JP3307200B2 - 角速度センサ - Google Patents
角速度センサInfo
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- JP3307200B2 JP3307200B2 JP30846095A JP30846095A JP3307200B2 JP 3307200 B2 JP3307200 B2 JP 3307200B2 JP 30846095 A JP30846095 A JP 30846095A JP 30846095 A JP30846095 A JP 30846095A JP 3307200 B2 JP3307200 B2 JP 3307200B2
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、回転体の角速度を
検出するのに用いられる角速度センサに関する。
検出するのに用いられる角速度センサに関する。
【0002】
【従来の技術】従来技術による角速度センサを図9ない
し図11に基づいて述べる。
し図11に基づいて述べる。
【0003】図中、1はマイクロマシニング技術によっ
て作製された角速度センサ、2は該角速度センサ1の本
体をなすように例えば高抵抗な単結晶のシリコン材料か
ら形成された基板をそれぞれ示し、該基板2は図9,図
10に示すように長方形の板状に形成されている。ここ
で、便宜上、基板2の長手方向と直交する方向をX軸方
向、長手方向をY軸方向、厚さ方向をZ軸方向とする。
て作製された角速度センサ、2は該角速度センサ1の本
体をなすように例えば高抵抗な単結晶のシリコン材料か
ら形成された基板をそれぞれ示し、該基板2は図9,図
10に示すように長方形の板状に形成されている。ここ
で、便宜上、基板2の長手方向と直交する方向をX軸方
向、長手方向をY軸方向、厚さ方向をZ軸方向とする。
【0004】3は例えばP,B,Sb等の不純物がドー
ピングされた低抵抗なポリシリコンからなる可動部を示
し、該可動部3は例えば酸化シリコン等により基板2の
表面に設けた絶縁膜4(図11参照)を介して基板2上
に形成され、Y軸方向で対向するように固着された一対
の支持部5,5と、基端側が該各支持部5に一体形成さ
れ、Y軸方向に直線状に伸長する4本の支持梁6,6,
…と、該各支持梁6の先端側に一体形成された略長方形
状の振動体7とからなり、振動体7のX軸方向となる
左,右両側面には、複数個の電極板8A,8A,…から
なる可動側くし状電極8,8が突出形成されている。ま
た、可動部3は各支持部5のみが基板2に固着され、各
支持梁6と振動体7とは基板2から所定間隔を離間した
状態で該基板2と平行に保持されることにより、振動体
7は基板2に対してX軸方向とZ軸方向に変位可能に配
設されている。
ピングされた低抵抗なポリシリコンからなる可動部を示
し、該可動部3は例えば酸化シリコン等により基板2の
表面に設けた絶縁膜4(図11参照)を介して基板2上
に形成され、Y軸方向で対向するように固着された一対
の支持部5,5と、基端側が該各支持部5に一体形成さ
れ、Y軸方向に直線状に伸長する4本の支持梁6,6,
…と、該各支持梁6の先端側に一体形成された略長方形
状の振動体7とからなり、振動体7のX軸方向となる
左,右両側面には、複数個の電極板8A,8A,…から
なる可動側くし状電極8,8が突出形成されている。ま
た、可動部3は各支持部5のみが基板2に固着され、各
支持梁6と振動体7とは基板2から所定間隔を離間した
状態で該基板2と平行に保持されることにより、振動体
7は基板2に対してX軸方向とZ軸方向に変位可能に配
設されている。
【0005】9,9は例えば低抵抗なポリシリコンによ
って形成され、振動体7を挟むように絶縁膜4を介して
基板2上に固着された一対の固定部を示し、該各固定部
9には前記可動側くし状電極8,8と対向する面に電極
板10A,10A,…を有する固定側くし状電極10が
それぞれ形成されている。そして、可動側くし状電極8
と各固定側くし状電極10とは、図10に示すように隙
間を介して互いに対向し、各電極板8A,10Aが互い
に離間した状態で噛合するように交互に配設されてい
る。
って形成され、振動体7を挟むように絶縁膜4を介して
基板2上に固着された一対の固定部を示し、該各固定部
9には前記可動側くし状電極8,8と対向する面に電極
板10A,10A,…を有する固定側くし状電極10が
それぞれ形成されている。そして、可動側くし状電極8
と各固定側くし状電極10とは、図10に示すように隙
間を介して互いに対向し、各電極板8A,10Aが互い
に離間した状態で噛合するように交互に配設されてい
る。
【0006】11,11は振動発生手段となる振動発生
部を示し、該各振動発生部11は可動側くし状電極8と
各固定側くし状電極10とから構成されている。ここ
で、各振動発生部11に周波数fの振動駆動信号を交互
に印加すると、各電極板8A,10A間には静電引力が
交互に反対向きに発生し、この静電引力によって振動体
7は矢示A1 ,A2 のようにX軸方向に振動する。
部を示し、該各振動発生部11は可動側くし状電極8と
各固定側くし状電極10とから構成されている。ここ
で、各振動発生部11に周波数fの振動駆動信号を交互
に印加すると、各電極板8A,10A間には静電引力が
交互に反対向きに発生し、この静電引力によって振動体
7は矢示A1 ,A2 のようにX軸方向に振動する。
【0007】12は基板2上に形成された基板側電極を
示し、該基板側電極12は図11に示すように、例えば
P,Sb等の不純物を基板2の表面に高密度にドーピン
グすることにより導電性を有するように形成され、振動
体7の下側に位置して該振動体7と所定距離を離間した
状態で対向している。
示し、該基板側電極12は図11に示すように、例えば
P,Sb等の不純物を基板2の表面に高密度にドーピン
グすることにより導電性を有するように形成され、振動
体7の下側に位置して該振動体7と所定距離を離間した
状態で対向している。
【0008】13は変位検出手段となる変位検出部を示
し、該変位検出部13は振動体7と基板側電極12とか
ら構成され、振動体7と基板側電極12とのZ軸方向に
おける離間寸法の変化を、両者間の静電容量の変化とし
て検出する。
し、該変位検出部13は振動体7と基板側電極12とか
ら構成され、振動体7と基板側電極12とのZ軸方向に
おける離間寸法の変化を、両者間の静電容量の変化とし
て検出する。
【0009】14,14は各固定部9上に固着された振
動駆動用の電極パッドを示し、該各電極パッド14は図
9に示すように例えばAu等の金属材料から形成され、
各固定側くし状電極10と電気的に導通している。ま
た、15は可動部3に固着され可動側くし状電極8に導
通した検出用の電極パッド、16は引出線16Aを介し
て基板側電極12に接続された検出用の電極パッドをそ
れぞれ示している。
動駆動用の電極パッドを示し、該各電極パッド14は図
9に示すように例えばAu等の金属材料から形成され、
各固定側くし状電極10と電気的に導通している。ま
た、15は可動部3に固着され可動側くし状電極8に導
通した検出用の電極パッド、16は引出線16Aを介し
て基板側電極12に接続された検出用の電極パッドをそ
れぞれ示している。
【0010】このように構成される角速度センサ1にお
いては、各振動発生部11に逆位相となる周波数fの振
動駆動信号を印加することにより、前記振動体7は図9
中の矢示A1 ,A2 のように基板2に対してX軸方向の
振動を行い、この状態でY軸を回転軸とする角速度Ωが
基板2に加わると、前記振動体7には角速度Ωに比例し
たF1 ,F2 というコリオリ力(慣性力)がZ軸方向に
交互に発生する。
いては、各振動発生部11に逆位相となる周波数fの振
動駆動信号を印加することにより、前記振動体7は図9
中の矢示A1 ,A2 のように基板2に対してX軸方向の
振動を行い、この状態でY軸を回転軸とする角速度Ωが
基板2に加わると、前記振動体7には角速度Ωに比例し
たF1 ,F2 というコリオリ力(慣性力)がZ軸方向に
交互に発生する。
【0011】この結果、振動体7はこのコリオリ力F1
,F2 に比例した振幅をもってZ軸方向に振動し、こ
の振動の振幅(変位)を変位検出部13によって振動体
7と基板側電極12との間の静電容量の変化として検出
することにより、Y軸周りに加わった角速度Ωを検出す
る。
,F2 に比例した振幅をもってZ軸方向に振動し、こ
の振動の振幅(変位)を変位検出部13によって振動体
7と基板側電極12との間の静電容量の変化として検出
することにより、Y軸周りに加わった角速度Ωを検出す
る。
【0012】また、振動体7に作用するコリオリ力F1
,F2 はX軸方向に発生させる矢示A1,A2 方向の振
動による振幅の大きさにも比例するため、角速度センサ
1では印加する振動駆動信号の周波数fを振動体7の力
学的な共振周波数にほぼ等しくすることによって、該振
動体7をX軸方向に大きく振動させてコリオリ力F1 ,
F2 によるZ軸方向の変位を増大させ、Y軸周りの角速
度Ωを高精度に検出できるようにしている。
,F2 はX軸方向に発生させる矢示A1,A2 方向の振
動による振幅の大きさにも比例するため、角速度センサ
1では印加する振動駆動信号の周波数fを振動体7の力
学的な共振周波数にほぼ等しくすることによって、該振
動体7をX軸方向に大きく振動させてコリオリ力F1 ,
F2 によるZ軸方向の変位を増大させ、Y軸周りの角速
度Ωを高精度に検出できるようにしている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来技術においては、角速度センサ1は例えばY軸の1軸
周りだけの角速度を検出するように構成されている。従
って、互いに直交する2軸周りの角速度を検出するに
は、基板2上に2個の角速度センサ1を互いに直交する
ように形成しなければならず、基板2の面積が増大して
角速度センサ1の小型化が困難になると共に、製造コス
トが上昇するという問題がある。
来技術においては、角速度センサ1は例えばY軸の1軸
周りだけの角速度を検出するように構成されている。従
って、互いに直交する2軸周りの角速度を検出するに
は、基板2上に2個の角速度センサ1を互いに直交する
ように形成しなければならず、基板2の面積が増大して
角速度センサ1の小型化が困難になると共に、製造コス
トが上昇するという問題がある。
【0014】さらに、振動体7の共振周波数はある程度
のばらつきを有するため、前述した各角速度センサ1の
振動体7が互いに異なる共振周波数を有する場合は、振
動駆動信号の発生回路が各角速度センサ1に対してそれ
ぞれ必要になり、発生回路の基板面積が増大してしま
う。
のばらつきを有するため、前述した各角速度センサ1の
振動体7が互いに異なる共振周波数を有する場合は、振
動駆動信号の発生回路が各角速度センサ1に対してそれ
ぞれ必要になり、発生回路の基板面積が増大してしま
う。
【0015】本発明は上述した従来技術の問題に鑑みな
されたもので、本発明は、互いに直交する2軸周りの角
速度を別個に検出できる角速度センサを提供することを
目的とする。
されたもので、本発明は、互いに直交する2軸周りの角
速度を別個に検出できる角速度センサを提供することを
目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、請求項1に記載の発明による角速度センサは、
基板と、該基板に設けられた支持部と、基端側が該支持
部に設けられた第1の支持梁と、前記基板の表面から離
間した状態で該第1の支持梁の先端側に設けられ、前記
基板に対して水平なX軸,Y軸方向に変位可能な第1の
振動体と、基端側が該第1の振動体に設けられた第2の
支持梁と、前記基板の表面から離間した状態で該第2の
支持梁の先端側に設けられ、前記第1の振動体と共に前
記基板に対し水平なX軸,Y軸方向に変位可能でかつ前
記基板と垂直なZ軸方向に変位可能な第2の振動体と、
前記第1の振動体をX軸方向に振動させる振動発生手段
と、該振動発生手段によって前記第1の振動体にX軸方
向の振動を与えている状態で、角速度による第2の振動
体が変位するときの変位量をY軸方向,Z軸方向の2方
向から検出する変位検出手段とからなる構成を採用して
いる。
ために、請求項1に記載の発明による角速度センサは、
基板と、該基板に設けられた支持部と、基端側が該支持
部に設けられた第1の支持梁と、前記基板の表面から離
間した状態で該第1の支持梁の先端側に設けられ、前記
基板に対して水平なX軸,Y軸方向に変位可能な第1の
振動体と、基端側が該第1の振動体に設けられた第2の
支持梁と、前記基板の表面から離間した状態で該第2の
支持梁の先端側に設けられ、前記第1の振動体と共に前
記基板に対し水平なX軸,Y軸方向に変位可能でかつ前
記基板と垂直なZ軸方向に変位可能な第2の振動体と、
前記第1の振動体をX軸方向に振動させる振動発生手段
と、該振動発生手段によって前記第1の振動体にX軸方
向の振動を与えている状態で、角速度による第2の振動
体が変位するときの変位量をY軸方向,Z軸方向の2方
向から検出する変位検出手段とからなる構成を採用して
いる。
【0017】このように構成することにより、第1の振
動体は第1の支持梁を介して基板に対しX軸,Y軸方向
にそれぞれ変位し、第2の振動体は第2の支持梁を介し
て第1の振動体に対しZ軸方向に変位するから、該第2
の振動体は基板の表面から離間した状態で、第1の振動
体と共にX軸,Y軸方向に振動しつつZ軸方向にも変位
する。そして、振動発生手段により第1の振動体をX軸
方向に振動させ、該第1の振動体と共に第2の振動体を
X軸方向に振動させた状態で、Y軸周りに角速度が加わ
ると、第2の振動体は角速度によって基板に対してZ軸
方向に変位し、変位検出手段は、この第2の振動体のZ
軸方向の変位量を角速度センサのY軸周りに加わった角
速度として検出する。一方、Z軸周りに角速度が加わっ
たときには、第2の振動体は角速度によって基板に対し
てY軸方向に変位し、変位検出手段は、この第2の振動
体のY軸方向の変位量を角速度センサのZ軸周りに加わ
った角速度として検出する。
動体は第1の支持梁を介して基板に対しX軸,Y軸方向
にそれぞれ変位し、第2の振動体は第2の支持梁を介し
て第1の振動体に対しZ軸方向に変位するから、該第2
の振動体は基板の表面から離間した状態で、第1の振動
体と共にX軸,Y軸方向に振動しつつZ軸方向にも変位
する。そして、振動発生手段により第1の振動体をX軸
方向に振動させ、該第1の振動体と共に第2の振動体を
X軸方向に振動させた状態で、Y軸周りに角速度が加わ
ると、第2の振動体は角速度によって基板に対してZ軸
方向に変位し、変位検出手段は、この第2の振動体のZ
軸方向の変位量を角速度センサのY軸周りに加わった角
速度として検出する。一方、Z軸周りに角速度が加わっ
たときには、第2の振動体は角速度によって基板に対し
てY軸方向に変位し、変位検出手段は、この第2の振動
体のY軸方向の変位量を角速度センサのZ軸周りに加わ
った角速度として検出する。
【0018】また、請求項2に記載の発明では、前記変
位検出手段は、第2の振動体と基板との対向する垂直面
によって該第2の振動体のY軸方向の変位量を検出する
Y軸方向変位検出手段と、第2の振動体と基板との対向
する水平面によって該第2の振動体のZ軸方向の変位量
を検出するZ軸方向変位検出手段とから構成したことに
ある。
位検出手段は、第2の振動体と基板との対向する垂直面
によって該第2の振動体のY軸方向の変位量を検出する
Y軸方向変位検出手段と、第2の振動体と基板との対向
する水平面によって該第2の振動体のZ軸方向の変位量
を検出するZ軸方向変位検出手段とから構成したことに
ある。
【0019】このように構成することにより、Y軸方向
変位検出手段は、Z軸周りの角速度によって第2の振動
体が基板に対しY軸方向に変位したときに、この変位量
を第2の振動体と基板との対向する垂直面間の離間距離
の変化として検出し、Z軸周りの角速度を検出する。一
方、Z軸方向変位検出手段は、Y軸周りの角速度によっ
て第2の振動体が基板に対しZ軸方向に変位したとき
に、この変位量を第2の振動体と基板との対向する水平
面間の離間距離の変化として検出し、Y軸周りの角速度
を検出する。
変位検出手段は、Z軸周りの角速度によって第2の振動
体が基板に対しY軸方向に変位したときに、この変位量
を第2の振動体と基板との対向する垂直面間の離間距離
の変化として検出し、Z軸周りの角速度を検出する。一
方、Z軸方向変位検出手段は、Y軸周りの角速度によっ
て第2の振動体が基板に対しZ軸方向に変位したとき
に、この変位量を第2の振動体と基板との対向する水平
面間の離間距離の変化として検出し、Y軸周りの角速度
を検出する。
【0020】そして、請求項3に記載の発明では、前記
変位検出手段は、前記基板上に形成されて水平面と垂直
面とを有する固定側検出用電極と、該固定側検出用電極
と離間した状態で対向して前記第2の振動体に形成され
て水平面と垂直面とを有する可動側検出用電極とからな
り、これら固定側検出用電極と可動側検出用電極は前記
基板の表面と平行にX軸方向に伸長して形成したことに
ある。
変位検出手段は、前記基板上に形成されて水平面と垂直
面とを有する固定側検出用電極と、該固定側検出用電極
と離間した状態で対向して前記第2の振動体に形成され
て水平面と垂直面とを有する可動側検出用電極とからな
り、これら固定側検出用電極と可動側検出用電極は前記
基板の表面と平行にX軸方向に伸長して形成したことに
ある。
【0021】このように構成することにより、変位検出
手段は、基板上の固定側検出用電極が有する垂直面と、
第2の振動体の可動側検出用電極が有する垂直面とをY
軸方向において対向させることができ、第2の振動体が
基板に対してY軸方向に変位したときに、これらの垂直
面間の離間距離を変化させることにより、この変化を第
2の振動体の基板に対するY軸方向の変位量として検出
する。一方、変位検出手段は、基板上の固定側検出用電
極が有する水平面と、第2の振動体の可動側検出用電極
が有する水平面とをZ軸方向において対向させることが
でき、第2の振動体が基板に対してZ軸方向に変位した
ときに、これらの水平面間の離間距離を変化させること
により、この変化を第2の振動体の基板に対するZ軸方
向の変位量として検出する。
手段は、基板上の固定側検出用電極が有する垂直面と、
第2の振動体の可動側検出用電極が有する垂直面とをY
軸方向において対向させることができ、第2の振動体が
基板に対してY軸方向に変位したときに、これらの垂直
面間の離間距離を変化させることにより、この変化を第
2の振動体の基板に対するY軸方向の変位量として検出
する。一方、変位検出手段は、基板上の固定側検出用電
極が有する水平面と、第2の振動体の可動側検出用電極
が有する水平面とをZ軸方向において対向させることが
でき、第2の振動体が基板に対してZ軸方向に変位した
ときに、これらの水平面間の離間距離を変化させること
により、この変化を第2の振動体の基板に対するZ軸方
向の変位量として検出する。
【0022】さらに、請求項4に記載の発明では、前記
固定側検出用電極は、それぞれ離間した状態で前記基板
上に形成された少なくとも一対の突起状電極と、該各突
起状電極間に位置した基板上に形成された基板側電極と
からなり、前記可動側検出用電極は、前記各突起状電
極,基板側電極と対向するように前記第2の振動体に形
成された突起状電極とから構成したことにある。
固定側検出用電極は、それぞれ離間した状態で前記基板
上に形成された少なくとも一対の突起状電極と、該各突
起状電極間に位置した基板上に形成された基板側電極と
からなり、前記可動側検出用電極は、前記各突起状電
極,基板側電極と対向するように前記第2の振動体に形
成された突起状電極とから構成したことにある。
【0023】このように構成することにより、基板と第
2の振動体とは、固定側検出用電極の突起状電極の側面
と、可動側検出用電極の突起状電極の側面とをY軸方向
において対向させることができ、第2の振動体が基板に
対してY軸方向に変位したときに、これらの側面間の離
間距離を変化させることにより、この変化を第2の振動
体の基板に対するY軸方向の変位量として検出する。一
方、固定側検出用電極の基板側電極と可動側検出用電極
の突起状電極の水平面とをZ軸方向において対向させる
ことができ、第2の振動体が基板に対してZ軸方向に変
位したときには、基板側電極と突起状電極の水平面との
離間距離を変化させることにより、この変化を第2の振
動体の基板に対するZ軸方向の変位量として検出する。
2の振動体とは、固定側検出用電極の突起状電極の側面
と、可動側検出用電極の突起状電極の側面とをY軸方向
において対向させることができ、第2の振動体が基板に
対してY軸方向に変位したときに、これらの側面間の離
間距離を変化させることにより、この変化を第2の振動
体の基板に対するY軸方向の変位量として検出する。一
方、固定側検出用電極の基板側電極と可動側検出用電極
の突起状電極の水平面とをZ軸方向において対向させる
ことができ、第2の振動体が基板に対してZ軸方向に変
位したときには、基板側電極と突起状電極の水平面との
離間距離を変化させることにより、この変化を第2の振
動体の基板に対するZ軸方向の変位量として検出する。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に従って詳細に説明するに、図1ないし図8は本発
明による実施例を示す。なお、実施例においては、従来
技術と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を
省略する。
図面に従って詳細に説明するに、図1ないし図8は本発
明による実施例を示す。なお、実施例においては、従来
技術と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を
省略する。
【0025】図中、21は本実施例による角速度セン
サ、22は該角速度センサ21が形成された従来技術と
同様の基板をそれぞれ示し、該基板22は図1,図2に
示すように、例えば高抵抗な単結晶のシリコン材料から
長方形の板状に形成されている。また、基板22には図
3に示すように、例えば酸化シリコン膜,窒化シリコン
膜またはこれらの複合膜等からなる絶縁膜23が表面に
形成されると共に、後述する各支持部26と各固定部3
3(図1参照)が固着される位置には低抵抗のポリシリ
コン膜からなる導電膜24が形成されている。
サ、22は該角速度センサ21が形成された従来技術と
同様の基板をそれぞれ示し、該基板22は図1,図2に
示すように、例えば高抵抗な単結晶のシリコン材料から
長方形の板状に形成されている。また、基板22には図
3に示すように、例えば酸化シリコン膜,窒化シリコン
膜またはこれらの複合膜等からなる絶縁膜23が表面に
形成されると共に、後述する各支持部26と各固定部3
3(図1参照)が固着される位置には低抵抗のポリシリ
コン膜からなる導電膜24が形成されている。
【0026】25は基板22上に形成された可動部を示
し、該可動部25は図1に示すように、例えば低抵抗な
ポリシリコン膜をエッチング処理することによって形成
され、Y軸となる前,後方向に位置して基板22上に導
電膜24を介して形成された後述する支持部26,26
と、基端側が該各支持部26に設けられ、先端側が基板
22の中央部に向けて前後方向に伸長する第1の支持梁
27,27,…と、該各第1の支持梁27の先端側に支
持され、基板22に対する水平方向となるX軸,Y軸方
向に変位可能に設けられ、枠体29,第2の支持梁31
および振動体32からなる振動板28とから構成されて
いる。また、該可動部25は各支持部26のみが基板2
2上に固着され、各第1の支持梁27と振動板28は基
板22の表面から離間した状態で保持されている。
し、該可動部25は図1に示すように、例えば低抵抗な
ポリシリコン膜をエッチング処理することによって形成
され、Y軸となる前,後方向に位置して基板22上に導
電膜24を介して形成された後述する支持部26,26
と、基端側が該各支持部26に設けられ、先端側が基板
22の中央部に向けて前後方向に伸長する第1の支持梁
27,27,…と、該各第1の支持梁27の先端側に支
持され、基板22に対する水平方向となるX軸,Y軸方
向に変位可能に設けられ、枠体29,第2の支持梁31
および振動体32からなる振動板28とから構成されて
いる。また、該可動部25は各支持部26のみが基板2
2上に固着され、各第1の支持梁27と振動板28は基
板22の表面から離間した状態で保持されている。
【0027】26,26は可動部25を基板22上に支
持する支持部を示し、該各支持部26は従来技術と同様
にY軸方向の両端側に位置して互いに対向するように配
設され、図3に示すように絶縁膜23と導電膜24を介
して基板22上に固着されている。また、各支持部26
のうち中央側に位置した端部は若干湾曲して形成するこ
とにより基板22側から離間した状態となり、この端部
には各支持梁27がそれぞれ一体形成されている。
持する支持部を示し、該各支持部26は従来技術と同様
にY軸方向の両端側に位置して互いに対向するように配
設され、図3に示すように絶縁膜23と導電膜24を介
して基板22上に固着されている。また、各支持部26
のうち中央側に位置した端部は若干湾曲して形成するこ
とにより基板22側から離間した状態となり、この端部
には各支持梁27がそれぞれ一体形成されている。
【0028】27,27…は基端側が各支持部26に一
体形成された第1の支持梁を示し、該各支持梁27は図
1に示すように、各支持部26の端部から2本ずつがY
軸方向に伸長し、先端側に振動板28が一体形成されて
いる。また、各支持梁27はX軸方向に向けてコ字状に
屈曲する屈曲部27Aが形成されて略S字状をなし、該
屈曲部27Aが撓むことによって振動板28はX軸方向
に変位すると共に、該屈曲部27AがY軸方向に伸縮す
ることによって振動板28はY軸方向に変位する。
体形成された第1の支持梁を示し、該各支持梁27は図
1に示すように、各支持部26の端部から2本ずつがY
軸方向に伸長し、先端側に振動板28が一体形成されて
いる。また、各支持梁27はX軸方向に向けてコ字状に
屈曲する屈曲部27Aが形成されて略S字状をなし、該
屈曲部27Aが撓むことによって振動板28はX軸方向
に変位すると共に、該屈曲部27AがY軸方向に伸縮す
ることによって振動板28はY軸方向に変位する。
【0029】28は各第1の支持梁27によって水平方
向となるX軸,Y軸方向に変位可能に支持された振動板
を示し、該振動板28は第1の振動体となる枠体29
と、基端側が該枠体29に設けられた第2の支持梁3
1,31,…と、該各第2の支持梁31の先端側に位置
して枠体29内に設けられた振動体32とから構成され
ている。
向となるX軸,Y軸方向に変位可能に支持された振動板
を示し、該振動板28は第1の振動体となる枠体29
と、基端側が該枠体29に設けられた第2の支持梁3
1,31,…と、該各第2の支持梁31の先端側に位置
して枠体29内に設けられた振動体32とから構成され
ている。
【0030】29は矩形状に形成された第1の振動体と
しての枠体を示し、該枠体29はX軸方向となる左,右
両側に位置してY軸方向に伸長する縦枠部29A,29
Aと、該各縦枠部29Aの前,後両側に位置してX軸方
向に伸長する横枠部29B,29Bとから構成され、各
縦枠部29Aには複数個の電極板30A,30A,…か
らなる可動側くし状電極30,30が突出形成されてい
る。
しての枠体を示し、該枠体29はX軸方向となる左,右
両側に位置してY軸方向に伸長する縦枠部29A,29
Aと、該各縦枠部29Aの前,後両側に位置してX軸方
向に伸長する横枠部29B,29Bとから構成され、各
縦枠部29Aには複数個の電極板30A,30A,…か
らなる可動側くし状電極30,30が突出形成されてい
る。
【0031】31,31,…は枠体29内に位置して基
端側が該枠体29の各横枠部29Bに一体形成された第
2の支持梁を示し、該各支持梁31は図2に示すように
枠体29の前,後両側に位置する各横枠部29Bから2
本ずつがY軸方向に直線状に伸長し、先端側が振動体3
2に一体形成され、該振動体32は振動板28と同様に
水平方向のX軸,Y軸方向に移動すると共に、各第2の
支持梁31によってZ軸方向に変位可能となる。
端側が該枠体29の各横枠部29Bに一体形成された第
2の支持梁を示し、該各支持梁31は図2に示すように
枠体29の前,後両側に位置する各横枠部29Bから2
本ずつがY軸方向に直線状に伸長し、先端側が振動体3
2に一体形成され、該振動体32は振動板28と同様に
水平方向のX軸,Y軸方向に移動すると共に、各第2の
支持梁31によってZ軸方向に変位可能となる。
【0032】32は枠体29内に各第2の支持梁31を
介して設けれた第2の振動体としての振動体を示し、該
振動体32は略長方形の平板状に形成され、X軸,Y軸
方向に変位可能に保持された振動板28内に位置し、し
かもZ軸方向に変位可能に保持されているから、基板2
2に対してX軸,Y軸,Z軸方向の3軸方向において変
位可能な状態で配設されている。
介して設けれた第2の振動体としての振動体を示し、該
振動体32は略長方形の平板状に形成され、X軸,Y軸
方向に変位可能に保持された振動板28内に位置し、し
かもZ軸方向に変位可能に保持されているから、基板2
2に対してX軸,Y軸,Z軸方向の3軸方向において変
位可能な状態で配設されている。
【0033】なお、振動板28が第1の支持梁27を介
してX軸,Y軸方向に振動する場合の共振周波数と、振
動体32が第2の支持梁31を介してZ軸方向に振動す
る場合の共振周波数とは、互いにほぼ等しくなるように
調整されている。
してX軸,Y軸方向に振動する場合の共振周波数と、振
動体32が第2の支持梁31を介してZ軸方向に振動す
る場合の共振周波数とは、互いにほぼ等しくなるように
調整されている。
【0034】33,33は固定部を示し、該各固定部3
3は振動板28を左,右両側から挟むように配設され、
絶縁膜23と導電膜24を介して基板22上に固着され
ている。また、各固定部33は振動板28と対向する端
部に複数個の電極板34Aからなる固定側くし状電極3
4,34がそれぞれ形成され、可動側くし状電極30と
固定側くし状電極34とは図2に示すように、各電極板
30A,34Aを互いに離間した状態で噛合させるよう
にして対向している。
3は振動板28を左,右両側から挟むように配設され、
絶縁膜23と導電膜24を介して基板22上に固着され
ている。また、各固定部33は振動板28と対向する端
部に複数個の電極板34Aからなる固定側くし状電極3
4,34がそれぞれ形成され、可動側くし状電極30と
固定側くし状電極34とは図2に示すように、各電極板
30A,34Aを互いに離間した状態で噛合させるよう
にして対向している。
【0035】35,35は振動発生手段となる振動発生
部を示し、該各振動発生部35は可動側くし状電極30
と各固定側くし状電極34とから構成され、該各振動発
生部35に周波数fの振動駆動信号を交互に印加するこ
とにより、振動板28が振動体32と共にX軸方向とな
る図1中の矢示B1 ,B2 方向に振動する。
部を示し、該各振動発生部35は可動側くし状電極30
と各固定側くし状電極34とから構成され、該各振動発
生部35に周波数fの振動駆動信号を交互に印加するこ
とにより、振動板28が振動体32と共にX軸方向とな
る図1中の矢示B1 ,B2 方向に振動する。
【0036】36は基板22上に形成された固定側検出
用電極を示し、該固定側検出用電極36は図3に示すよ
うに、X軸方向に伸長するように基板22上に突出して
形成され、複数個の対をなす突起状電極37,37,…
および38,38,…と、各対の突起状電極37,38
間に位置した基板22上にX軸方向に伸長するように形
成された基板側電極39,39,…とから構成されてい
る。そして、各突起状電極37,各突起状電極38およ
び各基板側電極39は互いに絶縁されている。
用電極を示し、該固定側検出用電極36は図3に示すよ
うに、X軸方向に伸長するように基板22上に突出して
形成され、複数個の対をなす突起状電極37,37,…
および38,38,…と、各対の突起状電極37,38
間に位置した基板22上にX軸方向に伸長するように形
成された基板側電極39,39,…とから構成されてい
る。そして、各突起状電極37,各突起状電極38およ
び各基板側電極39は互いに絶縁されている。
【0037】また、図4に示すように、各突起状電極3
7,38の外側側面は後述する可動側検出用電極40の
垂直面41Aに対応した面が垂直面37Aとなり、垂直
面41Bに対応した面が垂直面38Aとなり、各基板側
電極39は可動側検出用電極40の水平面41Cに対応
した水平面となる。なお、各突起状電極37の上側(先
端側)面の総面積と各突起状電極38の上側面の総面積
は互いに等しくなるように形成されている。
7,38の外側側面は後述する可動側検出用電極40の
垂直面41Aに対応した面が垂直面37Aとなり、垂直
面41Bに対応した面が垂直面38Aとなり、各基板側
電極39は可動側検出用電極40の水平面41Cに対応
した水平面となる。なお、各突起状電極37の上側(先
端側)面の総面積と各突起状電極38の上側面の総面積
は互いに等しくなるように形成されている。
【0038】40は振動体32に形成された可動側検出
用電極を示し、該可動側検出用電極40は図3に示すよ
うに、基板22に向けてX軸方向に延びるように突出形
成された複数個の突起状電極41,41,…として形成
されている。そして、該各突起状電極41は固定側検出
用電極36の各対の突起状電極37,38間に位置し
て、該各突起状電極37,38と所定間隔を離間した状
態で噛合するように交互に凹凸形体をなして配設されて
いる。また、各突起状電極41は図4に示すように、Y
軸方向の両側側面が垂直に形成された垂直面41A,4
1Bを構成すると共に、下側先端面が水平に形成された
水平面41Cを構成している。さらに、各突起状電極4
1はX軸方向に直線状に伸長しているから、両端側が図
1に示すように枠体29の各縦枠部29Aまで延在して
いる。
用電極を示し、該可動側検出用電極40は図3に示すよ
うに、基板22に向けてX軸方向に延びるように突出形
成された複数個の突起状電極41,41,…として形成
されている。そして、該各突起状電極41は固定側検出
用電極36の各対の突起状電極37,38間に位置し
て、該各突起状電極37,38と所定間隔を離間した状
態で噛合するように交互に凹凸形体をなして配設されて
いる。また、各突起状電極41は図4に示すように、Y
軸方向の両側側面が垂直に形成された垂直面41A,4
1Bを構成すると共に、下側先端面が水平に形成された
水平面41Cを構成している。さらに、各突起状電極4
1はX軸方向に直線状に伸長しているから、両端側が図
1に示すように枠体29の各縦枠部29Aまで延在して
いる。
【0039】ここで、固定側検出用電極36と可動側検
出用電極40とは、図4に示すように、垂直面37A,
41A間、垂直面38A,41B間はY軸方向でそれぞ
れ電極間距離SH を離間した状態で保持され、基板側電
極39と水平面41Cとの間はZ軸方向で電極間距離S
V を離間した状態を保持されている。
出用電極40とは、図4に示すように、垂直面37A,
41A間、垂直面38A,41B間はY軸方向でそれぞ
れ電極間距離SH を離間した状態で保持され、基板側電
極39と水平面41Cとの間はZ軸方向で電極間距離S
V を離間した状態を保持されている。
【0040】42はY軸方向変位検出手段としての水平
変位検出部を示し、該水平変位検出部42は図4に示す
ように、固定側と可動側との間においてY軸方向で対向
する各垂直面37A,41Aと、各垂直面38A,41
Bとから構成されている。そして、振動板28が基板2
2に対してY軸方向に変位したときには、この変位によ
る垂直面37A,41A間の電極間距離SH の変化と、
垂直面38A,41B間の電極間距離SH の変化とを、
静電容量の変化としてそれぞれ検出する。
変位検出部を示し、該水平変位検出部42は図4に示す
ように、固定側と可動側との間においてY軸方向で対向
する各垂直面37A,41Aと、各垂直面38A,41
Bとから構成されている。そして、振動板28が基板2
2に対してY軸方向に変位したときには、この変位によ
る垂直面37A,41A間の電極間距離SH の変化と、
垂直面38A,41B間の電極間距離SH の変化とを、
静電容量の変化としてそれぞれ検出する。
【0041】43はZ軸方向変位検出手段としての垂直
変位検出部を示し、該垂直変位検出部43は、固定側と
可動側との間においてZ軸方向で対向する各基板側電極
39と各突起状電極41の水平面41Cとからなり、振
動体32が基板22に対してZ軸方向に変位したときに
は、この変位による基板側電極39と水平面41Cとの
間の電極間距離SV の変化を、静電容量の変化として検
出する。
変位検出部を示し、該垂直変位検出部43は、固定側と
可動側との間においてZ軸方向で対向する各基板側電極
39と各突起状電極41の水平面41Cとからなり、振
動体32が基板22に対してZ軸方向に変位したときに
は、この変位による基板側電極39と水平面41Cとの
間の電極間距離SV の変化を、静電容量の変化として検
出する。
【0042】また、44A〜44Fは従来技術と同様の
電極パッドで、電極パッド44A〜44Cは図1に示す
ように支持部26,各固定部33にそれぞれ固着される
と共に、電極パッド44D,44Eは引出線45A,4
5Bを介して固定側の各突起状電極37,38にそれぞ
れ接続され、電極パッド44Fは固定側の各基板側電極
39に接続されている。
電極パッドで、電極パッド44A〜44Cは図1に示す
ように支持部26,各固定部33にそれぞれ固着される
と共に、電極パッド44D,44Eは引出線45A,4
5Bを介して固定側の各突起状電極37,38にそれぞ
れ接続され、電極パッド44Fは固定側の各基板側電極
39に接続されている。
【0043】次に、本実施例による角速度センサ21の
製造工程を図5ないし図8を参照しつつ説明する。
製造工程を図5ないし図8を参照しつつ説明する。
【0044】まず、図5において、角速度センサ21を
形成すべく用意された単結晶シリコンからなる基板22
の表面に、絶縁膜形成工程により例えば酸化シリコン,
窒化シリコン等の絶縁性の薄膜を絶縁膜23として形成
すると共に、電極形成工程により基板22の所定位置に
例えばP,B,Sb等の不純物をイオン注入し、固定側
の各基板側電極39を形成する。
形成すべく用意された単結晶シリコンからなる基板22
の表面に、絶縁膜形成工程により例えば酸化シリコン,
窒化シリコン等の絶縁性の薄膜を絶縁膜23として形成
すると共に、電極形成工程により基板22の所定位置に
例えばP,B,Sb等の不純物をイオン注入し、固定側
の各基板側電極39を形成する。
【0045】次に、図6に示す第1のエッチング工程に
おいては、絶縁膜23上にポリシリコン膜を形成し、所
定位置にP,B,Sb等の不純物をドーピングした後に
ドライエッチングによってパターニングを行うことによ
り、固定側検出用電極36の各突起状電極37,38、
引出線45A,45B(図1,図2参照)および各導電
膜24等を分離形成する。
おいては、絶縁膜23上にポリシリコン膜を形成し、所
定位置にP,B,Sb等の不純物をドーピングした後に
ドライエッチングによってパターニングを行うことによ
り、固定側検出用電極36の各突起状電極37,38、
引出線45A,45B(図1,図2参照)および各導電
膜24等を分離形成する。
【0046】そして、図7に示す第2のエッチング工程
においては、例えばPSG等の犠牲層46を基板22上
に形成した後に、ポリシリコン膜を形成して所定位置に
P,B,Sb等の不純物をドーピングし、ポリシリコン
膜に対してのみドライエッチングによってパターニング
を行うことにより、可動部25、固定部33等を分離形
成する。
においては、例えばPSG等の犠牲層46を基板22上
に形成した後に、ポリシリコン膜を形成して所定位置に
P,B,Sb等の不純物をドーピングし、ポリシリコン
膜に対してのみドライエッチングによってパターニング
を行うことにより、可動部25、固定部33等を分離形
成する。
【0047】最後に、図8に示す第3のエッチング工程
においては、電極パッド44A〜44Fを形成した後
に、犠牲層46をエッチングによって除去し、各支持梁
27,振動板28等を基板22と離間した状態にする。
においては、電極パッド44A〜44Fを形成した後
に、犠牲層46をエッチングによって除去し、各支持梁
27,振動板28等を基板22と離間した状態にする。
【0048】本実施例による各角速度センサ21は上述
の如き構成を有するもので、次にその作動について説明
する。
の如き構成を有するもので、次にその作動について説明
する。
【0049】まず、各振動発生部35に対し振動駆動信
号を交互に印加すると、振動板28は静電引力により第
1の支持梁27を介してX軸方向となる図1中の矢示B
1 ,B2 方向に同じ振幅で振動する。この状態で、Y軸
周りに角速度ΩY が加わると、振動板28に対して図4
に示すコリオリ力FZ が角速度ΩY に比例してZ軸方向
に発生する。
号を交互に印加すると、振動板28は静電引力により第
1の支持梁27を介してX軸方向となる図1中の矢示B
1 ,B2 方向に同じ振幅で振動する。この状態で、Y軸
周りに角速度ΩY が加わると、振動板28に対して図4
に示すコリオリ力FZ が角速度ΩY に比例してZ軸方向
に発生する。
【0050】この結果、振動板28内の振動体32は第
2の支持梁31によりZ軸方向に変位するようになって
いるから、Z軸方向のコリオリ力FZ に比例した振幅の
振動を行う。このとき、この変位に応じて固定側の基板
側電極39と可動側の突起状電極41とは近接,離間を
繰返して電極間距離SV が変化するから、この変化を垂
直変位検出部43が静電容量の変化として検出する。こ
れにより、Y軸周りの角速度ΩY を検出することができ
る。
2の支持梁31によりZ軸方向に変位するようになって
いるから、Z軸方向のコリオリ力FZ に比例した振幅の
振動を行う。このとき、この変位に応じて固定側の基板
側電極39と可動側の突起状電極41とは近接,離間を
繰返して電極間距離SV が変化するから、この変化を垂
直変位検出部43が静電容量の変化として検出する。こ
れにより、Y軸周りの角速度ΩY を検出することができ
る。
【0051】また、振動板28をX軸方向に振動させた
状態で、Z軸周りに角速度ΩZ が図1に示すように加わ
ると、該振動板28に対して図4に示すコリオリ力FY
が角速度ΩZ に比例してY軸方向に発生する。この結
果、振動板28は振動体32と共に第1の支持梁27を
介して、基板22に対して前記コリオリ力FY に比例し
た振幅の振動をY軸方向に行う。このとき、この変位に
応じて可動側の突起状電極41は固定側の突起状電極3
7,38間でY軸方向に変位するから、垂直面37A,
41A間の電極間距離SH と、垂直面38A,41B間
の電極間距離SHがそれぞれ変化し、これらの変化を静
電容量の変化としてそれぞれ検出することにより、両者
の静電容量の変化の差分に基づいてZ軸周りの角速度Ω
Z を検出することができる。
状態で、Z軸周りに角速度ΩZ が図1に示すように加わ
ると、該振動板28に対して図4に示すコリオリ力FY
が角速度ΩZ に比例してY軸方向に発生する。この結
果、振動板28は振動体32と共に第1の支持梁27を
介して、基板22に対して前記コリオリ力FY に比例し
た振幅の振動をY軸方向に行う。このとき、この変位に
応じて可動側の突起状電極41は固定側の突起状電極3
7,38間でY軸方向に変位するから、垂直面37A,
41A間の電極間距離SH と、垂直面38A,41B間
の電極間距離SHがそれぞれ変化し、これらの変化を静
電容量の変化としてそれぞれ検出することにより、両者
の静電容量の変化の差分に基づいてZ軸周りの角速度Ω
Z を検出することができる。
【0052】なお、本実施例による水平変位検出部42
は、垂直面37A,41A間と、垂直面38A,41B
間の静電容量を検出するときに、突起状電極37,38
の上側(先端側)面と振動体32との間に存在する静電
容量も同時に検出する構成となっているが、この場合、
各突起状電極37と各突起状電極38とは上側面の総面
積が互いに等しくなるように形成し、各突起状電極37
の上側面と振動体32の間と、各突起状電極38の上側
面と振動体32の間の静電容量が互い等しくなるように
構成しているため、検出した垂直面37A,41A間の
静電容量と、垂直面38A,41B間の静電容量との差
分に基づいてZ軸周りの角速度ΩZ を検出することによ
り、これら突起状電極37,38の上側面と振動体32
との間の静電容量による影響を相殺し、補正するように
なっている。
は、垂直面37A,41A間と、垂直面38A,41B
間の静電容量を検出するときに、突起状電極37,38
の上側(先端側)面と振動体32との間に存在する静電
容量も同時に検出する構成となっているが、この場合、
各突起状電極37と各突起状電極38とは上側面の総面
積が互いに等しくなるように形成し、各突起状電極37
の上側面と振動体32の間と、各突起状電極38の上側
面と振動体32の間の静電容量が互い等しくなるように
構成しているため、検出した垂直面37A,41A間の
静電容量と、垂直面38A,41B間の静電容量との差
分に基づいてZ軸周りの角速度ΩZ を検出することによ
り、これら突起状電極37,38の上側面と振動体32
との間の静電容量による影響を相殺し、補正するように
なっている。
【0053】このように、本実施例による角速度センサ
21では、第1の支持梁27を介してX軸,Y軸方向に
変位可能に設けた振動板28に、第2の支持梁31を介
して振動体32をZ軸方向に変位可能に設け、振動体3
2は基板22に対してX軸,Y軸,Z軸の全ての方向に
変位するようにしたから、振動体32を振動板28と共
にX軸方向に振動させた状態で、Y軸周りに角速度ΩY
が加わったときには、Z軸方向に生ずるコリオリ力によ
って振動体32をZ軸方向に変位させることができ、Z
軸周りに角速度ΩZ が加わったときには、Y軸方向に生
ずるコリオリ力によって振動体32をY軸方向に変位さ
せることができる。
21では、第1の支持梁27を介してX軸,Y軸方向に
変位可能に設けた振動板28に、第2の支持梁31を介
して振動体32をZ軸方向に変位可能に設け、振動体3
2は基板22に対してX軸,Y軸,Z軸の全ての方向に
変位するようにしたから、振動体32を振動板28と共
にX軸方向に振動させた状態で、Y軸周りに角速度ΩY
が加わったときには、Z軸方向に生ずるコリオリ力によ
って振動体32をZ軸方向に変位させることができ、Z
軸周りに角速度ΩZ が加わったときには、Y軸方向に生
ずるコリオリ力によって振動体32をY軸方向に変位さ
せることができる。
【0054】従って、これらの変位量のうち、Z軸方向
の変位量は振動体32と基板22との間に設けた垂直変
位検出部43によって検出し、Y軸方向の変位量は振動
体32と基板22間に設けた水平変位検出部42によっ
て検出することにより、Y軸周りとZ軸周りの2軸周り
の角速度を検出することができる。
の変位量は振動体32と基板22との間に設けた垂直変
位検出部43によって検出し、Y軸方向の変位量は振動
体32と基板22間に設けた水平変位検出部42によっ
て検出することにより、Y軸周りとZ軸周りの2軸周り
の角速度を検出することができる。
【0055】さらに、固定側検出用電極36と可動側検
出用電極40とは、それぞれ凹凸状に形成し、電極36
と40の凹凸を基板22に水平な方向で離間した状態で
噛合するように交互に配設したから、この電極36と4
0のうち、Y軸方向で対向する2対の垂直面37A,4
1Aと38A,41Bとから水平変位検出部42を構成
でき、振動体32のY軸方向の変位量を電極板間距離S
H の変化として検出することができる。
出用電極40とは、それぞれ凹凸状に形成し、電極36
と40の凹凸を基板22に水平な方向で離間した状態で
噛合するように交互に配設したから、この電極36と4
0のうち、Y軸方向で対向する2対の垂直面37A,4
1Aと38A,41Bとから水平変位検出部42を構成
でき、振動体32のY軸方向の変位量を電極板間距離S
H の変化として検出することができる。
【0056】一方、前記電極36,40のうち、Z軸方
向で対向する基板側電極39と水平面41Cとから垂直
変位検出部43を構成でき、振動体32のZ軸方向の変
位量を電極板間距離SV の変化として検出することがで
きる。
向で対向する基板側電極39と水平面41Cとから垂直
変位検出部43を構成でき、振動体32のZ軸方向の変
位量を電極板間距離SV の変化として検出することがで
きる。
【0057】また、固定側検出用電極36を構成する各
突起状電極37,38と各基板側電極39と、可動側検
出用電極40を構成する各突起状電極41をX軸方向に
それぞれ伸長させて形成したから、水平変位検出部42
を構成する垂直面37Aと41A,垂直面38Aと41
Bと、垂直変位検出部43を構成する基板側電極39と
水平面41Cをそれぞれ十分な有効面積をもって対向さ
せることができ、変位検出部42,43による静電容量
の変化を大きくすることができ、高精度な検出を図るこ
とができる。
突起状電極37,38と各基板側電極39と、可動側検
出用電極40を構成する各突起状電極41をX軸方向に
それぞれ伸長させて形成したから、水平変位検出部42
を構成する垂直面37Aと41A,垂直面38Aと41
Bと、垂直変位検出部43を構成する基板側電極39と
水平面41Cをそれぞれ十分な有効面積をもって対向さ
せることができ、変位検出部42,43による静電容量
の変化を大きくすることができ、高精度な検出を図るこ
とができる。
【0058】かくして、本実施例による角速度センサ2
1では、Y軸周りとZ軸周りの2軸周りの角速度をそれ
ぞれ別個に高精度に検出することができるから、基板面
積および製造コストを増大させることなくセンサの性能
を大幅に向上することができる。例えば、車両の姿勢制
御装置等において複数方向の角速度の検出が必要な場合
でも、当該角速度センサ21は狭い占有面積であっても
容易に使用することができる。
1では、Y軸周りとZ軸周りの2軸周りの角速度をそれ
ぞれ別個に高精度に検出することができるから、基板面
積および製造コストを増大させることなくセンサの性能
を大幅に向上することができる。例えば、車両の姿勢制
御装置等において複数方向の角速度の検出が必要な場合
でも、当該角速度センサ21は狭い占有面積であっても
容易に使用することができる。
【0059】また、角速度センサ21はマイクロマシニ
ング技術を用いて形成され、例えばシリコンのエッチン
グ処理等によるパターニングによって第1の支持梁27
等の微細加工を行っているから、複雑な形状であっても
容易に高精度に形成することができ、2軸周りの角速度
を確実に検出することができる。
ング技術を用いて形成され、例えばシリコンのエッチン
グ処理等によるパターニングによって第1の支持梁27
等の微細加工を行っているから、複雑な形状であっても
容易に高精度に形成することができ、2軸周りの角速度
を確実に検出することができる。
【0060】なお、前記実施例では、振動発生手段とな
る振動発生部35に静電引力を利用したものを記載した
が、本発明はこれに限らず、例えば圧電材料等を用いて
振動を発生させるようにしてもよい。
る振動発生部35に静電引力を利用したものを記載した
が、本発明はこれに限らず、例えば圧電材料等を用いて
振動を発生させるようにしてもよい。
【0061】また、前記実施例では、振動体32のY
軸,Z軸方向における変位検出を同時に行うものとした
が、本発明はこれに限らず、Y軸,Z軸方向の変位検出
を時間的に交互に行うことにより、検出回路等を共有化
することもできる。
軸,Z軸方向における変位検出を同時に行うものとした
が、本発明はこれに限らず、Y軸,Z軸方向の変位検出
を時間的に交互に行うことにより、検出回路等を共有化
することもできる。
【0062】
【発明の効果】以上詳述した通り、請求項1に記載の発
明によれば、第2の振動体は第1の支持梁と第2の支持
梁を介して、基板に対しX軸,Y軸,Z軸方向に変位可
能に配設されているから、第2の振動体を第1の振動体
と共に振動発生手段によってX軸方向に振動させた状態
で、Y軸周りに加わった角速度により第2の振動体をZ
軸方向に変位させることができ、またZ軸周りに加わっ
た角速度により第2の振動体をY軸方向に変位させるこ
とができる。そして、これらの変位を変位検出手段によ
って別個に検出することにより、当該角速度センサはY
軸,Z軸周りの角速度をそれぞれ確実に検出することが
でき、少ないスペースに2軸周りの角速度を検出できる
角速度センサを構成でき、基板面積および製造コストを
低減すると共に、センサの性能を大幅に向上することが
できる。
明によれば、第2の振動体は第1の支持梁と第2の支持
梁を介して、基板に対しX軸,Y軸,Z軸方向に変位可
能に配設されているから、第2の振動体を第1の振動体
と共に振動発生手段によってX軸方向に振動させた状態
で、Y軸周りに加わった角速度により第2の振動体をZ
軸方向に変位させることができ、またZ軸周りに加わっ
た角速度により第2の振動体をY軸方向に変位させるこ
とができる。そして、これらの変位を変位検出手段によ
って別個に検出することにより、当該角速度センサはY
軸,Z軸周りの角速度をそれぞれ確実に検出することが
でき、少ないスペースに2軸周りの角速度を検出できる
角速度センサを構成でき、基板面積および製造コストを
低減すると共に、センサの性能を大幅に向上することが
できる。
【0063】また、請求項2に記載の発明によれば、第
2の振動体と基板との対向する垂直面によってY軸方向
変位検出手段を、第2の振動体と基板との対向する水平
面によってZ軸方向変位検出手段をそれぞれ構成したか
ら、Y軸方向変位検出手段は、Z軸周りに角速度が加わ
ったときに第2の振動体が基板に対してY軸方向に変位
すると、第2の振動体と基板との対向する垂直面間の離
間距離の変化を、第2の振動体の基板に対するY軸方向
の変位量として確実に検出することができ、検出したY
軸方向の変位に基づいてZ軸周りの角速度を高精度に検
出することができる。一方、Z軸方向変位検出手段は、
Y軸周りに角速度が加わったときに第2の振動体が基板
に対してZ軸方向に変位すると、第2の振動体と基板と
の対向する水平面間の離間距離の変化を、第2の振動体
の基板に対するZ軸方向の変位量として確実に検出する
ことができ、検出したZ軸方向の変位に基づいてY軸周
りの角速度を高精度に検出することができる。
2の振動体と基板との対向する垂直面によってY軸方向
変位検出手段を、第2の振動体と基板との対向する水平
面によってZ軸方向変位検出手段をそれぞれ構成したか
ら、Y軸方向変位検出手段は、Z軸周りに角速度が加わ
ったときに第2の振動体が基板に対してY軸方向に変位
すると、第2の振動体と基板との対向する垂直面間の離
間距離の変化を、第2の振動体の基板に対するY軸方向
の変位量として確実に検出することができ、検出したY
軸方向の変位に基づいてZ軸周りの角速度を高精度に検
出することができる。一方、Z軸方向変位検出手段は、
Y軸周りに角速度が加わったときに第2の振動体が基板
に対してZ軸方向に変位すると、第2の振動体と基板と
の対向する水平面間の離間距離の変化を、第2の振動体
の基板に対するZ軸方向の変位量として確実に検出する
ことができ、検出したZ軸方向の変位に基づいてY軸周
りの角速度を高精度に検出することができる。
【0064】そして、請求項3に記載の発明によれば、
基板上に固定側検出用電極を、第2の振動体に可動側検
出用電極をそれぞれ形成し、変位検出手段として、固定
側検出用電極と可動側検出用電極との間で互いの水平面
を対向させ、かつ互いの垂直面を対向させる構成とした
から、変位検出手段は、Z軸周りに加わった角速度をY
軸方向で対向する各垂直面間の離間距離の変化として高
精度に検出することができる。一方、変位検出手段は、
Y軸周りに加わった角速度をZ軸方向で対向する各水平
面間の離間距離の変化として高精度に検出することがで
きる。
基板上に固定側検出用電極を、第2の振動体に可動側検
出用電極をそれぞれ形成し、変位検出手段として、固定
側検出用電極と可動側検出用電極との間で互いの水平面
を対向させ、かつ互いの垂直面を対向させる構成とした
から、変位検出手段は、Z軸周りに加わった角速度をY
軸方向で対向する各垂直面間の離間距離の変化として高
精度に検出することができる。一方、変位検出手段は、
Y軸周りに加わった角速度をZ軸方向で対向する各水平
面間の離間距離の変化として高精度に検出することがで
きる。
【0065】さらに、請求項4に記載の発明によれば、
固定側検出用電極を突起状電極,基板側電極として基板
上に形成し、該突起状電極,基板側電極と対向するよう
に第2の振動体に形成した突起状電極により可動側検出
用電極を構成したから、固定側検出用電極の突起状電極
の側面と、可動側検出用電極の突起状電極の側面とをY
軸方向において対向させることができ、Z軸周りに加わ
った角速度を各側面間の離間距離の変化として確実に検
出することができる。一方、固定側検出用電極の基板側
電極と可動側検出用電極の突起状電極の水平面とをZ軸
方向において対向させることができ、Y軸周りに加わっ
た角速度を基板側電極と突起状電極の水平面との間の離
間距離の変化として確実に検出することができる。
固定側検出用電極を突起状電極,基板側電極として基板
上に形成し、該突起状電極,基板側電極と対向するよう
に第2の振動体に形成した突起状電極により可動側検出
用電極を構成したから、固定側検出用電極の突起状電極
の側面と、可動側検出用電極の突起状電極の側面とをY
軸方向において対向させることができ、Z軸周りに加わ
った角速度を各側面間の離間距離の変化として確実に検
出することができる。一方、固定側検出用電極の基板側
電極と可動側検出用電極の突起状電極の水平面とをZ軸
方向において対向させることができ、Y軸周りに加わっ
た角速度を基板側電極と突起状電極の水平面との間の離
間距離の変化として確実に検出することができる。
【図1】本実施例による角速度センサを示す斜視図であ
る。
る。
【図2】本実施例による角速度センサを上側から見た平
面図である。
面図である。
【図3】図1中の矢示III −III 方向の縦断面図であ
る。
る。
【図4】図3中の要部を拡大して示す縦断面図である。
【図5】角速度センサの製造工程に用いられるシリコン
基板に対し絶縁膜形成工程,電極形成工程により絶縁
膜,基板側電極を形成した状態を示す縦断面図である。
基板に対し絶縁膜形成工程,電極形成工程により絶縁
膜,基板側電極を形成した状態を示す縦断面図である。
【図6】図5による絶縁膜形成工程,電極形成工程に続
く第1のエッチング工程により、絶縁膜上に固定側検出
用電極の突起状電極等を形成した状態を示す縦断面図で
ある。
く第1のエッチング工程により、絶縁膜上に固定側検出
用電極の突起状電極等を形成した状態を示す縦断面図で
ある。
【図7】図6による第1のエッチング工程に続く第2の
エッチング工程により、犠牲層を挟んで可動部,固定部
等を形成した状態を示す縦断面図である。
エッチング工程により、犠牲層を挟んで可動部,固定部
等を形成した状態を示す縦断面図である。
【図8】図7による第2のエッチング工程に続く第3の
エッチング工程により、犠牲層を除去して各支持梁,振
動板等を基板側から離間させた状態を示す縦断面図であ
る。
エッチング工程により、犠牲層を除去して各支持梁,振
動板等を基板側から離間させた状態を示す縦断面図であ
る。
【図9】従来技術による角速度センサを示す斜視図であ
る。
る。
【図10】従来技術による角速度センサを上側から見た
平面図である。
平面図である。
【図11】図9中の矢示XI−XI方向の縦断面図である。
21 角速度センサ 22 基板 25 可動部 26 支持部 27 第1の支持梁 28 振動板 29 枠体(第1の振動体) 31 第2の支持梁 32 振動体(第2の振動体) 35 振動発生部(振動発生手段) 36 固定側検出用電極 37,38 突起状電極 37A,38A 垂直面 39 基板側電極(水平面) 40 可動側検出用電極 41 突起状電極 41A,41B 垂直面 41C 水平面 42 水平変位検出部(Y軸方向変位検出手段) 43 垂直変位検出部(Z軸方向変位検出手段)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−239339(JP,A) 特開 平5−248872(JP,A) 特開 平6−281665(JP,A) 特開 平5−312576(JP,A) 特開 平6−123631(JP,A) 特開 平6−123632(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01P 9/04 G01C 19/56
Claims (4)
- 【請求項1】 基板と、該基板に設けられた支持部と、
基端側が該支持部に設けられた第1の支持梁と、前記基
板の表面から離間した状態で該第1の支持梁の先端側に
設けられ、前記基板に対して水平なX軸,Y軸方向に変
位可能な第1の振動体と、基端側が該第1の振動体に設
けられた第2の支持梁と、前記基板の表面から離間した
状態で該第2の支持梁の先端側に設けられ、前記第1の
振動体と共に前記基板に対し水平なX軸,Y軸方向に変
位可能でかつ前記基板と垂直なZ軸方向に変位可能な第
2の振動体と、前記第1の振動体をX軸方向に振動させ
る振動発生手段と、該振動発生手段によって前記第1の
振動体にX軸方向の振動を与えている状態で、角速度に
よる第2の振動体が変位するときの変位量をY軸方向,
Z軸方向の2方向から検出する変位検出手段とから構成
してなる角速度センサ。 - 【請求項2】 前記変位検出手段は、第2の振動体と基
板との対向する垂直面によって該第2の振動体のY軸方
向の変位量を検出するY軸方向変位検出手段と、第2の
振動体と基板との対向する水平面によって該第2の振動
体のZ軸方向の変位量を検出するZ軸方向変位検出手段
とから構成してなる請求項1に記載の角速度センサ。 - 【請求項3】 前記変位検出手段は、前記基板上に形成
されて水平面と垂直面とを有する固定側検出用電極と、
該固定側検出用電極と離間した状態で対向して前記第2
の振動体に形成されて水平面と垂直面とを有する可動側
検出用電極とからなり、これら固定側検出用電極と可動
側検出用電極は前記基板の表面と平行にX軸方向に伸長
して形成してなる請求項1または2に記載の角速度セン
サ。 - 【請求項4】 前記固定側検出用電極は、それぞれ離間
した状態で前記基板上に形成された少なくとも一対の突
起状電極と、該各突起状電極間に位置した基板上に形成
された基板側電極とからなり、前記可動側検出用電極
は、前記各突起状電極,基板側電極と対向するように前
記第2の振動体に形成された突起状電極とから構成して
なる請求項3に記載の角速度センサ。
Priority Applications (1)
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JP30846095A JP3307200B2 (ja) | 1995-11-01 | 1995-11-01 | 角速度センサ |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30846095A JP3307200B2 (ja) | 1995-11-01 | 1995-11-01 | 角速度センサ |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09127148A JPH09127148A (ja) | 1997-05-16 |
JP3307200B2 true JP3307200B2 (ja) | 2002-07-24 |
Family
ID=17981297
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30846095A Expired - Fee Related JP3307200B2 (ja) | 1995-11-01 | 1995-11-01 | 角速度センサ |
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JP3882972B2 (ja) * | 1998-06-18 | 2007-02-21 | アイシン精機株式会社 | 角速度センサ |
JP3882973B2 (ja) | 1998-06-22 | 2007-02-21 | アイシン精機株式会社 | 角速度センサ |
JP4075022B2 (ja) * | 1998-06-24 | 2008-04-16 | アイシン精機株式会社 | 角速度センサ |
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JP4635345B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2011-02-23 | 株式会社村田製作所 | 角速度センサ |
JP4134853B2 (ja) | 2003-09-05 | 2008-08-20 | 株式会社デンソー | 容量式力学量センサ装置 |
JP5037819B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2012-10-03 | ソニー株式会社 | 電子機器 |
JP2008119818A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-29 | Seiko Epson Corp | Memsデバイスおよびその製造方法 |
JP4737140B2 (ja) | 2006-10-20 | 2011-07-27 | セイコーエプソン株式会社 | Memsデバイスおよびその製造方法 |
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JP6471467B2 (ja) * | 2014-11-13 | 2019-02-20 | 株式会社デンソー | 力学量センサ |
-
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