JP2002151249A

JP2002151249A - 有機発光装置

Info

Publication number: JP2002151249A
Application number: JP2000338424A
Authority: JP
Inventors: Tatsuto Kawai; 達人川合; Kazunori Ueno; 和則上野
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2000-11-07
Filing date: 2000-11-07
Publication date: 2002-05-24

Abstract

(57)【要約】【課題】定められた受光面を照らす有機発光装置にお
いて、与えられた画像データに忠実な照度分布を受光面
に与えることのできる有機発光装置を提供すること。【解決手段】透光性基板１０上に、有機エレクトロル
ミネセンス素子が複数個形成され、定められた受光面を
照らす有機発光装置において、前記有機発光装置が照ら
す受光面に対して個々の前記有機エレクトロルミネセン
ス素子が一定信号入力時に与える放射照度で規定される
素子照度のばらつきを抑制するよう前記透光性基板を構
成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機やプリンタ
等の電子写真方式の画像形成装置における露光装置、あ
るいはディスプレイにおける発光装置、またあるいは画
像読み取り装置の原稿照明光源、等に利用される有機発
光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、微小な発光素子を複数配列し、各
素子の発光を個別に制御可能な発光装置は、ディスプレ
イ等の表示機器のパネルやバックライトとして、あるい
は複写機、プリンタ等の画像形成装置の内部の書き込み
ヘッドとして、あるいは画像読み取り装置の原稿照明光
源として用いられている。

【０００３】このような発光装置として、ＧａＡｓやＡ
ｌＩｎＧａＰのような無機半導体結晶からなるＬＥＤ
（ライト・エミッティング・ダイオード）を一次元的、
又は二次元的に配列したり、基板上にＺｎＳ等の無機材
料の薄膜を成膜し、それをパターニングして発光素子を
形成する等の手段で作られたものが広く用いられてい
る。

【０００４】ＬＥＤを用いたディスプレイ装置として
は、個々のＬＥＤを二次元的に配列して構成する数メー
トル角ほどの屋外大型ディスプレイ装置が実用化されて
いる。

【０００５】また、一つのＬＥＤ上に微小な発光部を多
数設けたものを一次元的に並べて構成された複写機、プ
リンタ等の画像形成装置の内部の書き込みヘッドも実用
化されている。

【０００６】しかしながら、個々のＬＥＤを配列する方
法は、装置の小型化が困難であったり、配列精度を上げ
ることが困難であったりという問題を有している。基板
上にＺｎＳ等の無機材料の薄膜を成膜し、それをパター
ニングして発光素子を形成する方法は、フォトリソグラ
フィ等の方法で高精度にパターニングが可能なため装置
の小型化に適し、上述の問題は少ないが、電子機器の設
計に都合のよい低電圧の直流で駆動できない等の問題が
ある。

【０００７】一方、近年、大面積の基板上に薄膜で形成
でき、かつ直流駆動可能な有機ＥＬ素子（有機エレクト
ロルミネセンス素子）が開発されてきている。そして上
述の問題を解決するため、有機ＥＬ素子を一次元的、又
は二次元的に配列した有機発光装置を前記発光装置とし
て用いることが提案されてきている。

【０００８】図７に典型的な有機ＥＬ素子の構成を示
す。１０は透光性基板、１１は第１電極、１２発光層、
１５は第２電極である。一般に発光層１２には単層、多
層構造のいずれも用いられているが、図７では二層構造
の例を示している。この場合、発光層１２は正孔輸送層
と電子輸送層からなるが、１３が正孔輸送層で１４が電
子輸送層の場合、第１電極１１は陽極で第２電極１５は
陰極である。１３が電子輸送層で１４が正孔輸送層の場
合には電極も逆となる。

【０００９】有機ＥＬ素子の陽極と陰極に電圧が印加さ
れると、陽極から正孔輸送層に注入された正孔と、陰極
から電子輸送層に注入された電子とが再結合し、発光を
生じる。

【００１０】このような有機ＥＬ素子で形成した微小な
発光部である画素を複数配列し、各画素の発光を個別に
制御可能な有機発光装置は、ディスプレイ等の表示機器
のパネルやバックライトとして、あるいは複写機、プリ
ンタ等の画像形成装置の内部の書き込みヘッドとして、
あるいは画像読み取り装置の原稿照明光源としてすでに
いろいろ提案されている。

【００１１】図８にこのような装置の一例として、有機
発光装置を用いたプリンタの概略構成図を示す。１１１
は像担持体であり、一般に回転ドラム型の電子写真感光
体が広く用いられている。１１２は帯電装置、１１３は
現像装置、１１４は転写装置、１１５は定着装置、１１
６はクリーニング装置である。１１７はプリンタヘッド
であり、１１８の有機発光装置と１１９のロッドレンズ
アレイを含む。１２０は転写体であり、多くの場合に紙
が用いられる。また、Ｓ1は定着装置１１５の電源回
路、Ｓ2は現像装置１１３の電源回路、Ｓ3は転写装置１
１４の電源回路である。

【００１２】像担持体１１１上を帯電装置１１２により
一様に帯電する。出力される画像情報の時系列電気デジ
タル画像信号の入力が、プリンタヘッド１１７によって
像担持体１１１に露光され、像担持体１１１上に目的の
画像情報に対応した静電潜像が形成される。その静電潜
像は絶縁トナーを用いた現像装置１１３によりトナー画
像として現像される。

【００１３】その後、像担持体１１１と、これに所定の
圧力で当接させた転写装置１１４との圧接ニップ部（転
写部）に、不図示の給紙部から記録媒体としての転写体
１２０が所定のタイミングにて導入され、所定の転写バ
イアス電圧を印加されトナー画像の転写をうける。トナ
ー画像の転写をうけた転写体１２０は熱定着方式等の定
着装置１１５へ導入されてトナー画像の定着をうけ、画
像形成物（印刷物）として装置外へ排出される。

【００１４】転写体１２０に対するトナー画像転写後の
像担持体１１１は、クリーニング装置１１６により残留
トナー等の付着汚染物を除去され、繰り返して作業に供
される。

【００１５】図９にプリンタヘッド１１７のより詳細な
構造を示す。２０２は発光部、２０３は駆動回路であ
る。また、２１０はロッドレンズアレイ１１９を構成す
るロッドレンズである。

【００１６】有機発光装置１１８は、透光性基板１０上
に複数の有機ＥＬ素子を一列に配置して形成された発光
部２０２と、これら発光部２０２を駆動する複数の駆動
用薄膜トランジスタよりなる駆動回路２０３からなる。
駆動回路２０３から入力された所定の駆動信号に応じて
有機発光装置の発光部２０２は発光し、発生光はロッド
レンズアレイ１１９を経て像担持体の表面を照らし、静
電潜像を形成する。

【００１７】有機発光装置は、ガラス等の透光性基板上
に、蒸着やスパッタ等の真空プロセスや、スピンコート
やディップコートのような塗布プロセス等を用いて、電
極となる金属やインジウム／スズ酸化物、有機発光層と
なる有機電子輸送材料や有機正孔輸送材料等を成膜、パ
ターニングすることによって得られる。充分大きな基板
を用いれば、有機発光装置全体を一枚の基板で作ること
が可能であり、従来のＬＥＤアレイのように切り出した
チップを並べるようなことは必要ない。従って、有機発
光装置をプリンタヘッドとして用いれば、レーザビーム
方式のようなポリゴンミラー等は不要で、ＬＥＤアレイ
方式のようなチップ間段差の問題も解決され、小型化、
高精細化及び低価格化が可能となる。

【００１８】なお、前記有機発光層とは、一種類以上の
有機物質を積層させ、そこに電流を流すと再結合による
発光を起こす構成をとった発光層を指す。

【００１９】図１０は有機発光装置１１８の駆動回路の
概念図である。２０４は第１薄膜トランジスタ（アドレ
ストランジスタ）、２０５はコンデンサ、２０６は第２
薄膜トランジスタ（駆動トランジスタ）である。

【００２０】ＢＬＫ１及びＢＬＫ２は各第１薄膜トラン
ジスタ２０４のソース部に接続された共通電極とその引
き出し線、ＭＴＸ１、ＭＴＸ２及びＭＴＸ３は各第１薄
膜トランジスタ２０４のゲート部に接続されたマトリク
ス電極である。

【００２１】図１１は、図１０に示した有機発光装置の
Ａ−Ａ'に沿う断面を示す図である。

【００２２】各有機ＥＬ素子の第１電極１１及び第２電
極１５を用いて有機発光層１２に電流を流すと、正孔と
電子の再結合によって、各有機ＥＬ素子がそれぞれ発光
する。この発生光は、透光性基板１０を通して外部に取
り出される。

【００２３】このとき各有機ＥＬ素子の発光強度は、基
本的には各有機ＥＬ素子の陽極と陰極に印加する電圧に
応じて、あるいは陽極から陰極に流す電流に応じて変化
する。これらの電圧や電流を、所望の画像データに応じ
て変化させれば、それに応じて各有機ＥＬ素子の発光強
度が変化し、その発生光がロッドレンズアレイを経て像
担持体の表面に照射され、所望の画像の静電潜像を像担
持体表面上に形成する。

【００２４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、形成される
画像の高品位化を求めると、形成したい画像のデータに
いかに忠実な静電潜像が得られるかが問題となってく
る。

【００２５】各有機ＥＬ素子の発光強度は、基本的には
上述のように画像データに基づいて個別に制御が可能で
あるが、各有機ＥＬ素子の有機発光層の各層の厚さや各
層間の界面の出来具合、あるいは、有機ＥＬ素子を駆動
するために設けられた駆動回路の特性等の、様々な要因
によって影響をうける。

【００２６】つまり、複数の有機ＥＬ素子のそれぞれを
全て発光強度が等しくなるように作成したつもりでも、
それぞれの有機ＥＬ素子の実際の発光強度が予想よりも
微妙に異なっている場合がある。

【００２７】その場合、そのような微妙な差異が原因と
なり、例えば均一な白なら白、黒なら黒、灰色なら灰
色、の画像を得ようとして均一な画像データによって駆
動しても、必ずしも均一な画像が得られない。すると例
えば電子写真式の画像形成装置であれば、紙や透明フィ
ルム等の上に表現される像（文字を含む）、あるいはデ
ィスプレイ等の画像形成装置であれば、表示画面に表現
される像（文字を含む）が表現したい像とは違ってくる
ことがある。

【００２８】このことは、単に文字や記号を出力するだ
けでなく、中間調を有した画像を高品位に出力しようと
する場合に特に問題になる。特に天然色画像を形成しよ
うとする場合は、画像データと実際に得られる画像の違
いが、イエロー、マゼンタ、シアン、クロ等の各色の濃
度の違いとなり、それが重ね合わされて天然色となる際
に色むらとなって現れる。これは非常に人間の目に付き
やすく、画像品位を落とす大きな要因となる。このよう
な場合に要求される忠実度は、一説には±３％以内とも
いわれている。

【００２９】このようなことは上述のプリンタ装置に限
らず、複写機等に使われる電子写真方式の画像形成装置
における露光装置、あるいはディスプレイにおける発光
装置、またあるいは画像読み取り装置の原稿照明光源等
の、有機発光装置を用いた装置に対しても生じる問題で
ある。

【００３０】本発明は、かかる課題に鑑みてなされたも
のであり、透光性基板と、透光性基板の一方の面に積層
して設けられた複数の有機ＥＬ素子とを有する有機発光
装置において、複数の有機ＥＬ素子の形成時には制御が
非常に困難なそれぞれの有機ＥＬ素子の発光強度のばら
つきを補い、高性能な有機発光装置を提供することを目
的とする。

【００３１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の請求項１に記載の発明は、透光性基板と、前記透光性
基板の一方の面に積層して設けられた複数の有機エレク
トロルミネセンス素子とを有し、定められた受光面を照
らす有機発光装置において、前記有機発光装置が照らす
前記受光面に対して個々の前記有機エレクトロルミネセ
ンス素子が一定信号入力時に与える放射照度で規定され
る素子照度のばらつきを補整する素子照度補整手段を有
すること、を特徴とする。

【００３２】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の有機発光装置において、前記素子照度補整手段は、前
記有機エレクトロルミネセンス素子から発せられる光で
規定される発生光に対する吸収の大きさが位置によって
異なる吸収制御層を構成要素として含む前記透光性基板
であること、を好ましい態様として含むものである。

【００３３】このような構成によれば、前記透光性基板
を前記素子照度補整手段として用いるため、少ない部品
点数で本発明の前記有機発光装置を作成する事ができ
る。

【００３４】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の有機発光装置において、前記吸収制御層の前記発生光
に対する吸収の大きさの位置による違いが、個々の前記
有機エレクトロルミネセンス素子が一定信号入力時に生
じる発光の強度の測定値に依らず、定まったパターンで
与えられていること、を好ましい態様として含むもので
ある。

【００３５】このような構成によれば、後述のようなあ
る一定のパターンで生じる前記有機エレクトロルミネセ
ンス素子の発光強度のばらつきに起因する素子照度のば
らつきを補整することができる前記透光性基板が、低コ
ストで作製可能となる。

【００３６】請求項４に記載の発明は、請求項２に記載
の有機発光装置において、前記吸収制御層の前記発生光
に対する吸収の大きさの位置による違いが、個々の前記
有機エレクトロルミネセンス素子が一定信号入力時に生
じる発光の強度の測定値に応じて与えられていること、
を好ましい態様として含むものである。

【００３７】このような構成によれば、後述のような製
作する前記有機発光装置毎にランダムに様子が異なる発
光強度のばらつきに起因する前記素子照度のばらつきを
補整することができる、前記透光性基板が作製可能とな
る。

【００３８】請求項５に記載の発明は、請求項３に記載
の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記透光
性基板の前記有機エレクトロルミネセンス素子が形成さ
れた面と反対側の面に、スクリーン印刷により吸収物質
を位置によって濃淡をつけて印刷することで形成されて
いること、を好ましい態様として含むものである。

【００３９】前記吸収物質とは、受光面に到達する前記
発生光のエネルギーを吸収や散乱などによって減衰させ
る物質を指す。

【００４０】このような構成によれば、前記有機エレク
トロルミネセンス素子からの前記発生光は、前記吸収制
御層に印刷された前記吸収物質の濃度に応じたエネルギ
ーの減衰を受けるため、前記素子照度のばらつきを補整
することができる、前記透光性基板が作製可能となる。
さらに、このような構成によれば、前記吸収制御層を容
易に、短時間で、低コストで形成することができる。

【００４１】請求項６に記載の発明は、請求項３に記載
の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記透光
性基板の前記有機エレクトロルミネセンス素子が形成さ
れた面と反対側の面に、荒さが位置によって異なる凹凸
をつけて形成されていること、を好ましい態様として含
むものである。

【００４２】このような構成によれば、前記吸収制御層
の散乱係数が位置によって異なることになり、所定の方
向に通過する光の強度が調節され、前記透光性基板から
所定方向に出射する光の強度によって影響を受ける前記
素子照度のばらつきを補整する事ができる。

【００４３】請求項７に記載の発明は、請求項３に記載
の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記吸収
制御層の内部に、前記吸収制御部を位置によって異なる
密度で分散させていること、を好ましい態様として含む
ものであり、請求項８に記載の発明は、請求項７に記載
の有機発光装置において、前記吸収制御部は、不透明粉
体又は金属イオン又は屈折率変化部分又は微小クラック
のうちの少なくともいずれか１つであること、を好まし
い態様として含むものである。

【００４４】前記吸収制御部とは、前記発生光のエネル
ギーを吸収や散乱などによって減衰させる部分を指す。

【００４５】前記屈折率変化部分とは、レーザの集光点
などを用いて故意に形成した、周囲の屈折率とは異なる
屈折率をもつ微小領域を指す。

【００４６】このような構成によれば、前記有機エレク
トロルミネセンス素子からの前記発生光は、前記吸収制
御層の内部に、位置によって異なる密度で分散している
前記吸収制御部によって、前記吸収制御部の密度に応じ
たエネルギーの減衰を受けるため、前記素子照度のばら
つきを補整することができる、前記透光性基板が作製可
能となる。

【００４７】請求項９に記載の発明は、請求項３に記載
の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記透光
性基板の前記有機エレクトロルミネセンス素子が形成さ
れた面と反対側の面に、インクジェット装置を用いてイ
ンク滴を位置によって濃淡をつけて付着することにより
形成されていること、を好ましい態様として含むもので
ある。

【００４８】このような構成によれば、前記有機エレク
トロルミネセンス素子からの前記発生光は、前記吸収制
御層にインクジェット装置を用いて位置によって濃淡を
つけて付着されたインク滴の濃度に応じたエネルギーの
減衰を受けるため、前記素子照度のばらつきを補整する
ことができる、前記透光性基板が作製可能となる。

【００４９】請求項１０に記載の発明は、請求項４に記
載の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記透
光性基板の前記有機エレクトロルミネセンス素子が形成
された面と反対側の面に、インクジェット装置を用いて
インク滴を位置によって濃淡をつけて付着することによ
り形成され、該濃淡は、それぞれの前記有機エレクトロ
ルミネセンス素子に対向する位置において前記有機エレ
クトロルミネセンス素子の発光の強度に比例した濃さを
与えていること、を好ましい態様として含むものであ
る。

【００５０】このような構成によれば、製作する前記有
機発光装置毎にランダムに有機エレクトロルミネセンス
素子の発光強度のばらつきが異なっていても、夫々の前
記有機発光装置に対して最適な吸収係数の分布をもつ前
記吸収制御層を容易に形成することができる。

【００５１】上記課題を解決するための請求項１１に記
載の発明は、透光性基板と、前記透光性基板の一方の面
に積層して設けられた複数の有機エレクトロルミネセン
ス素子とを有する有機発光装置において、個々の前記有
機エレクトロルミネセンス素子が一定信号入力時に発す
る光のうち、前記透光性基板の前記有機エレクトロルミ
ネセンス素子が形成された面と反対側の面から外部へ出
射する光の強度で規定される出射光強度のばらつきを補
整する光量分布均一手段を有することを特徴とする。

【００５２】請求項１２に記載の発明は、請求項１１に
記載の有機発光装置において、前記光量分布均一手段
は、前記有機エレクトロルミネセンス素子から発せられ
る光で規定される発生光に対する吸収の大きさが位置に
よって異なる吸収制御層を構成要素として含む前記透光
性基板であること、を好ましい態様として含むものであ
る。

【００５３】このような構成によれば、前記透光性基板
を前記光量分布均一手段として用いるため、少ない部品
点数で本発明の前記有機発光装置を作成する事ができ
る。

【００５４】請求項１３に記載の発明は、請求項１２に
記載の有機発光装置において、前記吸収制御層の前記発
生光に対する吸収の大きさの位置による違いが、個々の
前記有機エレクトロルミネセンス素子が一定信号入力時
に生じる発光の強度の測定値に依らず、定まったパター
ンで与えられていること、を好ましい態様として含むも
のである。

【００５５】このような構成によれば、後述のようなあ
る一定のパターンで生じる前記有機エレクトロルミネセ
ンス素子の発光強度のばらつきに起因する前記出射光強
度のばらつきを補整することができる前記透光性基板
が、低コストで作製可能となる。

【００５６】請求項１４に記載の発明は、請求項１２に
記載の有機発光装置において、前記吸収制御層の前記発
生光に対する吸収の大きさの位置による違いが、個々の
前記有機エレクトロルミネセンス素子が一定信号入力時
に生じる発光の強度の測定値に応じて与えられているこ
と、を好ましい態様として含むものである。

【００５７】このような構成によれば、後述のような製
作する前記有機発光装置毎にランダムに様子が異なる発
光強度のばらつきに起因する前記素子照度のばらつきを
補整することができる、前記透光性基板が作製可能とな
る。

【００５８】請求項１５に記載の発明は、請求項１３に
記載の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記
透光性基板の前記有機エレクトロルミネセンス素子が形
成された面と反対側の面に、スクリーン印刷により吸収
物質を位置によって濃淡をつけて印刷することで形成さ
れていること、を好ましい態様として含むものである。

【００５９】このような構成によれば、前記有機エレク
トロルミネセンス素子からの前記発生光は、前記吸収制
御層に印刷された吸収物質の濃度に応じたエネルギーの
減衰を受けるため、前記出射光強度のばらつきを補整す
ることができる、前記透光性基板が作製可能となる。さ
らに、このような構成によれば、前記吸収制御層を容易
に、短時間で、低コストで形成することができる。

【００６０】請求項１６に記載の発明は、請求項１３に
記載の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記
吸収制御層の内部に、吸収制御部を位置によって異なる
密度で分散させていること、を好ましい態様として含む
ものであり、請求項１７に記載の発明は、請求項１６に
記載の有機発光装置において、前記吸収制御部は、不透
明粉体又は金属イオン又は屈折率変化部分又は微小クラ
ックのうちの少なくともいずれか１つであること、を好
ましい態様として含むものである。

【００６１】このような構成によれば、前記有機エレク
トロルミネセンス素子からの前記発生光は、前記吸収制
御層の内部に、位置によって異なる密度で分散している
前記吸収制御部によって、前記吸収制御部の密度に応じ
たエネルギーの減衰を受けるため、前記出射光強度のば
らつきを補整することができる、前記透光性基板が作製
可能となる。

【００６２】請求項１８に記載の発明は、請求項１３に
記載の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記
透光性基板の前記有機エレクトロルミネセンス素子が形
成された面と反対側の面に、インクジェット装置を用い
てインク滴を位置によって濃淡をつけて付着することに
より形成されていること、を好ましい態様として含むも
のである。

【００６３】このような構成によれば、前記有機エレク
トロルミネセンス素子からの前記発生光は、前記吸収制
御層にインクジェット装置を用いて位置によって濃淡を
つけて付着されたインク滴の濃度に応じたエネルギーの
減衰を受けるため、前記出射光強度のばらつきを補整す
ることができる、前記透光性基板が作製可能となる。

【００６４】請求項１９に記載の発明は、請求項１４に
記載の有機発光装置において、前記吸収制御層は、前記
透光性基板の前記有機エレクトロルミネセンス素子が形
成された面と反対側の面に、インクジェット装置を用い
てインク滴を位置によって濃淡をつけて付着することに
より形成され、該濃淡は、それぞれの前記有機エレクト
ロルミネセンス素子に対向する位置において前記有機エ
レクトロルミネセンス素子の発光の強度に比例した濃さ
を与えていること、を好ましい態様として含むものであ
る。

【００６５】このような構成によれば、製作する前記有
機発光装置毎にランダムに有機エレクトロルミネセンス
素子の発光強度のばらつきが異なっていても、夫々の前
記有機発光装置に対して最適な吸収係数の分布をもつ前
記吸収制御層を容易に形成することができる。

【００６６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００６７】（実施の形態１）第１の実施の形態を説明
する。図１に本実施の形態の有機発光装置の概念図を示
す。１０は透光性基板、１１は第１電極、１２は有機発
光層、１５は第２電極である。また、２０は吸収物質な
どを故意に添加していない、透光性を持つ基板である透
明基板、２１は素子照度補正手段及び光量分布均一手段
の具体例である吸収制御層である。

【００６８】本実施の形態においては、透明基板２０の
有機ＥＬ素子が形成された面とは反対側に、吸収制御層
２１がスクリーン印刷により形成されている。該吸収制
御層２１には、吸収物質が基板中央部では濃度が低く、
基板周辺部では濃度が高く印刷してある。

【００６９】有機発光層を構成する、正孔輸送層や電子
輸送層等は、それぞれ真空蒸着により形成されている。
その際、真空装置内の蒸着斑により、各層の厚さは定ま
ったパターンの斑を有している。そのため例えば、基板
中央部近くに位置する有機ＥＬ素子では各層が比較的厚
く、基板周辺部近くに位置する有機ＥＬ素子では各層が
比較的薄く形成される傾向を示す場合がある。

【００７０】このような場合、各有機ＥＬ素子に同一電
圧がかかるように駆動した場合、基板中央部近くに位置
する有機ＥＬ素子では電流が流れにくいためにやや発光
強度が低くなり、基板周辺部近くに位置する有機ＥＬ素
子では電流が流れやすいためにやや発光強度が高くな
る。

【００７１】このような有機ＥＬ素子の発光強度のばら
つきが生じていても、本実施の形態のような構成で吸収
制御層を設けることによって、各有機ＥＬ素子からの発
生光は吸収制御層に印刷された吸収物質の濃度に応じた
エネルギーの減衰を受けるため、素子照度や出射光強度
のばらつきが補整され、画像データにより忠実な出力が
得られる。また、スクリーン印刷により吸収物質を濃淡
をつけて印刷する方法を用いることで、このような吸収
制御層を容易に、短時間で、低コストで形成することが
できることも長所の１つである。

【００７２】本実施の形態を含む、吸収制御層の前記発
生光に対する吸収の大きさの位置による違いを、個々の
前記有機ＥＬ素子が一定信号入力時に生じる発光の強度
の測定値に依らず、定まったパターンで与える形態にお
いても、実際に吸収制御層を形成する際には、まず有機
発光装置の生産に用いる条件下においてサンプルを生産
し、そのサンプルの発光強度の分布を測定し、それに応
じて吸収制御層に印刷する吸収物質の濃淡パターンや吸
収制御層に設ける凹凸のパターン等を決定するのが好ま
しい。以後の生産においては、そのパターンによって有
機発光装置の吸収制御層を形成すれば良い。また、量産
時に生産条件が経時変化を起こし、製品である有機発光
装置の発光強度の分布もそれに応じて変化する場合に
は、一定時間ごとに製品のサンプルを抽出し、そのサン
プルの発光強度の分布の測定値に応じてパターンを変化
させれば良い。

【００７３】なお、本発明においては、透光性基板側か
ら発生光を取り出す構成であるため、少なくとも第１電
極１１は発生光に対して透明であることが好ましい。

【００７４】本実施の形態において吸収制御層は、発光
強度の大きな有機ＥＬ素子に対向する位置や、発光強度
の小さな有機ＥＬ素子に対向する位置に応じて濃淡をつ
けて全面にわたって設けられている。しかし、この他に
も例えば、発光強度が大きな有機ＥＬ素子と対向する位
置だけに選択的に吸収制御層を設ける形態でも良い。

【００７５】（実施の形態２）次に第２の実施の形態を
説明する。図２に本実施の形態の有機発光装置の概念図
を示す。

【００７６】第１の実施の形態とは逆に、本実施の形態
においては、吸収制御層２１には吸収物質が基板中央部
では濃度が高く、基板周辺部では濃度が低く印刷されて
いる。

【００７７】真空装置内の蒸着むらによる発光強度のば
らつきは、必ずしも基板中央部近くに位置する有機ＥＬ
素子で発光強度が高く、基板周辺部近くに位置する有機
ＥＬ素子で発光強度が低くなるとは限らない。真空装置
内の蒸発源の位置や基板の位置、蒸着中に蒸発源や基板
が固定であるか相対的に移動させながら均一化を図る
か、等の要因により異なる。また、正孔輸送層や電子輸
送層を成膜する方法は真空蒸着に限らず、スピンコート
やディップコート等の塗布法などが考えられるが、これ
ら成膜法の違いによっても発光強度のばらつきの様子は
異なってくる。

【００７８】このような様々な要因によって、第１の実
施の形態に述べた傾向とは逆に、基板中央部近くに位置
する有機ＥＬ素子で発光強度が低く、基板周辺部近くに
位置する有機ＥＬ素子で発光強度が高くなり、素子照度
や出射光強度にばらつきを生ずる場合がある。

【００７９】本実施の形態のように構成することで、こ
のような場合の素子照度や出射光強度のばらつきも補整
することが可能となる。

【００８０】（実施の形態３）次に第３の実施の形態を
説明する。図３に本実施の形態の有機発光装置の概念図
を示す。

【００８１】本実施の形態においては、吸収制御層２１
の表面には基板中央部では比較的平滑に、基板周辺部で
は比較的荒れた形で凹凸が形成されている。

【００８２】このような吸収制御層は、例えば基板表面
に塗布した有機層に紫外線を照射し、その紫外線強度や
照射時間、あるいは照射パターンを基板中央部と基板周
辺部とで変え、それによって有機層内の分子の結合状態
を変える方法で実現することができる。あるいは中央部
は平滑に、周辺部は荒れた状態に形成された表面を持つ
型によるスタンピングによっても形成可能である。その
他、各種の方法によって形成可能である。

【００８３】本実施の形態のように、表面に凹凸を付け
て形成された吸収制御層を用いれば、吸収制御層の散乱
係数が位置によって異なることになり、所定の方向に通
過する光の強度が調節され、透光性基板から所定方向に
出射する光の強度によって影響を受ける素子照度のばら
つきを補整する事ができ、与えられた画像データに忠実
な照度分布を受光面に与えることのできる有機発光装置
を提供することができる。また本実施形態のように凹凸
からなる吸収制御層を透光性基板に設ける形態の他に後
述の第５の実施の形態のように、透光性基板自体がその
面を凹凸形状にする形態でも良い。

【００８４】また凹凸は、本実施の形態のように発光強
度の大きな有機ＥＬ素子に対向する位置や、発光強度の
小さな有機ＥＬ素子に対向する位置に応じて荒さを変え
て全面にわたって設けてあっても良いが、発光強度の大
きな有機ＥＬ素子と対向する位置だけに設けられても良
い。

【００８５】またあるいは、凹凸は光の散乱を利用する
ものであり、発光強度の大きな有機ＥＬ素子と対向する
位置において、光の強度を散乱によって減らすだけでな
く、散乱させた光が、発光強度の小さい有機ＥＬ素子の
光とともに、発光強度の小さい有機ＥＬ素子と対向する
透光性基板の面から出射する形態にして、発光強度の小
さな有機ＥＬ素子と対向する透光性基板の面から出射す
る光の強度不足を補うようにしても良い。

【００８６】（実施の形態４）次に第４の実施の形態を
説明する。図４に本実施の形態の有機発光装置の概念図
を示す。３０は吸収制御部である。

【００８７】本実施の形態においては、受光面に到達す
る発生光のエネルギーを吸収や散乱等によって減衰させ
るような吸収制御部３０を、透光性基板１０の内部に、
上記の実施の形態で説明した濃淡のパターンと同様なパ
ターンで、密度を変えて分散させている。

【００８８】吸収制御部３０としては、例えば炭素粉の
ような粉体や、金属イオン等の光の吸収中心となるよう
な不純物を用いても良い。このような吸収制御層は例え
ば、透光性基盤１０がガラスやプラスチックであれば、
その溶融成形時に炭素紛を投入したり、金属イオンを含
む塩類を投入したりして形成することができる。また、
レーザーなどを用いて部分的に屈折率を変えたり微小ク
ラックを入れたりした散乱領域等を吸収制御部３０とし
て用いても良い。

【００８９】本実施形態においても、吸収制御部３０を
発光強度の大きな有機ＥＬ素子に対向する位置や、発光
強度の小さな有機ＥＬ素子に対向する位置に応じて密度
を変えて全面にわたって分散させてあっても良いが、発
光強度の大きな有機ＥＬ素子と対向する位置だけに分散
させても良い。

【００９０】本実施の形態のような構成によれば、各有
機ＥＬ素子からの発生光は、吸収制御層の内部に、位置
によって異なる密度で分散している吸収制御部によっ
て、吸収制御部の密度に応じたエネルギーの減衰を受け
るため、素子照度や出射光強度のばらつきを補整するこ
とができる、透光性基板が作製可能となる。

【００９１】（実施の形態５）次に第５の実施の形態を
説明する。図５に本実施の形態の有機発光装置の概念図
を示す。

【００９２】本実施の形態においては、透光性基板１０
の、有機ＥＬ素子が形成された面とは反対側の表面に、
上記の実施の形態３と同様に、基板中央部では比較的平
滑に、基板周辺部では比較的荒れた形で凹凸が形成して
ある。

【００９３】このため、所定方向に取り出される光の強
度によって影響を受ける素子照度は、ばらつきが補整さ
れる。

【００９４】第４及び第５の実施の形態においては、透
光性基板１０が吸収制御層のみからなるような単層構造
となっている。

【００９５】以上の実施の形態において説明したよう
な、有機発光装置を製作する工程上の様々な原因によっ
て結果的に生じる発光強度のばらつきは、製作する有機
発光装置毎にランダムにその様子が異なるわけではな
く、ある一定のパターンのばらつきを生ずることが多
い。このような場合には吸収制御層の吸収係数の分布は
製作する有機発光装置毎に異ならせる必要がないため、
吸収制御層の発生光に対する吸収の大きさの位置による
違いを、個々の有機ＥＬ素子が一定信号入力時に生じる
発光の強度の測定値に依らない定まったパターンで与え
ることで、低コストでの本発明の有機発光装置の作製が
可能となる。

【００９６】（実施の形態６）次に第６の実施の形態を
説明する。図６に本実施の形態の有機発光装置の概念図
を示す。４０はインクジェット装置、４１はインクジェ
ット装置から吐出されるインク滴である。

【００９７】本実施の形態においては、インクジェット
装置４０を用いてインク滴４１を透明基板２０に吹き付
けることにより吸収制御層２１を形成している。

【００９８】有機発光装置上の各有機ＥＬ素子の発光強
度のばらつきは、上記のようにある一定のパターンで生
ずるものばかりではない。例えば、各有機ＥＬ素子の発
光部の大きさが、電極をフォトリソグラフィの手法で形
成する際の微妙なエッチングのばらつきでばらついた
り、あるいは工程上でランダムに付着するゴミの影響で
ばらついたり、ということが考えられる。更に、電極
や、正孔輸送層、電子輸送層等の、有機ＥＬ素子を構成
する各層の界面状態が、基板毎の取り扱いの微妙な違い
でばらついたりすることも考えられる。

【００９９】このような原因で、ある一定のパターンで
生ずるのではない、製作する有機発光装置毎にランダム
にその様子が異なる、有機ＥＬ素子の発光のばらつきが
生ずる場合がある。このような場合には、第５の実施の
形態までで述べたような方法では、素子照度や出射光強
度のばらつきを補整することは困難である。

【０１００】本実施の形態のインクジェット装置を用い
てインク滴を透明基板に付着することで吸収制御層を形
成する方法に依れば、個々の有機ＥＬ素子が一定信号入
力時に生じる発光の強度の測定値を実測しながらそれに
応じて細かくインク滴の吹き付け量をコントロールする
ことが可能であるため、製作する有機発光装置毎にラン
ダムに有機ＥＬ素子の発光強度のばらつきが異なってい
ても、夫々の有機発光装置に対して最適な吸収係数の分
布をもつ吸収制御層を形成することができる。その結果
として、素子照度や出射光強度のばらつきを補整して、
与えられた画像データに忠実な出力が得られる有機発光
装置を提供することができる。

【０１０１】このような方法で実際に吸収制御層を形成
する際には、個々の有機ＥＬ素子が一定信号入力時に生
じる発光の強度の測定値を実測しながらそれに応じて吸
収制御層を形成するため、吸収制御層を形成する時間は
スクリーン印刷等による方法よりは長くなるが、実施の
形態１において説明したような、サンプルの発光強度の
分布を測定して印刷の原版等を作るといった作業は必要
なくなる。

【０１０２】また、本実施の形態の吸収制御層の形成方
法を用いれば、前述のような定まったパターンの吸収係
数の分布を与えることも容易であることは言うまでもな
い。さらに実施の形態１において説明したような、生産
条件の経時変化による有機発光装置の発光強度の分布の
変化が生じても、柔軟に対応することが容易である。例
えば、本実施の形態のように全ての有機発光装置の発光
強度を測定せずに、一定時間ごとに選んだサンプルに対
してのみ発光強度の測定値を実測しながら吸収制御層を
形成し、次のサンプル選択まではそれと同じパターンで
吸収制御層を形成するといったことが可能である。

【０１０３】本実施の形態において具体例を示したよう
に、吸収制御層の発生光に対する吸収の大きさの位置に
よる違いを、個々の有機ＥＬ素子が一定信号入力時に生
じる発光の強度の測定値に応じて与えることで、製作す
る有機発光装置毎にランダムに有機ＥＬ素子の発光強度
のばらつきが異なっていても、夫々の有機発光装置に対
して最適な吸収係数の分布をもつ吸収制御層を形成する
ことができ、素子照度や出射光強度のばらつきを補整し
て、与えられた画像データに忠実な出力が得られる有機
発光装置を提供することができる。

【０１０４】以上で実施の形態において述べてきたよう
に、発生光に対する吸収の大きさが位置によって異なる
吸収制御層を構成要素として含む透光性基板を用いるこ
とによって、複数の有機ＥＬ素子の形成時には制御が非
常に困難なそれぞれの有機ＥＬ素子の発光強度のばらつ
きを補い、高性能な有機発光装置を提供することができ
る。

【０１０５】本発明において使われる有機ＥＬ素子を構
成する材料としては、以下のような材料が使用できる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１０６】陽極はＩＴＯ（インジウム・チン・オキサ
イド）等の透明電極材料の他に、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐ
ｔ等の金属、金属酸化物、及び導電性高分子等も使用可
能である。

【０１０７】正孔輸送層の材料としては、芳香族ジアミ
ンや、その他の芳香族アミン系化合物、ヒドラゾン化合
物、シラザン化合物であっても、ＰＰＶ（ポリ−ｐ−フ
ェニレンビニレン）やＰＴＶ（ポリ−２，５−チエニレ
ンビニレン）、ポリシラザン等の高分子であっても、そ
の他の有機物であっても、正孔輸送性を示すものであれ
ばよい。あるいはこれらの材料の中に、各種の蛍光材料
をドープしたものであってもよい。以下に、芳香族ジア
ミン、ＰＰＶ、ＰＴＶの化学式を示す。

【０１０８】

【化１】芳香族ジアミン

【０１０９】

【化２】ポリ−ｐ−フェニレンビニレン

【０１１０】

【化３】ポリ−２，５−チエニレンビニレン

【０１１１】電子輸送層の材料としては、トリス−８キ
ノリノラト−アルミニウム錯体や、その他の有機金属錯
体、テトラフェニルブタジエン等の芳香族化合物、オキ
サジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体等の有機物で
あっても、電子輸送性を示すものであればよい。あるい
はこれらの材料の中に、各種の蛍光材料をドープしたも
のであってもよい。ドープされる蛍光材料としては、ル
ブレン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等、
各種材料が利用可能である。以下に、トリス−８キノリ
ノラト−アルミニウム錯体、ルブレン、ナイルレッド、
クマリン６、キナクリドンの化学式を示す。

【０１１２】

【化４】トリス−８キノリノラト−アルミニウム錯体

【０１１３】

【化５】ルブレン

【０１１４】

【化６】ナイルレッド

【０１１５】

【化７】クマリン６

【０１１６】

【化８】キナクリドン

【０１１７】陰極はＩＴＯ等の透明電極材料の他に、Ａ
ｌや、ＭｇとＡｇの合金以外にも、ＡｌとＬｉの合金
や、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｃａ等、仕事関数の低い
金属が利用できる。

【０１１８】有機ＥＬ素子の有機発光層の構成も、従来
の技術に述べた構成に限らない。

【０１１９】正孔輸送層と電子輸送層との積層という構
造をとらず、有機層を一層のみ設けたものも可能であ
る。この場合は例えば、ＰＰＶや、ＰＴＶ等のπ共役高
分子を用いたり、母材となる高分子中に各種有機分子を
分散したものが考えられる。

【０１２０】逆に、有機ＥＬ素子を更に多層の構成とし
て、特性の向上を図ることも可能である。たとえば、陽
極と正孔輸送層の間に、銅フタロシアニンのようなポル
フィリン系化合物、あるいはスターバーストアミンと称
されるｍ−ＭＴＤＡＴＡ等の化合物、その他の物質より
なる正孔注入層を設けてもよい。あるいは、陰極と電子
輸送層の間に、フッ化リチウムやリチウムアルミニウム
合金などよりなる電子注入層を設けてもよい。あるい
は、正孔輸送層と電子輸送層の間に更に発光層、再結合
層を別に設ける構成であってもよい。以下に、銅フタロ
シアニンとｍ−ＭＴＤＡＴＡの化学式を示す。

【０１２１】

【化９】銅フタロシアニン

【０１２２】

【化１０】ｍ-ＭＴＤＡＴＡ

【０１２３】また有機ＥＬ素子の発光波長は可視域に限
らない。赤外光であっても紫外光であってもかまわな
い。

【０１２４】

【発明の効果】以上で説明したように、本発明によれ
ば、透光性基板と、透光性基板の一方の面に積層して設
けられた複数の有機ＥＬ素子とを有する有機発光装置に
おいて、複数の有機ＥＬ素子の形成時には制御が非常に
困難なそれぞれの有機ＥＬ素子の発光強度のばらつきを
補い、高性能な有機発光装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態の有機発光装置の概
念図である。

【図２】本発明の第２の実施の形態の有機発光装置の概
念図である。

【図３】本発明の第３の実施の形態の有機発光装置の概
念図である。

【図４】本発明の第４の実施の形態の有機発光装置の概
念図である。

【図５】本発明の第５の実施の形態の有機発光装置の概
念図である。

【図６】本発明の第６の実施の形態の有機発光装置の概
念図である。

【図７】典型的な有機ＥＬ素子の構成を示す図である。

【図８】有機発光装置を用いたプリンタの概略構成図で
ある。

【図９】有機発光装置を用いたプリンタヘッドの詳細な
構造を示す図である。

【図１０】従来の有機発光装置の駆動回路の概念図であ
る。

【図１１】従来の有機発光装置の概念図である。

【符号の説明】

１０透光性基板１１第１電極１２有機発光層１５第２電極２０透明基板２１吸収制御層３０吸収制御部４０インクジェット装置４１インク滴１１１像担持体１１２帯電装置１１３現像装置１１４転写装置１１５定着装置１１６クリーニング装置１１７プリンタヘッド１１８有機発光装置１１９ロッドレンズアレイ１２０転写材２０２発光部２０３駆動回路２０４第１薄膜トランジスタ２０５コンデンサ２０６第２薄膜トランジスタ２１０ロッドレンズ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ４１Ｍ 1/12 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ 3/00 3/21 ＬＧ０９Ｆ 9/00 ３１３Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｆターム(参考） 2C056 FB01 2C162 AE28 AE47 FA04 FA16 FA23 2H113 AA01 AA06 BA09 BA27 BB22 CA15 CA21 FA10 3K007 AB02 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 CB03 DA01 DB03 EB00 5G435 AA00 AA17 BB05 CC09 FF06 FF14 HH01 KK05 KK07 LL12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透光性基板と、前記透光性基板の一方の
面に積層して設けられた複数の有機エレクトロルミネセ
ンス素子とを有し、定められた受光面を照らす有機発光
装置において、前記有機発光装置が照らす前記受光面に
対して個々の前記有機エレクトロルミネセンス素子が一
定信号入力時に与える放射照度で規定される素子照度の
ばらつきを補整する素子照度補整手段を有すること、を
特徴とする有機発光装置。
【請求項２】前記素子照度補整手段は、前記有機エレ
クトロルミネセンス素子から発せられる光で規定される
発生光に対する吸収の大きさが位置によって異なる吸収
制御層を構成要素として含む前記透光性基板であること
を特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。
【請求項３】前記吸収制御層の前記発生光に対する吸
収の大きさの位置による違いが、個々の前記有機エレク
トロルミネセンス素子が一定信号入力時に生じる発光の
強度の測定値に依らず、定まったパターンで与えられて
いることを特徴とする請求項２に記載の有機発光装置。
【請求項４】前記吸収制御層の前記発生光に対する吸
収の大きさの位置による違いが、個々の前記有機エレク
トロルミネセンス素子が一定信号入力時に生じる発光の
強度の測定値に応じて与えられていることを特徴とする
請求項２に記載の有機発光装置。
【請求項５】前記吸収制御層は、前記透光性基板の前
記有機エレクトロルミネセンス素子が形成された面と反
対側の面に、スクリーン印刷により吸収物質を位置によ
って濃淡をつけて印刷することで形成されていることを
特徴とする請求項３に記載の有機発光装置。
【請求項６】前記吸収制御層は、前記透光性基板の前
記有機エレクトロルミネセンス素子が形成された面と反
対側の面に、荒さが位置によって異なる凹凸をつけて形
成されていることを特徴とする請求項３に記載の有機発
光装置。
【請求項７】前記吸収制御層は、前記吸収制御層の内
部に、吸収制御部を位置によって異なる密度で分散させ
ていることを特徴とする請求項３に記載の有機発光装
置。
【請求項８】前記吸収制御部は、不透明粉体又は金属
イオン又は屈折率変化部分又は微小クラックのうちの少
なくともいずれか１つであることを特徴とする請求項７
に記載の有機発光装置。
【請求項９】前記吸収制御層は、前記透光性基板の前
記有機エレクトロルミネセンス素子が形成された面と反
対側の面に、インクジェット装置を用いてインク滴を位
置によって濃淡をつけて付着することにより形成されて
いることを特徴とする請求項３に記載の有機発光装置。
【請求項１０】前記吸収制御層は、前記透光性基板の
前記有機エレクトロルミネセンス素子が形成された面と
反対側の面に、インクジェット装置を用いてインク滴を
位置によって濃淡をつけて付着することにより形成さ
れ、該濃淡は、それぞれの前記有機エレクトロルミネセ
ンス素子に対向する位置において前記有機エレクトロル
ミネセンス素子の発光の強度に比例した濃さを与えてい
ることを特徴とする請求項４に記載の有機発光装置。
【請求項１１】透光性基板と、前記透光性基板の一方
の面に積層して設けられた複数の有機エレクトロルミネ
センス素子とを有する有機発光装置において、個々の前
記有機エレクトロルミネセンス素子が一定信号入力時に
発する光のうち、前記透光性基板の前記有機エレクトロ
ルミネセンス素子が形成された面と反対側の面から外部
へ出射する光の強度で規定される出射光強度のばらつき
を補整する光量分布均一手段を有することを特徴とする
有機発光装置。
【請求項１２】前記光量分布均一手段は、前記有機エ
レクトロルミネセンス素子から発せられる光で規定され
る発生光に対する吸収の大きさが位置によって異なる吸
収制御層を構成要素として含む前記透光性基板であるこ
とを特徴とする請求項１１に記載の有機発光装置。
【請求項１３】前記吸収制御層の前記発生光に対する
吸収の大きさの位置による違いが、個々の前記有機エレ
クトロルミネセンス素子が一定信号入力時に生じる発光
の強度の測定値に依らず、定まったパターンで与えられ
ていることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光装
置。
【請求項１４】前記吸収制御層の前記発生光に対する
吸収の大きさの位置による違いが、個々の前記有機エレ
クトロルミネセンス素子が一定信号入力時に生じる発光
の強度の測定値に応じて与えられていることを特徴とす
る請求項１２に記載の有機発光装置。
【請求項１５】前記吸収制御層は、前記透光性基板の
前記有機エレクトロルミネセンス素子が形成された面と
反対側の面に、スクリーン印刷により吸収物質を位置に
よって濃淡をつけて印刷することで形成されていること
を特徴とする請求項１３に記載の有機発光装置。
【請求項１６】前記吸収制御層は、前記吸収制御層の
内部に、吸収制御部を位置によって異なる密度で分散さ
せていることを特徴とする請求項１３に記載の有機発光
装置。
【請求項１７】前記吸収制御部は、不透明粉体又は金
属イオン又は屈折率変化部分又は微小クラックのうちの
少なくともいずれか１つであることを特徴とする請求項
１６に記載の有機発光装置。
【請求項１８】前記吸収制御層は、前記透光性基板の
前記有機エレクトロルミネセンス素子が形成された面と
反対側の面に、インクジェット装置を用いてインク滴を
位置によって濃淡をつけて付着することにより形成され
ていることを特徴とする請求項１３に記載の有機発光装
置。
【請求項１９】前記吸収制御層は、前記透光性基板の
前記有機エレクトロルミネセンス素子が形成された面と
反対側の面に、インクジェット装置を用いてインク滴を
位置によって濃淡をつけて付着することにより形成さ
れ、該濃淡は、それぞれの前記有機エレクトロルミネセ
ンス素子に対向する位置において前記有機エレクトロル
ミネセンス素子の発光の強度に比例した濃さを与えてい
ることを特徴とする請求項１４に記載の有機発光装置。