JP3302947B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP3302947B2
JP3302947B2 JP18978399A JP18978399A JP3302947B2 JP 3302947 B2 JP3302947 B2 JP 3302947B2 JP 18978399 A JP18978399 A JP 18978399A JP 18978399 A JP18978399 A JP 18978399A JP 3302947 B2 JP3302947 B2 JP 3302947B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、特に、ゲートアレイあるいはセルベースIC方式
の半導体集積回路におけるフリップフロップのクロック
信号線に、シールド領域を設けた半導体集積回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体集積回路の小型化および微
細化が進むにつれて、配線幅が細くなり、かつ、配線の
間隔が狭くなってきたために、信号線(主に、ノイズの
影響を受けやすいクロック信号線)にシールド領域を設
ける半導体集積回路が提案され実用化されている。例え
ば、従来は全く問題にならなかったASIC(特定用途
向け半導体集積回路)においても、クロック信号線にシ
ールド領域を設けている。このシールド領域は、一般的
に、クロック信号線の周囲にシールド配線を設けること
により、隣接するクロック信号線にクロストーク(伝
播)によるノイズが発生することを防止する領域であ
る。
【0003】従来、このような半導体集積回路に関し、
特開平1−248641号にて、シールド配線にGND
電位配線を用いた技術が提案されている。この従来例の
技術について、図面を参照して説明する。
【0004】図7は、従来例における半導体集積回路の
要部の概略レイアウト図を示している。同図において、
1bはゲートアレイあるいはセルベースIC方式の半導
体集積回路であり、GND線7とVDD線8を隣接して
一組の電源ラインとして格子状に配線し、このライン上
に、スキャン用フリップフロップ30,クロックバッフ
ァ40及びスキャンバッファ50が配設され、さらに、
クロック信号線4,スキャン信号線5及びGND電位配
線9を設けた構成としてある。
【0005】ここで、GND電位配線9は、クロック信
号線4の周囲を取り囲むように配線してある。このよう
に配線されたGND電位配線9は、シールド配線であ
り、ロック信号線4にクロストークによるノイズが発生
することを防止している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
の半導体集積回路1bにおいては、クロック信号線4の
周囲を取り囲むようにGND電位配線9を設けるため
に、クロック信号線4の配線領域は、クロック信号線4
とその両側のGND電位配線9を含めた広い配線領域が
必要となり、クロストークによるノイズが発生しないよ
うにクロック信号線4を配線するには、広い配線領域を
必要とした。
【0007】ところが、半導体集積回路が小型化および
微細化するにつれて、配線領域が狭くなり、従来例の広
い配線領域を必要とするGND電位配線9を用いた技術
では、配線の難易度が高くなり、当初の配線領域では全
ての配線を行なうことができずに、配線領域を広くして
再度配線をやり直すといった問題があった。
【0008】また、配線の難易度が高くなると、配線を
行なうための処理時間が増え、さらに、半導体集積回路
のサイズを大きくしたような場合には、製造コストも増
加し、半導体集積回路の価格の上昇を引き起こすという
問題があった。
【0009】本発明は、上記の問題を解決すべくなされ
たものであり、クロック信号配線を、GND線またはV
DD線のいずれか一方の線とスキャン信号線とで取り囲
むように配線することにより、クロック信号線にクロス
トークによるノイズが発生することを防止するととも
に、クロック信号線の配線領域を省スペース化し、配線
の難易度が低く、廉価な半導体集積回路の提供を目的と
する。
【0010】また、本発明に関連する技術として、特開
平09−148444号公報において開示されている多
層配線半導体集積回路装置の技術がある。しかし、この
技術は、半導体集積回路装置の多層配線層において、各
配線層を90度と45度の角度に配置する技術であり、
本発明の課題を解決することはできない。
【0011】また、本発明に関連する技術として、特開
平06−291189号公報において開示されているゲ
ートアレイの技術がある。しかし、この技術は、ECL
(バイポーラトランジスタ)基本領域の信号線を接地線
で挟む技術であり、本発明の課題を解決することはでき
ない。
【0012】また、本発明に関連する技術として、特開
平04−253371号公報において開示されているマ
スタスライス方式の半導体集積回路装置の技術がある。
しかし、この技術は、配線層の配線を除く領域にシール
ド部を設ける技術であり、本発明の課題を解決すること
はできない。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明における請求項1記載の半導体集積回路は、
ゲートアレイあるいはセルベースIC方式の半導体集積
回路において、GND線と平行かつ隣接して配線された
クロック信号線と、このクロック信号線と平行に、か
つ、前記GND線の反対側に隣接して配線されたスキャ
ン信号線とを具備した構成としてある。
【0014】これにより、クロック信号線は、電源ライ
ンのGND線とスキャン信号線によりシールドされるの
で、従来例のように新たなGND電位配線を配線する必
要がなくなり、配線領域を省スペース化することができ
る。
【0015】本発明における請求項2記載の半導体集積
回路は、ゲートアレイあるいはセルベースIC方式の半
導体集積回路において、VDD線と平行かつ隣接して配
線されたクロック信号線と、このクロック信号線と平行
に、かつ、前記VDD線の反対側に隣接して配線された
スキャン信号線とを具備した構成としてある。
【0016】これにより、クロック信号線は、電源ライ
ンのVDD線とスキャン信号線によりシールドされるの
で、従来例のように新たなGND電位配線を配線する必
要がなくなり、配線領域を省スペース化することができ
る。
【0017】
【0018】特に、信号線のなかでも、クロストークに
よりノイズが発生しやすいクロック信号線を効果的にシ
ールドすることができるとともに、通常、長い配線とな
るクロック信号線の配線領域を省スペース化することが
できるので、他の配線領域を十分確保することができ、
配線の難易度を低くすることができる。
【0019】請求項記載の発明は、上記請求項1また
は2に記載の半導体集積回路において、クロックバッフ
ァとスキャンバッファは、隣接して形成されたファンク
ションブロックとして配設され、このクロックバッファ
とスキャンバッファの入出力端子は、同一方向に突設し
てあり、かつ、スキャンバッファの入出力端子は、クロ
ックバッファの入出力端子より外側に形成された構成と
してある。
【0020】これにより、クロックバッファの入出力端
子と接続するクロック信号線を、GND線またはVDD
線のいずれか一方の線とスキャン信号線とで取り囲むよ
うに、スキャン信号線を容易に配線することができる。
【0021】請求項記載の発明は、上記請求項1〜3
のいずれかに記載の半導体集積回路において、スキャン
用フリップフロップは、クロック入力端子とスキャン切
り替え信号端子が同一方向に突設してあり、かつ、スキ
ャン切り替え信号端子はクロック入力端子より外側に形
成された構成としてある。
【0022】これにより、スキャン用フリップフロップ
のクロック入力端子と接続するクロック信号線をGND
線またはVDD線のいずれか一方の線とスキャン信号線
とで取り囲むように、スキャン信号線を容易に配線する
ことができる。
【0023】請求項記載の発明は、上記請求項に記
載の半導体集積回路において、前記スキャン用フリップ
フロップは、前記スキャン切り替え信号の遅延回路を有
する構成としてある。
【0024】このようにすると、クロック信号線の信号
がスキャン信号線のスキャン切り替え信号にクロストー
クし、スキャン切り替え信号にノイズが乗る場合であっ
ても、スキャン切り替え信号に乗ったノイズは遅延回路
により遅延されるので、スキャン用フリップフロップは
誤動作することなく正常に動作する。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第一実施形態に係
る半導体集積回路について、図面を参照して説明する。
図1は、第一実施形態における半導体集積回路の要部の
概略レイアウト図を示している。同図において、1は半
導体集積回路であり、GND線7とVDD線8を隣接し
て一組の電源ラインとして格子状に配線され、このライ
ン上に、スキャン用フリップフロップ30,クロックバ
ッファ40及びスキャンバッファ50が配設され、さら
に、クロック信号線4及びスキャン信号線5を配線した
構成としてある。
【0026】半導体集積回路1は、ゲートアレイあるい
はセルベースIC方式の半導体集積回路であり、GND
線7とVDD線8からなるライン上に配設されたスキャ
ン用フリップフロップ30,クロックバッファ40及び
スキャンバッファ50は、クロック信号線4及びスキャ
ン信号線5で配線してある。
【0027】ここで、クロック信号線4は、GND線7
またはVDD線8と隣接して配線してある。このように
することにより、クロック信号線4の片側がGND線7
またはVDD線8によりシールドされるので、クロスト
−クによるノイズの発生をシールドされた片側について
防止することができる。
【0028】また、クロック信号線4のGND線7また
はVDD線8によりシールドされていない反対側には、
クロック信号線4と隣接してスキャン信号線5を配線し
てある。このようにすることにより、クロック信号線4
の反対側がスキャン信号線5によりシールドされるの
で、反対側についてもクロスト−クによるノイズの発生
を防止することができる。
【0029】つまり、クロック信号線4は、一方の片側
はGND線7またはVDD線8によりシールドされ、か
つ、もう一方の片側はクロック信号線4によりシールド
されるので、クロストークによるノイズの発生を効果的
に防止することができる。
【0030】さらに、クロック信号線4をシールドする
ために、例えば、従来例における半導体集積回路1bの
GND電位配線9のように、シールド専用の配線を新た
に配線していないので、クロック信号線4の配線領域を
省スペース化することができる。
【0031】上述したように、ゲートアレイあるいはセ
ルベースIC方式の半導体集積回路1におけるクロック
信号線4を、スキャン信号線5とGND線7またはVD
D線8で取り囲むように配線することにより、クロック
信号線4の両側に、シールド専用の配線領域を確保する
必要がないので、ゲートアレイあるいはセルベースIC
方式の半導体集積回路1の配線領域が大幅に増えるとい
う効果が得られる。これにより、配線の難易度を低くす
ることができ、容易に配線を行うことができるととも
に、配線を行なうための処理時間が低減され、廉価な半
導体集積回路を提供することができる。
【0032】次に、第一実施形態に係る半導体集積回路
の第一実施例について、図面を参照して説明する。図2
は、第一実施例における半導体集積回路の要部の概略レ
イアウト図を示している。同図において、1aは半導体
集積回路であり、GND線7とVDD線8を隣接して一
組の電源ラインとして格子状に配線し、このライン上
に、スキャン用フリップフロップ31〜38,クロック
バッファ41〜43及びスキャンバッファ51〜53が
配設し、さらに、クロック信号線4及びスキャン信号線
5を配線した構成とした。
【0033】半導体集積回路1aは、一般に、大規模半
導体集積回路で用いられるクロックツリーシンセシス
(CTS)構造を有するレイアウト設計とした。ここ
で、クロックツリーシンセシス(適宜、CTSと総称す
る。)構造とすることにより、図3の半導体集積回路1
aの回路図が示すように、ツリー状に構成されたスキャ
ン用フリップフロップ31〜38がクロック信号線4に
より伝達されるクロック信号を分割して使用することが
できる。
【0034】一般的に、半導体集積回路1aを同期設計
する際、クロック信号線4から伝達されるクロック入力
信号は、クロックバッファ41およびクロックバッファ
42、43を介してスキャン用フリップフロップ31〜
38のクロック入力端子(C)に直接入力され、スキャ
ン用フリップフロップ31〜38は同じタイミングで動
作する。
【0035】したがって、クロックバッファ41の出力
からスキャン用フリップフロップ31〜38のクロック
入力端子(C)までの信号伝達時間が極力同じになるよ
うに、クロックバッファ41に対するクロックバッファ
42、43の位置と、クロックバッファ42、43に対
するスキャン用フリップフロップ31〜38位置を調整
し、クロックバッファ41の出力からスキャン用フリッ
プフロップ31〜38のクロック入力端子(C)までの
配線の長さをほぼ同じ長さとした。
【0036】スキャン用フリップフロップ31〜38
は、図4に示すように、クロック入力端子30aとスキ
ャン切り替え信号端子30bを有する構造とし、クロッ
ク入力端子30aはクロック信号線4と接続され、スキ
ャン切り替え信号端子30bはスキャン信号線5と接続
した。
【0037】クロック入力端子30aとスキャン切り替
え信号端子30bは、同じ方向に突設し、かつ、スキャ
ン切り替え信号端子30bをクロック入力端子30aよ
り外側に形成したことにより、クロック信号線4の外側
にスキャン信号線5を配線するのに都合が良く、また、
クロック信号線4のスキャン用フリップフロップ31〜
38側には、GND線7またはVDD線8が配線され
る。したがって、クロック信号線4およびスキャン信号
線5を複雑に配線しなくても、スキャン用フリップフロ
ップ31〜38のクロック入力端子30aと接続するク
ロック信号線4をGND線7またはVDD線8のいずれ
か一方の線とスキャン信号線5とで取り囲むように、ス
キャン信号線5を容易に配線することができた。
【0038】クロックバッファ41〜43とスキャンバ
ッファ51〜53は、図5に示すように、それぞれ隣接
して形成されたゲートアレイあるいはセルベースICの
一つのファンクションブロック(適宜、スキャン&クロ
ックバッファと総称する。)として配設した。クロック
バッファ41〜43は、それぞれ入力端子40a、出力
端子40bを有し、入力端子40a、出力端子40bは
クロック信号線4と接続し、スキャンバッファ51〜5
3は、それぞれ入力端子50a、出力端子50bを有
し、入力端子50a、出力端子50bはスキャン信号線
5と接続した。
【0039】また、このクロックバッファ41〜43の
入力端子40a、出力端子40bとスキャンバッファ5
1〜53の入力端子50a、出力端子50bは、同一方
向に突設し、かつ、スキャンバッファ51〜53の入出
力端子50a、50bを、クロックバッファ41〜43
の入出力端子40a、40bより外側に形成した。これ
により、クロック信号線4の外側にスキャン信号線5を
配線するのに都合が良く、また、クロック信号線4のク
ロックバッファ41〜43側には、GND線7またはV
DD線8が配線されているので、クロック信号線4およ
びスキャン信号線5を複雑に配線しなくても、クロック
信号線4をGND線7またはVDD線8のいずれか一方
の線とスキャン信号線5とで取り囲むように、スキャン
信号線5を容易に配線することができた。
【0040】ここで、GND線7またはVDD線8,ク
ロック信号線4及びスキャン信号線5は、同一の層に配
線可能なときは、同一の層に配線すると、配線構造が単
純化され、半導体集積回路1aの歩留まりを向上させる
ことができ、結果的に、廉価な半導体集積回路1aを提
供することができた。また、クロック信号線4が矩形と
なるようなときは、配線層を変えるためスルーホールを
用いて、配線層を変えて配線することは勿論である。
【0041】また、ゲートアレイあるいはセルベースI
Cにおいては、一般的に、ファンクションブロックは自
動配置処理されるが、スキャン&クロックバッファを他
のファンクションブロックよりも優先して配置すること
により、配線の難易度を低くすることができた。さらに
また、一般的に、ファンクションブロック間の信号線は
自動配線処理されるが、クロック信号線4とスキャン信
号線5を他の信号線よりも優先して配線することによ
り、配線の難易度を低くすることができた。
【0042】スキャン用フリップフロップ31〜38
は、図6に示す構成とした。同図において、スキャン用
フリップフロップ31〜38は、フリップフロップ30
c,セレクタ30d及び遅延回路30eを内蔵し、デー
タ入力線2,スキャン用データ入力線3,スキャン信号
線5及びクロック信号線4と接続する構成とした。
【0043】クロック信号線4はフリップフロップ30
cのクロック入力端子30fと接続し、スキャン切り替
え信号を伝達するスキャン信号線5は、遅延回路30e
を介して、セレクタ30dと接続した。また、データ入
力線2とスキャン用データ入力線3はセレクタ30dと
接続し、セレクタ30dはフリップフロップ30cのデ
ータ入力端子30gと接続した。ここで、遅延回路30
eの遅延量は、スキャン用フリップフロップ31〜38
のフリップフロップ30cが誤動作しない量とした。
【0044】このようにすることにより、クロック信号
線4の信号が、スキャン切り替え信号を伝達するスキャ
ン信号線5にクロストークすると、予期しないノイズ信
号がスキャン信号線5にクロストークし、スキャン用フ
リップフロップ31〜38のフリップフロップ30cの
データ入力端子36にノイズとして入る場合があるが、
遅延回路30eを設けることにより、このノイズ対策を
行うことができた。
【0045】つまり、クロック信号線4の信号がフリッ
プフロップ30cを動作するときに、スキャン切り替え
信号を伝達するスキャン信号線5にクロストークが発生
し、ノイズが乗ったとしても、このノイズは遅延回路3
0eを通らなければフリップフロップ30cに到達でき
ない。また、この遅延回路30eの遅延量は、フリップ
フロップ30cのクロック入力端子30fにクロック信
号が入力し、フリップフロップ30cの内部の状態を遷
移させ安定する時間より長い値とした。このようにする
ことにより、スキャン信号線5に乗ったノイズが、フリ
ップフロップ30cを誤動作させることを防止すること
ができた。
【0046】また、クロック信号線4は、第一実施形態
の半導体集積回路1と同様に、スキャン信号線5とGN
D線7またはVDD線8とで取り囲まれるように配線し
た。その他の構造および作用については、第一実施形態
の半導体集積回路1と同様としてある。
【0047】上述した第一実施例における半導体集積回
路1aは、スキャン用フリップフロップ31〜38のク
ロック入力端子30aとスキャン切り替え信号端子30
bを同じ方向に突設し、スキャン切り替え信号端子30
bをクロック入力端子30aより外側に形成することに
より、また、スキャン&クロックバッファを形成するこ
とにより、さらにまた、スキャン用フリップフロップ3
1〜38に遅延回路30eを形成することにより、クロ
ック信号線4の配線領域をより省スペース化するととも
に、スキャン用フリップフロップ31〜38の誤動作を
より完璧に防止することができた。
【0048】なお、本発明の半導体集積回路において、
クロストークが発生しても誤動作などの問題が発生しな
い信号線であれば、スキャン信号線の代わりに使用する
ことができることは勿論である。 また、配線の難易度が
低くなることにより、配線長や、配線のRC成分を均等
に配線することができるので、CTS構造を有する半導
体集積回路の遅延調整を容易に行うことができる。
【0049】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
クロック信号線をGND線またはVDD線とスキャン信
号線とで取り囲むことにより、シールド配線を設ける必
要がなく、シールド配線の領域を確保する必要がない。
したがって、その領域を他の配線領域として使用するこ
とができ、配線の難易度を低くすることができ、半導体
集積回路のチップサイズを小型化することが可能である
とともに、廉価な半導体集積回路を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、第一実施形態における半導体集積回路
の要部の概略レイアウト図を示している。
【図2】図2は、第一実施例における半導体集積回路の
要部の概略レイアウト図を示している。
【図3】図3は、第一実施例における半導体集積回路の
要部の回路図を示している。
【図4】図4は、第一実施例における半導体集積回路の
スキャン用フリップフロップの拡大模式図を示してい
る。
【図5】図5は、第一実施例における半導体集積回路の
クロックバッファとスキャンバッファの拡大模式図を示
している。
【図6】図6は、第一実施例における半導体集積回路の
スキャン用フリップフロップの拡大模式図を示してい
る。
【図7】図7は、従来例における半導体集積回路の要部
の概略レイアウト図を示している。
【符号の説明】
1 半導体集積回路 1a 半導体集積回路 1b 半導体集積回路 2 データ入力線 3 スキャン用データ入力線 4 クロック信号線 5 スキャン信号線 7 GND線 8 VDD線 9 GND電位配線 30 スキャン用フリップフロップ 30a クロック入力端子 30b スキャン切り替え信号端子 30c フリップフロップ 30d セレクタ 30e 遅延回路 30f クロック入力 30g データ入力端子 31〜38 スキャン用フリップフロップ 40 クロックバッファ 40a 入力端子 40b 出力端子 41〜43 クロックバッファ 50 スキャンバッファ 50a 入力端子 50b 出力端子 51〜53 スキャンバッファ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/822 H01L 27/04 H01L 21/82 H01L 27/118

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ゲートアレイあるいはセルベースIC方
    式の半導体集積回路において、 GND線と平行かつ隣接して配線されたクロック信号線
    と、 このクロック信号線と平行に、かつ、前記GND線の反
    対側に隣接して配線されたスキャン信号線とを具備した
    ことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 ゲートアレイあるいはセルベースIC方
    式の半導体集積回路において、 VDD線と平行かつ隣接して配線されたクロック信号線
    と、 このクロック信号線と平行に、かつ、前記VDD線の反
    対側に隣接して配線されたスキャン信号線とを具備した
    ことを特徴とする半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 上記請求項1または2に記載の半導体集
    積回路において、 クロックバッファとスキャンバッファは、隣接して形成
    されたファンクションブロックとして配設され、このク
    ロックバッファとスキャンバッファの入出力端子は、同
    一方向に突設してあり、かつ、スキャンバッファの入出
    力端子は、クロックバッファの入出力端子より外側に形
    成されたことを特徴とする半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 上記請求項1〜3のいずれかに記載の半
    導体集積回路において、 スキャン用フリップフロップは、クロック入力端子とス
    キャン切り替え信号端子が同一方向に突設してあり、か
    つ、スキャン切り替え信号端子はクロック入力端子より
    外側に形成されたことを特徴とする半導体集積回路。
  5. 【請求項5】 上記請求項に記載の半導体集積回路に
    おいて、 前記スキャン用フリップフロップは、前記スキャン切り
    替え信号の遅延回路を有することを特徴とする半導体集
    積回路。
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