JP3302332B2 - 露光装置及び画像形成装置 - Google Patents
露光装置及び画像形成装置Info
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/70—Testing, e.g. accelerated lifetime tests
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
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- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
- H10K71/211—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by selective transformation of an existing layer
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K71/40—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
- H10K71/421—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour using coherent electromagnetic radiation, e.g. laser annealing
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/321—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3]
- H10K85/324—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3] comprising aluminium, e.g. Alq3
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S257/00—Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes
- Y10S257/918—Light emitting regenerative switching device, e.g. light emitting scr arrays, circuitry
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は複写機、プリンタ等
の電子写真装置に用いる露光装置及び画像形成装置、特
に光プリンタヘッドに関するものである。
の電子写真装置に用いる露光装置及び画像形成装置、特
に光プリンタヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、感光体上に潜像を書き込むた
めの露光方式としてレーザービーム方式、ＬＥＤアレイ
方式などが中心となっている。
めの露光方式としてレーザービーム方式、ＬＥＤアレイ
方式などが中心となっている。
【０００３】しかしながら、レーザービーム方式の場
合、ポリゴンミラーやレンズ等の光学部品が必要となり
装置の小型化が難しく、また超高速化も難しいという問
題がある。
合、ポリゴンミラーやレンズ等の光学部品が必要となり
装置の小型化が難しく、また超高速化も難しいという問
題がある。
【０００４】また、ＬＥＤアレイ方式の場合は、基板が
高価であり、一枚の基板でアレイをつくれないため、切
り出したチップを並べる必要があるが、この際、チップ
間で発光特性が一致しないため、発光光量がチップ間で
異なるという問題があった。
高価であり、一枚の基板でアレイをつくれないため、切
り出したチップを並べる必要があるが、この際、チップ
間で発光特性が一致しないため、発光光量がチップ間で
異なるという問題があった。
【０００５】一般的には、各発光素子の発光特性のばら
つきを修正するため、ＬＥＤアレイを作成後に、全素子
の発光光量分布を測定して各発光素子に対応した光量補
正データを作成し、それに基づき駆動回路の光量補正回
路（例えば、電流補正／パルス幅補正等）により光量補
正が行われているが、駆動回路等が複雑になる等の問題
があった。
つきを修正するため、ＬＥＤアレイを作成後に、全素子
の発光光量分布を測定して各発光素子に対応した光量補
正データを作成し、それに基づき駆動回路の光量補正回
路（例えば、電流補正／パルス幅補正等）により光量補
正が行われているが、駆動回路等が複雑になる等の問題
があった。
【０００６】また、各素子に駆動回路を作成し、その駆
動回路中の薄膜抵抗基板をレーザートリミング等により
修正し、発光電流を最適化する方法も考えられるが、駆
動回路を共有化してコストダウンをする時分割駆動方式
には適応できないため、一般的には用いられなかった。
動回路中の薄膜抵抗基板をレーザートリミング等により
修正し、発光電流を最適化する方法も考えられるが、駆
動回路を共有化してコストダウンをする時分割駆動方式
には適応できないため、一般的には用いられなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題を解決し、高速、小型、低コスト、高精細であると
同時に、特殊な駆動回路を必要とせずに各発光素子の発
光光量のばらつきが是正された露光装置及び画像形成装
置、特に光プリンタヘッドを提供することを目的とす
る。
問題を解決し、高速、小型、低コスト、高精細であると
同時に、特殊な駆動回路を必要とせずに各発光素子の発
光光量のばらつきが是正された露光装置及び画像形成装
置、特に光プリンタヘッドを提供することを目的とす
る。
【０００８】本発明の露光装置は、基板上に、少なくと
も陽極層及び陰極層と、これらの間に挟持された一層ま
たは複数層の有機化合物層より構成される発光素子が複
数配列された発光体アレイを有する露光装置であって、
微少サイズに絞ったビームを発光面に直接照射し、有機
化合物層を変質させることにより、各発光素子の発光面
積が調整され、各発光素子の発光光量が均一化されてい
ることを特徴とする。また、本発明の画像形成装置は、
上記露光装置と、該露光装置により露光される感光体と
を少なくとも有することを特徴とする。
も陽極層及び陰極層と、これらの間に挟持された一層ま
たは複数層の有機化合物層より構成される発光素子が複
数配列された発光体アレイを有する露光装置であって、
微少サイズに絞ったビームを発光面に直接照射し、有機
化合物層を変質させることにより、各発光素子の発光面
積が調整され、各発光素子の発光光量が均一化されてい
ることを特徴とする。また、本発明の画像形成装置は、
上記露光装置と、該露光装置により露光される感光体と
を少なくとも有することを特徴とする。
【０００９】更に、本発明の画像形成装置は、露光装置
と、該露光装置により露光される感光体とを少なくとも
有し、前記露光装置が、基板上に、少なくとも陽極層及
び陰極層と、これらの間に挟持された一層または複数層
の有機化合物層より構成される発光素子が複数配列され
た発光体アレイを有する露光装置であって、発光光量の
高い発光素子の発光部の一部にエネルギービームを照射
して変質させ、発光を生じない暗部を形成することによ
り発光面積が減少されて各発光素子の発光光量が均一化
されており、かつ、該暗部が、該発光素子の前記感光体
に対する相対的移動方向と垂直な方向にエネルギービー
ムの照射位置を移動することにより形成されている露光
装置であることを特徴とする。
と、該露光装置により露光される感光体とを少なくとも
有し、前記露光装置が、基板上に、少なくとも陽極層及
び陰極層と、これらの間に挟持された一層または複数層
の有機化合物層より構成される発光素子が複数配列され
た発光体アレイを有する露光装置であって、発光光量の
高い発光素子の発光部の一部にエネルギービームを照射
して変質させ、発光を生じない暗部を形成することによ
り発光面積が減少されて各発光素子の発光光量が均一化
されており、かつ、該暗部が、該発光素子の前記感光体
に対する相対的移動方向と垂直な方向にエネルギービー
ムの照射位置を移動することにより形成されている露光
装置であることを特徴とする。
【００１０】このような構成をとることにより、高速、
小型、低コスト、高精細であると同時に、発光素子の発
光部の発光面積を調整又は減少することで各発光素子の
発光光量の均一化を図るため、光量補正のための特殊な
周辺駆動回路等を必要とせず、各発光素子の発光光量の
ばらつきを是正することが可能となる。
小型、低コスト、高精細であると同時に、発光素子の発
光部の発光面積を調整又は減少することで各発光素子の
発光光量の均一化を図るため、光量補正のための特殊な
周辺駆動回路等を必要とせず、各発光素子の発光光量の
ばらつきを是正することが可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を用いて詳細
に説明する。
に説明する。
【００１２】図１は本発明の露光装置である発光体アレ
イの一例を示す斜視図である。
イの一例を示す斜視図である。
【００１３】図１において、１は基板、３は陽極層、６
は陰極層、７は正孔輸送層４及び電子輸送層５より構成
される有機化合物層である。
は陰極層、７は正孔輸送層４及び電子輸送層５より構成
される有機化合物層である。
【００１４】図２は、基板１側から見た発光部の拡大図
であり、陽極層３と陰極層６との重なり部分が発光部８
となる。そして、陽極層３と陰極層６間に電圧を印加す
ることにより、発光部から発光が得られ、陽極層３又は
陰極層６の電極幅を変更することで、任意の大きさの発
光部を得ることが可能である。
であり、陽極層３と陰極層６との重なり部分が発光部８
となる。そして、陽極層３と陰極層６間に電圧を印加す
ることにより、発光部から発光が得られ、陽極層３又は
陰極層６の電極幅を変更することで、任意の大きさの発
光部を得ることが可能である。
【００１５】基板１としては、発光素子を表面に構成で
きるものであればよく、例えばソーダライムガラス等の
ガラス、樹脂フィルム等の透明絶縁性基板を用いるのが
好ましい。
きるものであればよく、例えばソーダライムガラス等の
ガラス、樹脂フィルム等の透明絶縁性基板を用いるのが
好ましい。
【００１６】陽極層３の材料としては仕事関数が大きな
ものが望ましく、例えばＩＴＯ、酸化錫、金、白金、パ
ラジウム、セレン、イリジウム、ヨウ化銅などを用いる
ことができる。一方、陰極層６の材料としては仕事関数
が小さなものが望ましく、例えばＭｇ／Ａｇ、Ｍｇ、Ａ
ｌ、Ｉｎあるいはこれらの合金等を用いることができ
る。
ものが望ましく、例えばＩＴＯ、酸化錫、金、白金、パ
ラジウム、セレン、イリジウム、ヨウ化銅などを用いる
ことができる。一方、陰極層６の材料としては仕事関数
が小さなものが望ましく、例えばＭｇ／Ａｇ、Ｍｇ、Ａ
ｌ、Ｉｎあるいはこれらの合金等を用いることができ
る。
【００１７】有機化合物層７は、一層構成であっても良
いし、複数層構成であっても良く、例えば図１に示すよ
うに、陽極層３から正孔が注入される正孔輸送層４、及
び陰極層６から電子が注入される電子輸送層５からな
り、正孔輸送層４と電子輸送層５のいずれかが発光層と
なる。また、蛍光体を含有する蛍光体層を正孔輸送層４
と電子輸送層５との間に設けても良い。また、混合一層
構成で正孔輸送層４，電子輸送層５，蛍光層を兼ねた構
成も可能である。
いし、複数層構成であっても良く、例えば図１に示すよ
うに、陽極層３から正孔が注入される正孔輸送層４、及
び陰極層６から電子が注入される電子輸送層５からな
り、正孔輸送層４と電子輸送層５のいずれかが発光層と
なる。また、蛍光体を含有する蛍光体層を正孔輸送層４
と電子輸送層５との間に設けても良い。また、混合一層
構成で正孔輸送層４，電子輸送層５，蛍光層を兼ねた構
成も可能である。
【００１８】正孔輸送層４としては、例えば、Ｎ，Ｎ’
−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル
−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（以
下ＴＰＤ）を用いることができ、その他にも下記の有機
材料を用いることができる。
−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル
−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（以
下ＴＰＤ）を用いることができ、その他にも下記の有機
材料を用いることができる。
【００１９】
【化１】
【００２０】
【化２】
【００２１】
【化３】
【００２２】
【化４】
【００２３】
【化５】
【００２４】また、例えばａ−Ｓｉ、ａ−ＳｉＣなどの
無機材料を用いてもよい。
無機材料を用いてもよい。
【００２５】電子輸送層５としては、例えば、トリス
（８−キノリノール）アルミニウム（以下Ａｌｑ3）を
用いることができ、その他にも下記の材料を用いること
ができる。
（８−キノリノール）アルミニウム（以下Ａｌｑ3）を
用いることができ、その他にも下記の材料を用いること
ができる。
【００２６】
【化６】
【００２７】
【化７】
【００２８】
【化８】
【００２９】
【化９】
【００３０】また、以下に示されているようなドーパン
ド色素を電子輸送層５、あるいは正孔輸送層４にドーピ
ングすることもできる。
ド色素を電子輸送層５、あるいは正孔輸送層４にドーピ
ングすることもできる。
【００３１】
【化１０】
【００３２】また、陽極層３と基板１との間に誘電層を
設けることが好ましい。誘電層は、ＳｉＯ2，ＳｉＯ等
屈折率の異なる層の積層により特定の波長の反射透過率
を高く（低く）することができる。あるいは単にハーフ
ミラーを使用することも可能である。
設けることが好ましい。誘電層は、ＳｉＯ2，ＳｉＯ等
屈折率の異なる層の積層により特定の波長の反射透過率
を高く（低く）することができる。あるいは単にハーフ
ミラーを使用することも可能である。
【００３３】各層の材料は、使用する感光ドラム等の感
光材料と感度のあったスペクトル発光をするものを選択
することが望ましい。
光材料と感度のあったスペクトル発光をするものを選択
することが望ましい。
【００３４】以下に、具体的な製造例について述べる。
【００３５】本例では、透明絶縁性の基板１としてガラ
ス基板を用いた。このガラス基板の両面を十分に洗浄す
る。
ス基板を用いた。このガラス基板の両面を十分に洗浄す
る。
【００３６】次に、基板１上に、ライン幅５０μｍ、ピ
ッチ８０μｍの金属マスクを被せて陽極層３としてＩＴ
Ｏをスパッタ法により１００ｎｍ形成する。
ッチ８０μｍの金属マスクを被せて陽極層３としてＩＴ
Ｏをスパッタ法により１００ｎｍ形成する。
【００３７】この際、全面成膜した後に通常のフォトリ
ソグラフ法によりエッチングし、所望のパターンを形成
してもよい。
ソグラフ法によりエッチングし、所望のパターンを形成
してもよい。
【００３８】次に、正孔輸送層４としてＴＰＤを、電子
輸送層５としてＡｌｑ3を順次真空蒸着法により５０ｎ
ｍずつ蒸着する。なお、蒸着時の真空度は２〜３×１０
-6Ｔｏｒｒであり、成膜速度は０．２〜０．３ｎｍ／ｓ
とした。
輸送層５としてＡｌｑ3を順次真空蒸着法により５０ｎ
ｍずつ蒸着する。なお、蒸着時の真空度は２〜３×１０
-6Ｔｏｒｒであり、成膜速度は０．２〜０．３ｎｍ／ｓ
とした。
【００３９】最後に、ライン幅８０μｍの金属マスクを
陽極層３と直交する様にして被せ、陰極層６としてＭｇ
とＡｇを１０：１の蒸着速度比で共蒸着し、Ｍｇ／Ａｇ
が１０／１の合金を２００ｎｍ形成する。このとき、成
膜速度は１ｎｍ／ｓとした。
陽極層３と直交する様にして被せ、陰極層６としてＭｇ
とＡｇを１０：１の蒸着速度比で共蒸着し、Ｍｇ／Ａｇ
が１０／１の合金を２００ｎｍ形成する。このとき、成
膜速度は１ｎｍ／ｓとした。
【００４０】このようにして得られた発光体アレイに駆
動用ドライバを接続し、陽極層であるＩＴＯ電極をプラ
ス、陰極層であるＭｇ／Ａｇ電極をマイナスにして直流
電圧を印加すると、ＩＴＯ電極とＭｇ／Ａｇ電極が交差
している部分から緑色の発光が得られ、セルホックレン
ズアレイを通して感光体面上に結像させることができ
る。
動用ドライバを接続し、陽極層であるＩＴＯ電極をプラ
ス、陰極層であるＭｇ／Ａｇ電極をマイナスにして直流
電圧を印加すると、ＩＴＯ電極とＭｇ／Ａｇ電極が交差
している部分から緑色の発光が得られ、セルホックレン
ズアレイを通して感光体面上に結像させることができ
る。
【００４１】尚、本例においては、３００ｄｐｉの発光
体アレイを作成したが、電極幅を変更することで、任意
の大きさの発光点を得ることが可能である。
体アレイを作成したが、電極幅を変更することで、任意
の大きさの発光点を得ることが可能である。
【００４２】図５は、以上の様に作製した発光体アレイ
の発光光量分布の一例を示すグラフである。図５に示す
ように、この例では、発光光量がアレイの中央部分で低
く、両端部で高くなるような傾向を示している。これは
おそらく有機化合物層を蒸着するときに、蒸着膜の膜厚
分布があり、中央部分に比較し端部で膜厚が薄くなって
しまったため、端部の発光部にかかる電界強度が中央に
比べて高くなり、発光光量が高くなってしまったためで
あると考えられる。蒸着装置の改良で発光光量分布の改
善を図ることも可能ではあるが、他の要因も重なり完全
に均一にできない場合がある。
の発光光量分布の一例を示すグラフである。図５に示す
ように、この例では、発光光量がアレイの中央部分で低
く、両端部で高くなるような傾向を示している。これは
おそらく有機化合物層を蒸着するときに、蒸着膜の膜厚
分布があり、中央部分に比較し端部で膜厚が薄くなって
しまったため、端部の発光部にかかる電界強度が中央に
比べて高くなり、発光光量が高くなってしまったためで
あると考えられる。蒸着装置の改良で発光光量分布の改
善を図ることも可能ではあるが、他の要因も重なり完全
に均一にできない場合がある。
【００４３】本発明においては、各発光素子の発光面積
の調整により、図６に示すように各発光素子の発光光量
が均一化されている。
の調整により、図６に示すように各発光素子の発光光量
が均一化されている。
【００４４】具体的には、まず各画素単位で発光させ、
すべての画素の光量を測定し、その測定データから、光
量の高い画素に関しては、画素の発光面積を減少させ、
各発光素子の発光光量を均一化する。
すべての画素の光量を測定し、その測定データから、光
量の高い画素に関しては、画素の発光面積を減少させ、
各発光素子の発光光量を均一化する。
【００４５】発光面積を減少させた発光部の一例を図７
に示す。
に示す。
【００４６】図７においては、基板側から微少サイズに
絞ったレーザービーム等により、発光面に直接ビームを
照射し、有機化合物層に熱または光エネルギーを与え、
有機化合物層を溶融／蒸発／分解等、変質させることに
より、発光しない暗部９を形成し、発光部１０の面積を
減少させている。この際、図７に示すように、感光体の
回転方向（図７の矢印方向）に対して垂直方向に走るラ
イン状の暗部９を形成することが、発光点が細ったり、
暗部形成による発光形状の変化が感光体上の潜像に影響
を与えることがなく好ましい。
絞ったレーザービーム等により、発光面に直接ビームを
照射し、有機化合物層に熱または光エネルギーを与え、
有機化合物層を溶融／蒸発／分解等、変質させることに
より、発光しない暗部９を形成し、発光部１０の面積を
減少させている。この際、図７に示すように、感光体の
回転方向（図７の矢印方向）に対して垂直方向に走るラ
イン状の暗部９を形成することが、発光点が細ったり、
暗部形成による発光形状の変化が感光体上の潜像に影響
を与えることがなく好ましい。
【００４７】発光面積を減少させた発光部の他の例を図
８に示す。
８に示す。
【００４８】本例においては、図７の方法と同様の方法
で暗部９を形成するが、発光点の形状変化を最小限とす
るために、スポット的に暗部９を形成している。本例に
よれば、、セルホックレンズアレイにより結像すること
で、ＳＬＡのＭＴＦ特性により、暗部９の影響がほとん
どなく感光体に結像される。
で暗部９を形成するが、発光点の形状変化を最小限とす
るために、スポット的に暗部９を形成している。本例に
よれば、、セルホックレンズアレイにより結像すること
で、ＳＬＡのＭＴＦ特性により、暗部９の影響がほとん
どなく感光体に結像される。
【００４９】発光面積を減少させた発光部の他の例を図
９に示す。
９に示す。
【００５０】本例においては、微小サイズに絞ったレー
ザービーム等により、発光面に直接ビームを照射し、陽
極層、陰極層の少なくとも一方に熱または光エネルギー
を与え、陽極層または陰極層を溶融／蒸発／酸化等、変
質または切断させることにより、暗部９を形成してい
る。特に、陽極層または陰極層を切断することにより、
完全に発光部分をトリミングすることが可能であり、よ
り確実に発光面積を減少させることができる。
ザービーム等により、発光面に直接ビームを照射し、陽
極層、陰極層の少なくとも一方に熱または光エネルギー
を与え、陽極層または陰極層を溶融／蒸発／酸化等、変
質または切断させることにより、暗部９を形成してい
る。特に、陽極層または陰極層を切断することにより、
完全に発光部分をトリミングすることが可能であり、よ
り確実に発光面積を減少させることができる。
【００５１】本発明の画像形成装置の一例として、電子
写真方式を用いた画像形成装置の概略構成図を図３に示
す。
写真方式を用いた画像形成装置の概略構成図を図３に示
す。
【００５２】２１１は像担持体としての回転ドラム型の
電子写真感光体、２１２は帯電手段、２１３は現像手
段、２１４は転写手段、２１５は定着手段、２１６はク
リーニング手段である。
電子写真感光体、２１２は帯電手段、２１３は現像手
段、２１４は転写手段、２１５は定着手段、２１６はク
リーニング手段である。
【００５３】露光Ｌとしては、本発明の露光装置（不図
示）を用いる。露光装置には駆動用ドライバが接続さ
れ、陽極層をプラス、陰極層をマイナスにして直流電圧
を印加すると、発光部から緑色の発光が得られ、感光体
２１１上に結像させることができ、良好な画像を得るこ
とができる。
示）を用いる。露光装置には駆動用ドライバが接続さ
れ、陽極層をプラス、陰極層をマイナスにして直流電圧
を印加すると、発光部から緑色の発光が得られ、感光体
２１１上に結像させることができ、良好な画像を得るこ
とができる。
【００５４】感光体２１１上を帯電手段２１２により一
様に帯電する。この感光体２１１の帯電面に対して出力
される目的の画像情報の時系列電気デジタル画素信号に
対応して露光装置による露光Ｌがなされ、感光体２１１
の周面に対して目的の画像情報に対応した静電潜像が形
成される。その静電潜像は絶縁トナーを用いた現像手段
２１３によりトナー像として現像される。一方、給紙部
（不図示）から記録材としての転写材ｐが供給されて、
感光体２１１と、これに所定の押圧力で当接させた接触
転写手段との圧接ニップ部（転写部）Ｔに所定のタイミ
ングにて導入され、所定の転写バイアス電圧を印加して
転写を行う。
様に帯電する。この感光体２１１の帯電面に対して出力
される目的の画像情報の時系列電気デジタル画素信号に
対応して露光装置による露光Ｌがなされ、感光体２１１
の周面に対して目的の画像情報に対応した静電潜像が形
成される。その静電潜像は絶縁トナーを用いた現像手段
２１３によりトナー像として現像される。一方、給紙部
（不図示）から記録材としての転写材ｐが供給されて、
感光体２１１と、これに所定の押圧力で当接させた接触
転写手段との圧接ニップ部（転写部）Ｔに所定のタイミ
ングにて導入され、所定の転写バイアス電圧を印加して
転写を行う。
【００５５】トナー画像の転写をうけた転写材Ｐは感光
体２１１の面から分離されて熱定着方式等の定着手段２
１５へ導入されてトナー画像の定着をうけ、画像形成物
（プリント）として装置外へ排出される。また転写材Ｐ
に対するトナー画像転写後の感光体面はクリーニング手
段２１６により残留トナー等の付着汚染物の除去をうけ
て清掃され繰り返して作像に供される。
体２１１の面から分離されて熱定着方式等の定着手段２
１５へ導入されてトナー画像の定着をうけ、画像形成物
（プリント）として装置外へ排出される。また転写材Ｐ
に対するトナー画像転写後の感光体面はクリーニング手
段２１６により残留トナー等の付着汚染物の除去をうけ
て清掃され繰り返して作像に供される。
【００５６】本発明の画像形成装置の他の例として、電
子写真方式を用いた多色画像形成装置の概略構成図を図
４に示す。
子写真方式を用いた多色画像形成装置の概略構成図を図
４に示す。
【００５７】Ｃ１〜Ｃ４は帯電手段、Ｄ１〜Ｄ４は現像
手段、Ｅ１〜Ｅ４は本発明の露光手段、Ｓ１〜Ｓ４は現
像スリーブ、Ｔ１〜Ｔ４は転写ブレード、ＴＲ１〜ＴＲ
２はローラ、ＴＦ１は転写ベルト、Ｐは転写紙、Ｆ１は
定着器、３０１〜３０４は回転ドラム型の電子写真感光
体である。
手段、Ｅ１〜Ｅ４は本発明の露光手段、Ｓ１〜Ｓ４は現
像スリーブ、Ｔ１〜Ｔ４は転写ブレード、ＴＲ１〜ＴＲ
２はローラ、ＴＦ１は転写ベルト、Ｐは転写紙、Ｆ１は
定着器、３０１〜３０４は回転ドラム型の電子写真感光
体である。
【００５８】転写紙Ｐは矢印方向に搬送され、ローラＴ
Ｒ１、ＴＲ２に懸架された転写ベルトＴＦ１上に導か
れ、転写ベルトＴＦ１により感光体３０１と転写ブレー
ドＴ１に挟持されるように設定されたブラック転写位置
へと移動する。この時、感光体３０１はドラム周上に配
置された、帯電手段Ｃ１、露光手段Ｅ１、現像手段Ｄ１
の現像スリーブＳ１により電子写真プロセスにより所望
のブラックのトナー画像を有していて、転写紙Ｐにブラ
ックトナー画像の転写が行われる。
Ｒ１、ＴＲ２に懸架された転写ベルトＴＦ１上に導か
れ、転写ベルトＴＦ１により感光体３０１と転写ブレー
ドＴ１に挟持されるように設定されたブラック転写位置
へと移動する。この時、感光体３０１はドラム周上に配
置された、帯電手段Ｃ１、露光手段Ｅ１、現像手段Ｄ１
の現像スリーブＳ１により電子写真プロセスにより所望
のブラックのトナー画像を有していて、転写紙Ｐにブラ
ックトナー画像の転写が行われる。
【００５９】転写紙Ｐは転写ベルトＴＦ１により、感光
体３０２と転写ブレードＴ２に挟持されるように設定さ
れたシアン転写位置、感光体３０３と転写ブレードＴ３
に挟持されるように設定されたマゼンタ転写位置、感光
体３０４と転写ブレードＴ４に挟持されるように設定さ
れたイエロー転写位置へと移動し、それそれの転写位置
で、ブラック転写位置と同様の手段により、シアントナ
ー画像、マゼンタトナー画像、イエロートナー画像の転
写が行われる。
体３０２と転写ブレードＴ２に挟持されるように設定さ
れたシアン転写位置、感光体３０３と転写ブレードＴ３
に挟持されるように設定されたマゼンタ転写位置、感光
体３０４と転写ブレードＴ４に挟持されるように設定さ
れたイエロー転写位置へと移動し、それそれの転写位置
で、ブラック転写位置と同様の手段により、シアントナ
ー画像、マゼンタトナー画像、イエロートナー画像の転
写が行われる。
【００６０】この時、各感光体３０１〜３０４が良好な
回転を行っているので、各記録間では、画像のレジスト
レーションが良好に行える。以上のプロセスにより多色
記録を行った転写紙Ｐは定着器Ｆ１に供給され定着を行
い所望の多色画像を得ることができる。
回転を行っているので、各記録間では、画像のレジスト
レーションが良好に行える。以上のプロセスにより多色
記録を行った転写紙Ｐは定着器Ｆ１に供給され定着を行
い所望の多色画像を得ることができる。
【００６１】以上説明したように、本発明によれば、発
光素子の発光部の発光面積を調整又は減少することで各
発光素子の発光光量の均一化を図るため、光量補正のた
めの特殊な周辺駆動回路等を必要とせず、各発光素子の
発光光量のばらつきを是正することが可能となる。
光素子の発光部の発光面積を調整又は減少することで各
発光素子の発光光量の均一化を図るため、光量補正のた
めの特殊な周辺駆動回路等を必要とせず、各発光素子の
発光光量のばらつきを是正することが可能となる。
【００６２】また、本発明によれば、簡易かつ高精度な
光量補正が可能となるため、特に発光画素数を増やして
高密度化した場合に、ますます有効となる。
光量補正が可能となるため、特に発光画素数を増やして
高密度化した場合に、ますます有効となる。
【図１】本発明の露光装置の一例を示す斜視図である。
【図２】図１の露光装置を基板側から見た、発光部の拡
大図である。
大図である。
【図３】本発明の画像形成装置の一例を示す概略構成図
である。
である。
【図４】本発明の画像形成装置の他の例を示す概略構成
図である。
図である。
【図５】発光面積の調整前の露光装置の発光光量分布の
一例を示すグラフである。
一例を示すグラフである。
【図６】本発明の露光装置の発光光量分布を示すグラフ
である。
である。
【図７】発光面積を減少させた発光部の一例を示す図で
ある。
ある。
【図８】発光面積を減少させた発光部の他の例を示す図
である。
である。
【図９】発光面積を減少させた発光部の他の例を示す図
である。
である。
１ 基板 ３ 陽極層 ４ 正孔輸送層 ５ 電子輸送層 ６ 陰極層 ７ 有機化合物層 ８ 発光部 ９ 暗部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｂ 33/26 (72)発明者 成田 泉 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−198873（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41J 2/44 B41J 2/45 B41J 2/455 H02B 33/10 - 33/26
Claims (8)
- 【請求項１】 基板上に、少なくとも陽極層及び陰極層
と、これらの間に挟持された一層または複数層の有機化
合物層より構成される発光素子が複数配列された発光体
アレイを有する露光装置であって、微少サイズに絞った
ビームを発光面に直接照射し、有機化合物層を変質させ
ることにより、各発光素子の発光面積が調整され、各発
光素子の発光光量が均一化されていることを特徴とする
露光装置。 - 【請求項２】 発光面積の調整が、発光光量の高い発光
素子の発光面積の減少であることを特徴とする請求項１
に記載の露光装置。 - 【請求項３】 発光光量の高い発光素子の発光部の一部
にエネルギービームを照射して変質させ、発光を生じな
い暗部を形成することにより発光面積が調整されている
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記暗部が、エネルギービームをスポッ
ト的に照射することにより形成されたスポット状の暗部
であることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。 - 【請求項５】 請求項１〜４に記載の露光装置と、該露
光装置により露光される感光体とを少なくとも有するこ
とを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項６】 前記露光装置が、発光光量の高い発光素
子の発光部の一部にエネルギービームを照射して変質さ
せ、発光を生じない暗部を形成することにより発光面積
が調整されており、かつ、該暗部が、該発光素子の前記
感光体に対する相対的移動方向と垂直な方向にエネルギ
ービームの照射位置を移動することにより形成されてい
る露光装置であることを特徴とする請求項５に記載の画
像形成装置。 - 【請求項７】 露光装置と、該露光装置により露光され
る感光体とを少なくとも有し、前記露光装置が、基板上
に、少なくとも陽極層及び陰極層と、これらの間に挟持
された一層または複数層の有機化合物層より構成される
発光素子が複数配列された発光体アレイを有する露光装
置であって、発光光量の高い発光素子の発光部の一部に
エネルギービームを照射して変質させ、発光を生じない
暗部を形成することにより発光面積が減少されて各発光
素子の発光光量が均一化されており、かつ、該暗部が、
該発光素子の前記感光体に対する相対的移動方向と垂直
な方向にエネルギービームの照射位置を移動することに
より形成されている露光装置であることを特徴とする画
像形成装置。 - 【請求項８】 微少サイズに絞ったビームを発光面に直
接照射し、陽極層、陰極層の少なくとも一方を変質また
は切断させることにより発光面積が減少されていること
を特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30050298A JP3302332B2 (ja) | 1998-10-22 | 1998-10-22 | 露光装置及び画像形成装置 |
| US09/420,390 US6344661B1 (en) | 1998-10-22 | 1999-10-19 | Light emitting element array, exposure device and image forming apparatus |
| DE69931456T DE69931456D1 (de) | 1998-10-22 | 1999-10-20 | Anordnung von lichtemittierenden Elementen, Verfahren zur Herstellung der Anordnung und Bilderzeugungsgerät |
| EP99308289A EP1009046B1 (en) | 1998-10-22 | 1999-10-20 | Light emitting element array, method of forming the array and image forming apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30050298A JP3302332B2 (ja) | 1998-10-22 | 1998-10-22 | 露光装置及び画像形成装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=17885598
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30050298A Expired - Fee Related JP3302332B2 (ja) | 1998-10-22 | 1998-10-22 | 露光装置及び画像形成装置 |
Country Status (4)
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| EP (1) | EP1009046B1 (ja) |
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| US6900590B2 (en) * | 2000-10-17 | 2005-05-31 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Organic electroluminescent device having non-continuous metal auxiliary electrodes |
| IL149824A (en) * | 2001-05-25 | 2007-12-03 | Michel Tramontana | A light emitting system and a device for its production |
| US7858403B2 (en) * | 2001-10-31 | 2010-12-28 | Cree, Inc. | Methods and systems for fabricating broad spectrum light emitting devices |
| US7515166B2 (en) | 2002-12-27 | 2009-04-07 | Seiko Epson Corporation | Line head and image forming apparatus using the same |
| JP2006269108A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Hitachi Displays Ltd | 有機発光表示装置及びその欠陥画素の修復方法 |
| JP4981371B2 (ja) * | 2006-06-28 | 2012-07-18 | ハリソン東芝ライティング株式会社 | 有機ｅｌ素子 |
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| US7955875B2 (en) * | 2008-09-26 | 2011-06-07 | Cree, Inc. | Forming light emitting devices including custom wavelength conversion structures |
| JP5604817B2 (ja) * | 2009-06-25 | 2014-10-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 発光素子、発光素子アレイ、露光ヘッド、露光装置、および画像形成装置 |
| CN110767831B (zh) * | 2018-12-28 | 2022-10-04 | 昆山国显光电有限公司 | 透明oled基板、显示面板、阵列基板、显示屏及显示装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| JPH0390370A (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-16 | Tokyo Electric Co Ltd | ラインヘッドの光出力調整方法 |
| US5475417A (en) | 1991-10-25 | 1995-12-12 | Rohm Co., Ltd. | LED array printhead and method of adjusting light luminance of same |
| JPH05330135A (ja) | 1992-05-29 | 1993-12-14 | Toshiba Corp | 画像形成装置 |
| US5482896A (en) | 1993-11-18 | 1996-01-09 | Eastman Kodak Company | Light emitting device comprising an organic LED array on an ultra thin substrate and process for forming same |
| JPH0890832A (ja) | 1994-09-27 | 1996-04-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | 発光素子アレイおよび光学ヘッド |
| US6111357A (en) * | 1998-07-09 | 2000-08-29 | Eastman Kodak Company | Organic electroluminescent display panel having a cover with radiation-cured perimeter seal |
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- 1998-10-22 JP JP30050298A patent/JP3302332B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 1999-10-19 US US09/420,390 patent/US6344661B1/en not_active Expired - Lifetime
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