JP3357186B2 - プロピレンブロック共重合体の製造法 - Google Patents

プロピレンブロック共重合体の製造法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】〔発明の背景〕
【産業上の利用分野】本発明は、プロピレンブロック共
重合体の製造法に関する。詳しくは、本発明は、得られ
る共重合体の粒子性状並びに力学特性の改善されたプロ
ピレンブロック共重合体の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】結晶性ポリプロピレンは、剛性および耐
熱性に優れた特性を有する反面、耐衝撃強度、特に低温
における耐衝撃強度、が弱という問題があった。
【0003】この点を改良する方法として、プロピレン
とエチレンまたはその他のオレフィンとを段階的に重合
させてブロック共重合体を生成させる方法、すなわちケ
ミカルブレンドによる方法、はすでに公知である(特公
昭43−11230号、特公昭44−16668号、特
公昭44−20621号、特公昭49−24593号、
特公昭49−30264号、特開昭48−25781
号、特開昭50−115296号、特開昭53−357
89号、特開昭54−110072号公報など)。しか
しながら、耐衝撃性成分となるゴム状重合体を製造すべ
くプロピレンとエチレンを二段もしくは多段で重合させ
た場合は、耐衝撃性が改良される半面、生成物は共重合
部分を含むため、低結晶性の重合体が大量に副生すると
いう問題が生じる。
【0004】一般的に、このようなブロック共重合体の
衝撃強度を向上させるためにゴム状重合体の生成割合を
増加させることが行なわれているが、それにともなって
副生成物の増加や重合体粒子の間の付着、装置内壁への
付着などが生じて、ポリマー製造装置の安定な長期連続
運転が困難となることが多い。
【0005】一方、従来の立体規則性ポリプロピレンの
ブロック共重合体を製造するには、一般にTiCl
体成分、あるいはマグネシウム、チタンおよびハロゲン
を必須として含有する固体成分が用いられるが、これら
の触媒により得られるプロピレン/エチレン共重合体
は、通常、共重合の均一性が低く、共重合性比(rP
E )が1.5以上の値を示すのが普通である。そのた
め、この触媒によって引き続いて行なわれる後段でゴム
状共重合体の生成割合を増加させても、衝撃強度の改良
が不充分な場合がある。その改良のために、合目的的な
触媒を選んで共重合の均一性がすぐれたゴム状重合体を
別途製造してこれをブレンドする提案がなされている
(特開昭51−136735号、同58−222132
号、同61−12742号、同63−150343号各
公報)。
【0006】しかし、このような均一性が良好なゴム状
重合体をブレンドする方法は、そのようなゴム状共重合
体が高価である上にそれをブレンドする操作が必要であ
るという問題点を抱えている。
【0007】また、従来の多段重合は正常は二段重合で
あるところ、ゴム状重合体の製造を前段、後段のいずれ
で実施してもよいとされているようであるが、各提案の
実施例をみるとゴム状重合体の製造は後段で実施されて
いる。ゴム状重合体の製造が後段工程で行なわれている
ことは、まことにもっともなことである。何故ならば、
チタン含有固体触媒成分を使用する重合、所謂チグラー
重合、では、ゴム状重合体の製造を前段で実施すると、
ゴム状重合体が触媒の均一分散を防げたり、ゴム状重合
体の最終ブロック共重合体中に均一に分散しなかったり
して、所期の耐衝撃性重合体を事実上製造できないから
である。
【0008】最近、低温衝撃強度を改良する目的で、メ
タロセン系触媒を用いて、前段を液状プロピレン下で結
晶性ポリプロピレンを製造し、後段でプロピレンとエチ
レンあるいは炭素数4〜20のα‐オレフィンと共重合
させる提案がなされている(EP−433989号、E
P−433990号各明細書)、特開平4−11405
0号公報)。しかし、これらの提案では、低温衝撃性は
改良されるものの、微粒子ポリマーが発生する他、後段
の重合体を増やすと粒子の凝集や反応器壁への付着が発
生するため安定した共重合体を製造することは難しいよ
うである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術の問題点、すなわち均一性の良好なゴム状共
重合体をブレンドすることなく、また、微粒子の発生や
粒子の凝集、反応器壁への付着をひきおこさずに、耐衝
撃性の改良されたプロピレンブロック共重合体を製造す
ることを目的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
〔発明の概要〕 <要旨>本発明は、ポリプロピレンの高剛性をあまり低
下させることなく、充分な耐衝撃性を有するプロピレン
ブロック共重合体を二段重合法によって製造すべく、特
定の触媒の使用ならびにゴム状重合体成分の製造を前段
工程で実施すること、を主要な特徴とするものである。
【0011】従って、本発明によるプロピレンブロック
共重合体の製造法は、下記の成分(A)および(B)か
らなる触媒の存在下に、下記の重合工程(1)を実施
し、次いで、上記触媒ならびに重合工程(1)による重
合体の存在下に、下記の重合工程(2)を実施して、重
合工程(1)で生成する重合体と重合工程(2)で生成
する重合体との重量比が5/95〜70/30であるブ
ロック共重合体を製造すること、を特徴とするものであ
る。成分(A) π共役五員環配位子を有するIVB〜VIB族遷移金属化合
物。成分(B) 下記の成分(i) 〜(iv)の化合物群から選ばれた少なくと
も一種の化合物。 成分(i) アルモキサン。 成分(ii)
【0012】
【化2】 〔ここで、Rは、炭素数1〜10の炭化水素残基を表
わす〕の化合物と有機アルミニウム化合物との反応生成
物。 成分(iii) ルイス酸。 成分(iv) イオン性化合物。
【0013】重合工程(1) プロピレンと、エチレンおよび炭素数4〜20のα‐オ
レフィンからなる群から選ばれる少なくとも一種のコモ
ノマーとを、プロピレンと該コモノマーとの重合比(モ
ル比)が0/100〜80/20の割合となるように重
合させる工程。
【0014】重合工程(2) プロピレンの結晶性単独重合体、またはプロピレンと、
エチレンおよび炭素数4〜20のα‐オレフィンからな
る群から選ばれる少なくとも一種のコモノマーとの、該
コモノマー含量が10重量%以下(重合工程(2)によ
る重合体基準)であるプロピレン共重合体、を重合させ
る工程。
【0015】<効果>本発明によれば、耐衝撃性の改良
されたプロピレンブロック共重合体が、微粒子の発生や
粒子の凝集、反応器への付着等の問題を起こさずに得る
ことができる。
【0016】本発明によるこの効果は、特定の触媒、す
なわち代表的な所謂「メタロセン触媒」、を使用する二
段重合においてゴム状重合体を形成させる工程を前段重
合において行なうことに主として負うと解されるが、ゴ
ム状重合体の製造を前段工程で行なっても、チグラー重
合の場合に認められた問題点が無いばかりでなく、メタ
ロセン触媒使用の場合に認められた問題点が解決された
ことは思いがけなかったことといえよう。
【0017】〔発明の具体的説明〕 〔触媒〕本発明のプロピレンブロック共重合体の製造に
使用する触媒は、成分(A)および成分(B)からなる
ものである。ここで、「からなる」とは、成分(A)お
よび成分(B)の他に、本発明の効果を損わない限りに
おいて、合目的的な任意の成分を共存させて使用する場
合を含むものである。 <成分(A)>成分(A)は、π共役五員環配位子を少
なくとも1個有する周期律表IVB〜VIB族遷移金属化合
物である。このような遷移金属化合物それ自身ならびに
それをオレフィン重合用触媒成分として使用することは
既に知られていて、本発明でも合目的的な任意の化合物
を対象とすることができる。
【0018】成分(A)として好ましい化合物は、下記
一般式〔I〕あるいは一般式〔II〕で表わされる遷移金
属化合物である。
【0019】 Q(C4-a a )(C4-b b )MeXY 〔I〕 S(C4-c c )ZMeXY 〔II〕 〔ここで、Qは二つの共役五員環配位子を架橋する結合
性基を、Sは共役五員環配位子とZ基を架橋する結合性
基を、Meは周期律表IVB〜VIB族遷移金属を、Xおよ
びYは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン基、炭素数
1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ
基、アルキルアミド基、炭素数1〜20のリン含有炭化
水素基または炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基
を、Zは酸素、イオウ、炭素数1〜20のアルコキシ
基、炭素数1〜20のチオアルコキシ基、炭素数1〜4
0のケイ素含有炭化水素基、炭素数1〜40の窒素含有
炭化水素基または炭素数1〜40のリン含有炭化水素基
を、示す。R、RおよびRは、それぞれ独立し
て、炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン基、アルコ
キシ基、ケイ素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、
窒素含有炭化水素基またはホウ素含有炭化水素基を示
す。また、隣接する2個のRまたは2個のRまたは
2個のRがそれぞれ結合して環を形成していてもよ
い。a、bおよびcは0≦a≦4、0≦b≦4、0≦c
≦4を満足する整数である。〕 2個の共役五員環配位子の間を架橋する結合性基Qおよ
び共役五員環配位子とZ基とを架橋する結合性基Sは、
具体的には、たとえば下記の通りのものである。
【0020】(イ)低級アルキレン、またはその低級ア
ルキル(好ましくはC程度まで)またはフェニル置換
誘導体、あるいはシクロアルキレン基、好ましくはメチ
レン基、エチレン基、イソプロピレン基(すなわちジメ
チルメチレン基)、フェニルメチルメチレン基、ジフェ
ニルメチレン基、シクロヘキシレン基、(ロ)シリレン
基ないしオリゴシリレン基、あるいはその低級アルキル
(好ましくはC程度まで)またはフェニル置換誘導
体、好ましくはシリレン基、ジメチルシリレン基、フェ
ニルメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、ジシリ
レン基、テトラメチルジシリレン基等、(ハ)ゲルマニ
ウム、リン、窒素、ホウ素あるいはアルミニウムを含む
炭化水素基〔具体的には(CHGe基、(C
Ge基、(CH)P基、(C)P基、
(C)N基、(C)N基、(CH)B
基、(C)B基、(C)B基、(C
)Al基、(CHO)Al基等〕等である。好
ましくはアルキレン基およびシリレン基である。なお、
2価のQまたはS基の両結合手間の距離は、その炭素数
の如何にかかわらず、QまたはSが鎖状の場合に4原子
程度以下、就中3原子以下、であることが、QまたはS
が環状基を有するものである場合は当該環状基+2原子
程度以下、就中当該環状基のみであることが、それぞれ
好ましい。従って、アルキレンの場合はエチレンおよび
イソプロピリデン(結合手間の距離はそれぞれ2原子お
よび1原子)が、シクロアルキレン基の場合はシクロヘ
キシレン(結合手間の距離がシクロヘキシレン基のみ)
が、アルキルシリレンの場合はジメチルシリレン(結合
手間の距離が1原子)が、それぞれ好ましい。
【0021】上記一般式において、(C
4-a a )、(C4-b b )および(C
4-c c )で表される共役五員環配位子は、それぞれ
別個に定義されているけれども、a、bおよびc、なら
びにR、RおよびRの定義そのものは同じである
から(詳細後記)、この三つの共役五員環基は同一でも
異なってもよいことはいうまでもない。
【0022】この共役五員環基の一つの具体例は、a=
0(あるいはb=0、c=0)のシクロペンタジエニル
基(架橋基QあるいはS以外の置換基のない)である。
この共役五員環基がa≠0(あるいはb≠0、c≠0)
であって置換基を有するものである場合、R(あるい
はR、R)の一つの具体例は、炭化水素基(C
20、好ましくはC〜C12)であるが、この炭化水素
基は一価の基としてシクロペンタジエニル基と結合して
いても、またこれが複数個存在するときにその2個がそ
れぞれω‐端で相互に結合してシクロペンタジエニル基
の一部と共に環を形成していてもよい。後者の代表例
は、R(あるいはR、R)が当該シクロペンタジ
エニル基の二重結合を共有して縮合六員環を形成してい
るもの、すなわちこの共役五員環基がインデニル基また
はフルオレニル基であるものである。すなわち、この共
役五員環基の代表例は、置換または非置換の、シクロペ
ンタジエニル基、インデニル基およびフルオレニル基で
ある。
【0023】R、RおよびRは、それぞれ、上記
のC〜C20、好ましくはC〜C12の炭化水素基の外
に、ハロゲン基(たとえば、フッ素、塩素、臭素)、ア
ルコキシ基(たとえば、C〜C12のもの)、ケイ素含
有炭化水素基(たとえば、ケイ素原子を−Si(R)
(R′)(R″)の形で含む炭素数1〜24程度の
基)、リン含有炭化水素基(たとえば、リン原子を−P
(R)(R′)の形で含む炭素数1〜18程度の基)、
窒素含有炭化水素基(たとえば、窒素原子を−N(R)
(R′)の形で含む炭素数1〜18程度の基)あるいは
ホウ素含有炭化水素基(たとえば、ホウ素原子を−B
(R)(R′)の形で含む炭素数1〜18程度の基)で
ある。a(あるいはb、c)が2以上であってR(あ
るいはR、R)が複数個存在するときは、それらは
同一でも異なっていてもよい。
【0024】a、bおよびcは、0≦a≦4、0≦b≦
4、0≦c≦4を満足する整数である。
【0025】Meは周期律表IVB〜VIB族遷移金属、好
ましくはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムであ
る。特にはチタンおよびジルコニウムが好ましい。
【0026】Zは、(イ)酸素(−O−)、イオウ(−
S−)、(ロ)炭素数1〜20、好ましくは1〜10の
アルコキシ基、(ハ)炭素数1〜20、好ましくは1〜
12のチオアルコキシ基、(ニ)炭素数1〜40、好ま
しくは1〜18のケイ素含有炭化水素基、(ホ)炭素数
1〜40、好ましくは1〜18の窒素含有炭化水素基、
(ヘ)炭素数1〜40、好ましくは1〜18のリン含有
炭化水素基であり、Z基の一部が結合性基であるS基と
結合しているものである。
【0027】XおよびYは、各々水素、ハロゲン基、炭
素数1〜20、好ましくは1〜10の炭化水素基、炭素
数1〜20、好ましくは1〜10のアルコキシ基、アル
キルアミド基、炭素数1〜20、好ましくは1〜12の
リン含有炭化水素基(具体的には、たとえばジフェニル
ホスフィン基)、あるいは炭素数1〜20、好ましくは
1〜12のケイ素含有炭化水素基(具体的には、たとえ
ばトリメチルシリル基、ビス(トリメチルシリル)メチ
ル基)である。XとYとは同一でも異なってもよい。こ
れらのうちハロゲン基、炭化水素基およびアルキルアミ
ド基が好ましい。
【0028】Meがジルコニウムである場合のこの遷移
金属化合物の具体例は、下記の通りである。
【0029】(イ)アルキレン基で架橋した五員環配位
子を2個有する遷移金属化合物、例えば(1) メチレン
ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、(2) エ
チレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、
(3) エチレンビス(インデニル)ジルコニウムモノハ
イドライドモノクロリド、(4) エチレンビス(インデ
ニル)メチルジルコニウムモノクロリド、(5) エチレ
ンビス(インデニル)ジルコニウムモノメトキシドモノ
クロリド、(6) エチレンビス(インデニル)ジルコニ
ウムジエトキシド、(7) エチレンビス(インデニル)
ジルコニウムジメチル、(8) エチレンビス(4,5,
6,7‐テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロ
リド、(9) エチレンビス(2‐メチルインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(10) エチレンビス(2‐エチ
ルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(11) エチレ
ンビス(2,4‐ジメチルインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、(12) エチレンビス(2‐メチル‐4‐フェ
ニルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(13) エチ
レンビス(2‐メチル‐4,5‐ベンゾインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(14) エチレン(2,4‐ジメ
チルシクロペンタジエニル)(3′,5′‐ジメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(15)
エチレン(2‐メチル‐4‐tertブチルシクロペン
タジエニル)(3′‐tertブチル‐5′‐メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(16)
エチレン(2,3,5‐トリメチルシクロペンタジエニ
ル)(2′,4′,5′‐トリメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、(17) イソプロピリデ
ンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、(18)
イソプロピリデン(2,4‐ジメチルシクロペンタジエ
ニル)(3′,5′‐ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、(19) イソプロピリデン(2
‐メチル‐4‐tertブチルシクロペンタジエニル)
(3′‐tertブチル‐5′‐メチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド、(20) メチレン(シ
クロペンタジエニル)(3,4‐ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、(21) メチレン
(シクロペンタジエニル)(3,4‐ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムクロリドヒドリド、(22)
メチレン(シクロペンタジエニル)(3,4‐ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(23)
メチレン(シクロペンタジエニル)(3,4‐ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジフェニル、(24)
メチレン(シクロペンタジエニル)(トリメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(25) メ
チレン(シクロペンタジエニル)(テトラメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(26) イソ
プロピリデン(シクロペンタジエニル)(3,4‐ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
(27) イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)
(2,3,4,5‐テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(28) イソプロピリデン
(シクロペンタジエニル)(3‐メチルインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(29) イソプロピリデン(シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジク
ロリド、(30) イソプロピリデン(2‐メチルシクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(31) イソプロピリデン(3‐tert‐ブチルシ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジ
クロリド、(32) イソプロピリデン(2,5‐ジメチル
シクロペンタジエニル)(3′,4′‐ジメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(33) イソ
プロピリデン(2,5‐ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、(34)
エチレン(シクロペンタジエニル)(3,5‐ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(35)
エチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウムジクロリド、(36) エチレン(2,5‐ジ
メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、(37) エチレン(2,5‐ジエチル
シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウム
ジクロリド、(38) ジフェニルメチレン(シクロペンタ
ジエニル)(3,4‐ジエチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、(39) ジフェニルメチレン
(シクロペンタジエニル)(3,4‐ジエチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(40) シクロ
ヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(41) シクロヘキシリデ
ン(2,5‐ジメチルシクロペンタジエニル)(3′,
4′‐ジメチルジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド等。
【0030】(ロ)シリレン基架橋五員環配位子を有す
る遷移金属化合物、例えば(1) ジメチルシリレンビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド、(2) ジメチ
ルシリレンビス(4,5,6,7‐テトラヒドロインデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、(3) ジメチルシリレ
ンビス(2‐メチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(4) ジメチルシリレンビス(2,4‐ジメチルイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、(5) ジメチルシ
リレンビス(2‐メチル‐4,5,6,7‐テトラヒド
ロインデニル)ジルコニウムジクロリド、(6) ジメチ
ルシリレン(2,4‐ジメチルシクロペンタジエニル)
(3′,5′‐ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、(7) ジメチルシリレンビス(2‐
メチル‐4,4‐ジメチル‐4,5,6,7‐テトラヒ
ドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、(8) ジメ
チルシリレンビス(2‐メチル‐4,4‐ジメチル‐シ
ラ‐4,5,6,7‐テトラヒドロインデニル)ジルコ
ニウムジクロリド、(9) ジメチルシリレンビス(2‐
メチル‐4,5‐ベンゾインデニル)ジルコニウムジク
ロリド、(10) ジメチルシリレンビス(2‐メチル‐4
‐フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(11)
フェニルメチルシリレンビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(12) フェニルメチルシリレンビス
(2‐メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1
3) フェニルメチルシリレンビス(2,4‐ジメチルイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、(14) フェニルメ
チルシリレンビス(4,5,6,7‐テトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロリド、(15) フェニルメチ
ルシリレン(2,4‐ジメチルシクロペンタジエニル)
(3′,5′‐ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、(16) フェニルメチルシリレン
(2,3,5‐トリメチルシクロペンタジエニル)
(2′,4′,5′‐トリメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(17) フェニルメチルシ
リレンビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、(18) ジフェニルシリレンビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド、(19) テトラ
メチルジシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジク
ロリド、(20) テトラメチルジシリレンビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(21) テトラ
メチルジシリレン(3‐メチルシクロペンタジエニル)
(インデニル)ジルコニウムジクロリド、(22) ジメチ
ルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,4‐ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(2
3) ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(トリ
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(24) ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)
(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、(25) ジメチルシリレン(シクロペンタジエ
ニル)(3,4‐ジエチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、(26) ジメチルシリレン(シクロ
ペンタジエニル)(トリエチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、(27) ジメチルシリレン(シ
クロペンタジエニル)(テトラエチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、(28) ジメチルシリレ
ン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(29) ジメチルシリレン(シクロペン
タジエニル)(2,7‐ジ‐t‐ブチルフルオレニル)
ジルコニウムジクロリド、(30) ジメチルシリレン(シ
クロペンタジエニル)(オクタヒドロフルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(31) ジメチルシリレン(2‐
メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、(32) ジメチルシリレン(2,5‐
ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジル
コニウムジクロリド、(33) ジメチルシリレン(2‐エ
チルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(34) ジメチルシリレン(2,5‐ジ
エチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、(35) ジエチルシリレン(2‐メチ
ルシクロペンタジエニル)(2′,7′‐ジ‐t‐ブチ
ルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、(36) ジメ
チルシリレン(2,5‐ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(2′,7′‐ジ‐t‐ブチルフルオレニル)ジル
コニウムジクロリド、(37) ジメチルシリレン(2‐エ
チルシクロペンタジエニル)(2′,7′‐ジ‐t‐ブ
チルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、(38) ジ
メチルシリレン(ジエチルシクロペンタジエニル)
(2′,7′‐ジ‐t‐ブチルフルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(39) ジメチルシリレン(メチルシク
ロペンタジエニル)(オクタヒドロフルオレニル)ジル
コニウムジクロリド、(40) ジメチルシリレン(ジメチ
ルシクロペンタジエニル)(オクタヒドロフルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(41) ジメチルシリレン
(エチルシクロペンタジエニル)(オクタヒドロフルオ
レニル)ジルコニウムジクロリド、(42) ジメチルシリ
レン(ジエチルシクロペンタジエニル)(オクタヒドロ
フルオレニル)ジルコウニムジクロリド等。
【0031】(ハ)ゲルマニウム、アルミニウム、ホウ
素、リンあるいは窒素を含む炭化水素基で架橋された五
員環配位子を有する遷移金属化合物、例えば(1) ジメ
チルゲルマニウムビス(インデニル)ジルコニウムジク
ロリド、(2) ジメチルゲルマニウム(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、
(3) メチルアルミニウムビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(4) フェニルアルミニウムビス(イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、(5) フェニルホ
スフィノビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、
(6) エチルホラノビス(インデニル)ジルコニウムジ
クロリド、(7) フェニルアミノビス(インデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(8) フェニルアミノ(シクロ
ペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロ
リド、等が例示される。
【0032】(ニ)五員環配位子を1個有する遷移金属
化合物、例えば(1) ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル‐ビス(フェニル)アミドジルコニウムジクロリド、
(2) インデニル‐ビス(フェニル)アミドジルコニウ
ムジクロリド、(3) ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル‐ビス(トリメチルシリル)アミドジルコニウムジク
ロリド、(4) ペンタメチルシクロペンタジエニルフェ
ノキシジルコニウムジクロリド、(5) ジメチルシリレ
ン(テトラメチルシクロペンタジエニル)フェニルアミ
ドジルコニウムジクロリド、(6) ジメチルシリレン
(テトラメチルシクロペンタジエニル)tertブチル
アミドジルコニウムジクロリド、(7) ジメチルシリレ
ン(インデニル)シクロヘキシルアミドジルコニウムジ
クロリド、(8) ジメチルシリレン(テトラヒドロイン
デニル)デシルアミノジルコニウムジクロリド、(9)
ジメチルシリレン(テトラヒドロインデニル)((トリ
メチルシリル)アミノ)ジルコニウムジクロリド、(10)
ジメチルゲルマン(テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(フェニル)アミノジルコニウムジクロリド、等が
例示される。
【0033】(ホ)また、上記(イ)〜(ニ)の化合物
の塩素を臭素、ヨウ素、ヒドリド、メチル、フェニル等
に置きかえたものも使用可能である。
【0034】さらに、本発明では、成分(A)として上
記(イ)〜(ホ)に例示したジルコニウム化合物の中心
金属をジルコニウムからチタン、ハフニウム、ニオブ、
モリブデンまたはタングステンに換えた化合物も用いる
ことができる。
【0035】これらのうちで好ましいのは、ジルコニウ
ム化合物、ハフニウム化合物およびチタニウム化合物で
ある。さらに好ましいのは、アルキレン基あるいはシリ
レン基で架橋したチタン化合物、ジルコニウム化合物お
よびハフニウム化合物である。
【0036】本発明で成分(A)として好ましい化合物
は、両工程を実施して得られるプロピレンブロック共重
合体のキシレン不溶部(23℃)の〔mm〕が0.85
以上、好ましくは0.90以上、のアイソタクチックポ
リプロピレンを与える化合物であり、例えば各置換基が
下記の通りのもの、就中式〔I〕の化合物、である。
【0037】Q、S : −CH−、−C(CH
−、−C(C−、−CHCH−、−C
H(C)−CH(C)−、−Si(C
−、−Si(CH)(C)−、−Si
(C−、 R、R、R : −CH、−C、−is
oPr、−t‐Bu、−iso‐Bu、−nBu、−S
i(CH、−CH=CH−CH=CH−、−CH
=C(CH)−CH=CH−、−CH=C(C
)−CH=CH−、−CH−CH−CH
CH−、−CH−CH−CH−CH−CH
−、−C(CH−CH=CH−CH=CH−、−
C(CH−CH−CH−CH−CH−、
−C(CH−CH−CH−CH−、−Si
(CH−CH−CH−CH−、 a : 0、1、2、3又は4、 b : 0、1、2、3又は4、 Me : Ti、Zr、Hf、 X : −H、Cl、−Br、−F、−CH、−CH
(C)、−C、−N(CH、−N
(C、−OSOCF、 Z : >N−t‐Bu、>N−(C)、>N−
11、>N−C15、>N−C1223、 <成分(B)>成分(B)は、下記の成分(i) 〜(iv)の
化合物群から選ばれた少なくとも二種の化合物である。
したがって、本発明の成分(B)は、これらの各化合物
群から選ばれた単一種類の化合物の外に、任意の成分群
内または群間から選択された二種類以上の化合物が共存
する場合を排除しない。成分(i) 成分(i) は、アルモキサンである。アルモキサンは一種
類のトリアルキルアルミニウムまたは二種類以上のトリ
アルキルアルミニウムと水との反応により得られる生成
物である。具体的には、一種類のトリアルキルアルミニ
ウムから得られるメチルアルモキサン、エチルアルモキ
サン、ブチルアルモキサン、イソブチルアルモキサン
等、および二種類のトリアルキルアルミニウムと水から
得られるメチルエチルアルモキサン、メチルブチルアル
モキサン、メチルイソブチルアルモキサン等が例示され
る。
【0038】本発明では、これらのアルモキサンを複数
種併用することも可能であり、またアルモキサンとトリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド
等の他のアルキルアルミニウムとを併用することも可能
である。
【0039】また、二種類のアルモキサンあるいは一種
類のアルモキサンと他の有機アルミニウム化合物とを反
応させることにより、変成されたアルモキサンを用いる
ことも可能である。
【0040】これらの中で好ましいものは、メチルアル
モキサン、イソブチルアルモキサン、メチルイソブチル
アルモキサンおよびこれらのアルモキサンとトリアルキ
ルアルミニウムの混合物である。特に好ましいのは、メ
チルアルモキサンおよびメチルイソブチルアルモキサン
である。
【0041】プロピレンの重合には、このうちでも特に
27Al−NMRの測定でのケミカルシフトが160〜2
50ppmの間に位置し、線幅が3000Hz以上の値
を示す特徴を有するメチルイソブチルアルモキサンが好
ましい。
【0042】これらのアルモキサンは、公知の様々な条
件下に調製することができる。具体的には以下の様な方
法が例示できる。
【0043】(イ) トリアルキルアルミニウムとトル
エン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶剤を用いて
直接水と反応させる方法、(ロ) トリアルキルアルミ
ニウムと結晶水を有する塩水和物、例えば硫酸銅、硫酸
アルミニウムの水和物と反応させる方法、(ハ) トリ
アルキルアルミニウムとシリカゲル等に含浸させた水分
とを反応させる方法、(ニ) トリメチルアルミニウム
とトリイソブチルアルミニウムを混合し、トルエン、ベ
ンゼン、エーテル等の適当な有機溶剤を用いて直接水と
反応させる方法、(ホ) トリメチルアルミニウムとト
リイソブチルアルミニウムを混合し、結晶水を有する塩
水和物、例えば硫酸銅、硫酸アルミニウムの水和物と加
熱反応させる方法、(ヘ) シリカゲル等に水分を含浸
させ、トリイソブチルアルミニウムで処理した後、トリ
メチルアルミニウムで追加処理する方法、(ト) メチ
ルアルモキサンおよびイソブチルアルモキサンを公知の
方法で合成し、これら二成分を所定量混合し、加熱反応
させる方法。成分(ii) 成分(ii)は、下記の成分(a)と成分(b)との反応
生成物である。
【0044】成分(a)は、一般式
【0045】
【化3】 で表わされるアルキルボロン酸である(ここで、R
は、炭素数1〜10、好ましくは1〜6、の炭化水素
残基を表わす)。成分(a)の具体例としては、メチル
ボロン酸、エチルボロン酸、イソプロピルボロン酸、n
‐プロピルボロン酸、n‐ブチルボロン酸、iso‐ブ
チルボロン酸、n‐ヘキシルボロン酸、シクロヘキシル
ボロン酸、フェニルボロン酸、3,5‐ジフルオロフェ
ニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸および
3,5‐ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン
酸、等がある。これらのうちで好ましいものは、メチル
ボロン酸、エチルボロン酸、n‐ブチルボロン酸、i‐
ブチルボロン酸、3,5‐ジフルオロフェニルボロン酸
およびペンタフルオロフェニルボロン酸等である。さら
に好ましいものは、メチルボロン酸、エチルボロン酸、
ブチルボロン酸である。
【0046】上記の成分(a)と反応させて成分(ii)
を生成する成分(b)は、有機アルミニウム化合物であ
る。
【0047】そのような成分(b)の好ましい具体例と
しては、一般式R 3-q AlXまたは
【0048】
【化4】 で表わされるものである(但し、Rは炭素数1〜1
0、好ましくは1〜6、の炭化水素残基を、Xは水素ま
たはハロゲン基を、Rは水素、ハロゲンまたは炭素数
1〜10、好ましくは1〜6、の炭化水素残基を、qは
0≦q<3を、それぞれ表わす)。
【0049】成分(b)の具体的には、(イ)トリアル
キルアルミニウム、例えばトリメチルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウ
ム、トリイソブチルアルミニウム、トリn‐ブチルアル
ミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルア
ルミニウム、トリデシルアルミニウム、トリn‐プロピ
ルアルミニウム、トリイソプレニルアルミニウムなど、
(ロ)アルキルアルミニウムハライド、例えばジメチル
アルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムモノクロ
ライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド、メ
チルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウム
セスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、
ジエチルアルミニウムフルオリドなど、(ハ)アルキル
アルミニウムハイドライド、例えばジメチルアルミニウ
ムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、
ジイソブチルアルミニウムハイドライドなど、(ニ)ア
ルキルアルミニウムシロキシド、例えばジメチルアルミ
ニウム(トリメチルシロキシド)、ジメチルアルミニウ
ム(トリメチルシロキシド)、ジエチルアルミニウム
(トリメチルシロキシド)など、(ホ)テトラアルキル
アルモキサン、例えばテトライソブチルアルモキサン、
テトラエチルアルモキサンなどがある。これらを各群内
および(または)各群間で複数種混合して用いることも
可能である。成分(iii) 成分(iii) はルイス酸である。特に好ましくは、成分
(A)と反応して成分(A)をカチオンに変換可能なル
イス酸が用いられる。
【0050】(イ)ルイス酸、特に成分(A)をカチオ
ンに変換可能なルイス酸、としては、種々の有機ホウ素
化合物、金属ハロゲン化合物等が例示される。具体的に
は、(イ)有機ホウ素化合物、例えばトリフェニルホウ
素、トリス(3,5‐ジフルオロフェニル)ホウ素、ト
リス(ペンタフルオロフェニル)ホウ素等、(ロ)金
属、例えばアルミニウム、マグネシウム等、のハロゲン
化合物、例えば塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、
ヨウ化アルミニウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシ
ウム、ヨウ化マグネシウム、塩化臭化マグネシウム、塩
化ヨウ化マグネシウム、臭化ヨウ化マグネシウム、塩化
マグネシウムハイドライド、塩化マグネシウムハイドロ
オキシド、臭化マグネシウムハイドロオキシド、塩化マ
グネシウムアルコキシド、臭化マグネシウムアルコキシ
ド等が例示できる。
【0051】この中で好ましいものとしては、有機ホウ
素化合物が挙げられ、さらに好ましいものとしては、ト
リス(ペンタフルオロフェニル)ホウ素が挙げられる。
【0052】ルイス酸のあるものは、「成分(A)と反
応して成分(A)をカチオンに変換することが可能なイ
オン性化合物」として、成分(iv)(詳細後記)と捉え
ることもできる。従って、「ルイス酸」および「成分
(A)と反応して成分(A)をカチオンに変換すること
が可能なイオン性化合物」の両者に属する化合物は、い
ずれか一方に属するものと解することとする。成分(iv) 成分(iv)は、イオン性化合物、好ましくは成分(A)
と反応して成分(A)をカチオンに変換可能なイオン性
化合物である。これらは、本発明では、一般式〔III 〕
で表わされるものが特に好ましい。
【0053】 〔K〕e+〔A〕e− 〔III 〕 ここで、Kはイオン性のカチオン成分であって、例えば
カルボニウムカチオン、トロピリウムカチオン、アンモ
ニウムカチオン、オキソニウムカチオン、スルホニウム
カチオン、ホスフォニウムカチオン等が挙げられる。ま
た、それ自身が還元されやすい金属の陽イオンや有機金
属の陽イオン等も挙げられる。これらのカチオンの具体
例としては、(イ)トリフェニルカルボニウム、ジフェ
ニルカルボニウム、シクロヘプタトリエニウム、インデ
ニウム、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモ
ニウム、トリブチルアンモニウム、N,N‐ジメチルア
ニリニウム、ジプロピルアンモニウム、ジシクロヘキシ
ルアンモニウム、トリフェニルホスホニウム、トリメチ
ルホスホニウム、トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウ
ム、トリ(メチルフェニル)ホスホニウム、トリフェニ
ルスルホニウム、トリフェニルオキソニウム、トリエチ
ルオキソニウム、ピリリウム、および銀イオン、金イオ
ン、白金イオン、銅イオン、パラジウムイオン、水銀イ
オン、フェロセニウムイオン等がある。
【0054】上記の一般式〔III 〕におけるAはイオン
価eのアニオン成分であり、成分(A)が変換されたカ
チオン種に対して対アニオンとなる成分(一般には非配
位の)であって、例えば、有機ホウ素化合物アニオン、
有機アルミニウム化合物アニオン、有機ガリウム化合物
アニオン、リン化合物アニオン、ひ素化合物アニオン、
アンチモン化合物アニオンなどが挙げられる。具体的に
は、(イ)テトラフェニルホウ素、テトラキス(3,
4,5‐トリフルオロフェニル)ホウ素、テトラキス
(3,5‐ジ(トリフルオロメチル)フェニル)ホウ
素、テトラキス(3,5‐ジ‐(t‐ブチル)フェニ
ル)ホウ素、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホ
ウ素、(ロ)テトラフェニルアルミニウム、テトラキス
(3,4,5‐トリフルオロフェニル)アルミニウム、
テトラキス(3,5‐ジ(トリフルオロメチル)フェニ
ル)アルミニウム、テトラキス(3,5‐ジ(t‐ブチ
ル)フェニル)アルミニウム、テトラキス(ペンタフル
オロフェニル)アルミニウム、(ハ)テトラフェニルガ
リウム、テトラキス(3,4,5‐トリフルオロフェニ
ル)ガリウム、テトラキス(3,5‐ジ(トリフルオロ
メチル)フェニル)ガリウム、テトラキス(3,5‐ジ
(t‐ブチル)フェニル)ガリウム、テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ガリウム、(ニ)ヘキサフルオロ
リン、(ホ)ヘキサフルオロヒ素、(ヘ)ヘキサフルオ
ロアンチモン、(ト)デカボレート、ウンデカボレー
ト、カルバドデカボレート、デカクロロデカボレート等
のアニオンが例示される。好ましくは、有機ホウ素化合
物アニオン、さらに好ましくは、テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ホウ素アニオンが挙げられる。 <成分(C)>本発明で使用される触媒は、成分(A)
および(B)以外の合目的的な成分の共存を排除しない
ことは前記したところである。そのような成分の代表例
は微粒子状担体(成分(C))および有機アルミニウム
化合物(詳細後記)であって、そのような成分を含む触
媒は、本発明の触媒の好ましい一態様をなすものであ
る。
【0055】成分(C)は、微粒子担体である。前述の
成分(A)および成分(B)は、好ましくは下記の成分
(C)に担持させて、使用することができる。ここで、
「担持」は含浸を包含するものである。
【0056】成分(C)の微粒子担体は有機および無機
のいずれであってもよい。有機化合物担体である場合の
具体例としては、(イ)α‐オレフィン重合体、例えば
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン‐1、エチ
レン‐プロピレン共重合体、エチレン‐ブテン‐1共重
合体、エチレン‐ヘキサン‐1共重合体、プロピレン‐
ブテン‐1共重合体、プロピレン‐ヘキセン‐1共重合
体、プロピレン‐ジビニルベンゼン共重合体等、(ロ)
芳香族不飽和炭化水素重合体、例えばポリスチレン、ス
チレン‐ジビニルベンゼン共重合体等、および(ハ)極
性基含有重合体、例えばポリアクリル酸エステル、ポリ
メタクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩
化ビニル、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリカーボネート等が例示さ
れる。無機担体である場合の具体例としては、(イ)無
機酸化物、例えばSiO、Al、MgO、Zr
、TiO、B、CaO、ZnO、BaO、
ThO、SiO−MgO、SiO−Al
SiO−TiO、SiO−V、SiO
Cr、SiO−TiO−MgO等、(ロ)無
機ハロゲン化物、例えばMgCl、AlCl、Mn
Cl等、(ハ)無機の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、例え
ばNaCO、KCO、CaCO、MgC
、Al(SO、BaSO、KNO、M
g(NO等、(ニ)無機の水酸化物、例えばMg
(OH)、Al(OH)、Ca(OH)等が例示
される。
【0057】これらの担体は、0.006〜10μmの
細孔の容積が通常0.1cc/g以上、好ましくは0.
3cc/g以上、さらに好ましくは0.8cc/g以
上、存在するものが用いられる。特に0.05〜2μm
に存在する細孔の容積の和が、0.006〜10μmの
範囲に存在する全細孔の細孔容積の総和の50%以上あ
るものが有効である。
【0058】担体の粒子径は任意であるが、一般には1
〜3000μm、好ましくは5〜2000μm、さらに
好ましくは10μm〜1000μm、の範囲である。
【0059】これらのうちで、好ましいものは、0.0
06〜10μmの細孔の容積の総和が1.0cc/g以
上存在し、しかも0.05μ〜2μmの細孔の容積の和
が0.006μ〜10μmの範囲の全細孔の細孔容積の
総和の50%以上有する有機化合物担体であって、特に
好ましくは、そのようなα‐オレフィン重合体である。 <他の任意成分>上記の成分(A)および成分(B)、
あるいは成分(A)、(B)および(C)とともに併用
可能な任意成分としては、例えば有機アルミニウム化合
物が例示される。そのような有機アルミニウム化合物と
しては、具体的には、トリ低級アルキルアルミニウム、
ジ低級アルキルアルミニウムモノハライド、モノ低級ア
ルキルアルミニウムジハライドおよび低級アルキルアル
ミニウムセスキハライド、ならびにこれらの低級アルキ
ル基の一部がフェノキシ基と替ったもの、たとえばトリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムフェノキ
シド、ジメチルアルミニウムクロリド等が例示される。 〔触媒の調製〕本発明の触媒は、種々の方法により調製
することができる。触媒が成分(A)および(B)から
なるものであるときは、両成分の充分な接触を実現しう
る任意の手段で両成分を接触させればよい。
【0060】触媒が成分(A)、(B)および(C)か
らなるものである場合の成分(A)および(B)を成分
(C)に担持させる方法としては、成分(A)および
(B)を可溶化するための不活性溶媒を用い、成分
(A)および(B)を成分(C)に含浸させて両成分を
担持させる方法が特に好ましい態様である。そのときの
不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカリン、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロプロパンおよびクロロベ
ンゼン等が用いられる。含浸状態における不活性溶媒の
残存量は任意であって、使用した微粒子状担体(成分
(C))の細孔容積によっても異なるが、含浸後の成分
(C)に対して一般には0〜70重量%、好ましくは5
〜50重量%、である。70重量%をこえると含浸した
成分(C)が独立した粒子状態を保てず、凝集やスラッ
ジのような状態となり、次に行なう重合が安定に進行し
なかったり、成分(C)中に含浸されてない触媒成分が
存在し、予備重合により超微粒子の予備重合触媒が生成
してしまうため好ましくない。尚、不活性溶媒の残存量
は、気相予備重合時の活性に影響し、5重量%程度以上
残存した方が気相予備重合制御が容易である。
【0061】上記の含浸操作は不活性雰囲気下で通常実
施されるが、操作時の温度は−78℃〜100℃、好ま
しくは−78℃〜50℃、の範囲内で実施される。含浸
工程に要する時間は任意であるが、一般には24時間以
内、好ましくは10時間以内、である。成分(A)、成
分(B)および成分(C)の使用量は任意であるが、一
般には成分(C)1gに対して成分(B)0.1gから
10g、好ましくは0.3gから5g、の範囲である。
0.1g以下では、固体触媒あたりの活性が充分に得ら
れず、また10g超過では含浸されない成分(B)が独
立した粒子として残ってしまい、その粒子が成分(A)
と組み合されて活性も発現して微粒子ポリマーを生成す
るため好ましくない。成分(A)の使用量も任意である
が、一般には成分(B)のアルミニウム原子あたりモル
比で1〜10,000、好ましくは10〜3000、さ
らに好ましくは30〜1000、範囲である。成分
(B)がルイス酸またはイオン性化合物の場合は、成分
(B)/成分(A)で、0.1〜1000、好ましくは
0.5〜100、さらに好ましくは1〜10、である。
【0062】また、上記で得られた成分(A)および
(B)からなる含浸固体成分は、そのまま、あるいは好
ましくは気相条件下でオレフィンと接触させて重合させ
ることからなる予備重合に付したのち、触媒として用い
ることができる。固体成分が予備重合に付したものであ
る場合には、予備重合に使用するモノマーとしては、エ
チレン、プロピレン、ブテン‐1、3‐メチルブテン‐
1、およびこれらの混合物がある。また、予備重合時に
は分子量制御のために必要に応じて水素を共存使用する
ことも可能である。予備重合は、−78℃〜100℃、
好ましくは−78℃〜50℃、の範囲で行なう。予備重
合時間は、1分〜24時間、好ましくは5分〜10時
間、の範囲であり、予備重合量は、成分(C)中に成分
(A)および成分(B)を含浸させて得られた含浸固体
成分1グラムあたり0.01グラム〜500グラム、好
ましくは0.1グラム〜100グラム、さらに好ましく
は0.2グラム〜30グラム、の範囲である。0.01
グラム以下では気相予備重合の効果があらわれず、本重
合の際に固体触媒から成分(A)および成分(B)の触
媒成分が脱離して微粒子ポリマーが生成するために好ま
しくない。500グラム以上の予備重合量では、反応物
は固体触媒というよりむしろポリマーに属し、本重合に
おける活性が低下するばかりでなく、触媒の取り扱い
(フィード手法や触媒タンクの構造等)も難しくなるた
め好ましくない。 〔触媒の使用/オレフィンの重合〕(その1) 本発明の方法は、溶媒を用いる溶媒重合に適用されるの
はもちろんであるが、実質的に溶媒を用いない液相無溶
媒重合、気相重合、溶融重合にも適用される。また連続
重合、回分式重合に適用される。溶媒重合の場合の溶媒
としては、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン等の飽和脂肪族または芳香族
炭化水素の単独あるいは混合物が用いられる。なお、こ
れらの重合のうち、特に気相重合において本発明のプロ
ピレンブロック共重合の製造法による固体触媒による効
果は著しい。重合温度は−78〜200℃程度、好まし
くは−20〜100℃、である。反応系のオレフィン圧
には特に制限がないが、好ましくは常圧〜50Kg/cm2
‐Gの範囲である。また、重合に際しては公知の手段、
例えば温度、圧力の選定あるいは水素の導入により分子
量調節を行なうことができる。重合に際し、成分(A)
および成分(B)からなる触媒と重合モノマーが存在す
れば重合可能であることは言うまでもないが、重合活性
の向上や触媒被毒防止の目的で、有機アルミニウム化合
物を共存させて使用することも可能である。
【0063】そのような有機アルミニウム化合物の具体
例としては、R 3-n AlXまたはR 3-m Al(O
(ここで、RおよびRは同一または異なっ
てもよい炭素数1〜20程度の炭化水素残基または水素
原子、Rは炭素数1〜20程度の炭化水素残基、Xは
ハロゲン、nおよびmはそれぞれ0≦n<3、0<m<
3の数)あるいは下記の一般式〔IV〕または〔V〕で表
わされるものがある。
【0064】
【化5】 (ここで、pは0〜50、好ましくは2〜25、の数で
あり、R10は炭化水素残基、好ましくは炭素数1〜1
0、特に好ましくは炭素数1〜4、のもの、を示す。) 具体的には、(イ)トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘ
キシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリ
デシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム、
(ロ)ジエチルアルミニウムモノクロライド、ジイソブ
チルアルミニウムモノクロライド、エチルアルミニウム
セスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライドな
どのアルキルアルミニウムハライド、(ハ)ジエチルア
ルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハ
イドライドなどのアルキルアルミニウムハイドライド、
(ニ)ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチルアル
ミニウムフェノキシドなどのアルミニウムアルコキシ
ド、(ホ)メチルアルモキサン、エチルアルモキサン、
イソブチルアルモキサン、メチルイソブチルアルモキサ
ンなどのアルモキサンなどが例示される。これらを複数
種混合して用いることも可能である。これらのうち、ト
リアルキルアルミニウム、アルモキサンなどが好まし
い。
【0065】本発明の成分(A)、成分(B)ならびに
成分(C)および任意成分である有機アルミニウム化合
物以外に、加えることが可能な他の成分としては、例え
ばHO、メタノール、エタノール、ブタノール等の活
性水素含有化合物、エーテル、エステル、アミン等の電
子供与性化合物、ホウ酸フェニル、亜リン酸フェニル、
テトラエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等
のアルコキシ含有化合物を例示することができる。 〔触媒の使用/オレフィンの重合〕(その2) 本発明のプロピレンブロック共重合体は、本発明による
触媒の存在下に、重合工程(1)を実施し、次いで前記
触媒ならびに重合工程(1)による重合体の存在下に重
合工程(2)を実施することによって製造される。従っ
て、重合工程(1)は前段重合工程となるところ、この
工程は、本発明に従って、ゴム状重合体の製造工程であ
る。
【0066】触媒の形成 前記の触媒および必要に応じて添加される成分を、一時
にあるいは段階的に、重合系内であるいは重合系外で、
接触させることによって、本発明の方法に用いられる触
媒が形成される。
【0067】重合工程(1) 前段工程である重合工程(1)は、プロピレンと、エチ
レンおよび炭素数4〜20のα‐オレフィンからなる群
から選ばれる少なくとも一種のコモノマーを重合系に導
入して、エチレンおよび4〜20のα‐オレフィンから
なる群から選ばれる少なくとも1種のコモノマーの含量
(モル比)が20〜100、好ましくは30〜80、更
に好ましくは30〜70、のプロピレン/エチレン及び
(又は)炭素数4〜20のα‐オレフィン共重合体を一
段または多段で得る工程である。この工程では、全重合
量の5〜70重量%、好ましくは10〜50重量%、さ
らに好ましくは10〜40重量%に相当する量を形成さ
せる。
【0068】重合工程(1)の重合温度は、0〜90
℃、好ましくは20〜70℃、程度である。重合圧力は
1〜50Kg/cm2 Gの範囲で通常用いられる。
【0069】重合工程(2) 後段工程である重合工程(2)は、重合工程(1)に引
きつづいて、触媒ならびに重合工程(1)による重合体
の存在下に、すなわち、重合工程(1)での重合活性、
即ち重合触媒の一部を利用して、プロピレンの結晶性単
独重合体、またはプロピレンと、エチレンおよび炭素数
4〜20、好ましくは4〜10、のα‐オレフィンから
なる群から選ばれる少なくとも一種のコモノマーとの、
該コモノマー含量が10重量%以下、好ましくは5重量
%以下、のプロピレン共重合体を、全重合体の30〜9
5重量%、好ましくは50〜90重量%、さらに好まし
くは60〜90重量%、に相当する量を形成させる工程
である。
【0070】重合工程(2)でプロピレン‐エチレン共
重合体中のコモノマー含量が10重量%を越えると、得
られる共重合体の剛性が低下し、低結晶性重合体の副生
量が大幅に増大する。また、重合割合が上記範囲の下限
未満では、やはり低結晶性重合体の副生量が増加する。
一方、重合割合が上記範囲の上限を越えると、ブロック
共重合体の目的である耐衝撃強度の向上効果が現われな
くなる。
【0071】重合工程(1)から重合工程(2)に移る
際に、重合工程(1)で使用したモノマーガス及び場合
により分子量調節剤、例えば水素ガス、をパージしてか
ら重合工程(2)に移ることが好ましい。
【0072】重合工程(2)では、分子量調節剤を使用
しても使用しなくてもよい。 〔ブロック共重合体〕 <前段重合体>本発明の重合工程(1)で得られる重合
体の特徴は、冷キシレン抽出により得られた該重合体の
共重合比(rP XrEN)が2.0以下、好ましくは1.
0以下、であることである。モノマーの反応比はプロピ
レンとエチレンの共重合の場合、K. Soga. Macromol. C
hem 191 p2854 (1990)と同様に、rP =2[PP]/
[PE]X、rEN=2[EE]X/[PE]の式(ただ
しX=プロピレン/エチレン(溶媒中の仕込みモル
比))に従って算定したときのrP とrENの積である。
尚、溶媒中のプロピレンの溶解量はKissinの式(Y.V. K
issin, "Isospecific polymerization of Olefins with
Heterogeneous Ziegler-Natta catalysts" p.3(1985))
により算定した。この際rP ×rENの値が2.0以
下、好ましくは1.5以下、に入っていることが必要で
ある。
【0073】また、重合工程(1)による該重合体の数
平均分子量は、20,000以上、好ましくは50,0
00以上、である。20,000より小さいと、耐衝撃
性の改良効果が少く、本発明の目的の効果を得ることが
できない。 <後段重合体>重合工程(2)で得られる重合体は、13
C−NMRの測定による〔mm〕トリアッド分率が0.8
0以上あるいは〔rr〕トリアッドが0.80以上、の値
を示す立体規則性のものである。ポリマーの13C−NM
Rスペクトルによる〔mm〕あるいは〔rr〕は、日本電子
製JEOL,FX−200を用い、測定温度130℃、
測定周波数50.1MHz、スペクトル幅8000H
z、パルス繰り返し時間2.0秒、パルス幅7μ秒、積
算回数10000〜50000回の条件で行なったもの
である。また、スペクトルの解析は、A.ZambelliのMacr
omolecules、21 617(1988) 及び朝倉哲郎の高分子学会
予稿集36 (8) 2408 (1987)に基づいておこなった。
【0074】ここで、トリアッドの〔mm〕分率あるいは
〔rr〕分率とは、α‐オレフィン重合体における単量体
単位で立体構造の最小単位である「トリアッド」、すな
わち「三量体単位」、がとり得る三つの立体異性構造
体、すなわち〔mm〕(アイソタクチック)、〔mr〕(ヘ
チロタクチック)及び〔rr〕(シンジオクタチック)の
総数x中で、〔mm〕あるいは〔rr〕構造をとっているト
リアッドの数yの割合(y/x)をいうものである。
【0075】重合工程(2)による該重合体の数平均分
子量(Mn)は20,000ないし200,000であ
る。Mnが20,000より小さいと、溶融時の粘性が
不充分となって成型が難しく、また200,000を越
えると、本発明が目的とする高剛性を保つことができな
い。好ましいのは、30,000から100,000の
間である。
【0076】また、得られるポリマーの分子量分布は、
ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)の
測定によるMw/Mnの比が3.5以下、好ましくは1
〜2.8、の範囲にある。一般に、メタロセン化合物と
アルモキサンからなる触媒で得られる重合体は、Mw/
Mnが3.5以下のものである。3.5を越えるもの
は、相対的に低分子量物が増加するため、副生溶出物が
増加したり、剛性を高くしにくいため、好ましくない。
【0077】尚、ゲルパーミエイションクロマトグラフ
ィー(GPC)の測定は、武内著、丸善発行の「ゲルパ
ーミエイションクロマトグラフィー」に準じて行なっ
た。すなわち、分子量既知の標準ポリスチレン(東洋ソ
ーダ製単分散ポリスチレン)を使用し、ユニバーサル法
により、数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(M
n)に換算し、Mw/Mnの値を求めた。測定は、ウォ
ーターズ社製150C−ALC/GPCを用い、カラム
は昭和電工製AD80M/Sを3本使用した。サンプル
は、o‐ジクロルベンゼンに0.2wt%に希釈したも
のを、200μl使用した。測定は140℃、流速1ml
/min.で実施した。 <実用物性測定>以下の各実験例における重合体の実用
物性は、各実施例で得られた重合体に下記添加剤を配合
した後、内容積60mlの東洋製機社製のプラストミルに
て表1に示す組成で230℃、回転数60rpm の条件で
6分間溶融混練した。得られた混合物を230℃の条件
でプレス成形して、厚み2mmのシートを作成した。この
シートより各種試験片を切り出して物性評価に供した。 添加剤: 2,6‐ジ第三ブチルフェノール 0.10重量% RA1010(チバガイギー社製) 0.05重量%測定及び評価法 (a)曲げ弾性率 幅25mm、長さ80mmの試験片を切削加工し、JIS
K7203に準拠してインストロン試験機を用いて測定
した。 (b)アイゾット衝撃強度 耐衝撃強度はJIS K7110に準じて、厚さ2mmの
試験片を三枚重ねにして、23℃のノッチ付きアイゾッ
ト衝撃強度を測定した。
【0078】
【実施例】
<実施例−1>成分(A)の製造 ジメチルシリレンビス(2‐メチルインデニル)ジルコ
ニウムジクロリドを以下の方法で製造した。
【0079】500mlガラス製反応容器中で、2‐メチ
ルインデン4.3g(33mmol)を80mlのテトラヒド
ロフランに溶解させ、冷却下、n‐ブチルリチウムの
1.6Mヘキサン溶液21mlをゆっくりと反応容器内に
滴下した。室温で1時間攪拌後、再び冷却し、ジメチル
ジクロロシラン2.1gをゆっくりと滴下し、室温で1
2時間攪拌後、50mlの水を添加し、有機相を分別、乾
燥してジメチルビス(2‐メチルインデニル)シラン
3.5gを得た。
【0080】上記方法で得たジメチルビス(2‐メチル
インデニル)シラン3.5gをテトラヒドロフラン7.
0mlに溶解し、冷却下、n‐ブチルリチウムの1.6M
ヘキサン溶液13.9mlをゆっくりと滴下した。室温で
3時間攪拌後、四塩化ジルコニウム2.6g(11mmo
l)/テトラヒドロフラン60ml溶液にゆっくりと滴下
し、5時間攪拌後、塩化水素ガスを吹き込んだ後、乾燥
させた。続いて、塩化メチレンを加えて可溶分を分別
し、低温にて結晶化させて、0.45gの橙色粉末を得
た。
【0081】成分(B)の製造 成分(i) であるメチルイソブチルアルモキサンを下記の
方法で製造した。
【0082】充分に窒素置換した攪拌機及び還流コンデ
ンサー付の1000ミリリットルフラスコに、脱水及び
脱酸素したトルエン100ミリリットルを導入した。次
いで、2本の滴下ロートの一方に、トリメチルアルミニ
ウム0.72グラム(10ミリモル)、トリイソブチル
アルミニウム1.96グラム(10ミリモル)をトルエ
ン50ミリリットルに希釈し、他の一方に飽和水含有の
トルエンを導入し、30℃の条件下で混合アルミニウム
溶液及び飽和水含有トルエンをAl及びHOを等モル
ずつ3時間かけてフィードした。フィード終了後、50
℃に昇温し2時間反応させた。反応終了後、溶媒を減圧
留去して1.9グラムの白色固体を得た。得られた白色
固体をトルエンに希釈し27Al−NMRの測定の結果、
ケミカルシフト174ppm、半値巾5844Hzのス
ペクトルを示した。
【0083】触媒の製造 成分(C)としてアクゾ社製の多孔質ポリプロピレンパ
ウダー(商品名;「Accurel」200〜400μ
m分級品)を使用した。このパウダーの細孔径0.05
μ〜2.0μの間の細孔容積は1.89cc/g、0.
006μ〜10μの間の全細孔容積は2.54cc/g
であった。
【0084】充分に窒素置換した300mlフラスコ
に、成分(C)として上記のアクゾ社製の多孔質ポリプ
ロピレン10グラム及び成分(B)として上記で合成し
たメチルイソブチルアルモキサン約3.6グラム(0.
045モル)をトルエン40mlに溶解して導入した。
次いで成分(A)として上記で合成したジメチルシリレ
ンビス(2メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド
42ミリグラム(0.94ミリモル)を0℃冷却条件下
で15分かけて導入した。導入後、10℃以下に保ちな
がら攪拌しながら窒素気流下でトルエンを2時間留去
し、ポリプロピレン粒子が独立して流動するようにし
た。その一部を抜き出し、50℃で減圧乾燥させたとこ
ろ12重量%の重量減少をおこし、冷却トラップ中には
トルエンが回収された。
【0085】上記で得た含浸固体をプロピレンを大気圧
下、流通系で予備重合を行なった。予備重合は、氷水で
冷却しながら、プロピレンガス流量を制御しつつ、10
〜20℃の間で30分間実施した。重合温度制御は、氷
水冷却の他、流通ガスのプロピレンと窒素との混合比を
変えることで行なった。予備重合終了後、固体を回収し
た結果、11.5グラムの固体が得られた。この固体中
の成分(A)の含量は1.58ミリグラム/グラムであ
った。従って成分(A)あたりの予備重合収率は約29
0グラム/成分(A)であった。プロピレンブロック共重合の製造 内容積1.5リットルの攪拌式オートクレーブに、充分
に脱水及び窒素置換した食塩を100グラム導入した
後、オートクレーブ内を30℃に昇温し、プロピレン置
換した。次いで上記で得た固体触媒(予備重合ポリマー
を含む)を2グラム導入し、プロピレン/エチレン=4
/1(モル比)の混合ガスを導入し、圧力=7Kg/c
2 Gで30分間重合工程(1)を実施した。次いで、
系内のガスをパージし、プロピレンガスで系内置換した
後、水素を20℃で添加し、プロピレン圧力を9Kg/
cm2 Gに昇圧し、40℃で1.5時間、気相下で重合
工程(2)を実施した。重合終了後、固体を回収し、多
量の水で食塩を洗い流した後、乾燥させたところ、5
6.5グラムのプロピレンブロック共重合体を得た。嵩
密度は0.35(g/cc)、MFRは32.2(g/
10分)であった。
【0086】キシレン300ミリリットルに得られた重
合体2グラムを加え、130℃に加熱して溶解させた
後、一晩かけて23℃に冷却した後、不溶分を濾別して
キシレン可溶分を回収した結果、42.6重量%の前段
重合体(プロピレン/エチレン共重合体)を得た。冷キ
シレン可溶分の共重合性比はrE P =1.20であ
り、エチレン含量は62.5重量%であった。数平均分
子量は105,000、Q価は2.88であった。
【0087】得られたプロピレンブロック共重合体の曲
げ弾性率は8,700Kg/cm2、アイゾット衝撃強
度は10.5(Kg・cm/cm2 )であった。
【0088】キシレン不溶分のポリマー融点は142
℃、〔mm〕トリアッドは0.91であった。 <比較例−1>プロピレンブロック共重合体の製造 内容積1.5リットルの攪拌式オートクレーブに、充分
に脱水及び窒素置換した食塩を100グラム導入した
後、オートクレーブ内を40℃に昇温し、プロピレン置
換した。次いで上記で得た固体触媒を2グラム導入し、
プロピレンを昇圧し、9Kg/cm2 Gで1.5時間重
合工程(1)を実施した。次いでプロピレンをパージし
た後、温度を30℃に下げ、プロピレン/エチレン=1
/4(モル比)の混合ガスを導入し、圧力=7Kg/c
2 Gで30分間重合工程(2)を実施した。重合終了
後、実施例−1と同様の後処理を行ない重合体を評価し
た。結果は表−1に示される通りであった。 <実施例−2、3>プロピレンブロック共重合体の製造 固体触媒2グラムの他に、東ソーアクゾ社製メチルアル
モキサンを0.1グラム、あるいはトリイソブチルアル
ミニウム0.14グラムをトルエン1ミリリットルに希
釈して導入する以外は、全て実施例−1と同一条件で重
合操作を行なった。結果は表−1に示される通りであっ
た。 <実施例−4>成分(A)の製造 ジメチルシリレンビス(2‐メチルテトラヒドロインデ
ニル)ジルコニウムジクロリドの合成 実施例−1で得たジメチルシリレンビス(2‐メチルイ
ンデニル)ジクロニウムジクロリド0.5グラムをジク
ロロメタン250ミリリットルに溶解し、これを1.0
リットルオートクレーブに導入し、酸化白金0.5グラ
ムを次いで導入した後、水素を50Kg/cm2 Gに昇
圧し、30℃で4時間水添反応を実施した。反応終了
後、スラリーを濾過し白金触媒を分離した後、溶媒を留
去した。生成物をトルエン200ミリリットルに溶解し
た後、約50ミリリットルに濃縮し、−20℃で一晩放
置して得られた結晶を濾別し、乾燥させた結果、0.2
2グラムの目的生成物を得た。固体触媒の製造 成分(i) としてアクゾ社製の多孔質ポリプロピレンパウ
ダー(商品名アキュレル)(<200μm)を10グラ
ム用い、東ソーアクゾ社製MMAO(タイプ3)をAl
原子換算で0.1モル、上記で得たジメチルシリレンビ
ス(2‐メチル‐4,5,6,7‐テトラヒドロインデ
ニル)ジルコニウムジクロリド48.4ミリグラム
(0.1ミリモル)をトルエン希釈液で逐次的に添加し
た後、窒素気流下でトルエンを1時間留去して目的の固
体触媒を得た。この触媒中には、成分(A)が1.88
ミリグラム/グラム含まれていた。プロピレンブロック共重合体の製造 上記で得た固体触媒1グラムを用い、水素20ccを使
用しない以外は全て実施例−1と同一条件で重合操作を
行なった。結果は表−2に示される通りである。 <実施例−5〜9>前段重合のプロピレン、エチレン、
ヘキセンの使用量、重合温度、重合時間、重合工程
(2)の重合時間を表−2のように変更する以外は全て
実施例−1と同一条件で重合操作を行なった。結果は表
−2に示される通りである。 <実施例−10>プロピレンブロック共重合体の製造 10リットルの攪拌機付オートクレーブに、n‐ヘプタ
ン3リットル、東ソーアクゾ社製MMAOをAl原子換
算で50ミリモルおよび実施例−4で合成したジメチル
シリレンビス(2‐メチル‐4,5,6,7‐テトラヒ
ドロインデニル)ジルコニウムジクロリド6マイクロモ
ルを窒素下で導入した。
【0089】重合工程(1)としてプロピレンを120
g/Hr、エチレンを180g/Hrの速度で20分間
30℃条件下でフィードした。フィード終了後、1時間
残重合を行なった。次いで、モノマーをパージした後、
窒素ガスで3回置換した。次に、n‐ヘプタンを2リッ
トル追加し、プロピレンを800g/Hrの速度で80
分/35℃条件下でフィードした。フィード終了後、3
時間重合を継続した。重合終了後、BuOHを40ml
添加し30分反応させた後、スラリーを回収し、スチー
ムストリッピングにより溶剤を留去し乾燥させた結果、
210グラムのポリマーを回収した。MFRは4.5、
冷キシレン抽出量は44.2重量%、冷キシレン抽出分
中のエチレン含量は50重量%、rE P =0.92、
数平均分子量は89,000、Q価は2.20であっ
た。キシレン不溶分の融点は153℃、〔mm〕トリアッ
ドは0.965であった。曲げ弾性率は7,500Kg
/cm2 G、アイゾット衝撃強度は23℃では破壊され
ず、−30℃で6.5Kg・cm/cm2 の値を示し
た。また、得られたシートは1カ月放置しても、表面ベ
タツキが発生しなかった。 <比較例−2>工程の実施順序を逆にする以外は全て実
施例−10と同一条件で重合操作を行なった。その結
果、プロピレンブロック共重合体が300グラム回収さ
れた。MFRは15.8、冷キシレン抽出分は54.5
重量%、冷キシレン可溶分のエチレン含量は25.5重
量%、rE P =1.85であった。数平均分子量は5
5,300、Q=2.56であった。キシレン不溶分の
融点は152.3℃、〔mm〕トリアッドは0.960で
あった。曲げ弾性率は5,600Kg/cm2 G、アイ
ゾット衝撃強度は−30℃で2.3Kg・cm/cm2
の値を示した。
【0090】
【表1】
【0091】
【表2】
【0092】
【発明の効果】本発明によれば、耐衝撃性の改良された
プロピレンブロック共重合体が、微粒子の発生や粒子の
凝集、反応器等への付着等の問題を起こさずに得ること
ができることは「発明の概要」の項において前記したと
ころである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−149415(JP,A) 特開 昭57−111307(JP,A) 特開 平6−172414(JP,A) 特表 平5−503546(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08F 297/08 C08F 4/645

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記の成分(A)および(B)からなる触
    媒の存在下に、下記の重合工程(1)を実施し、次い
    で、上記触媒ならびに重合工程(1)による重合体の存
    在下に、下記の重合工程(2)を実施して、重合工程
    (1)で生成する重合体と重合工程(2)で生成する重
    合体との重量比が5/95〜70/30であるブロック
    共重合体を製造することを特徴とする、プロピレンブロ
    ック共重合体の製造法。成分(A) π共役五員環配位子を有するIVB〜VIB族遷移金属化合
    物。成分(B) 下記の成分(i) 〜(iv)の化合物群から選ばれた少なくと
    も一種の化合物。 成分(i) アルモキサン。 成分(ii) 【化1】 〔ここで、Rは、炭素数1〜10の炭化水素残基を表
    わす〕の化合物と有機アルミニウム化合物との反応生成
    物。 成分(iii) ルイス酸。 成分(iv) イオン性化合物。重合工程(1) プロピレンと、エチレンおよび炭素数4〜20のα‐オ
    レフィンからなる群から選ばれる少なくとも一種のコモ
    ノマーとを、プロピレンと該コモノマーとの重合比(モ
    ル比)が0/100〜80/20の割合となるように重
    合させる工程。重合工程(2) プロピレンの結晶性単独重合体、またはプロピレンと、
    エチレンおよび炭素数4〜20のα‐オレフィンからな
    る群から選ばれる少なくとも一種のコモノマーとの、該
    コモノマー含量が10重量%以下(重合工程(2)によ
    る重合体基準)であるプロピレン共重合体、を重合させ
    る工程。
  2. 【請求項2】成分(A)が、下記一般式〔I〕または
    〔II〕で表わされる遷移金属化合物である、請求項1に
    記載のプロピレンブロック共重合体の製造法。 Q(C4-a a )(C4-b b )MeXY 〔I〕 S(C4-c c )ZMeXY 〔II〕 〔ここで、Qは二つの共役五員環配位子を架橋する結合
    性基を、Sは共役五員環配位子とZ基を架橋する結合性
    基を、Meは周期律表IVB〜VIB族遷移金属を、Xおよ
    びYは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン基、炭素数
    1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ
    基、アルキルアミド基、炭素数1〜20のリン含有炭化
    水素基または炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基
    を、Zは酸素、イオウ、炭素数1〜20のアルコキシ
    基、炭素数1〜20のチオアルコキシ基、炭素数1〜4
    0のケイ素含有炭化水素基、炭素数1〜40の窒素含有
    炭化水素基または炭素数1〜40のリン含有炭化水素基
    を、示す。R、RおよびRは、それぞれ独立し
    て、炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン基、アルコ
    キシ基、ケイ素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、
    窒素含有炭化水素基またはホウ素含有炭化水素基を示
    す。また、隣接する2個のRまたは2個のRまたは
    2個のRがそれぞれ結合して環を形成していてもよ
    い。a、bおよびcは0≦a≦4、0≦b≦4、0≦c
    ≦4を満足する整数である。〕
  3. 【請求項3】一般式〔I〕または〔II〕の遷移金属化合
    物が、それを用いて請求項1の重合工程(1)および重
    合工程(2)の両工程を実施したときに、プロピレンブ
    ロック共重合体のキシレン不溶部(23℃)の〔mm〕が
    0.85以上のアイソタクチックポリプロピレンを与え
    る化合物である、請求項2に記載のプロピレンブロック
    共重合体の製造法。
  4. 【請求項4】成分(A)および(B)からなる触媒が、
    該成分(A)および(B)を微粒子状担体(成分
    (C))に担持させたものである、請求項1〜3のいず
    れか一項に記載のプロピレンブロック共重合体の製造
    法。
  5. 【請求項5】重合工程(1)および(2)を、実質的に
    気相下で行なう、請求項1〜4のいずれか一項に記載の
    プロピレンブロック共重合体の製造法。
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