JP3355149B2 - 楕円形セラミック蒸発器 - Google Patents
楕円形セラミック蒸発器Info
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
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Description
る。
ム、で被覆するのに最も広く使用されている方法は、高
真空テープ被覆法である。被覆対象の支持体は、冷却し
たロールの上を通過させ、同時に、薄い金属層として支
持体表面に蒸着するアルミニウム蒸気に曝す。
に、電流を直接通すことによって、蒸発ボートとして知
られるセラミック蒸発器を約1450℃に加熱する。約
10 -4ミリバールの真空中で、アルミニウム線を連続的
に供給し、セラミック蒸発器の表面で液化させて蒸発さ
せる。一様な厚さのアルミニウム層が支持体の幅全体に
わたって蒸着されるように、一連の蒸発ボートが金属化
装置内に配置される。
ないし55重量%、BNが25ないし55重量%、及び
AlNが0ないし20重量%が一般的である。このよう
な組成物は、幾つかの特許(例えば、米国特許第3,9
15,900号、又は米国特許第4,089,643号の
第1カラム10行と11行、及び第2カラム5行に引用
されている特許)に記載されている。
が基になっている。蒸発ボートの幅と長さは、約0.3
5gのAl/cm2・分から0.40gのAl/cm2・
分までの所要の蒸発速度によって選ばれる。長方形断面
は、高温でも機械的安定性が高く安価に製造できるの
で、有用であることが判っている。
米国特許第4,089,643号は三角形断面及びキャビ
ティーを含む蒸発器を記載している。長方形断面の蒸発
器より三角形断面蒸発器が遥かに有利であることは、材
料が節約できること、及び三角形蒸発器ボートの運転用
電力が少なくて済むことである。これらの長所は長方形
蒸発器と比較して、三角形蒸発器の運転寿命が短いとい
う重大な短所によって相殺される。
じ高さ、長さ及び幅の三角形蒸発器の寿命が比較的短い
という欠点も無く、同じ高さ、長さ及び幅の長方形蒸発
器より運転に要するエネルギー消費量が少ないセラミッ
ク蒸発器を提供することが本発明の1つの目的である。
を蒸発するセラミックス製の蒸発器であって、金属の蒸
発が起こる面と、前記金属の蒸発が起こる面に連続する
外周面とを備え、かつ前記金属の蒸発が起こる面と直交
する断面形状が、2分割された楕円面であることを特徴
とするセラミック蒸発器によって達成される。
ましい。
が起こる表面と楕円形状の側壁との間の角度は90°が
可能である。こうすることによって、前記領域において
傷つく危険性があることに由来して三角形蒸発器の場合
には必要な鋭い角度部分のそぎ落し工程を省くことが可
能である。
向に固定するのに、三角形蒸発器では通常は必要な特別
の固定具が本発明の蒸発器では必要でない。
代替物として必要な、例えば、ドイツ共和国特許公報第
19708599C1号に記載されている、蒸発器の端
面を特別に機械加工する追加工程は不要となる。
許に記載されている三角形蒸発器の場合のような機械加
工作業を増やす必要はなく、或いは材料の量を増やす必
要はない。
から簡単な方法で作ることができるので、本発明の蒸発
器は、前記の欠点のどれからも煩わされることがない。
での蒸発器の固定用間隔に相当するように長く形成する
ことが好ましい。
される部分を簡単に長方形断面にすることができ、従来
の普通の長方形蒸発器のテープ被覆装置に問題なく使用
できる。
よる形状にまで研削することも同様に可能である。その
ような蒸発器は、例えば、蒸発ボートの端面を固定する
ことによって蒸着装置で使用することができる。
にキャビティーを機械加工することを省略できる。勿
論、従来の技術で公知のように蒸発器の中でキャビティ
ーを機械加工することもできる。
エレクトロシュメルツベルケケンプテン社(Elekt
roschmelzwerkKemptenGmbH、
Munich(ESK))から市販されている長方形蒸
発器(10×30×120mm)から、楕円形状の砥石
車を使って、本発明の楕円形断面の蒸発器を研削した。
の比較 実施例1で説明した蒸発器と、本発明による蒸発器を作
るするために実施例1で使用した長方形蒸発器とを次の
ように比較した。
置に入れた。加熱に先立って、金属の蒸発が起こる蒸発
ボートの表面の中央部に2gのAl線を置いた。1×1
0-4ミリバール未満の真空にした。この高真空の中で、
アルミニウム線が溶融するまで蒸発ボートをゆっくりと
加熱した。この時の所要電力(電流と電圧の積)を測定
した。
キロワット。 楕円形断面:5.8ボルト/525アンペア=3.05
キロワット。
アルミニウムで濡らす場合、エネルギーが約11%少な
くて済むことが判る。
列記する。 (1)金属を蒸発するセラミックス製の蒸発器であっ
て、金属の蒸発が起こる面と、前記金属の蒸発が起こる
面に連続する外周面とを備え、かつ前記金属の蒸発が起
こる面と直交する断面形状が、2分割された楕円面であ
ることを特徴とするセラミック蒸発器。 (2)2分割された楕円面が、主軸に沿って2等分され
た楕円面であることを特徴とする、上記(1)に記載の
セラミック蒸発器。
同じ高さ、長さ及び幅の三角形蒸発器より長寿命で、同
じ高さ、長さ及び幅の長方形蒸発器より運転に要するエ
ネルギー消費量が少ないセラミック蒸発器が提供され
る。
(破線)、三角形蒸発器(一点鎖線))と本発明の蒸発
器(楕円形蒸発器(実線))の比較断面図である。どの
蒸発器にもキャビティーはない。
ビティー付きの蒸発器の例の概略図である。
ャビティー付きの蒸発器の例の概略図である。楕円形状
を、より明確に表すための断面図でもある。
Claims (1)
- 【請求項1】 金属を蒸発するセラミックス製の蒸発器
であって、金属の蒸発が起こる面と、前記金属の蒸発が
起こる面に連続する外周面とを備え、かつ前記金属の蒸
発が起こる面と直交する断面形状が、2分割された楕円
面であることを特徴とするセラミック蒸発器。
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DE102005030862B4 (de) * | 2005-07-01 | 2009-12-24 | Sintec Keramik Gmbh | Erstbenetzungshilfsmaterial für einen Verdampferkörper, seine Verwendung zum Herrichten der Verdampferfläche eines Verdampferkörpers und ein elektrisch beheizbarer keramischer Verdampferkörper |
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US3514575A (en) * | 1967-08-10 | 1970-05-26 | Sylvania Electric Prod | Metal-evaporating source |
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DE2317762B2 (de) * | 1973-04-09 | 1978-08-17 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen |
JPS5274580A (en) * | 1975-12-19 | 1977-06-22 | Hitachi Ltd | Boat for vacuum evaporation |
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JPS63192860A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | 蒸着用ボ−ト |
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