JP3329422B2 - 公知の芳香族ポリカーボネート類と任意に混合されたｕｖ安定性ポリカーボネート類、それらの製造およびそれらの使用 - Google Patents
公知の芳香族ポリカーボネート類と任意に混合されたｕｖ安定性ポリカーボネート類、それらの製造およびそれらの使用Info
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- JP3329422B2 JP3329422B2 JP14012195A JP14012195A JP3329422B2 JP 3329422 B2 JP3329422 B2 JP 3329422B2 JP 14012195 A JP14012195 A JP 14012195A JP 14012195 A JP14012195 A JP 14012195A JP 3329422 B2 JP3329422 B2 JP 3329422B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/04—Aromatic polycarbonates
- C08G64/06—Aromatic polycarbonates not containing aliphatic unsaturation
- C08G64/14—Aromatic polycarbonates not containing aliphatic unsaturation containing a chain-terminating or -crosslinking agent
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【０００１】本発明は、公知のポリカーボネート製造方
法、すなわち相界面方法、均一溶液方法（ピリジン方法
として知られている）または溶融エステル交換方法を用
い、ジフェノール類と、ジフェノール１モル当たり０．
００１モルから１モル、好適には０．０１モルから０．
５モルの連鎖停止剤と、炭酸供与体と任意の分枝剤か
ら、平均分子量Ｍw（光散乱で測定した重量平均）が１
５００から１５００００である公知の芳香族ポリカーボ
ネート類と任意に混合されていてもよい、Ｍw（光散乱
で測定した重量平均）が１５００から１５００００であ
るＵＶ吸収剤末端基含有芳香族ポリカーボネート類を製
造する方法を提供するものであり、この方法は、任意に
他の公知連鎖停止剤と一緒に、式（Ｉ）
法、すなわち相界面方法、均一溶液方法（ピリジン方法
として知られている）または溶融エステル交換方法を用
い、ジフェノール類と、ジフェノール１モル当たり０．
００１モルから１モル、好適には０．０１モルから０．
５モルの連鎖停止剤と、炭酸供与体と任意の分枝剤か
ら、平均分子量Ｍw（光散乱で測定した重量平均）が１
５００から１５００００である公知の芳香族ポリカーボ
ネート類と任意に混合されていてもよい、Ｍw（光散乱
で測定した重量平均）が１５００から１５００００であ
るＵＶ吸収剤末端基含有芳香族ポリカーボネート類を製
造する方法を提供するものであり、この方法は、任意に
他の公知連鎖停止剤と一緒に、式（Ｉ）
【０００２】
【化３】
【０００３】［式中、Ｒ1は、Ｈ、Ｃ1−Ｃ18アルキル、
Ｃ3−Ｃ6シクロアルキルおよびＣ6−Ｃ10アリールを意
味し、Ｒ2は、Ｈ、ＣｌおよびＣ1−Ｃ12アルキルを意味
し、Ｘは、単結合、Ｃ1−Ｃ12アルキレン、Ｃ5−Ｃ6シ
クロアルキレンおよびＣ6−Ｃ10アリーレンを意味し、
そしてＹは、ポリカーボネート製造の反応条件下で反応
性を示す残基を意味する］で表される連鎖停止剤を用い
ることを特徴としている。
Ｃ3−Ｃ6シクロアルキルおよびＣ6−Ｃ10アリールを意
味し、Ｒ2は、Ｈ、ＣｌおよびＣ1−Ｃ12アルキルを意味
し、Ｘは、単結合、Ｃ1−Ｃ12アルキレン、Ｃ5−Ｃ6シ
クロアルキレンおよびＣ6−Ｃ10アリーレンを意味し、
そしてＹは、ポリカーボネート製造の反応条件下で反応
性を示す残基を意味する］で表される連鎖停止剤を用い
ることを特徴としている。
【０００４】相界面方法の場合、ＹはＯＨ、Ｃｌ、Ｏ−
（アルカリ）、Ｏ−アンモニウムまたはＯ−1/2（アル
カリ土類）である、即ちこのように、カルボン酸として
か、カルボン酸クロライドとしてか、カルボン酸アルカ
リ塩としてか、カルボニウム−アンモニウム塩として
か、或はカルボン酸アルカリ土類塩として（Ｉ）を用い
る。
（アルカリ）、Ｏ−アンモニウムまたはＯ−1/2（アル
カリ土類）である、即ちこのように、カルボン酸として
か、カルボン酸クロライドとしてか、カルボン酸アルカ
リ塩としてか、カルボニウム−アンモニウム塩として
か、或はカルボン酸アルカリ土類塩として（Ｉ）を用い
る。
【０００５】ピリジン方法の場合、Ｙは、上記相界面方
法の場合と同じ意味を有する。
法の場合と同じ意味を有する。
【０００６】溶融エステル交換方法の場合もまた、Ｙ
は、上記相界面方法の場合と同じ意味を有すると共に追
加的に−Ｏ−Ｃ6−Ｃ10アリールおよびＣ1−Ｃ6アルキ
ル置換−Ｏ−Ｃ6−Ｃ10アリールを意味する。
は、上記相界面方法の場合と同じ意味を有すると共に追
加的に−Ｏ−Ｃ6−Ｃ10アリールおよびＣ1−Ｃ6アルキ
ル置換−Ｏ−Ｃ6−Ｃ10アリールを意味する。
【０００７】更に、エステル交換方法の場合、Ｙはまた
二官能のアリーレン−ビス−オキシ残基であってもよ
く、この場合、式（ＩＩ）
二官能のアリーレン−ビス−オキシ残基であってもよ
く、この場合、式（ＩＩ）
【０００８】
【化４】
【０００９】［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、式（Ｉ）で
述べた意味を有し、そして−Ｙ−は、式（ＩＩＩ） −Ｏ−Ａｒ−Ｏ− （ＩＩＩ） で表されるビフェノラート残基であり、ここで、−Ａｒ
−はＣ6−Ｃ30アリーレンであり、これは単環状または
多環状、好適には二環状であり、ここで、二環状アリー
レン残基の場合、これらは、Ｃ1−Ｃ8アルキレン、Ｃ2
−Ｃ8アルキリデン、Ｃ5−Ｃ6シクロアルキレンおよび
Ｃ5−Ｃ10シクロアルキリデンでブリッジ形成していて
もよい］で表される連鎖停止剤がもたらされる。−Ｏ−
または−Ｓ−などの如きヘテロ原子もまたブリッジ員と
して働き得る。
述べた意味を有し、そして−Ｙ−は、式（ＩＩＩ） −Ｏ−Ａｒ−Ｏ− （ＩＩＩ） で表されるビフェノラート残基であり、ここで、−Ａｒ
−はＣ6−Ｃ30アリーレンであり、これは単環状または
多環状、好適には二環状であり、ここで、二環状アリー
レン残基の場合、これらは、Ｃ1−Ｃ8アルキレン、Ｃ2
−Ｃ8アルキリデン、Ｃ5−Ｃ6シクロアルキレンおよび
Ｃ5−Ｃ10シクロアルキリデンでブリッジ形成していて
もよい］で表される連鎖停止剤がもたらされる。−Ｏ−
または−Ｓ−などの如きヘテロ原子もまたブリッジ員と
して働き得る。
【００１０】好適なビフェノラート残基−Ｙ−は、製造
すべきポリカーボネート類のジフェノール類に由来する
残基であり、従って例えば（ＩＩＩａ）−（ＩＩＩｄ）
すべきポリカーボネート類のジフェノール類に由来する
残基であり、従って例えば（ＩＩＩａ）−（ＩＩＩｄ）
【００１１】
【化５】
【００１２】である。
【００１３】連鎖停止剤（ＩＩ）の場合、この反応性を
示す連鎖停止剤のモル量は各場合とも（Ｉ）の場合の２
倍であり、その結果として、（Ｉ）の代わりに連鎖停止
剤（ＩＩ）を用いてポリカーボネートを合成する場合、
その用いるモル量は半分であってもよい。
示す連鎖停止剤のモル量は各場合とも（Ｉ）の場合の２
倍であり、その結果として、（Ｉ）の代わりに連鎖停止
剤（ＩＩ）を用いてポリカーボネートを合成する場合、
その用いるモル量は半分であってもよい。
【００１４】従って、本発明はまた、本発明に従う溶融
エステル交換方法の変法も提供し、これは、式（Ｉ）で
表される連鎖停止剤の代わりに、式（ＩＩ）で表される
連鎖停止剤を連鎖停止剤（Ｉ）で計算したモル量の半分
の量で用いることを特徴としている。
エステル交換方法の変法も提供し、これは、式（Ｉ）で
表される連鎖停止剤の代わりに、式（ＩＩ）で表される
連鎖停止剤を連鎖停止剤（Ｉ）で計算したモル量の半分
の量で用いることを特徴としている。
【００１５】式（Ｉ）および（ＩＩ）で表される連鎖停
止剤は文献から公知であるか或は文献から公知の方法を
用いて入手可能であり、例えば下記の反応図式：
止剤は文献から公知であるか或は文献から公知の方法を
用いて入手可能であり、例えば下記の反応図式：
【００１６】
【化６】
【００１７】に従って入手可能である。
【００１８】これに関連して例えばヨーロッパ特許第０
０５７ １６０号の７頁を参照のこと。
０５７ １６０号の７頁を参照のこと。
【００１９】式（Ｉ）で表される好適な化合物は、例え
ば：
ば：
【００２０】
【化７】
【００２１】である。
【００２２】式（ＩＩ）で表される好適な化合物は、
【００２３】
【化８】
【００２４】である。
【００２５】本発明に従う方法でまた使用するに適した
他の公知連鎖停止剤は、例えばフェノール類、カルボン
酸ハライド類、スルホン酸クロライド類またはクロロ蟻
酸エステルなどである。
他の公知連鎖停止剤は、例えばフェノール類、カルボン
酸ハライド類、スルホン酸クロライド類またはクロロ蟻
酸エステルなどである。
【００２６】また使用するに適した公知連鎖停止剤の例
は、フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−
ジメチルフェノール、ｐ−イソオクチルフェノール、塩
化アセチルおよび塩化ベンゾイルなどである。
は、フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−
ジメチルフェノール、ｐ−イソオクチルフェノール、塩
化アセチルおよび塩化ベンゾイルなどである。
【００２７】本発明は更に、他の公知連鎖停止剤を用い
て連鎖停止させることで生じるＭw（光散乱で測定した
重量平均）が１５００から１５００００である公知の芳
香族ポリカーボネート類と任意に混合されていてもよ
い、本発明に従う方法を用いることで入手可能な式（Ｉ
ａ）
て連鎖停止させることで生じるＭw（光散乱で測定した
重量平均）が１５００から１５００００である公知の芳
香族ポリカーボネート類と任意に混合されていてもよ
い、本発明に従う方法を用いることで入手可能な式（Ｉ
ａ）
【００２８】
【化９】
【００２９】［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、式（Ｉ）で
述べた意味を有する］で表される末端基を有するＭ
w（光散乱で測定した重量平均）が１５００から１５０
０００の芳香族ポリカーボネート類も提供する。
述べた意味を有する］で表される末端基を有するＭ
w（光散乱で測定した重量平均）が１５００から１５０
０００の芳香族ポリカーボネート類も提供する。
【００３０】本発明に従って入手可能な１５００から１
５００００の平均分子量Ｍw（光散乱で測定した重量平
均）を有する芳香族ポリカーボネート類は、好適には式
（ＩＶ）
５００００の平均分子量Ｍw（光散乱で測定した重量平
均）を有する芳香族ポリカーボネート類は、好適には式
（ＩＶ）
【００３１】
【化１０】
【００３２】［式中、−Ｏ−Ｚ−Ｏ−は、６から３０個
のＣ原子を有するジフェノラート残基であり、Ｅおよび
Ｅ’は、同一もしくは異なり、これらの残基Ｅおよび
Ｅ’の少なくとも１つは、式（Ｉａ）
のＣ原子を有するジフェノラート残基であり、Ｅおよび
Ｅ’は、同一もしくは異なり、これらの残基Ｅおよび
Ｅ’の少なくとも１つは、式（Ｉａ）
【００３３】
【化１１】
【００３４】（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、式（Ｉ）で
述べた意味を有する）で表される残基に相当しており、
そしてその残りの末端基ＥおよびＥ’は、任意にホスゲ
ンを含む他の公知の連鎖停止剤と反応することで生じ、
そして「ｐ」は、該分子量Ｍwが１５００から１５００
００であることからもたらされる重合度である］で表さ
れる芳香族ポリカーボネート類である。
述べた意味を有する）で表される残基に相当しており、
そしてその残りの末端基ＥおよびＥ’は、任意にホスゲ
ンを含む他の公知の連鎖停止剤と反応することで生じ、
そして「ｐ」は、該分子量Ｍwが１５００から１５００
００であることからもたらされる重合度である］で表さ
れる芳香族ポリカーボネート類である。
【００３５】本発明に従うポリカーボネート類もしくは
ポリカーボネート混合物内の式（Ｉａ）で表される末端
基の重量比率は、４０重量％から０．１重量％、好適に
は０．２重量％から１０重量％である。
ポリカーボネート混合物内の式（Ｉａ）で表される末端
基の重量比率は、４０重量％から０．１重量％、好適に
は０．２重量％から１０重量％である。
【００３６】本発明に従うポリカーボネート類もしくは
ポリカーボネート混合物は、ＵＶ照射の作用に対して良
好な抵抗力を示し、従ってこれらは例えばランプのカバ
ーを製造するによく適合しており、そして屋根葺き、特
に外部用途、例えば温室などのためのシート形態で製造
するによく適合している。
ポリカーボネート混合物は、ＵＶ照射の作用に対して良
好な抵抗力を示し、従ってこれらは例えばランプのカバ
ーを製造するによく適合しており、そして屋根葺き、特
に外部用途、例えば温室などのためのシート形態で製造
するによく適合している。
【００３７】ドイツ特許出願公開第３ ９０３ ４８７
号には、特別なフタルイミド置換ヒドロキシフェニルベ
ンゾトリアゾールが連鎖停止剤として用いられているポ
リカーボネート類が記述されている。本出願の化合物と
は異なり、そこで連鎖停止剤として用いられている化合
物は、フェノール系ヒドロキシル基以外の組み込み可能
なさらなる官能基を少しも持っていない。従って、これ
らの基はポリカーボネート分子の中に組み込まれる。そ
れとは対照的に本発明に従う方法の連鎖停止剤（Ｉ）お
よび（ＩＩ）が有するフェノール系ヒドロキシル基は、
そのポリカーボネート分子の中に組み込まれない。
号には、特別なフタルイミド置換ヒドロキシフェニルベ
ンゾトリアゾールが連鎖停止剤として用いられているポ
リカーボネート類が記述されている。本出願の化合物と
は異なり、そこで連鎖停止剤として用いられている化合
物は、フェノール系ヒドロキシル基以外の組み込み可能
なさらなる官能基を少しも持っていない。従って、これ
らの基はポリカーボネート分子の中に組み込まれる。そ
れとは対照的に本発明に従う方法の連鎖停止剤（Ｉ）お
よび（ＩＩ）が有するフェノール系ヒドロキシル基は、
そのポリカーボネート分子の中に組み込まれない。
【００３８】９．１．１９９２の特開平０４−０５２９
１号に従い、下記の式
１号に従い、下記の式
【００３９】
【化１２】
【００４０】［式中、Ｒは、Ｈ、ハロゲン、低級アルキ
ルまたはアルコキシであり、そして指数「ｎ」または
「ｍ］の１つは０から１６であり、そしてもう１つは２
から１６である］で表されるベンゾトリアゾール類をポ
リマー類、例えばポリエチレンテレフタレート類の中に
縮合させることが行われている。これらのベンゾトリア
ゾール類は化学的に組み込まれており、溶媒で抽出する
のは不可能である。
ルまたはアルコキシであり、そして指数「ｎ」または
「ｍ］の１つは０から１６であり、そしてもう１つは２
から１６である］で表されるベンゾトリアゾール類をポ
リマー類、例えばポリエチレンテレフタレート類の中に
縮合させることが行われている。これらのベンゾトリア
ゾール類は化学的に組み込まれており、溶媒で抽出する
のは不可能である。
【００４１】それとは対照的に、本発明に従って用いる
べきベンゾトリアゾール類は、ポリカーボネート合成で
連鎖停止剤として働く。
べきベンゾトリアゾール類は、ポリカーボネート合成で
連鎖停止剤として働く。
【００４２】ヨーロッパ特許第５１ １６０号には、と
りわけベンゾトリアゾールカルボン酸をアルキド樹脂の
中に組み込むことが記述されているが、脂肪族モノマー
単位から製造されるポリエステル系、例えばアルキド樹
脂などでは、別の単官能脂肪族単位、例えば実施例Ｉ
Ｖ、２７−３１頁の中のベンゾトリアゾールカルボン酸
を用いることは通常のことである。芳香族ＯＨ基は脂肪
族ＯＨ基よりもかなりエステル化しずらいことが知られ
ていることから、本発明のビスフェノール類などの如き
芳香族ジオール類を用いて製造する系で脂肪族のベンゾ
トリアゾールカルボン酸も用いることは、新規であり、
明白なことでない。この場合に用いるべき、より苛酷な
反応条件下で、このベンゾトリアゾール上のヒドロキシ
ル基は縮合しないがそのカルボキシル基が縮合すること
は驚くべきことである。
りわけベンゾトリアゾールカルボン酸をアルキド樹脂の
中に組み込むことが記述されているが、脂肪族モノマー
単位から製造されるポリエステル系、例えばアルキド樹
脂などでは、別の単官能脂肪族単位、例えば実施例Ｉ
Ｖ、２７−３１頁の中のベンゾトリアゾールカルボン酸
を用いることは通常のことである。芳香族ＯＨ基は脂肪
族ＯＨ基よりもかなりエステル化しずらいことが知られ
ていることから、本発明のビスフェノール類などの如き
芳香族ジオール類を用いて製造する系で脂肪族のベンゾ
トリアゾールカルボン酸も用いることは、新規であり、
明白なことでない。この場合に用いるべき、より苛酷な
反応条件下で、このベンゾトリアゾール上のヒドロキシ
ル基は縮合しないがそのカルボキシル基が縮合すること
は驚くべきことである。
【００４３】相界面方法および均一溶液方法の場合に好
適な炭酸供与体はＣＯＣｌ2であり、溶融エステル交換
方法の場合に好適な炭酸供与体はジフェニルカーボネー
トである。
適な炭酸供与体はＣＯＣｌ2であり、溶融エステル交換
方法の場合に好適な炭酸供与体はジフェニルカーボネー
トである。
【００４４】本発明に従うポリカーボネート類を製造す
るに適切な式（Ｖ） ＨＯ−Ｚ−ＯＨ （Ｖ） で表される、好適には６から３０個のＣ原子を有するジ
フェノール類は、単環状および多環状両方のジフェノー
ル類であり、これらはヘテロ原子を含んでいてもよく、
そしてポリカーボネート製造条件下およびそれらの熱処
理条件下で不活性な置換基を有していてもよい。
るに適切な式（Ｖ） ＨＯ−Ｚ−ＯＨ （Ｖ） で表される、好適には６から３０個のＣ原子を有するジ
フェノール類は、単環状および多環状両方のジフェノー
ル類であり、これらはヘテロ原子を含んでいてもよく、
そしてポリカーボネート製造条件下およびそれらの熱処
理条件下で不活性な置換基を有していてもよい。
【００４５】挙げることができる例は、ヒドロキノン、
レゾルシノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス−（ヒ
ドロキシフェニル）アルカン類、ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）シクロアルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）スルフィド類、エーテル類、ケトン類、スルホキサ
イド類、スルホン類およびα，α−ビス−（ヒドロキシ
フェニル）ジイソプロピルベンゼン類と共に、それらの
環アルキル化および環ハロゲン化されている化合物であ
る。
レゾルシノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス−（ヒ
ドロキシフェニル）アルカン類、ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）シクロアルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）スルフィド類、エーテル類、ケトン類、スルホキサ
イド類、スルホン類およびα，α−ビス−（ヒドロキシ
フェニル）ジイソプロピルベンゼン類と共に、それらの
環アルキル化および環ハロゲン化されている化合物であ
る。
【００４６】適切なジフェノール類は、例えば米国特許
第３,０２８,３６５、２,９９９,８３５、３,０６２,７
８１、３,１４８,１７２および４,９８２,０１４号、ド
イツ特許出願公開第１ ５７０ ７０３号および２ ０
６３ ０５０号、並びにＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌの専攻論文
「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ
Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｉｎｔｅｒｓｃｉ
ｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、
１９６４などの中に記述されている。
第３,０２８,３６５、２,９９９,８３５、３,０６２,７
８１、３,１４８,１７２および４,９８２,０１４号、ド
イツ特許出願公開第１ ５７０ ７０３号および２ ０
６３ ０５０号、並びにＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌの専攻論文
「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ
Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｉｎｔｅｒｓｃｉ
ｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、
１９６４などの中に記述されている。
【００４７】好適なジフェノール類は以下のものであ
る：４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）２−メチルブタン、１，
１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、α，α−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）ｐ−ジ
イソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビ
ス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メ
タン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ビス−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−
メチルブタン、１，１−ビス−(３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、α，α−ビス
−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ｐ−
ジイソプロピルベンゼン、１，１−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−
メチルシクロヘキサン、１，１−ビス−(４−ヒドロキ
シフェニル)−３，３−ジメチルシクロヘキサン、１，
１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシ
クロヘキサン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４
−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび２，２−ビス−
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン。
る：４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）２−メチルブタン、１，
１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、α，α−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）ｐ−ジ
イソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビ
ス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メ
タン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ビス−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−
メチルブタン、１，１−ビス−(３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、α，α−ビス
−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ｐ−
ジイソプロピルベンゼン、１，１−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−
メチルシクロヘキサン、１，１−ビス−(４−ヒドロキ
シフェニル)−３，３−ジメチルシクロヘキサン、１，
１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシ
クロヘキサン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４
−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび２，２−ビス−
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン。
【００４８】特に好適なジフェノール類は例えば以下の
ものである：２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン １，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルシクロヘキ
サン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−４−メチルシクロヘキサン。
ものである：２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン １，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルシクロヘキ
サン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−４−メチルシクロヘキサン。
【００４９】特に２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンが
好適である。
ニル）プロパンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンが
好適である。
【００５０】上記ジフェノール類の如何なる所望混合物
も使用可能である。
も使用可能である。
【００５１】流動特性を改良する目的で、公知様式で、
三官能または三官能以上の化合物、特にフェノール系ヒ
ドロキシル基を３個以上有する化合物もまた少量、好適
には０．０５から２．０モル％（使用するジフェノール
類１モルに対して）の量で使用することも可能である。
フェノール系ヒドロキシル基を３個以上有する使用可能
な化合物のいくつかは、例えば１，３，５−トリ−（４
−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリ−
（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，６−ビス−
（２−ヒドロキシ−５’−メチル−ベンジル）−４−メ
チルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ
−（４−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）フ
ェニル）−オルソ−テレフタル酸エステル、テトラ−
（４−ヒドロキシフェニル）メタンおよび１，４−ビス
−（４’，４”−ジヒドロキシ−トリフェニル）メチル
ベンゼンなどである。他の三官能化合物には２，４−ジ
ヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌール酸クロ
ライドおよび３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインド
ールが含まれる。
三官能または三官能以上の化合物、特にフェノール系ヒ
ドロキシル基を３個以上有する化合物もまた少量、好適
には０．０５から２．０モル％（使用するジフェノール
類１モルに対して）の量で使用することも可能である。
フェノール系ヒドロキシル基を３個以上有する使用可能
な化合物のいくつかは、例えば１，３，５−トリ−（４
−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリ−
（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，６−ビス−
（２−ヒドロキシ−５’−メチル−ベンジル）−４−メ
チルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ
−（４−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）フ
ェニル）−オルソ−テレフタル酸エステル、テトラ−
（４−ヒドロキシフェニル）メタンおよび１，４−ビス
−（４’，４”−ジヒドロキシ−トリフェニル）メチル
ベンゼンなどである。他の三官能化合物には２，４−ジ
ヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌール酸クロ
ライドおよび３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインド
ールが含まれる。
【００５２】溶液方法（Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ著「Ｃｈｅ
ｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｉｓ ｏｆ Ｐｏ
ｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖ
ｉｅｗ、ＩＸ巻、２７頁以降、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃ
ｅ Ｐｕｂｌ．１９６４参照）を用いた本発明に従うポ
リカーボネート類もしくはポリカーボネート混合物の製
造は下記の如く説明可能である。
ｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｉｓ ｏｆ Ｐｏ
ｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖ
ｉｅｗ、ＩＸ巻、２７頁以降、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃ
ｅ Ｐｕｂｌ．１９６４参照）を用いた本発明に従うポ
リカーボネート類もしくはポリカーボネート混合物の製
造は下記の如く説明可能である。
【００５３】１． 分散相溶液方法（２相界面方法とし
て知られている）：この方法では、用いるべきジフェノ
ール類をアルカリ水相の中に溶解させる。この最後に、
本発明に従うポリカーボネート類を製造するに必要な連
鎖停止剤を有機溶媒の中に溶解させるか或はバルク状態
で用い、これを、ジフェノール１モル当たり０．０１モ
ルから１モルの量で加える。次に、好適にはポリカーボ
ネートを溶かす不活性有機相を存在させて、この混合物
をホスゲンと反応させる。この反応温度は０℃から４０
℃である。
て知られている）：この方法では、用いるべきジフェノ
ール類をアルカリ水相の中に溶解させる。この最後に、
本発明に従うポリカーボネート類を製造するに必要な連
鎖停止剤を有機溶媒の中に溶解させるか或はバルク状態
で用い、これを、ジフェノール１モル当たり０．０１モ
ルから１モルの量で加える。次に、好適にはポリカーボ
ネートを溶かす不活性有機相を存在させて、この混合物
をホスゲンと反応させる。この反応温度は０℃から４０
℃である。
【００５４】この必要な連鎖停止剤はまた、ホスゲン化
を行っている間、上述した様式および量で添加可能であ
る。
を行っている間、上述した様式および量で添加可能であ
る。
【００５５】この連鎖停止剤に適切な有機溶媒は、例え
ば塩化メチレン、クロロベンゼン、塩化メチレンとクロ
ロベンゼンの混合物、アセトン、アセトニトリル、トル
エンなどである。
ば塩化メチレン、クロロベンゼン、塩化メチレンとクロ
ロベンゼンの混合物、アセトン、アセトニトリル、トル
エンなどである。
【００５６】トリブチルアミンまたはトリエチルアミン
などの如き触媒を用いてこの反応を促進させることも可
能である。この連鎖停止剤の組み込みを助長する目的
で、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムなどの如き
オニウム塩を相移動触媒として使用することも可能であ
る。
などの如き触媒を用いてこの反応を促進させることも可
能である。この連鎖停止剤の組み込みを助長する目的
で、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムなどの如き
オニウム塩を相移動触媒として使用することも可能であ
る。
【００５７】分枝剤も使用する場合、これらは、ホスゲ
ンと反応させる前か或はホスゲン化を行っている間に添
加可能である。
ンと反応させる前か或はホスゲン化を行っている間に添
加可能である。
【００５８】このジフェノール類に加えてか或はそれの
代わりに、それらのクロロ蟻酸エステルを用いることも
可能である。
代わりに、それらのクロロ蟻酸エステルを用いることも
可能である。
【００５９】２． 均一相溶液方法（ピリジン方法とし
ても知られている）：この方法では、任意にさらなる有
機溶媒を添加して、ピリジンの如き有機塩基の中にこの
ジフェノール類を溶解させた後、１の下で記述したよう
に、本発明に従うポリカーボネート類を製造するに必要
な連鎖停止剤を室温でジフェノール１モルに対して０．
０１モルから１モルの量で加える。
ても知られている）：この方法では、任意にさらなる有
機溶媒を添加して、ピリジンの如き有機塩基の中にこの
ジフェノール類を溶解させた後、１の下で記述したよう
に、本発明に従うポリカーボネート類を製造するに必要
な連鎖停止剤を室温でジフェノール１モルに対して０．
０１モルから１モルの量で加える。
【００６０】次に、この混合物をホスゲンと反応させ
る。この反応温度は０℃から４０℃である。ピリジン以
外の適切な有機塩基は、例えばトリエチルアミン、トリ
ブチルアミンなどであり、適切な溶媒は例えば塩化メチ
レン、クロロベンゼン、トルエン、或は塩化メチレンと
クロロベンゼンもしくはトルエンとの混合物である。
る。この反応温度は０℃から４０℃である。ピリジン以
外の適切な有機塩基は、例えばトリエチルアミン、トリ
ブチルアミンなどであり、適切な溶媒は例えば塩化メチ
レン、クロロベンゼン、トルエン、或は塩化メチレンと
クロロベンゼンもしくはトルエンとの混合物である。
【００６１】変法１および２の場合、本発明に従うポリ
カーボネート類の単離を公知様式で行う。適切な処理方
法は、特に、沈澱、スプレー乾燥、並びに真空下におけ
る溶媒の蒸発である。
カーボネート類の単離を公知様式で行う。適切な処理方
法は、特に、沈澱、スプレー乾燥、並びに真空下におけ
る溶媒の蒸発である。
【００６２】分枝剤を用いる場合の操作は１の下で記述
したのと同じである。
したのと同じである。
【００６３】このジフェノール類に加えて、この使用す
るジフェノール類に対して５０モル％以下の量でそれら
のビスクロロ蟻酸エステルを用いることも可能である。
るジフェノール類に対して５０モル％以下の量でそれら
のビスクロロ蟻酸エステルを用いることも可能である。
【００６４】溶融エステル交換方法を用いた本発明に従
うポリカーボネート類もしくはポリカーボネート混合物
の製造は、例えば下記の如く実施可能である。
うポリカーボネート類もしくはポリカーボネート混合物
の製造は、例えば下記の如く実施可能である。
【００６５】ジフェノール類、連鎖停止剤、ジフェニル
カーボネート類および任意の分枝剤を溶融させ、混合し
た後、標準圧力下で１４０℃から２００℃の温度に加熱
する。触媒を加えた後、この温度を１から３時間かけて
２４０℃にまで上昇させ、そしてフェノールを留出させ
ながら減圧をかけて１０ミリバールにする。最後に、こ
の温度を２４０℃から３２０℃にまで上昇させると共に
＜１ミリバールにまで減圧をかけた後、この重縮合反応
を更に１から２時間継続する。この反応が終了した時点
で、この溶融物を冷却した後、減圧を解く。通常様式、
例えば押出し機の中を通して排出させた後、ペレット状
にすることなどによって、その得られるポリカーボネー
トの単離を行う。
カーボネート類および任意の分枝剤を溶融させ、混合し
た後、標準圧力下で１４０℃から２００℃の温度に加熱
する。触媒を加えた後、この温度を１から３時間かけて
２４０℃にまで上昇させ、そしてフェノールを留出させ
ながら減圧をかけて１０ミリバールにする。最後に、こ
の温度を２４０℃から３２０℃にまで上昇させると共に
＜１ミリバールにまで減圧をかけた後、この重縮合反応
を更に１から２時間継続する。この反応が終了した時点
で、この溶融物を冷却した後、減圧を解く。通常様式、
例えば押出し機の中を通して排出させた後、ペレット状
にすることなどによって、その得られるポリカーボネー
トの単離を行う。
【００６６】適切なエステル交換触媒は公知のアルカリ
およびアルカリ土類塩基もしくは塩類であり、これらを
ジフェノール１モル当たり５ｘ１０-8モルから８ｘ１０
-7モルの量で用い、ここでは、一度にか或は２つに分割
して触媒添加を行うことができる。
およびアルカリ土類塩基もしくは塩類であり、これらを
ジフェノール１モル当たり５ｘ１０-8モルから８ｘ１０
-7モルの量で用い、ここでは、一度にか或は２つに分割
して触媒添加を行うことができる。
【００６７】触媒の例は水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢
酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カ
リウム、ナトリウムボロハイドライド、リチウムボロハ
イドライド、フェニルホウ酸ナトリウム、安息香酸ナト
リウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、ナトリ
ウムボロハイドライド、カリウムボロハイドライド、リ
チウムボロハイドライド、燐酸水素二ナトリウム、そし
てビスフェノールＡのジリチウム、ジナトリウム、ジカ
リウム塩、並びにフェノールのリチウム、ナトリウム、
カリウム塩などである。適切なアルカリ土類金属化合物
の例は水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグ
ネシウム、水酸化ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢
酸バリウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどである。こ
れらの触媒は単独か或は混合物として使用可能である。
ウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢
酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カ
リウム、ナトリウムボロハイドライド、リチウムボロハ
イドライド、フェニルホウ酸ナトリウム、安息香酸ナト
リウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、ナトリ
ウムボロハイドライド、カリウムボロハイドライド、リ
チウムボロハイドライド、燐酸水素二ナトリウム、そし
てビスフェノールＡのジリチウム、ジナトリウム、ジカ
リウム塩、並びにフェノールのリチウム、ナトリウム、
カリウム塩などである。適切なアルカリ土類金属化合物
の例は水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグ
ネシウム、水酸化ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢
酸バリウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどである。こ
れらの触媒は単独か或は混合物として使用可能である。
【００６８】構造（Ｉ）で表される化合物をアルカリ塩
もしくはアルカリ土類塩として用いる場合、このような
塩は任意に触媒の機能を果し得る。この場合、さらなる
触媒を添加しなくてもよい。
もしくはアルカリ土類塩として用いる場合、このような
塩は任意に触媒の機能を果し得る。この場合、さらなる
触媒を添加しなくてもよい。
【００６９】上記アルカリおよびアルカリ土類触媒に加
えて、比較的高い温度で分解もしくは蒸発する塩基性の
窒素含有化合物を添加することも可能である。このよう
な化合物の例は水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸
化テトラエチレンアンモニウム、水酸化テトラブチルア
ンモニウム、水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、
テトラブチルアンモニウムボロハイドライドおよびテト
ラブチルアンモニウム−テトラフェニルボレートなどで
ある。好適にはジフェノール１モル当たり１ｘ１０-6か
ら１ｘ１０-1モルの量でこれらの窒素含有化合物を用い
る。
えて、比較的高い温度で分解もしくは蒸発する塩基性の
窒素含有化合物を添加することも可能である。このよう
な化合物の例は水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸
化テトラエチレンアンモニウム、水酸化テトラブチルア
ンモニウム、水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、
テトラブチルアンモニウムボロハイドライドおよびテト
ラブチルアンモニウム−テトラフェニルボレートなどで
ある。好適にはジフェノール１モル当たり１ｘ１０-6か
ら１ｘ１０-1モルの量でこれらの窒素含有化合物を用い
る。
【００７０】更に、ホウ酸もしくはホウ酸エステルを使
用することも可能である。適切なボレート類は、構造 Ｂ（ＯＲ）n（ＯＨ）3-n ［ここで、Ｒは、アルキルまたはアリール残基を表し、
そしてｎは、１から３の整数を表す］で表される。
用することも可能である。適切なボレート類は、構造 Ｂ（ＯＲ）n（ＯＨ）3-n ［ここで、Ｒは、アルキルまたはアリール残基を表し、
そしてｎは、１から３の整数を表す］で表される。
【００７１】これらの化合物の例はトリメチルボレー
ト、トリエチルボレート、トリブチルボレートおよびト
リナフチルボレートである。ジフェノール１モル当たり
１ｘ１０-8から１ｘ１０-1モルの量でこれらの触媒を用
いる。
ト、トリエチルボレート、トリブチルボレートおよびト
リナフチルボレートである。ジフェノール１モル当たり
１ｘ１０-8から１ｘ１０-1モルの量でこれらの触媒を用
いる。
【００７２】この述べた３種の触媒（金属、アミン、ボ
レート）は単独か或は組み合わせて使用可能である。
レート）は単独か或は組み合わせて使用可能である。
【００７３】本発明に従うポリカーボネート類またはポ
リカーボネート混合物は、そのまま使用可能であるか、
或は式（Ｉａ）で表される末端基を含んでいない他のポ
リカーボネート類との混合物としても使用可能である。
更に、これらはポリカーボネートブレンド物の製造で使
用可能である。好適なポリカーボネートブレンド物は、
例えばＰＣ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴまた
はＰＣ／ＰＥＴブレンド物などである。このようなブレ
ンド物は例えばＢｅｃｋｅｒ、Ｂｒａｕｎ著「Ｋｕｎｓ
ｔｓｔｏｆｆ Ｈａｎｄｂｕｃｈ」、３／２巻、１４９
頁以降、Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ、Ｍｕ
ｎｉｃｈ、１９９３の中に記述されている。
リカーボネート混合物は、そのまま使用可能であるか、
或は式（Ｉａ）で表される末端基を含んでいない他のポ
リカーボネート類との混合物としても使用可能である。
更に、これらはポリカーボネートブレンド物の製造で使
用可能である。好適なポリカーボネートブレンド物は、
例えばＰＣ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴまた
はＰＣ／ＰＥＴブレンド物などである。このようなブレ
ンド物は例えばＢｅｃｋｅｒ、Ｂｒａｕｎ著「Ｋｕｎｓ
ｔｓｔｏｆｆ Ｈａｎｄｂｕｃｈ」、３／２巻、１４９
頁以降、Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ、Ｍｕ
ｎｉｃｈ、１９９３の中に記述されている。
【００７４】更に、通常の性質を示すさらなる添加剤、
例えば補強材および充填材、難燃剤、染料、顔料、潤滑
剤および離型剤、抗酸化剤、或はまた、結合させていな
いさらなる光安定剤などを、本発明に従うポリカーボネ
ート類に含めることも可能である。
例えば補強材および充填材、難燃剤、染料、顔料、潤滑
剤および離型剤、抗酸化剤、或はまた、結合させていな
いさらなる光安定剤などを、本発明に従うポリカーボネ
ート類に含めることも可能である。
【００７５】本発明に従うポリカーボネート類を公知様
式で加工して繊維、フィルム、シート、射出成形品およ
び押出し品などを生じさせることができる。既に述べた
ように、高層ビルディングおよび温室を建築する時の艶
だし材として用いられる固体状シートの製造では、例え
ば押し出しを利用することができる。この用途では、式
（Ｉａ）で表される末端基を０．０５から１重量％の量
で有する本発明に従うポリカーボネート類を好適に用い
る。
式で加工して繊維、フィルム、シート、射出成形品およ
び押出し品などを生じさせることができる。既に述べた
ように、高層ビルディングおよび温室を建築する時の艶
だし材として用いられる固体状シートの製造では、例え
ば押し出しを利用することができる。この用途では、式
（Ｉａ）で表される末端基を０．０５から１重量％の量
で有する本発明に従うポリカーボネート類を好適に用い
る。
【００７６】本発明に従い、式（Ｉａ）で表される末端
基を持たせることでＵＶ光に対して安定にしたポリカー
ボネート類の１つの用途はまた、（多）共押し出し方法
を用いた多層プラスチックシートの製造であり、ここで
の支持コア層は、例えばＡＢＳ、線状もしくは分枝ポリ
スチレン、好適には線状もしくは分枝ポリカーボネート
などを含んでおり、そして本発明に従う式（Ｉａ）で表
される末端基を含んでいるポリカーボネート類をこのコ
ア層の片側もしくは両側に取り付ける。この用途では、
このポリカーボネート類に式（Ｉａ）で表される末端基
を好ましくは１重量％から１５重量％、好適には５から
１０重量％含有させる。
基を持たせることでＵＶ光に対して安定にしたポリカー
ボネート類の１つの用途はまた、（多）共押し出し方法
を用いた多層プラスチックシートの製造であり、ここで
の支持コア層は、例えばＡＢＳ、線状もしくは分枝ポリ
スチレン、好適には線状もしくは分枝ポリカーボネート
などを含んでおり、そして本発明に従う式（Ｉａ）で表
される末端基を含んでいるポリカーボネート類をこのコ
ア層の片側もしくは両側に取り付ける。この用途では、
このポリカーボネート類に式（Ｉａ）で表される末端基
を好ましくは１重量％から１５重量％、好適には５から
１０重量％含有させる。
【００７７】このＵＶ吸収層の厚さは１０μから５０μ
ｍでなくてはならない。そのコア層から離れた側に、Ｕ
Ｖ吸収剤を本質的に含んでいない１０から３０μｍの別
の外側層を取り付けることができる。
ｍでなくてはならない。そのコア層から離れた側に、Ｕ
Ｖ吸収剤を本質的に含んでいない１０から３０μｍの別
の外側層を取り付けることができる。
【００７８】本発明に従うＵＶ保護ポリカーボネート類
もしくはポリカーボネート混合物は、それらが示す高い
ガラス転移温度および溶融粘度は変化していないことか
ら、特に最後に述べた用途（共押し出し）における加工
に関して、ＵＶ吸収剤を添加したポリカーボネート類
（これらが示すガラス転移温度および溶融粘度は、ＵＶ
吸収剤の含有量を高くすると悪影響を受け得る）よりも
有利である。
もしくはポリカーボネート混合物は、それらが示す高い
ガラス転移温度および溶融粘度は変化していないことか
ら、特に最後に述べた用途（共押し出し）における加工
に関して、ＵＶ吸収剤を添加したポリカーボネート類
（これらが示すガラス転移温度および溶融粘度は、ＵＶ
吸収剤の含有量を高くすると悪影響を受け得る）よりも
有利である。
【００７９】従って、本発明はまた、式（Ｉａ）で表さ
れる末端基を有する本発明に従うポリカーボネート類を
シート、例えば固体状シートまたは多壁シートなどの製
造で用いることも提供する。
れる末端基を有する本発明に従うポリカーボネート類を
シート、例えば固体状シートまたは多壁シートなどの製
造で用いることも提供する。
【００８０】更に、本発明は、式（Ｉａ）で表される末
端基を有する本発明に従うポリカーボネート類を、共押
し出しによる多層プラスチックシートの製造で用いるこ
とも提供し、ここでは、これらのプラスチックシートが
有する外側層の少なくとも１層が、式（Ｉａ）で表され
る末端基を有する本発明に従うポリカーボネート類を含
んでおり、式（Ｉａ）で表される末端基を１重量％から
１５重量％、好適には５重量％から１０重量％の含有量
で有しており、そして１０μｍから５０μｍ、好適には
２０μｍから４０μｍの厚さを有している。
端基を有する本発明に従うポリカーボネート類を、共押
し出しによる多層プラスチックシートの製造で用いるこ
とも提供し、ここでは、これらのプラスチックシートが
有する外側層の少なくとも１層が、式（Ｉａ）で表され
る末端基を有する本発明に従うポリカーボネート類を含
んでおり、式（Ｉａ）で表される末端基を１重量％から
１５重量％、好適には５重量％から１０重量％の含有量
で有しており、そして１０μｍから５０μｍ、好適には
２０μｍから４０μｍの厚さを有している。
【００８１】また、高層ビルディングおよび温室を建築
する時の艶だし材として上記多層プラスチックシートを
用いる。
する時の艶だし材として上記多層プラスチックシートを
用いる。
【００８２】
Ａ： ＵＶを吸収する出発生成物 Ａ１： 融点が１９５℃の２−（２−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチル−５−（２−カルボキシエチル）フェニルベ
ンゾトリアゾール（ヨーロッパ特許第５７ １６０号の
実施例１と同様な様式で製造） Ａ２： ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
（２−フェノキシカルボニルエチル）フェニルベンゾト
リアゾール ３３．９ｇ（０．１モル）の化合物Ａ１と２１．４ｇ
（０．１モル）のジフェニルカーボネートを一緒にして
フェノールを除去しながら２４０℃に４時間加熱する。
次に、２０ｍｍの真空を１時間かけた後、その残存して
いる生成物をシクロヘキサンから再結晶化させる。融点
が１１０℃の白色結晶。
ｔ−ブチル−５−（２−カルボキシエチル）フェニルベ
ンゾトリアゾール（ヨーロッパ特許第５７ １６０号の
実施例１と同様な様式で製造） Ａ２： ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
（２−フェノキシカルボニルエチル）フェニルベンゾト
リアゾール ３３．９ｇ（０．１モル）の化合物Ａ１と２１．４ｇ
（０．１モル）のジフェニルカーボネートを一緒にして
フェノールを除去しながら２４０℃に４時間加熱する。
次に、２０ｍｍの真空を１時間かけた後、その残存して
いる生成物をシクロヘキサンから再結晶化させる。融点
が１１０℃の白色結晶。
【００８３】Ａ３： ２−（２−ヒドロキシ−３−シク
ロヘキシル−５−（３−カルボキシプロピル）フェニル
ベンゾトリアゾール （ａ）８００ｍＬの乾燥クロロベンゼンの中に２−シク
ロヘキシルフェノールを１３２ｇ（０．７５モル）溶解
させる。次に、５−１０℃でＡｌＣｌ3を２００ｇ
（１．５モル）加えた後、４００ｍＬのクロロベンゼン
の中に無水マレイン酸が７３．５ｇ（０．７５モル）入
っている溶液を０−１０℃で加える。室温で１２時間
後、この混合物を氷水の中に注ぎ込み、そして濃ＨＣｌ
で酸性にする。融点が１８７−１９０℃の黄色粉末が８
５ｇ得られる。
ロヘキシル−５−（３−カルボキシプロピル）フェニル
ベンゾトリアゾール （ａ）８００ｍＬの乾燥クロロベンゼンの中に２−シク
ロヘキシルフェノールを１３２ｇ（０．７５モル）溶解
させる。次に、５−１０℃でＡｌＣｌ3を２００ｇ
（１．５モル）加えた後、４００ｍＬのクロロベンゼン
の中に無水マレイン酸が７３．５ｇ（０．７５モル）入
っている溶液を０−１０℃で加える。室温で１２時間
後、この混合物を氷水の中に注ぎ込み、そして濃ＨＣｌ
で酸性にする。融点が１８７−１９０℃の黄色粉末が８
５ｇ得られる。
【００８４】（ｂ）３００ｍＬの水と６９ｍＬの濃ＨＣ
ｌの中に撹拌しながらｏ−ニトロアニリンを３４．５ｇ
（０．２５モル）入れる。次に、１５５ｍＬの水の中に
亜硝酸ナトリウムが１７．３ｇ（０．２５モル）入って
いる溶液を５℃で滴下する。次に、この溶液を、１リッ
トルの水の中に段階Ａ３（ａ）で得られる化合物が６
８．５ｇ（０．２５モル）と炭酸ナトリウムが７９．５
ｇ（０．７５モル）入っている溶液に５℃で滴下する。
融点が１５５℃の褐色固体が１１７ｇ得られる。
ｌの中に撹拌しながらｏ−ニトロアニリンを３４．５ｇ
（０．２５モル）入れる。次に、１５５ｍＬの水の中に
亜硝酸ナトリウムが１７．３ｇ（０．２５モル）入って
いる溶液を５℃で滴下する。次に、この溶液を、１リッ
トルの水の中に段階Ａ３（ａ）で得られる化合物が６
８．５ｇ（０．２５モル）と炭酸ナトリウムが７９．５
ｇ（０．７５モル）入っている溶液に５℃で滴下する。
融点が１５５℃の褐色固体が１１７ｇ得られる。
【００８５】（ｃ）段階Ａ３（ｂ）で得られるアゾ染料
の４２．５ｇ（０．１モル）を２規定のＮａＯＨの２０
０ｍＬと一緒にする。次に、亜鉛末を５０ｇ加えた後、
温度を４５℃未満に維持するように１時間以内に１０規
定のＮａＯＨを８０ｍＬ流し込む。次に、この混合物を
９０℃に４時間加熱し、濾過した後、その濾液をＨＣｌ
で酸性にする。シクロヘキサンから再結晶を行った後、
融点が１６５℃の無色結晶として２−（２−ヒドロキシ
シクロヘキシル−５−（３−カルボキシプロピル）フェ
ニルベンゾトリアゾールが３１ｇ生じる。
の４２．５ｇ（０．１モル）を２規定のＮａＯＨの２０
０ｍＬと一緒にする。次に、亜鉛末を５０ｇ加えた後、
温度を４５℃未満に維持するように１時間以内に１０規
定のＮａＯＨを８０ｍＬ流し込む。次に、この混合物を
９０℃に４時間加熱し、濾過した後、その濾液をＨＣｌ
で酸性にする。シクロヘキサンから再結晶を行った後、
融点が１６５℃の無色結晶として２−（２−ヒドロキシ
シクロヘキシル−５−（３−カルボキシプロピル）フェ
ニルベンゾトリアゾールが３１ｇ生じる。
【００８６】Ｂ． ポリカーボネートの製造 Ｖ２Ａ撹拌機、窒素供給装置、カラムおよび蒸留コンデ
ンサが備わっている５００ｍＬの撹拌容器に下記の物質
を入れる： １１４．１ｇのビスフェノールＡ ５．１２ｇの化合物Ａ１ １１２．４６ｇのジフェニルカーボネート ６．３５ｍｇのナトリウムフェノラート。
ンサが備わっている５００ｍＬの撹拌容器に下記の物質
を入れる： １１４．１ｇのビスフェノールＡ ５．１２ｇの化合物Ａ１ １１２．４６ｇのジフェニルカーボネート ６．３５ｍｇのナトリウムフェノラート。
【００８７】この反応混合物を窒素下で１８０℃に加熱
した。この温度を２時間以内に３００℃にまで上昇させ
たが、この間、約２４０℃からフェノールが除去され始
めた。３００℃で４５分後、＜１ミリバールの真空をか
け、そしてこの混合物の縮合を３１０℃で更に３０分間
行った。
した。この温度を２時間以内に３００℃にまで上昇させ
たが、この間、約２４０℃からフェノールが除去され始
めた。３００℃で４５分後、＜１ミリバールの真空をか
け、そしてこの混合物の縮合を３１０℃で更に３０分間
行った。
【００８８】その得られるポリカーボネートの相対溶液
粘度（ηｒｅｌ ＣＨ2Ｃｌ2中０．５％）は１．１９３
である。ゲル浸透クロマトグラフィーを用い２５４ｎｍ
および３３０ｎｍで検出することにより、ＵＶ光を吸収
する化合物Ａ２が末端基としてこのポリマーの中に均一
に組み込まれていることが示された。
粘度（ηｒｅｌ ＣＨ2Ｃｌ2中０．５％）は１．１９３
である。ゲル浸透クロマトグラフィーを用い２５４ｎｍ
および３３０ｎｍで検出することにより、ＵＶ光を吸収
する化合物Ａ２が末端基としてこのポリマーの中に均一
に組み込まれていることが示された。
【００８９】Ｃ： ウエザオメーターの結果 溶媒として塩化メチレンを用い、ＵＶを吸収する末端基
を有する実施例Ｂのポリカーボネートから６０μｍの厚
さを有するフィルムのキャスティングを行った。４ｍｍ
のポリカーボネート板（Ｍａｋｒｏｌｏｎ １１４３、
Ｂａｙｅｒ ＡＧ）上でこのフィルムのプレスを行っ
た。比較として、ＵＶ吸収剤としてメチレン−ビス−
（（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチル−フェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール）が５重量％含まれている同
じポリカーボネートを用いて上記操作を繰り返した。
を有する実施例Ｂのポリカーボネートから６０μｍの厚
さを有するフィルムのキャスティングを行った。４ｍｍ
のポリカーボネート板（Ｍａｋｒｏｌｏｎ １１４３、
Ｂａｙｅｒ ＡＧ）上でこのフィルムのプレスを行っ
た。比較として、ＵＶ吸収剤としてメチレン−ビス−
（（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチル−フェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール）が５重量％含まれている同
じポリカーボネートを用いて上記操作を繰り返した。
【００９０】次に、この板にＸｅｎｏｔｅｓｔ １５０
ウエザオメーター試験を受けさせた。
ウエザオメーター試験を受けさせた。
【００９１】 発明のサンプル 比較 黄色指数 ０時間 ４，１ ５，２ ３５２時間 ９，４ ９，３ 曇り（％） ０時間 ２，６ ２，７ ３５２時間 １５，９ ２４，８ ＵＶを吸収する末端基を有する本ポリカーボネートの方
が、通常様式で安定化したポリカーボネートよりも高い
光安定性を示すことは、曇りの悪化により、明らかに示
されている。
が、通常様式で安定化したポリカーボネートよりも高い
光安定性を示すことは、曇りの悪化により、明らかに示
されている。
【００９２】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。
ある。
【００９３】１． 公知のポリカーボネート製造方法、
相界面方法、均一溶液方法または溶融エステル交換方法
を用い、ジフェノール類と、ジフェノール１モル当たり
０．００１モルから１モルの連鎖停止剤と、炭酸供与体
と任意の分枝剤から、平均分子量Ｍw（光散乱で測定し
た重量平均）が１５００から１５００００である公知の
芳香族ポリカーボネート類と任意に混合されていてもよ
い、Ｍw（光散乱で測定した重量平均）が１５００から
１５００００であるＵＶ吸収剤末端基含有芳香族ポリカ
ーボネート類を製造する方法において、任意に他の公知
連鎖停止剤と一緒に、式（Ｉ）
相界面方法、均一溶液方法または溶融エステル交換方法
を用い、ジフェノール類と、ジフェノール１モル当たり
０．００１モルから１モルの連鎖停止剤と、炭酸供与体
と任意の分枝剤から、平均分子量Ｍw（光散乱で測定し
た重量平均）が１５００から１５００００である公知の
芳香族ポリカーボネート類と任意に混合されていてもよ
い、Ｍw（光散乱で測定した重量平均）が１５００から
１５００００であるＵＶ吸収剤末端基含有芳香族ポリカ
ーボネート類を製造する方法において、任意に他の公知
連鎖停止剤と一緒に、式（Ｉ）
【００９４】
【化１３】
【００９５】［式中、Ｒ1は、Ｈ、Ｃ1−Ｃ18アルキル、
Ｃ3−Ｃ6シクロアルキルおよびＣ6−Ｃ10アリールを意
味し、Ｒ2は、Ｈ、ＣｌおよびＣ1−Ｃ12アルキルを意味
し、Ｘは、単結合、Ｃ1−Ｃ12アルキレン、Ｃ5−Ｃ6シ
クロアルキレンおよびＣ6−Ｃ10アリーレンを意味し、
そしてＹは、ポリカーボネート製造の反応条件下で反応
性を示す残基を意味する］で表される連鎖停止剤を用い
ることを特徴とする方法。
Ｃ3−Ｃ6シクロアルキルおよびＣ6−Ｃ10アリールを意
味し、Ｒ2は、Ｈ、ＣｌおよびＣ1−Ｃ12アルキルを意味
し、Ｘは、単結合、Ｃ1−Ｃ12アルキレン、Ｃ5−Ｃ6シ
クロアルキレンおよびＣ6−Ｃ10アリーレンを意味し、
そしてＹは、ポリカーボネート製造の反応条件下で反応
性を示す残基を意味する］で表される連鎖停止剤を用い
ることを特徴とする方法。
【００９６】２． 式（Ｉ）で表される連鎖停止剤の代
わりに、式（ＩＩ）
わりに、式（ＩＩ）
【００９７】
【化１４】
【００９８】［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、式（Ｉ）で
述べた意味を有し、そして−Ｙ−は、式（ＩＩＩ） −Ｏ−Ａｒ−Ｏ− （ＩＩＩ） で表されるビフェノラート残基であり、ここで、−Ａｒ
−はＣ6−Ｃ30アリーレンであり、これは単環状または
多環状、好適には二環状である］で表される連鎖停止剤
を各場合とも連鎖停止剤（Ｉ）で計算したモル量の半分
の量で用いることを特徴とする第１項記載の溶融エステ
ル交換方法。
述べた意味を有し、そして−Ｙ−は、式（ＩＩＩ） −Ｏ−Ａｒ−Ｏ− （ＩＩＩ） で表されるビフェノラート残基であり、ここで、−Ａｒ
−はＣ6−Ｃ30アリーレンであり、これは単環状または
多環状、好適には二環状である］で表される連鎖停止剤
を各場合とも連鎖停止剤（Ｉ）で計算したモル量の半分
の量で用いることを特徴とする第１項記載の溶融エステ
ル交換方法。
【００９９】３． 第１項または２項の方法を用いて入
手可能な、他の公知連鎖停止剤を用いて連鎖停止させる
ことで生じるＭw（光散乱で測定した重量平均）が１５
００から１５００００である公知の芳香族ポリカーボネ
ート類と任意に混合されていてもよい、式（Ｉａ）
手可能な、他の公知連鎖停止剤を用いて連鎖停止させる
ことで生じるＭw（光散乱で測定した重量平均）が１５
００から１５００００である公知の芳香族ポリカーボネ
ート類と任意に混合されていてもよい、式（Ｉａ）
【０１００】
【化１５】
【０１０１】［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、第１項の式
（Ｉ）で述べた意味を有する］で表される末端基を有す
るＭw（光散乱で測定した重量平均）が１５００から１
５００００の芳香族ポリカーボネート類。
（Ｉ）で述べた意味を有する］で表される末端基を有す
るＭw（光散乱で測定した重量平均）が１５００から１
５００００の芳香族ポリカーボネート類。
【０１０２】４． １５００から１５００００の平均分
子量Ｍw（光散乱で測定した重量平均）を有する式（Ｉ
Ｖ）
子量Ｍw（光散乱で測定した重量平均）を有する式（Ｉ
Ｖ）
【０１０３】
【化１６】
【０１０４】［式中、−Ｏ−Ｚ−Ｏ−は、６から３０個
のＣ原子を有するジフェノラート残基であり、Ｅおよび
Ｅ’は、同一もしくは異なり、これらの残基Ｅおよび
Ｅ’の少なくとも１つは、式（Ｉａ）
のＣ原子を有するジフェノラート残基であり、Ｅおよび
Ｅ’は、同一もしくは異なり、これらの残基Ｅおよび
Ｅ’の少なくとも１つは、式（Ｉａ）
【０１０５】
【化１７】
【０１０６】（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、第１項の式
（Ｉ）で述べた意味を有する）で表される残基に相当し
ており、そしてその残りの末端基ＥおよびＥ’は、任意
にホスゲンを含む他の公知の連鎖停止剤と反応すること
で生じ、そして「ｐ」は、該分子量Ｍwが１５００から
１５００００であることからもたらされる重合度であ
る］で表される芳香族ポリカーボネート類。
（Ｉ）で述べた意味を有する）で表される残基に相当し
ており、そしてその残りの末端基ＥおよびＥ’は、任意
にホスゲンを含む他の公知の連鎖停止剤と反応すること
で生じ、そして「ｐ」は、該分子量Ｍwが１５００から
１５００００であることからもたらされる重合度であ
る］で表される芳香族ポリカーボネート類。
【０１０７】５． シートの製造で第３項のポリカーボ
ネート類を用いる使用。
ネート類を用いる使用。
【０１０８】６． 共押し出し方法を用いた多層プラス
チックシートの製造で第３項のポリカーボネート類を用
いる使用において、これらのプラスチックシートが有す
る外側層の少なくとも１層が、第３項のポリカーボネー
ト類を含んでおり、第３項に従う式（Ｉａ）で表される
末端基を１重量％から１５重量％の含有量で有してお
り、そして１０μｍから５０μｍの厚さを有する使用。
チックシートの製造で第３項のポリカーボネート類を用
いる使用において、これらのプラスチックシートが有す
る外側層の少なくとも１層が、第３項のポリカーボネー
ト類を含んでおり、第３項に従う式（Ｉａ）で表される
末端基を１重量％から１５重量％の含有量で有してお
り、そして１０μｍから５０μｍの厚さを有する使用。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−107779（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−107805（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08G 64/00 - 64/42 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 公知のポリカーボネート製造方法、すな
わち相界面方法、均一溶液方法または溶融エステル交換
方法、を用い、ジフェノール類と、ジフェノール１モル
当たり０．００１モルから１モルの連鎖停止剤と、炭酸
供与体と任意の分枝剤から、Ｍ w （光散乱で測定した重
量平均）が１５００から１５００００であるＵＶ吸収剤
末端基含有芳香族ポリカーボネート類、該芳香族ポリカ
ーボネート類は平均分子量Ｍ w （光散乱で測定した重量
平均）が１５００から１５００００である公知の芳香族
ポリカーボネート類と任意に混合されていてもよい、を
製造する方法において、任意に他の公知連鎖停止剤と一
緒に、式（Ｉ） 【化１】 ［式中、 Ｒ1は、Ｈ、Ｃ1−Ｃ18アルキル、Ｃ3−Ｃ6シクロアルキ
ルおよびＣ6−Ｃ10アリールを意味し、 Ｒ2は、Ｈ、ＣｌおよびＣ1−Ｃ12アルキルを意味し、 Ｘは、単結合、Ｃ1−Ｃ12アルキレン、Ｃ5−Ｃ6シクロ
アルキレンおよびＣ6−Ｃ10アリーレンを意味し、そし
てＹは、ポリカーボネート製造の反応条件下で反応性を
示す残基を意味する］ で表される連鎖停止剤を用いることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 請求項１の方法を用いて入手可能な、式
（Ｉａ） 【化２】 ［式中、 Ｒ1、Ｒ2およびＸは、請求項１の式（Ｉ）で述べた意味
を有する］ で表される末端基を有するＭw（光散乱で測定した重量
平均）が１５００から１５００００の芳香族ポリカーボ
ネート類であって、該芳香族ポリカーボネート類は他の
公知連鎖停止剤を用いて連鎖停止させることで生じるＭ
w （光散乱で測定した重量平均）が１５００から１５０
０００である公知の芳香族ポリカーボネート類と任意に
混合されていてもよい、ことを特徴とする芳香族ポリカ
ーボネート類。 - 【請求項３】 請求項２のポリカーボネート類を用いて
製造されたシート。
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|---|---|---|---|
| DE4417748A DE4417748A1 (de) | 1994-05-20 | 1994-05-20 | UV-stabile Polycarbonate gegebenenfalls im Gemisch mit bekannten aromatischen Polycarbonaten, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
| DE4417748.8 | 1994-05-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08169946A JPH08169946A (ja) | 1996-07-02 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6831147B1 (ja) |
| EP (1) | EP0683192B1 (ja) |
| JP (1) | JP3329422B2 (ja) |
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| WO2009027312A1 (de) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Basf Se | Uv-stabilisierte polyalkylenterephtalate |
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|---|---|---|---|---|
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| EP0057160B1 (de) * | 1981-01-23 | 1985-06-19 | Ciba-Geigy Ag | 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazole, ihre Verwendung als UV-Absorber und ihre Herstellung |
| JPH01201330A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 耐候性ポリカーボネート樹脂の製法 |
| US4948666A (en) * | 1988-04-22 | 1990-08-14 | Mobay Corporation | Stain resistant polycarbonate panels |
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- 1994-05-20 DE DE4417748A patent/DE4417748A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-05-08 DE DE59510833T patent/DE59510833D1/de not_active Expired - Fee Related
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- 1995-05-10 US US08/438,516 patent/US6831147B1/en not_active Expired - Fee Related
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