前記
流体入り口供給室との間の連通を許す改良されたパイロ
ット弁。
ーム室と連通するようにされた改良されたパイロット弁
にして、主管路円孔からのプロセス流体を検知する流体
入り口感知室を内部に定める中央円孔、別の補助流体の
供給を受け入れる流体入り口供給室、前記ドーム室と連
通しかつ前記流体入り口供給室と選択的に連通するよう
にされた中間流体室、及び前記中間流体室と選択的に連
通するようにされた大気への排出流体室を有する細長い
本体、前記制御弁の正常作動中は前記中間流体室と前記
流体入り口供給室、排出室との間の連通を阻止する弁手
段、及び前記主管路内の前記プロセス流体の圧力変化に
応答する前記流体入り口感知室内の流体感知部材を備え
、前記流体感知部材に応答する前記弁手段は、前記プロ
セス流体が予定された高い圧力に到達したとき前記ドー
ム室内の流体圧力を低下させるために前記中間流体室と
前記排出室との間の連通を許し、更に前記プロセス流体
が予定された低い圧力に到達したときに前記ドーム室を
補助流体供給から加圧するために前記中間流体室と前記
流体入り口供給室との間の連通を許す改良されたパイロ
ット弁。
【００２５】４．前記流体感知部材が前記感知室内のプ
ロセス流体に暴露されたダイヤフラムを備える上記３に
説明の改良されたパイロット弁。
ロセス流体に暴露されたダイヤフラムを備える上記３に
説明の改良されたパイロット弁。
【００２６】５．前記弁本体が細長くかつ前記感知室と
連っている中央円孔を有し、前記流体感知部材は前記感
知室内のダイヤフラム及び前記中央円孔内に取り付けら
れ前記ダイヤフラムとともに動くようにこれに連結され
たピストンを備える上記３に説明の改良されたパイロッ
ト弁。
連っている中央円孔を有し、前記流体感知部材は前記感
知室内のダイヤフラム及び前記中央円孔内に取り付けら
れ前記ダイヤフラムとともに動くようにこれに連結され
たピストンを備える上記３に説明の改良されたパイロッ
ト弁。
【００２７】６．前記中間流体室と前記流体入り口供給
室との間の弁座、及び前記中間流体室と前記排出室との
間の弁座、前記弁手段は前記中間流体室、前記流体入り
口供給室、及び前記排出室の間に取り付けられたスプー
ル弁部材を有し、前記スプール弁部材は前記弁座を流れ
る流体を阻止するために前記弁座に座るようにされた１
対の間隔を空けたシールをその上に持つ上記３に説明の
改良されたパイロット弁。
室との間の弁座、及び前記中間流体室と前記排出室との
間の弁座、前記弁手段は前記中間流体室、前記流体入り
口供給室、及び前記排出室の間に取り付けられたスプー
ル弁部材を有し、前記スプール弁部材は前記弁座を流れ
る流体を阻止するために前記弁座に座るようにされた１
対の間隔を空けたシールをその上に持つ上記３に説明の
改良されたパイロット弁。
【００２８】７．圧力容器からの主管路内の安全弁を有
する圧力容器用の安全リリーフシステムにおいて、安全
弁は常時閉鎖位置で管路に取り付けられた往復ピストン
形の弁部材及び往復弁部材の外端部に対面するドーム室
を有し、安全弁の作動を制御するようにこれに連結され
た改良されたパイロット弁にして、前記主管路からプロ
セス流体を受け入れるために内部に流体入り口感知室を
有する本体、前記プロセス流体に暴露されかつ前記管路
における圧力変化に応答する前記感知室内の可動の流体
感知部材、補助流体供給を受け入れるための前記本体内
の流体入り口供給室、予定された流体圧力において前記
流体入り口供給室に補助流体を供給する手段、前記ドー
ム室と連通しかつ前記流体入り口供給室と選択的に連通
するようにされた前記本体内の別の流体室、及び前記別
の流体室と前記供給室との間の連通を通常は阻止してい
る前記流体入り口供給室と前記別の流体室との間の弁手
段を備え、前記弁手段は、前記プロセス流体が予定され
た圧力に到達したとき前記別の流体室と前記ドーム室と
に補助流体の供給を行うように前記流体入り口供給室と
前記別の流体室との間の連通を許すために前記プロセス
流体の予定された流体圧力において前記流体感知部材の
運動に応答する改良されたパイロット弁。
する圧力容器用の安全リリーフシステムにおいて、安全
弁は常時閉鎖位置で管路に取り付けられた往復ピストン
形の弁部材及び往復弁部材の外端部に対面するドーム室
を有し、安全弁の作動を制御するようにこれに連結され
た改良されたパイロット弁にして、前記主管路からプロ
セス流体を受け入れるために内部に流体入り口感知室を
有する本体、前記プロセス流体に暴露されかつ前記管路
における圧力変化に応答する前記感知室内の可動の流体
感知部材、補助流体供給を受け入れるための前記本体内
の流体入り口供給室、予定された流体圧力において前記
流体入り口供給室に補助流体を供給する手段、前記ドー
ム室と連通しかつ前記流体入り口供給室と選択的に連通
するようにされた前記本体内の別の流体室、及び前記別
の流体室と前記供給室との間の連通を通常は阻止してい
る前記流体入り口供給室と前記別の流体室との間の弁手
段を備え、前記弁手段は、前記プロセス流体が予定され
た圧力に到達したとき前記別の流体室と前記ドーム室と
に補助流体の供給を行うように前記流体入り口供給室と
前記別の流体室との間の連通を許すために前記プロセス
流体の予定された流体圧力において前記流体感知部材の
運動に応答する改良されたパイロット弁。
【００２９】８．圧力容器からの主管路内に安全弁を有
する圧力容器用の安全リリーフシステムにおいて、安全
弁は常時閉鎖位置で管路に取り付けられた往復ピストン
形の弁部材及び往復弁部材の外端部に対面するドーム室
を有し、管路からのプロセス流体のための流体入り口感
知室及び前記プロセス流体とは別の補助流体のための流
体入り口供給室を有する改良されたパイロット弁、前記
主管路と前記流体入り口感知室との間を連通させる手段
、予定された流体圧力において補助流体を前記流体入り
口供給室に供給する手段、前記ドーム室と連通している
前記パイロット弁内の別の流体室、前記別の流体室から
大気への排出室、前記プロセス流体に暴露されかつ前記
主管路内の圧力変化に応答する前記感知室内の可動の流
体感知用部材、及び通常は前記別の流体室と前記供給室
との間の連通を阻止するための前記別の流体室と前記排
出室との間の弁手段を備え、前記弁手段は前記プロセス
流体が予定された流体圧力に到達したとき前記ドーム室
内の流体圧力を低下させるために前記別の流体室と前記
排出室との間の連通を許すために前記プロセス流体の予
定された流体圧力において前記流体感知部材の運動に応
答する安全リリーフシステム。
する圧力容器用の安全リリーフシステムにおいて、安全
弁は常時閉鎖位置で管路に取り付けられた往復ピストン
形の弁部材及び往復弁部材の外端部に対面するドーム室
を有し、管路からのプロセス流体のための流体入り口感
知室及び前記プロセス流体とは別の補助流体のための流
体入り口供給室を有する改良されたパイロット弁、前記
主管路と前記流体入り口感知室との間を連通させる手段
、予定された流体圧力において補助流体を前記流体入り
口供給室に供給する手段、前記ドーム室と連通している
前記パイロット弁内の別の流体室、前記別の流体室から
大気への排出室、前記プロセス流体に暴露されかつ前記
主管路内の圧力変化に応答する前記感知室内の可動の流
体感知用部材、及び通常は前記別の流体室と前記供給室
との間の連通を阻止するための前記別の流体室と前記排
出室との間の弁手段を備え、前記弁手段は前記プロセス
流体が予定された流体圧力に到達したとき前記ドーム室
内の流体圧力を低下させるために前記別の流体室と前記
排出室との間の連通を許すために前記プロセス流体の予
定された流体圧力において前記流体感知部材の運動に応
答する安全リリーフシステム。
【００３０】９．上記８に説明の安全リリーフシステム
において、通常は前記別の流体室と前記入り口供給室と
の間の連通を阻止している前記補助流体供給のための前
記流体入り口供給室と前記別の流体室との間の付加的な
弁手段、前記弁手段は前記プロセス流体の予定された流
体圧力において前記流体感知部材の運動に応答し、前記
流体供給入り口室と前記別の流体室との間の連通を許し
、前記プロセス流体が達した予定圧力で補助流体を前記
別の流体室及び前記ドーム室に供給するシステム。
において、通常は前記別の流体室と前記入り口供給室と
の間の連通を阻止している前記補助流体供給のための前
記流体入り口供給室と前記別の流体室との間の付加的な
弁手段、前記弁手段は前記プロセス流体の予定された流
体圧力において前記流体感知部材の運動に応答し、前記
流体供給入り口室と前記別の流体室との間の連通を許し
、前記プロセス流体が達した予定圧力で補助流体を前記
別の流体室及び前記ドーム室に供給するシステム。
【００３１】１０．上記８に説明の安全リリーフシステ
ムにおいて、前記可動の流体感知部材がダイヤフラム及
びこれとともに動けるように前記ダイヤフラムに連結さ
れたピストンを備えるシステム。
ムにおいて、前記可動の流体感知部材がダイヤフラム及
びこれとともに動けるように前記ダイヤフラムに連結さ
れたピストンを備えるシステム。
【００３２】１１．上記１０に説明の安全リリーフシス
テムにおいて、前記弁手段は、前記プロセス流体が予定
された高い流体圧力に到達したとき前記安全弁の開口を
許すために前記ドーム室内の流体圧力を低下させるよう
に、前記プロセス流体が予定の圧力に達したとき前記ド
ーム室と前記排出室との間の連通を許すように開くため
に前記ピストンに応答するスプール弁部材を備えるシス
テム。
テムにおいて、前記弁手段は、前記プロセス流体が予定
された高い流体圧力に到達したとき前記安全弁の開口を
許すために前記ドーム室内の流体圧力を低下させるよう
に、前記プロセス流体が予定の圧力に達したとき前記ド
ーム室と前記排出室との間の連通を許すように開くため
に前記ピストンに応答するスプール弁部材を備えるシス
テム。
【００３３】１２．主管路内の制御弁用のパイロット弁
の作動方法にして、主管路内のプロセス流体と連通して
いるパイロット弁内の流体入り口感知室を設け、前記プ
ロセス流体から隔離された補助流体供給と連通する前記
パイロット弁内の流体入り口供給室を設け、前記流体入
り口供給室用の補助流体源を設け、制御弁内のドーム室
と連通しかつ前記流体入り口供給室と選択的に連通する
中間流体室を設け、前記ドーム室内の流体圧力を低下さ
せるために前記中間流体室と選択的に連通する流体排出
室を設け、更に前記流体入り口感知室内のプロセス流体
の圧力変化に応答しかつ正常作動中における前記中間流
体室と前記排出室との間の連通を阻止する前記中間流体
室と前記排出室との間の弁装置を設ける諸段階を含み、
前記弁装置は前記流体入り口感知室内の予定された高い
流体圧力に到達したとき前記ドーム室内の流体圧力を低
下させるために前記中間室と前記排出室との間の連通を
許すパイロット弁の作動方法。
の作動方法にして、主管路内のプロセス流体と連通して
いるパイロット弁内の流体入り口感知室を設け、前記プ
ロセス流体から隔離された補助流体供給と連通する前記
パイロット弁内の流体入り口供給室を設け、前記流体入
り口供給室用の補助流体源を設け、制御弁内のドーム室
と連通しかつ前記流体入り口供給室と選択的に連通する
中間流体室を設け、前記ドーム室内の流体圧力を低下さ
せるために前記中間流体室と選択的に連通する流体排出
室を設け、更に前記流体入り口感知室内のプロセス流体
の圧力変化に応答しかつ正常作動中における前記中間流
体室と前記排出室との間の連通を阻止する前記中間流体
室と前記排出室との間の弁装置を設ける諸段階を含み、
前記弁装置は前記流体入り口感知室内の予定された高い
流体圧力に到達したとき前記ドーム室内の流体圧力を低
下させるために前記中間室と前記排出室との間の連通を
許すパイロット弁の作動方法。
【００３４】１３．上記１２に説明のパイロット弁の作
動方法にして、更に前記流体入り口感知室内のプロセス
流体の圧力変化に応答しかつ正常運転中は前記中間流体
室と前記流体入り口供給室との間の連通を阻止する前記
中間流体室と前記流体入り口供給室との間の付加的な弁
装置を設け、前記付加的な弁装置は前記流体入り口感知
室内において予定された低い流体圧力に達したとき前記
中間室と前記流体入り口室との間の連通を許しこれによ
り前記制御弁の前記ドーム室に補助流体圧力を与えるパ
イロット弁の作動方法。
動方法にして、更に前記流体入り口感知室内のプロセス
流体の圧力変化に応答しかつ正常運転中は前記中間流体
室と前記流体入り口供給室との間の連通を阻止する前記
中間流体室と前記流体入り口供給室との間の付加的な弁
装置を設け、前記付加的な弁装置は前記流体入り口感知
室内において予定された低い流体圧力に達したとき前記
中間室と前記流体入り口室との間の連通を許しこれによ
り前記制御弁の前記ドーム室に補助流体圧力を与えるパ
イロット弁の作動方法。
【図１】主管路の圧力安全弁を制御しかつ別の補助流体
源のある本発明の改良されたパイロット弁を有するシス
テムの部分的に図式化した断面図である。
源のある本発明の改良されたパイロット弁を有するシス
テムの部分的に図式化した断面図である。
【図２】図１の改良されたパイロット弁の拡大図であり
、スプール弁部材がパイロット弁の中間流体室と圧力安
全弁のドーム室との連通を阻止する閉鎖位置にある正常
な作動状態にあるパイロット弁を示す。
、スプール弁部材がパイロット弁の中間流体室と圧力安
全弁のドーム室との連通を阻止する閉鎖位置にある正常
な作動状態にあるパイロット弁を示す。
【図３】図２と同様なパイロット弁の拡大図であるが、
前記ドーム室内の流体圧力を低下させるように中間流体
室と圧力安全弁のドーム室とが大気と連通した状態で、
主管路の予定された高いプロセス流体圧力に暴露された
パイロット弁を示す。
前記ドーム室内の流体圧力を低下させるように中間流体
室と圧力安全弁のドーム室とが大気と連通した状態で、
主管路の予定された高いプロセス流体圧力に暴露された
パイロット弁を示す。
【図４】図２及び３と同様なパイロット弁の拡大図であ
るが、ドーム室内の流体圧力を上昇させるように補助流
体を供給する補助流体源用の入り口流体室と中間流体室
とが連通した状態で、主管路の予定された低いプロセス
流体圧力に暴露されたパイロット弁を示す。
るが、ドーム室内の流体圧力を上昇させるように補助流
体を供給する補助流体源用の入り口流体室と中間流体室
とが連通した状態で、主管路の予定された低いプロセス
流体圧力に暴露されたパイロット弁を示す。
１４ 制御弁
３６ ドーム室
４０ パイロツト弁
６２ 感知用管路
７２ 入口流体室
７６ スプール弁
１０４ 中間流体室
１０６ 補助高圧流体源
Claims (5)
- 【請求項１】主管路における制御弁用のパイロット弁に
して、主管路内のプロセス流体と連通している流体入り
口感知室、前記プロセス流体より隔離されかつ補助流体
源と連通している補助流体供給用の流体入り口供給室、
制御弁のドーム室に流体を供給するために前記流体入り
口供給室と選択的に連通する中間流体室、及び前記ドー
ム室内の流体圧力を低下させるために前記中間流体室と
選択的に連通する流体排出室を有する弁本体、及び正常
運転中における前記中間流体室と前記排出室との間の連
通を阻止するために前記流体入り口感知室内のプロセス
流体の圧力の変化に応答する前記中間流体室と前記排出
室との間の弁手段を備え、前記弁手段は前記流体入り口
感知室における予定された高い流体圧力への到達の際に
、前記中間室と前記排出室との間の連通を許すことを特
徴とするパイロット弁。 - 【請求項２】プロセス流体用の主管路の制御弁のドーム
室と連通するようにされた改良されたパイロット弁にし
て、主管路孔からのプロセス流体を検知する流体入り口
感知室を内部に定める中央孔、別の補助流体の供給を受
け入れる流体入り口供給室、前記ドーム室と連通しかつ
前記流体入り口供給室と選択的に連通するようにされた
中間流体室、及び前記中間流体室と選択的に連通するよ
うにされた大気への排出流体室を有する細長い本体、前
記制御弁の正常作動中は前記中間流体室と前記流体入り
口供給室、排出室との間の連通を阻止する弁手段、及び
前記主管路内の前記プロセス流体の圧力変化に応答する
前記流体入り口感知室内の流体感知部材を備え、前記流
体感知部材に応答する前記弁手段は、前記プロセス流体
が予定された高い圧力に到達したとき前記ドーム室内の
流体圧力を低下させるために前記中間流体室と前記排出
室との間の連通を許し、更に前記プロセス流体が予定さ
れた低い圧力に到達したときに前記ドーム室を補助流体
供給から加圧するために前記中間流体室と前記流体入り
口供給室との間の連通を許す改良されたパイロット弁。 - 【請求項３】圧力容器からの主管路内の安全弁を有する
圧力容器用の安全リリーフシステムにおいて、安全弁は
常時閉鎖位置で管路に取り付けられた往復ピストン形の
弁部材及び往復弁部材の外端部に対面するドーム室を有
し、安全弁の作動を制御するようにこれに連結された改
良されたパイロット弁にして、前記主管路からプロセス
流体を受け入れるために内部に流体入り口感知室を有す
る本体、前記プロセス流体に暴露されかつ前記管路にお
ける圧力変化に応答する前記感知室内の可動の流体感知
部材、補助流体供給を受け入れるための前記本体内の流
体入り口供給室、予定された流体圧力において前記流体
入り口供給室に補助流体を供給する手段、前記ドーム室
と連通しかつ前記流体入り口供給室と選択的に連通する
ようにされた前記本体内の別の流体室、及び前記別の流
体室と前記供給室との間の連通を通常は阻止している前
記流体入り口供給室と前記別の流体室との間の弁手段を
備え、前記弁手段は、前記プロセス流体が予定された圧
力に到達したとき前記別の流体室と前記ドーム室とに補
助流体の供給を行うように前記流体入り口供給室と前記
別の流体室との間の連通を許すために前記プロセス流体
の予定された流体圧力において前記流体感知部材の運動
に応答する改良されたパイロット弁。 - 【請求項４】圧力容器からの主管路内に安全弁を有する
圧力容器用の安全リリーフシステムにおいて、安全弁は
常時閉鎖位置で管路に取り付けられた往復ピストン形の
弁部材及び往復弁部材の外端部に対面するドーム室を有
し、管路からのプロセス流体のための流体入り口感知室
及び前記プロセス流体とは別の補助流体のための流体入
り口供給室を有する改良されたパイロット弁、前記主管
路と前記流体入り口感知室との間を連通させる手段、予
定された流体圧力において補助流体を前記流体入り口供
給室に供給する手段、前記ドーム室と連通している前記
パイロット弁内の別の流体室、前記別の流体室から大気
への排出室、前記プロセス流体に暴露されかつ前記主管
路内の圧力変化に応答する前記感知室内の可動の流体感
知用部材、及び通常は前記別の流体室と前記供給室との
間の連通を阻止するための前記別の流体室と前記排出室
との間の弁手段を備え、前記弁手段は前記プロセス流体
が予定された流体圧力に到達したとき前記ドーム室内の
流体圧力を低下させるために前記別の流体室と前記排出
室との間の連通を許すために前記プロセス流体の予定さ
れた流体圧力において前記流体感知部材の運動に応答す
る安全リリーフシステム。 - 【請求項５】主管路内の制御弁用のパイロット弁の作動
方法にして、主管路内のプロセス流体と連通しているパ
イロット弁内の流体入り口感知室を設け、前記プロセス
流体から隔離された補助流体供給と連通する前記パイロ
ット弁内の流体入り口供給室を設け、前記流体入り口供
給室用の補助流体源を設け、制御弁内のドーム室と連通
しかつ前記流体入り口供給室と選択的に連通する中間流
体室を設け、前記ドーム室内の流体圧力を低下させるた
めに前記中間流体室と選択的に連通する流体排出室を設
け、更に前記流体入り口感知室内のプロセス流体の圧力
変化に応答しかつ正常作動中における前記中間流体室と
前記排出室との間の連通を阻止する前記中間流体室と前
記排出室との間の弁装置を設ける諸段階を含み、前記弁
装置は前記流体入り口感知室内の予定された高い流体圧
力に到達したとき前記ドーム室内の流体圧力を低下させ
るために前記中間室と前記排出室との間の連通を許すパ
イロット弁の作動方法。
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3155072A Expired - Lifetime JP3043466B2 (ja) | 1990-06-04 | 1991-06-01 | 制御弁用のパイロツト弁及び作動方法 |
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|---|---|
| US (1) | US5027852A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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