JP3310755B2 - 排気ガス処理用触媒 - Google Patents
排気ガス処理用触媒Info
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- JP3310755B2 JP3310755B2 JP00693094A JP693094A JP3310755B2 JP 3310755 B2 JP3310755 B2 JP 3310755B2 JP 00693094 A JP00693094 A JP 00693094A JP 693094 A JP693094 A JP 693094A JP 3310755 B2 JP3310755 B2 JP 3310755B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chloride
- catalyst
- crystalline silicate
- exhaust gas
- crystalline
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は窒素酸化物（以下、ＮＯ
ｘと略す）、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（以下、Ｈ
Ｃと略す）を含有する排気ガスを処理する触媒に関す
る。
ｘと略す）、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（以下、Ｈ
Ｃと略す）を含有する排気ガスを処理する触媒に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】自動車等の排ガス処理においては、排ガ
ス中のＣＯ、ＨＣを利用して理論空燃比付近の極めて狭
い範囲でＮＯｘを浄化しているのが一般的である。近
年、地球環境問題の高まりの中で自動車の低燃費化の要
求は強く理論空燃比以上で燃焼させるリーンバーンエン
ジンがキーテクノロジーとして注目されている。ただ
し、自動車の走行性、加速性を考慮に入れるとリーン領
域のみのエンジンは不具合点が多く、実際は理論空燃比
（ストイキオ）付近、リーン領域の双方で燃焼を行わせ
る必要がある。最近、リーン領域でＮＯｘの浄化に関し
てはコバルト又は銅を含有した結晶性シリケート触媒が
高性能を有する触媒として脚光をあびている。
ス中のＣＯ、ＨＣを利用して理論空燃比付近の極めて狭
い範囲でＮＯｘを浄化しているのが一般的である。近
年、地球環境問題の高まりの中で自動車の低燃費化の要
求は強く理論空燃比以上で燃焼させるリーンバーンエン
ジンがキーテクノロジーとして注目されている。ただ
し、自動車の走行性、加速性を考慮に入れるとリーン領
域のみのエンジンは不具合点が多く、実際は理論空燃比
（ストイキオ）付近、リーン領域の双方で燃焼を行わせ
る必要がある。最近、リーン領域でＮＯｘの浄化に関し
てはコバルト又は銅を含有した結晶性シリケート触媒が
高性能を有する触媒として脚光をあびている。
【０００３】これらの触媒は反応初期においては十分な
性能を有するが、耐久性において問題点が生じており、
これまで耐久性を向上させるために種々の結晶性シリケ
ートの改良が検討されている。例えば、結晶性シリケー
トの主要な構成元素であるアルミニウムの脱離を防い
で、コバルト又は銅の安定性を図るために結晶格子中に
VIII族元素や希土類元素（特開平３−１６５８１６号公
報）、さらにアルカリ土類金属（特願平３−３１９１９
５号）を添加させた新規なシリケートを用いる方法が提
案されている。加えて、アルミニウムの脱離を促進する
スチームの進入を防ぐため、結晶性シリケートの表層に
疎水性のシリカライトを結晶成長させ、耐スチーム性を
向上させた結晶性シリケートの適用も検討されている
（特願平３−１９２８２９号）。
性能を有するが、耐久性において問題点が生じており、
これまで耐久性を向上させるために種々の結晶性シリケ
ートの改良が検討されている。例えば、結晶性シリケー
トの主要な構成元素であるアルミニウムの脱離を防い
で、コバルト又は銅の安定性を図るために結晶格子中に
VIII族元素や希土類元素（特開平３−１６５８１６号公
報）、さらにアルカリ土類金属（特願平３−３１９１９
５号）を添加させた新規なシリケートを用いる方法が提
案されている。加えて、アルミニウムの脱離を促進する
スチームの進入を防ぐため、結晶性シリケートの表層に
疎水性のシリカライトを結晶成長させ、耐スチーム性を
向上させた結晶性シリケートの適用も検討されている
（特願平３−１９２８２９号）。
【０００４】しかし、これらの触媒を用いることにより
リーン雰囲気での耐久性は飛躍的に向上したが、加速す
る場合、ガス温度が瞬時に高温になりかつ、この時のガ
ス組成は水素等の還元剤が過剰に存在するリッチ雰囲気
である。この条件においては、上記改良型結晶性シリケ
ートを適用しても触媒の劣化を防ぐことができないた
め、高温リッチ雰囲気の触媒の耐久性向上がこれらの触
媒の実用化上の大きな課題となっている。
リーン雰囲気での耐久性は飛躍的に向上したが、加速す
る場合、ガス温度が瞬時に高温になりかつ、この時のガ
ス組成は水素等の還元剤が過剰に存在するリッチ雰囲気
である。この条件においては、上記改良型結晶性シリケ
ートを適用しても触媒の劣化を防ぐことができないた
め、高温リッチ雰囲気の触媒の耐久性向上がこれらの触
媒の実用化上の大きな課題となっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記問題点は銅やコバ
ルトを活性金属として用いる限りは避けられない。すな
わち、リッチ雰囲気の高温では卑金属元素は全てシンタ
リングを起こし凝集してしまうからである。そのため、
開発した結晶性シリケートを用いてリーン雰囲気で脱硝
活性を有する卑金属以外の金属を用いることができれ
ば、耐久性は十分保証され、実用化へ大きく前進すると
考えられる。
ルトを活性金属として用いる限りは避けられない。すな
わち、リッチ雰囲気の高温では卑金属元素は全てシンタ
リングを起こし凝集してしまうからである。そのため、
開発した結晶性シリケートを用いてリーン雰囲気で脱硝
活性を有する卑金属以外の金属を用いることができれ
ば、耐久性は十分保証され、実用化へ大きく前進すると
考えられる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは従
来触媒の不具合点を克服するため鋭意検討を行った結
果、イリジウム元素を担持した結晶性シリケート触媒が
リーン雰囲気において脱硝性能を有し、かつ、高温雰囲
気でもほとんど劣化しない触媒であることを見い出し、
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
来触媒の不具合点を克服するため鋭意検討を行った結
果、イリジウム元素を担持した結晶性シリケート触媒が
リーン雰囲気において脱硝性能を有し、かつ、高温雰囲
気でもほとんど劣化しない触媒であることを見い出し、
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明は下記に示す表Ａに示さ
れるＸ線回折パターンを有し、脱水された状態において
酸化物のモル比で表わして （１±０．４）Ｒ2 Ｏ・〔ａＢｉ2 Ｏ3 ・ｂＬａ2 Ｏ3
・ｃＣｅ2 Ｏ3 ・ｄＭ2Ｏ3 〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒ：Ｎａ及び／又はＨイオン、Ｍ：１種又
はそれ以上のVIII族金属イオン、チタン、バナジウム、
クロム、ニオブ、アンチモン及びアルミニウムよりなる
群から選ばれたイオン、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、ａ≧０、
ｂ≧０、ｃ≧０、ｄ≧０、ａ＋ｂ＋ｃ＞０、ｙ≧１２）
なる化学式を有する結晶性シリケートにイリジウムを担
持させてなることを特徴とする排気ガス処理用触媒であ
る。
れるＸ線回折パターンを有し、脱水された状態において
酸化物のモル比で表わして （１±０．４）Ｒ2 Ｏ・〔ａＢｉ2 Ｏ3 ・ｂＬａ2 Ｏ3
・ｃＣｅ2 Ｏ3 ・ｄＭ2Ｏ3 〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒ：Ｎａ及び／又はＨイオン、Ｍ：１種又
はそれ以上のVIII族金属イオン、チタン、バナジウム、
クロム、ニオブ、アンチモン及びアルミニウムよりなる
群から選ばれたイオン、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、ａ≧０、
ｂ≧０、ｃ≧０、ｄ≧０、ａ＋ｂ＋ｃ＞０、ｙ≧１２）
なる化学式を有する結晶性シリケートにイリジウムを担
持させてなることを特徴とする排気ガス処理用触媒であ
る。
【０００８】
【表１】
【０００９】上記結晶性シリケートは特公昭６２−４３
２７号公報、特公平２−４９２４５号公報にて本発明者
らが既に特定したものであり、規制正しい多孔性の結晶
性シリケートの合成が可能であり、さらにメタノールの
転換反応等の種々の反応に高活性、長寿命を有する特徴
をもつものである。
２７号公報、特公平２−４９２４５号公報にて本発明者
らが既に特定したものであり、規制正しい多孔性の結晶
性シリケートの合成が可能であり、さらにメタノールの
転換反応等の種々の反応に高活性、長寿命を有する特徴
をもつものである。
【００１０】
【作用】通常、イリジウムを担持した本発明で使用する
結晶性シリケートを用いて、ＮＯｘ、ＣＯ、ＨＣを含有
する排気ガスを浄化する浄化反応式は下記のとおりであ
る。
結晶性シリケートを用いて、ＮＯｘ、ＣＯ、ＨＣを含有
する排気ガスを浄化する浄化反応式は下記のとおりであ
る。
【００１１】
【化１】 ＊１）炭化水素（ＨＣ）の例としてＣ3 Ｈ6 を代表とし
て示した。 ＊２）含酸素炭化水素の例としてＣＨ2 Ｏを代表として
示した。 上記反応式において、（１）はＨＣの活性化、（２）は
ＨＣの燃焼、（３）は脱硝反応、（４）はＣＯの燃焼を
意味している。
て示した。 ＊２）含酸素炭化水素の例としてＣＨ2 Ｏを代表として
示した。 上記反応式において、（１）はＨＣの活性化、（２）は
ＨＣの燃焼、（３）は脱硝反応、（４）はＣＯの燃焼を
意味している。
【００１２】イリジウムを担持した結晶性シリケート触
媒は２５０〜５００℃において高い脱硝性能を有する。
上記触媒は、７００℃以上の高温リーン又はリッチ雰囲
気に長時間さらされても上記ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ3 及びｋ4
の反応速度定数はほとんど変化せず、耐久性を有する触
媒であることを見い出している。本発明で使用する結晶
性シリケート上において、イリジウム元素の分散性がい
かなる条件においても均一に保持されており、シンタリ
ング等の現象は認められない。
媒は２５０〜５００℃において高い脱硝性能を有する。
上記触媒は、７００℃以上の高温リーン又はリッチ雰囲
気に長時間さらされても上記ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ3 及びｋ4
の反応速度定数はほとんど変化せず、耐久性を有する触
媒であることを見い出している。本発明で使用する結晶
性シリケート上において、イリジウム元素の分散性がい
かなる条件においても均一に保持されており、シンタリ
ング等の現象は認められない。
【００１３】本発明触媒は上記結晶性シリケートにイリ
ジウム元素の金属塩の水溶液に浸漬し、イオン交換法又
は含浸法にて担持する方法があげられる。担持するイリ
ジウム元素は０．００２ｗｔ％以上で十分に活性を発現
し、好ましくは０．０２ｗｔ％以上で高い活性を有す
る。以後、本発明を実施例にて詳述する。
ジウム元素の金属塩の水溶液に浸漬し、イオン交換法又
は含浸法にて担持する方法があげられる。担持するイリ
ジウム元素は０．００２ｗｔ％以上で十分に活性を発現
し、好ましくは０．０２ｗｔ％以上で高い活性を有す
る。以後、本発明を実施例にて詳述する。
【００１４】
（実施例１） 〇 結晶性シリケート１の合成 水ガラス１号（ＳｉＯ2 ：３０％）：５６１６ｇを水：
５４２９ｇに溶解し、この溶液を溶液Ａとする。一方、
水：４１７５ｇに塩化ビスマス：１５７．６ｇ、塩化ナ
トリウム：２６２ｇ、濃塩酸：２０２０ｇを溶解し、こ
の溶液を溶液Ｂとする。溶液Ａと溶液Ｂを一定割合で供
給し、沈殿を生成させ、十分攪拌してｐＨ＝８．０のス
ラリを得る。このスラリを２０リットルのオートクレー
ブに仕込み、さらにテトラプロピルアンモニウムブロマ
イドを５００ｇ添加し、１６０℃にて７２時間水熱合成
を行い、合成後水洗して乾燥させ、さらに５００℃、３
時間焼成させ結晶性シリケート１を得る。この結晶性シ
リケート１は酸化物のモル比で（結晶水を省く）下記の
組成式で表され、結晶構造はＸ線回折で前記表Ａにて表
示されるものである。 ０．５Ｎａ2 Ｏ・０．５Ｈ2 Ｏ（Ｂｉ2 Ｏ3 ）・５６Ｓ
ｉＯ2 上記結晶性シリケート１を４ＮのＮＨ4 Ｃｌ水溶液４０
℃に３時間攪拌してＮＨ4 イオン交換を実施した。イオ
ン交換後洗浄して１００℃、２４時間乾燥させた後、４
００℃、３時間焼成してＨ型の結晶性シリケート１を得
た。
５４２９ｇに溶解し、この溶液を溶液Ａとする。一方、
水：４１７５ｇに塩化ビスマス：１５７．６ｇ、塩化ナ
トリウム：２６２ｇ、濃塩酸：２０２０ｇを溶解し、こ
の溶液を溶液Ｂとする。溶液Ａと溶液Ｂを一定割合で供
給し、沈殿を生成させ、十分攪拌してｐＨ＝８．０のス
ラリを得る。このスラリを２０リットルのオートクレー
ブに仕込み、さらにテトラプロピルアンモニウムブロマ
イドを５００ｇ添加し、１６０℃にて７２時間水熱合成
を行い、合成後水洗して乾燥させ、さらに５００℃、３
時間焼成させ結晶性シリケート１を得る。この結晶性シ
リケート１は酸化物のモル比で（結晶水を省く）下記の
組成式で表され、結晶構造はＸ線回折で前記表Ａにて表
示されるものである。 ０．５Ｎａ2 Ｏ・０．５Ｈ2 Ｏ（Ｂｉ2 Ｏ3 ）・５６Ｓ
ｉＯ2 上記結晶性シリケート１を４ＮのＮＨ4 Ｃｌ水溶液４０
℃に３時間攪拌してＮＨ4 イオン交換を実施した。イオ
ン交換後洗浄して１００℃、２４時間乾燥させた後、４
００℃、３時間焼成してＨ型の結晶性シリケート１を得
た。
【００１５】〇 触媒化 次に、上記１００部のＨ型の結晶性シリケート１に対し
て、バインダとしてアルミナゾル：３部、シリカゾル：
５５部（ＳｉＯ2 ：２０％）及び水：２００部加え、充
分攪拌を行いウォッシュコート用スラリとした。次にコ
ージェライト用モノリス基材（４００セルの格子目）を
上記スラリに浸漬し、取り出した後余分なスラリを吹き
はらい２００℃で乾燥させた。コート量は基材１リット
ルあたり２００ｇ担持し、このコート物をハニカムコー
ト物１とする。次に、塩化イリジウム（ＩｒＣｌ4 ・Ｈ
2 Ｏ：２．８８ｇ／Ｈ2 Ｏ：２００ｃｃ）に上記ハニカ
ムコート物１を浸漬し１時間含浸した後、基材の壁の付
着した液をふきとり２００℃で乾燥させた。次いで５０
０℃で窒素雰囲気で１２時間パージ処理を行い、ハニカ
ム触媒１を得た。このハニカム触媒１の性状を後記表Ｂ
に示す。
て、バインダとしてアルミナゾル：３部、シリカゾル：
５５部（ＳｉＯ2 ：２０％）及び水：２００部加え、充
分攪拌を行いウォッシュコート用スラリとした。次にコ
ージェライト用モノリス基材（４００セルの格子目）を
上記スラリに浸漬し、取り出した後余分なスラリを吹き
はらい２００℃で乾燥させた。コート量は基材１リット
ルあたり２００ｇ担持し、このコート物をハニカムコー
ト物１とする。次に、塩化イリジウム（ＩｒＣｌ4 ・Ｈ
2 Ｏ：２．８８ｇ／Ｈ2 Ｏ：２００ｃｃ）に上記ハニカ
ムコート物１を浸漬し１時間含浸した後、基材の壁の付
着した液をふきとり２００℃で乾燥させた。次いで５０
０℃で窒素雰囲気で１２時間パージ処理を行い、ハニカ
ム触媒１を得た。このハニカム触媒１の性状を後記表Ｂ
に示す。
【００１６】（実施例２）実施例１の結晶性シリケート
１の合成法において塩化ビスマスの代わりに塩化ランタ
ン又は塩化セリウムを各々酸化物換算でＢｉ2 Ｏ3 と同
じモル数だけ添加した以外は結晶性シリケート１と同様
の操作を繰り返して結晶性シリケート２，３を得た。ま
た、結晶性シリケート１において塩化ビスマスの代わり
に塩化ビスマスと塩化ランタン、塩化ランタンと塩化セ
リウム、塩化ランタンと塩化アルミニウムを各々酸化物
換算で等モル数添加した以外は結晶性シリケート１と同
様の操作を繰り返して結晶性シリケート４，５，６を得
た。
１の合成法において塩化ビスマスの代わりに塩化ランタ
ン又は塩化セリウムを各々酸化物換算でＢｉ2 Ｏ3 と同
じモル数だけ添加した以外は結晶性シリケート１と同様
の操作を繰り返して結晶性シリケート２，３を得た。ま
た、結晶性シリケート１において塩化ビスマスの代わり
に塩化ビスマスと塩化ランタン、塩化ランタンと塩化セ
リウム、塩化ランタンと塩化アルミニウムを各々酸化物
換算で等モル数添加した以外は結晶性シリケート１と同
様の操作を繰り返して結晶性シリケート４，５，６を得
た。
【００１７】上記結晶性シリケート２〜６を用いて実施
例１と同様の方法でＨ型の結晶性シリケート２〜６を
得、このシリケートをさらに実施例１の触媒の調製と同
様の工程にてコージェライトモノリス基材にコートして
ハニカムコート物２〜６を得た。次に塩化イリジウム水
溶液に浸漬し実施例１と同様の処理にてハニカム触媒２
〜６を得た。これらハニカム触媒２〜６の性状を後記表
Ｂに併せて示す。
例１と同様の方法でＨ型の結晶性シリケート２〜６を
得、このシリケートをさらに実施例１の触媒の調製と同
様の工程にてコージェライトモノリス基材にコートして
ハニカムコート物２〜６を得た。次に塩化イリジウム水
溶液に浸漬し実施例１と同様の処理にてハニカム触媒２
〜６を得た。これらハニカム触媒２〜６の性状を後記表
Ｂに併せて示す。
【００１８】（実施例３）実施例１で示すＮＨ4 イオン
変換操作を省略した実施例１，２で用いる結晶性シリケ
ート１〜６を実施例１の触媒調整と同様の工程にてハニ
カムコート物及びハニカム触媒７〜１２を得た。
変換操作を省略した実施例１，２で用いる結晶性シリケ
ート１〜６を実施例１の触媒調整と同様の工程にてハニ
カムコート物及びハニカム触媒７〜１２を得た。
【００１９】（実施例４）実施例１の結晶性シリケート
１の合成法において塩化ビスマスの代わりに塩化ビスマ
スと塩化第２鉄、塩化ビスマスと塩化コバルト、塩化ビ
スマスと塩化ルテニウム、塩化ビスマスと塩化ロジウ
ム、塩化ビスマスと塩化チタン、塩化ビスマスと塩化バ
ナジウム、塩化ビスマスと塩化クロム、塩化ビスマスと
塩化アンチモン、塩化ビスマスと塩化ニオブ、塩化ビス
マスと塩化ガリウム及び塩化ビスマスと塩化ランタンと
塩化セリウムと塩化アルミニウムを各々酸化物換算で等
モル数添加した以外は結晶性シリケート１と同様の操作
を行い結晶性シリケート１３〜２３を得た。
１の合成法において塩化ビスマスの代わりに塩化ビスマ
スと塩化第２鉄、塩化ビスマスと塩化コバルト、塩化ビ
スマスと塩化ルテニウム、塩化ビスマスと塩化ロジウ
ム、塩化ビスマスと塩化チタン、塩化ビスマスと塩化バ
ナジウム、塩化ビスマスと塩化クロム、塩化ビスマスと
塩化アンチモン、塩化ビスマスと塩化ニオブ、塩化ビス
マスと塩化ガリウム及び塩化ビスマスと塩化ランタンと
塩化セリウムと塩化アルミニウムを各々酸化物換算で等
モル数添加した以外は結晶性シリケート１と同様の操作
を行い結晶性シリケート１３〜２３を得た。
【００２０】上記結晶性シリケート１３〜２３を用いて
実施例１と同様の方法でＨ型の結晶性シリケート１３〜
２３を得、このシリケートをさらに実施例１の触媒の調
製と同様の工程にてコージェライトモノリス基材にコー
トしてハニカムコート物１３〜２３を得た。次に塩化イ
リジウム水溶液に浸漬し、実施例１と同様の処理にてハ
ニカム触媒１３〜２３を得た。これらハニカム触媒１３
〜２３の性状を下記表Ｂに示す。
実施例１と同様の方法でＨ型の結晶性シリケート１３〜
２３を得、このシリケートをさらに実施例１の触媒の調
製と同様の工程にてコージェライトモノリス基材にコー
トしてハニカムコート物１３〜２３を得た。次に塩化イ
リジウム水溶液に浸漬し、実施例１と同様の処理にてハ
ニカム触媒１３〜２３を得た。これらハニカム触媒１３
〜２３の性状を下記表Ｂに示す。
【００２１】
【表２】
【００２２】
【表３】
【００２３】（実験例１） 実施例１、２、３及び４にて調製したハニカム触媒１〜
２３の活性評価試験を実施した。活性評価条件は下記の
とおりである。 ○（ガス組成） ＮＯ：５００ｐｐｍ、ＣＯ：１０００ｐｐｍ、Ｃ
2 Ｈ4 ：１５００ｐｐｍ、Ｏ2 ：８％、ＣＯ2 ：１０
％、Ｈ2 Ｏ：１０％、残：Ｎ2 、ＧＨＳＶ ３００００
ｈ-1、触媒形状：１５ｍｍ×１５ｍｍ×６０ｍｍ（１４
４セル数） 反応温度３５０、４５０℃における初期状態の触媒の脱
硝率を後記表Ｃに示す。
２３の活性評価試験を実施した。活性評価条件は下記の
とおりである。 ○（ガス組成） ＮＯ：５００ｐｐｍ、ＣＯ：１０００ｐｐｍ、Ｃ
2 Ｈ4 ：１５００ｐｐｍ、Ｏ2 ：８％、ＣＯ2 ：１０
％、Ｈ2 Ｏ：１０％、残：Ｎ2 、ＧＨＳＶ ３００００
ｈ-1、触媒形状：１５ｍｍ×１５ｍｍ×６０ｍｍ（１４
４セル数） 反応温度３５０、４５０℃における初期状態の触媒の脱
硝率を後記表Ｃに示す。
【００２４】（実験例２）ハニカム触媒１〜２３をリッ
チ雰囲気（還元雰囲気）で強制劣化試験を実施した。強
制劣化試験は下記のとおりである。 〇（ガス組成） Ｈ2 ：５％、Ｈ2 Ｏ：１０％、残：Ｎ2 ＧＨＳＶ：５０００ｈ-1、温度：７５０℃、ガス供給時
間：６時間 触媒形状：１５ｍｍ×１５ｍｍ×６０ｍｍ（１４４セ
ル） 上記強制劣化条件にて処理した触媒１〜２３を実験例１
の活性評価条件において活性評価試験を実施した。反応
温度３５０、４５０℃における強制劣化試験後の触媒の
脱硝率を下記表Ｃに併せて示す。表Ｃに示すように本発
明触媒１〜２３は高温還元雰囲気においても触媒の活性
を高く維持することを確認した。
チ雰囲気（還元雰囲気）で強制劣化試験を実施した。強
制劣化試験は下記のとおりである。 〇（ガス組成） Ｈ2 ：５％、Ｈ2 Ｏ：１０％、残：Ｎ2 ＧＨＳＶ：５０００ｈ-1、温度：７５０℃、ガス供給時
間：６時間 触媒形状：１５ｍｍ×１５ｍｍ×６０ｍｍ（１４４セ
ル） 上記強制劣化条件にて処理した触媒１〜２３を実験例１
の活性評価条件において活性評価試験を実施した。反応
温度３５０、４５０℃における強制劣化試験後の触媒の
脱硝率を下記表Ｃに併せて示す。表Ｃに示すように本発
明触媒１〜２３は高温還元雰囲気においても触媒の活性
を高く維持することを確認した。
【００２５】
【表４】
【００２６】
【表５】
【００２７】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明による排
気ガス浄化用触媒は耐久性に富む安定な触媒であること
を可能にし、ガソリン車のリーンバーンエンジン排ガス
用やディーゼルエンジン排ガス浄化用触媒として利用が
可能である。
気ガス浄化用触媒は耐久性に富む安定な触媒であること
を可能にし、ガソリン車のリーンバーンエンジン排ガス
用やディーゼルエンジン排ガス浄化用触媒として利用が
可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 21/00 - 38/74 B01D 53/86 B01D 53/94
Claims (1)
- 【請求項１】 本文で詳記する表Ａに示されるＸ線回折
パターンを有し、脱水された状態において酸化物のモル
比で表わして （１±０．４）Ｒ2 Ｏ・〔ａＢｉ2 Ｏ3 ・ｂＬａ2 Ｏ3
・ｃＣｅ2 Ｏ3 ・ｄＭ2Ｏ3 〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒ：Ｎａ及び／又はＨイオン、Ｍ：１種又
はそれ以上のVIII族金属イオン、チタン、バナジウム、
クロム、ニオブ、アンチモン及びアルミニウムよりなる
群から選ばれたイオン、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、ａ≧０、
ｂ≧０、ｃ≧０、ｄ≧０、ａ＋ｂ＋ｃ＞０、ｙ≧１２）
なる化学式を有する結晶性シリケートにイリジウムを担
持させてなることを特徴とする排気ガス処理用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00693094A JP3310755B2 (ja) | 1993-10-25 | 1994-01-26 | 排気ガス処理用触媒 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-266095 | 1993-10-25 | ||
| JP26609593 | 1993-10-25 | ||
| JP00693094A JP3310755B2 (ja) | 1993-10-25 | 1994-01-26 | 排気ガス処理用触媒 |
Publications (2)
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| JPH07171401A JPH07171401A (ja) | 1995-07-11 |
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| JP5444755B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2014-03-19 | 三菱化学株式会社 | 排ガス浄化用触媒 |
-
1994
- 1994-01-26 JP JP00693094A patent/JP3310755B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH07171401A (ja) | 1995-07-11 |
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