JP3297392B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP3297392B2
JP3297392B2 JP02027299A JP2027299A JP3297392B2 JP 3297392 B2 JP3297392 B2 JP 3297392B2 JP 02027299 A JP02027299 A JP 02027299A JP 2027299 A JP2027299 A JP 2027299A JP 3297392 B2 JP3297392 B2 JP 3297392B2
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    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • GPHYSICS
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    • G11CSTATIC STORES
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    • G11C8/12Group selection circuits, e.g. for memory block selection, chip selection, array selection

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に同期式半導体記憶装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の同期式半導体記憶装置の1つであ
るシンクロナスDRAMは、複数のメモリセルと、複数
のメモリセルからのデータに基づく電位がそれぞれ与え
られる複数のビット線と、複数のビット線の電位をそれ
ぞれ増幅する複数のセンスアンプと、複数のビット線と
データ線との間にそれぞれ接続される複数のカラムスイ
ッチとを有する。
【0003】このシンクロナスDRAMは、カラム選択
信号により、カラムスイッチが順次選択され、選択され
たカラムスイッチに対応するメモリセルのデータに基づ
く電位を順次、データ線に与えるものである。
【0004】シンクロナスDRAMは、順次、データ線
に与えられた電位に基づくデータをクロック信号の立ち
上がりに応答して、外部へ出力するものであった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来のシンクロナスD
RAMでは、カラムスイッチを1つずつ導通状態とし
て、隣接しあう2つのメモリセルのデータに基づく電位
を順次データ線へ与えるため、隣接しあう2つのメモリ
セルのデータに基づく電位をデータ線へ与えるのに相当
の時間を要する。
【0006】よって、従来のシンクロナスDRAMのア
レイ構成に於いて、クロック信号の立ち上がりと立ち下
がりで、隣接しあう2つのメモリセルのデータに基づく
電位を出力させるダブルデータレートのシンクロナスD
RAMを実現する場合、クロック信号の周期を長くしな
ければならず、高速動作ができないという問題があっ
た。
【0007】また、シンクロナスDRAMでは、1つの
メモリブロックの中のセンスアンプの数が非常に多い。
各センスアンプは、自身を活性化するために電源に接続
されるが、各センスアンプから電源までの距離は、それ
ぞれ異なっている。
【0008】よって電源に最も遠い箇所にあるセンスア
ンプには、電源からセンスアンプまでの配線抵抗のため
電圧降下が生じる。
【0009】よってセンスアンプがビット線の電位を増
幅する速度が低下し、シンクロナスDRAM全体として
の動作マージンが低下するという問題があった。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に、本発明の半導体記憶装置は、ワード線と、前記ワー
ド線に接続され、データを格納するメモリセルと、前記
ワード線が選択されたとき、前記メモリセルに格納され
たデータに基づく電位が与えられるビット線と、前記ビ
ット線に与えられた電位を増幅するセンスアンプとをそ
れぞれ有する第1のメモリブロック、第2のメモリブロ
ック、第3のメモリブロック及び第4のメモリブロック
であって、前記第1のメモリセルブロックの前記ビット
線と第1のデータ線との間に接続され、第1のカラム選
択信号及び第1のブロック選択信号の信号値に応答し
て、導通状態となる第1の転送回路と、前記第2のメモ
リブロックの前記ビット線と第2のデータ線との間に接
続され、第2のカラム選択信号及び第2のブロック選択
信号の信号値に応答して、導通状態となる第2の転送回
路と、前記第3のメモリブロックの前記ビット線と前記
第1のデータ線との間に接続され、第3のカラム選択信
号及び前記第2のブロック選択信号の信号値に応答し
て、導通状態となる第3の転送回路と、前記第4のメモ
リブロックの前記ビット線と前記第2のデータ線との間
に接続され、第4のカラム選択信号及び前記第1のブロ
ック選択信号の信号値に応答して、導通状態となる第4
の転送回路とを有する。
【0011】
【発明の実施の形態】図1は本発明の1実施の形態のシ
ンクロナスDRAMの回路図である。
【0012】図2は図1のシンクロナスDRAMのタイ
ミングチャートである。
【0013】図1及び図2を参照して1実施の形態のシ
ンクロナスDRAMについて説明する。
【0014】本実施の形態のシンクロナスDRAMは、
第1のメモリブロックMCB1、第2のメモリブロック
MCB2、第3のメモリブロックMCB3及び第4のメ
モリブロックMCB4の少なくとも4つのメモリブロッ
クを有する。
【0015】以下各メモリブロックについて説明する。
【0016】各メモリブロックは、行方向に延在する複
数のワード線WLと、列方向に延在する複数のビット線
BL、/BLと、複数のワード線WLと複数のビット線
BL、/BLの交差箇所にそれぞれ配置され、データを
格納する複数のメモリセルMCと、複数のワード線WL
の各々を選択する複数のワード線ドライバWD、複数の
ビット線対(BL、/BL)の電位をそれぞれ増幅する
複数のセンスアンプSAと、複数のビット線電位固定回
路EQCと、複数の転送回路TCと、カラム選択信号線
CL0、CL1…に与えられるカラム選択信号の信号値
に応答して、対応するセンスアンプSAの出力信号を対
応するサブデータ線対(SDL1、/SDL1)又は
(SDL2、/SDL2)に出力する複数のカラムスイ
ッチCLSと、センスアンプ活性化信号SAS、イコラ
イズ信号EQL、EQR及びアイソレーション信号IS
OL、ISORを出力する制御回路Cとを有する。
【0017】各ビット線電位固定回路EQCは、対応す
るビット線対(BL、/BL)に接続され、イコライズ
信号EQL又はEQRの信号値に応答して、対応するビ
ット線対(BL、/BL)の電位を同一電位に固定す
る。
【0018】各転送回路TCは、対応するビット線対
(BL、/BL)と対応するセンスアンプSAとの間に
それぞれ配置され、アイソレーション信号ISOL又は
ISORの信号値に応じて、対応するビット線対(B
L、/BL)の電位を対応するセンスアンプSAに転送
する。
【0019】各メモリブロックでは、メモリセルMC、
ワード線WL、ビット線BL、/BL、ビット線電位固
定回路EQC、転送回路TCがセンスアンプSAの両側
に配置される。
【0020】センスアンプSAはNMOSTr1、Tr
2とPMOSTr3、Tr4とからなる。PMOSTr
3の一端とPMOSTr4の一端とはPMOSTr5の
一端に接続される。PMOSTr5の他端は電源に接続
され、PMOSTr5は、センスアンプ活性化信号SA
Sが入力されるインバータINVの出力信号の信号値に
応答して、電源電位VDDをPMOSTr3、Tr4に
与える。NMOSTr1、Tr2の一端はNMOSTr
6の一端に接続される。NMOSTr6の他端は接地に
接続され、NMOSTr6は、センスアンプ活性化信号
SASの信号値に応答して、接地電位VSSをNMOS
Tr1、Tr2に与える。NMOSTr1の他端とPM
OSTr3の他端とは、NMOSTr2のゲートとPM
OSTr4のゲートとに接続される。NMOSTr2の
他端とPMOSTr4の他端とは、NMOSTr1のゲ
ートとPMOSTr3のゲートとに接続される。
【0021】センスアンプSAの両側の転送回路TC
は、それぞれアイソレーション信号ISOL、ISOR
の信号値に応答して、対応するビット線対(BL,/B
L)の電位を対応するセンスアンプSAに転送する。各
転送回路TCは、2つのNMOSTr7,Tr8からな
る。NMOSTr7、Tr8の一端はそれぞれビット線
BL、/BLに接続される。NMOSTr7、Tr8の
ゲートはアイソレーション信号が与えられる。NMOS
Tr7の他端はNMOSTr1の他端とPMOSTr3
の他端とに接続される。NMOSTr8の他端はNMO
STr2の他端とPMOSTr4の他端とに接続され
る。
【0022】またセンスアンプの両側のビット線電位固
定回路EQCは、それぞれイコライズ信号EQL,EQ
Rの信号値に応答して、対応するビット線対の電位を同
一電位に固定する。ビット線電位固定回路EQCは、N
MOSTr9、Tr10、Tr11からなる。NMOS
Tr9、Tr10はビット線対(BL、/BL)間に直
列に接続される。またNMOS11はビット線対(B
L、/BL)間に接続される。
【0023】NMOSTr9、Tr10、Tr11の各
ゲートはイコライズ信号が与えられる。NMOSTr9
とNMOSTr10との接続点は、ビット線の電位を所
定の電位に設定するため、所定の電位が与えられる端子
に接続される。
【0024】制御回路Cは、動作信号線ACTIVEに
与えられるアクテイブ信号ACT及びブロック選択線B
LKに与えられるブロック選択信号の信号値に応答し
て、センスアンプ活性化信号SAS、イコライズ信号E
QL、EQR、アイソレーション信号ISOL,ISO
Rを出力する回路である。
【0025】各メモリブロックはアクテイブ信号ACT
及び対応するブロック選択信号の信号が所定の電位とな
ることにより選択状態に設定される。
【0026】メモリブロック1の制御回路Cは、動作信
号線ACTIVE及びブロック選択信号線BLK0、B
LK1に接続される。この制御回路Cは、ブロック選択
信号線BLK0に与えられるブロック選択信号又はブロ
ック選択信号線BLK1に与えられるブロック選択信号
のいずれかがハイレベルとなり、かつハイレベルのアク
テイブ信号ACTを入力することにより、メモリブロッ
ク1を選択状態とする。
【0027】メモリブロック1のセンスアンプSAの左
側のワード線ドライバWDはブロック選択信号線BLK
0とアドレス線PXに接続される。メモリブロック1の
センスアンプの右側のワード線ドライバWDはブロック
選択信号線BLK1とアドレス線PXに接続される。
【0028】メモリブロック2の制御回路Cは、動作信
号線ACTIVE及びブロック選択信号線BLK2、B
LK3に接続される。この制御回路Cは、ブロック選択
信号線BLK2に与えられるブロック選択信号又はブロ
ック選択信号線BLK3に与えられるブロック選択信号
のいずれかがハイレベルとなり、かつハイレベルのアク
テイブ信号ACTを入力することにより、メモリブロッ
ク2を選択状態とする。
【0029】メモリブロック2のセンスアンプSAの左
側のワード線ドライバWDはブロック選択信号線BLK
2とアドレス線PXに接続される。メモリブロック2の
センスアンプSAの右側のワード線ドライバWDはブロ
ック選択信号線BLK3とアドレス線PXに接続され
る。
【0030】メモリブロック3の制御回路Cは、動作選
択線ACTIVE及びブロック選択信号線BLK2、B
LK3に接続される。この制御回路Cは、ブロック選択
信号線BLK2に与えられるブロック選択信号又はブロ
ック選択信号線BLK3に与えられるブロック選択信号
のいずれかがハイレベルとなり、アクテイブ信号ACT
を入力することにより、メモリブロック3を選択状態と
する。メモリブロック3のセンスアンプSAの左側のワ
ード線ドライバWDはブロック選択信号線BLK2とア
ドレス線PXに接続される。メモリブロック3のセンス
アンプの右側のワード線ドライバWDはブロック選択信
号線BLK3とアドレス線PXに接続される。
【0031】メモリブロック4の制御回路Cは、動作選
択線ACTIVE及びブロック選択信号線BLK0、B
LK1に接続される。この制御回路Cは、ブロック選択
信号線BLK0に与えられるブロック選択信号又はブロ
ック選択信号線BLK1に与えられるブロック選択信号
のいずれかがハイレベルとなり、ハイレベルのアクテイ
ブ信号ACTを入力することにより、メモリブロック4
を選択状態とする。メモリブロック4のセンスアンプS
Aの左側のワード線ドライバWDはブロック選択信号線
BLK0とアドレス線PXに接続される。メモリブロッ
ク4のセンスアンプの右側のワード線ドライバWDはブ
ロック選択信号線BLK1とアドレス線PXに接続され
る。
【0032】メモリブロック1及び4に於けるカラムス
イッチCLSについて説明する。各カラムスイッチCL
SはNMOSTr12、Tr13からなる。NMOST
r12の一端は、対応するNMOSTr7を介して対応
するビット線BLに接続され、 NMOSTr12の他
端は、サブデータ線/SDL1に接続される。NMOS
Tr13の一端は、対応するNMOSTr8を介して対
応するビット線/BLに接続され、 NMOSTr13
の他端は、サブデータ線SDL1に接続される。各カラ
ムスイッチのTr12、Tr13は対応するカラム選択
信号線に接続される。
【0033】メモリブロック2及び4に於けるカラムス
イッチCLSについて説明する。ビット線対に対応して
設けられる。各カラムスイッチCLSはNMOSTr1
2、Tr13からなる。NMOSTr12の一端は、対
応するNMOSTr7を介して対応するビット線BLに
接続され、 NMOSTr12の他端は、サブデータ線
/SDL2に接続される。NMOSTr13の一端は、
対応するNMOSTr8を介して対応するビット線/B
Lに接続され、 NMOSTr13の他端は、サブデー
タ線SDL2に接続される。
【0034】また第1のメモリブロックと第2のメモリ
ブロックの同一列のカラムスイッチは対応する共通のカ
ラム選択信号線CLに接続される。第3のメモリブロッ
クと第4のメモリブロックの同一列のカラムスイッチは
対応する共通のカラム選択信号線CLに接続される。
【0035】第1のメモリブロック及び第4のメモリブ
ロックにおいて、センスアンプSAの両側のワード線ド
ライバWDはそれぞれブロック選択信号BLK0、BL
K1の信号値により動作状態となる。
【0036】第2のメモリブロック及び第3のメモリブ
ロックにおいて、センスアンプSAの両側のワード線ド
ライバWDはそれぞれブロック選択信号線BLK2、B
LK3の信号値により動作状態となる。動作状態となっ
たワード線ドライバWDの内、さらにXアドレスにより
選択されたワード線ドライバWDはそれに接続されるワ
ード線WLの電位をハイレベルとする。
【0037】本実施の形態のシンクロナスDRAMで
は、従来のメモリセルアレイにおける奇数列のアドレス
に対応するデータが第1のメモリブロックに格納され、
偶数列のアドレスに対応するデータが第4のメモリブロ
ックに格納される。同様に、従来のメモリブロックにお
ける奇数列のアドレスに対応するデータが第2のメモリ
ブロックに格納され、偶数列のアドレスに対応するデー
タが第4のメモリブロックに格納される。
【0038】次に、本実施の形態のシンクロナスDRA
Mの動作について説明する。
【0039】図2は本実施の形態のシンクロナスDRA
Mのタイミングチャートである。
【0040】図2に於いて、EQL1、EQL4は、第
1及び第4のメモリブロックのイコライズ信号である。
【0041】まず各メモリブロックにローレベルのアク
テイブ信号ACTが入力されている初期状態の各メモリ
ブロックの各構成要素の状態について説明する。
【0042】制御回路Cは、ハイレベルのイコライズ信
号EQL、EQR及びハイレベルとローレベルの間の中
間レベルのアイソレーション信号ISOL、ISOR及
びローレベルのセンスアンプ活性化信号SASを出力す
る。
【0043】各ワード線ドライバWDはブロック選択信
号線BLK0〜BLK7にそれぞれ与えられるブロック
選択信号が共にローレベルであり、非選択状態であるの
で、各ワード線はローレベルに設定される。
【0044】各ビット線対(BL、/BL)は、イコラ
イズ信号EQL、EQRがハイレベルであり、同一の1
/2VDDに設定される。センスアンプSAの両側の転
送回路TCのトランジスタTr7、Tr8は、アイソレ
ーション信号ISOL、ISORが中間レベルであり、
導通状態となっている。
【0045】NMOSTr6は、センスアンプ活性化信
号がローレベルのため非導通状態となっている。PMO
STr5は、インバータINVの出力信号がハイレベル
のため非導通状態となる。
【0046】よって、センスアンプSAには、NMOS
6やPMOS5を介して、電源電位VDDや接地電位V
SSは与えられない。
【0047】また各カラム選択線に与えられるカラム選
択信号はローレベルを出力しているので、カラムスイッ
チCSLのNMOSTr12、Tr13は非導通状態に
設定される。サブデータ線SDL1、SDL1及びサブ
データ線SDL2、/SDL2はハイレベルに設定され
る。
【0048】次に、第1のメモリブロック及び第4のメ
モリブロックからデータを読み出す動作について説明す
る。
【0049】まず、ハイレベルのアクテイブ信号ACT
が各メモリブロックに与えられる。
【0050】次にブロック選択線BLK0乃至BLK7
の内、BLK0のブロック選択信号がハイレベルにな
り、ブロック選択線BLK0に接続される第1のメモリ
ブロック及び第4のメモリブロックが選択される。また
Xアドレス信号PXが各メモリブロックに出力され、第
1及び第4のメモリブロックの各センスアンプSAの左
側のワード線ドライバWDが選択される。
【0051】以下、選択された第1及び第4のメモリブ
ロックの各ブロックの動作を説明する。
【0052】ハイレベルのアクテイブ信号ACT及びハ
イレベルのブロック選択信号線BLK0に応答して、制
御回路Cは、ローレベルのイコライズ信号EQL、EQ
Rを出力し、ハイレベルのアイソレーション信号ISO
Lを出力し、ローレベルのアイソレーション信号ISO
Rを出力する。
【0053】また、センスアンプSAの左側の選択され
たワードドライバWDは、それに接続されるワード線W
Lをハイレベルに設定する。
【0054】ここで、第1のメモリブロックでハイレベ
ルになるワード線WLのアドレスと第4のメモリブロッ
クでハイレベルになるワード線WLのアドレスとは従来
の回路における同一のアドレスに対応している。
【0055】ハイレベルに設定されたワード線WLに接
続された複数のメモリセルMCから対応する複数のビッ
ト線対に、メモリセルMCのデータに基づいて、それぞ
れ電位が与えられ、各ビット線対に電位差が生じる。
【0056】アイソレーション信号ISOLがハイレベ
ルであるので、各センスアンプSAの左側の各転送回路
TCのNMOSTr7、Tr8は導通状態に設定され
る。各センスアンプの左側に配置された各ビット線対に
生じた電位は対応する各センスアンプSAに出力され
る。このときアイソレーション信号ISORがローレベ
ルであるので、センスアンプSAの右側の転送回路TC
のNMOSTr7、Tr8は非導通状態に設定されてい
る。
【0057】次に、制御回路Cはハイレベルのセンスア
ンプ活性化信号SASを出力する。これによりNMOS
Tr6、PMOSTr5は導通状態に設定され、各セン
スアンプSAに電源電位VDDと接地電位VSSを与え
る。これにより各センスアンプSAは、対応する各ビッ
ト線対(BL、/BL)に生じる電位を増幅する。
【0058】第1のメモリブロックのビット線BLはハ
イレベルとなり、第2のメモリブロックのビット線/B
Lはローレベルとなる。
【0059】第4のメモリブロックのビット線BLはロ
ーレベルとなり、第4のメモリブロックのビット線/B
Lはハイレベルとなる。
【0060】次に、カラム選択線の内、カラム選択線C
L0に与えられるカラム選択信号がハイレベルに設定さ
れる。これにより、第1のメモリブロックの、カラム選
択線CL0に接続されるカラムスイッチCLSは、対応
するセンスアンプSAによって増幅されたビット線対
(BL,/BL)の電位をサブデータ線対(/SDL
1、SDL1)に与える。これによって、サブデータ線
対(/SDL1、SDL1)に第1のメモリブロックの
メモリセルに格納されたデータに基づく電位が与えられ
る。
【0061】サブデータ線SDL1はローレベルとな
り、サブデータ線/SDL1はハイレベルとなる。
【0062】また、カラム選択線CL0に与えられるカ
ラム選択信号がハイレベルに設定されると同時にカラム
選択線CL1に与えられるカラム選択信号がハイレベル
に設定されることにより、第4のメモリブロックの、カ
ラム選択線CL1に接続されるカラムスイッチCLS
は、対応するセンスアンプSAによって増幅されたビッ
ト線対(BL,/BL)の電位をサブデータ線対(/S
DL2、SDL2)に与える。これによって、サブデー
タ線対(/SDL2、SDL2)に第4のメモリブロッ
クのメモリセルに格納されたデータに基づく電位が与え
られる。
【0063】サブデータ線SDL2はハイレベルとな
り、サブデータ線/SDL2はローレベルとなる。
【0064】またサブデータ線対(SDL1、/SDL
1)、(SDL2、/SDL2)は図9に示す後段のセ
レクタ回路SELに接続される。このセレクタ回路SE
Lはクロック信号の立ち上がりに応答して、サブデータ
線対(SDL1、/SDL1)に与えられる電位に応答
する電位を出力し、クロック信号の立ち下がりに応答し
て、サブデータ線対(SDL2、/SDL2)に与えら
れる電位に応答する電位を出力する。
【0065】次に、選択されない第2及び第3のメモリ
ブロックについて説明する。
【0066】選択されない第2及び第3のメモリブロッ
クに於いては、ハイレベルのアクテイブ信号ACT及び
ローレベルのブロック選択信号線BLK2、3を入力す
ることにより、制御回路Cは、ハイレベルのイコライズ
信号EQL、EQR及びローレベルのイコライズ信号I
SOL、ISOR及びローレベルのセンスアンプ活性化
信号SASを出力する。
【0067】各ワード線ドライバWDはブロック選択信
号BLK2、BLK3が共にローレベルであるので、非
選択状態であり、各ワード線はローレベルに設定され
る。
【0068】各ビット線対(BL、/BL)は、イコラ
イズ信号EQL、EQRがハイレベルであり、同一の1
/2VDDに設定される。各転送回路TCのトランジス
タTr7、Tr8は、アイソレーション信号ISOL、
ISORがローレベルであり、導通状態となっている。
【0069】NMOS6は、センスアンプ活性化信号が
ローレベルのため非導通状態となっている。PMOS5
は、インバータINVの出力信号がハイレベルのため非
導通状態となる。
【0070】よって、センスアンプSAは、NMOS6
やPMOS5を介して、電源電位VDDや接地電位VS
Sは与えられず、動作をしない。
【0071】本実施の形態では、従来のメモリブロック
における奇数列のアドレスに対応するデータが第1のメ
モリブロックに格納され、偶数列のアドレスに対応する
データが第4のメモリブロックに格納されることで、従
来のメモリブロックにおける隣接するアドレスのデータ
をそれぞれ第1のメモリブロック及び第4のメモリブロ
ックから同時に出力することができる。よって図9に示
すセレクタ回路により、従来と同一周波数又は早い周波
数のクロック信号の立ち上がりと立ち下がりの両方のタ
イミングでデータを出力することができるダブルデータ
レートのシンクロナスDRAMを実現できる。
【0072】また本実施の形態の特徴として、第1及び
第3のメモリブロックでサブデータ線対を共有とし、第
2及び第3のメモリブロックでサブデータ線対を共有と
しているので、各メモリブロックでそれぞれサブデータ
線を備えた場合に比べて、構成回路が低減でき、回路面
積の縮小化が図れるという利点がある。
【0073】また、メモリブロックを4つに分割してい
るので、1つのメモリブロック内のセンスアンプの数を
少なくできる。よって、例えば、メモリブロックとメモ
リブロックとの間に電源線を配設することにより、電源
線から各メモリブロックのセンスアンプまでの距離をほ
ぼ等しくすることにより、シンクロナスDRAM全体と
しての読み出し動作を向上させることが可能となる。
【0074】図3乃至図7は、1実施の形態のシンクロ
ナスDRAMのデータの読み出し方法の様々な例を示し
ている図である。
【0075】本実施の形態のシンクロナスDRAMで
は、バースト長を設定することができる。ここでバース
ト長とは読み出すデータ数を示している。
【0076】図3は、バースト長が2である場合のシン
クロナスDRAMの読み出し動作について示している。
外部からシンクロナスDRAMを動作可能状態に設定す
るためのACTIVEEコマンドが入力されると共に、
ワード線のアドレスA0=0が入力される。その後、R
eadコマンドが入力されると共に、最初に読み出すデ
ータが格納されているメモリセルに対応するカラム選択
線のアドレスA0=0(CL0を最初に立ち上げるアド
レス)が入力される。
【0077】カラム選択線のアドレスが0であり、バー
スト長が2であるので、CL0とCL1とを同時に立ち
上げる。
【0078】図4は、バースト長が4である場合のシン
クロナスDRAMの読み出し動作について示している。
シンクロナスDRAMを動作状態に設定するためのAC
TIVEEコマンドが入力されると共に、ワード線のア
ドレスA0=0が入力される。その後、Readコマン
ドが入力されると共に、最初に読み出すデータが格納さ
れているメモリセルに対応するカラム選択線のアドレス
A0=0(CL0を最初に立ち上げる)が入力される。
【0079】カラム選択線のアドレスが0であり、バー
スト長が4であるので、CL0とCL1とを同時に立ち
上げる。その後、CL2とCL3とを同時に立ち上げ
る。
【0080】図5は、バースト長が4である場合のシン
クロナスDRAMの読み出し動作について示している。
カラム選択線のアドレスA0=1(CL1を最初に立ち
上げるアドレス)が入力される。
【0081】カラム選択線のアドレスが1であり、バー
スト長が4であるので、CL1とCL2とを同時に立ち
上げる。その後、CL3とCL0とを同時に立ち上げ
る。
【0082】図6は、バースト長が4である場合のシン
クロナスDRAMの読み出し動作について示している。
カラム選択線のアドレスA0=2(CL2を最初に立ち
上げるアドレス)が入力される。
【0083】カラム選択線のアドレスが2であり、バー
スト長が4であるので、CL2とCL3とを同時に立ち
上げる。その後、CL0とCL1とを同時に立ち上げ
る。
【0084】図7は、バースト長が4である場合のシン
クロナスDRAMの読み出し動作について示している。
カラム選択線のアドレスA0=3(CL3を最初に立ち
上げるアドレス)が入力される。
【0085】カラム選択線のアドレスが3であり、バー
スト長が4であるので、CL3とCL0とを同時に立ち
上げる。その後、CL1とCL2とを同時に立ち上げ
る。
【0086】図8は、図1におけるワード線を選択する
回路の変形例を示す図である。
【0087】図8は分割ワード線方式の回路であり、第
1のメモリブロックと第3のメモリブロックのワード線
駆動回路が記載される。この回路は、第1及び第3のメ
モリブロックのセンスアンプSAの左側にあるワード線
を選択する回路である。
【0088】デコード回路Dはブロック選択線BLK0
とBLK2と第1のXアドレス線PX1に接続される。
デコード回路Dは複数のNAND回路から構成される。
読み出し時には、ブロック選択線及び第1のXアドレス
線PX1に応答して選択された1つのNAND回路がロ
ーレベルに設定され、残りはハイレベルに設定される。
パワードライバPDは、PMOSTr20、Tr21と
NMOSTr22、Tr23とからなる回路とインバー
タINV1、INV2とからなるドライバ回路を複数有
し、それぞれデコード回路Dの対応するNAND回路に
接続される。PMOSTr21は高電位が与えられる端
子とノードAとの間に接続される。PMOSTr20は
高電位が与えられる端子とPMOSTr21のゲートと
の間に接続される。PMOSTe20のゲートはノード
Aに接続される。NMOSTr22はPMOSTr21
のゲートと低電位が与えられる端子との間に接続され
る。NMOSTr22のゲートはインバータINV2の
出力に接続される。NMOSTr23はノードAと低電
位が与えられる端子とに接続される。NMOSTr23
のゲートはINV1の出力であるノードBに接続され
る。
【0089】パワードライバPDの各ドライバ回路は、
対応するNAND回路の出力がローレベルのとき、対応
するノードAをハイレベルとして、対応するノードBを
ローレベルに設定する。
【0090】パワードライバPDのドライバ回路は、入
力されるNAND回路の出力がハイレベルのとき、対応
するノードAをローレベルとして、対応するノードBを
ハイレベルに設定する。
【0091】メインワードドライバMWDは、第2のX
アドレス線PX2と、インバータINVとNOR回路か
らなるOR回路ORを介してブロック選択線BLK0、
BLK2とに接続される。
【0092】メインワードドライバMWDはNAND回
路ND1とインバータINV3とPMOSTr26、T
r27とNMOSTr24、Tr25とからなるドライ
バ回路を複数有する。PMOSTr26はハイレベルの
電位が与えられる端子とNMOSTr25の一端に接続
される。 PMOSTr27はハイレベルの電位が与え
られる端子とNMOSTr24の一端に接続される。P
MOS26のゲートはNMOSTr24の一端に接続さ
れ、 PMOSTr27のゲートはNMOSTr25の
一端に接続される。NMOSTr25の他端はローレベ
ルの電位が与えられる端子に接続され、そのゲートはイ
ンバータINV3の出力に接続される。NMOSTr2
4の他端はローレベルの電位が与えられる端子に接続さ
れ、そのゲートはNAND回路ND1の出力に接続され
る。NMOSTr25はメインワード線MWLに接続さ
れる。
【0093】メインワードドライバMWDの各ワードド
ライバは、読み出し動作時、ハイレベルのアドレス選択
線BLK0又はBLK2、及び第2のXアドレス線PX
のハイレベルの信号に基づいて、メインワード線MWL
の1つをローレベルに設定する。
【0094】メインワードドライバMWDの各ドライバ
回路は、OR回路の出力がローレベル又は入力される第
2のXアドレス線の信号がローレベルのとき、メインワ
ード線MWLをハイレベルに設定する。
【0095】サブワードドライバSWDは、PMOST
r28、Tr29及びNMOSTr30、Tr31、T
r32、Tr33からなるドライバ回路を複数有する。
PMOSTr29は対応するパワードライバPDのある
1つのドライバ回路(以後、第1ドライバ回路とする)
に接続されるノードAとNMOSTr32とNMOST
r33の各一端とに接続される。NMOSTr32、T
r33の各他端はローレベルの電位が与えられる端子に
接続される。PMOSTr29のゲートは対応するメイ
ンワード線MWLに接続される。NMOSTr32ゲー
トは対応するメインワード線MWLに接続される。NM
OSTr33のゲートはパワードライバPDの第1ドラ
イバ回路に接続されるノードBに接続される。PMOS
Tr29とNMOTr33との接続点に対応するワード
線WLが接続される。
【0096】PMOSTr28は対応するパワードライ
バPDの第1ドライバ回路とは別のドライバ回路(以後
第2ドライバ回路とする)に接続されるノードAとNM
OSTr30とNMOSTr31の各一端とに接続され
る。NMOSTr30、Tr31の各他端はローレベル
の電位が与えられる端子に接続される。PMOSTr2
8のゲートは対応するメインワード線MWLに接続され
る。NMOSTr31のゲートは対応するメインワード
線MWLに接続される。NMOSTr30のゲートはパ
ワードライバPDの第2ドライバ回路に接続されるノー
ドBに接続される。PMOSTr28とNMOTr30
との接続点に対応するワード線WLが接続される。
【0097】サブワードドライバの各ドライバ回路は、
対応するパワードライバPDの対応するドライバ回路の
ノードAがハイレベルになると、それに接続されるPM
OSTr28又はTr29を介して対応するワード線に
ハイレベルの電位を与える。
【0098】次に図8の回路の動作について説明する。
【0099】第1のメモリブロックMCB1の1つのワ
ード線の電位がハイレベルとなる場合について説明す
る。
【0100】先ず、ブロック選択線BLK0にハイレベ
ルのブロック選択信号が与えられる。
【0101】デコード回路DはBLK0に接続されたN
AND回路の内、第1のXアドレス信号PX1により選
択された1つのNAND回路の出力のみをローレベルに
設定し、他のNAND回路の出力はハイレベルに設定す
る。
【0102】ローレベルを出力しているNAND回路に
接続されるパワードライバPDの第1ドライバ回路に接
続されるノードAがハイレベルに設定され、ノードBが
ローレベルに設定される。ハイレベルを出力しているN
AND回路に接続されるその他のドライバ回路に接続さ
れるノードAがローレベルに設定され、ノードBがハイ
レベルに設定される。
【0103】第1のメモリブロックに対応するサブワー
ドドライバSWDのドライバ回路の内、ハイレベルのノ
ードAに接続されるPMOSTr29又はTr28のみ
オンする。オンしたPMOSTr29又はTr28に接
続されるワード線WLがハイレベルとなる。その他のワ
ード線はローレベルを維持する。
【0104】図8では、第1のメモリブロックと第3の
メモリブロックのセンスアンプの左側のワード線を選択
する回路について説明した。図8に於いて、ブロック選
択線BLK0をBLK1とし、ブロック選択信号線BL
K2をBLK3とすることにより、第1のメモリブロッ
クと第3のメモリブロックのセンスアンプSAの右側の
ワード線を選択する回路を実現できる。また、図8に於
いて、ブロック選択線BLK0をBLK2とし、ブロッ
ク選択線BLK2をBLK0とし、第1のメモリブロッ
クMCB1を第2のメモリブロックMCB2に置き換
え、第3のメモリブロックMCB3を第4のメモリブロ
ックMCB4に置き換えることにより、第2のメモリブ
ロックと第4のメモリブロックのセンスアンプSAの左
側のワード線を選択する回路を実現できる。また、図8
に於いて、ブロック選択線BLK0をBLK3とし、ブ
ロック選択線BLK2をBLK1にし、第1のメモリブ
ロックMCB1を第2のメモリブロックMCB2に置き
換え、第3のメモリブロックMCB3を第4のメモリブ
ロックMCB4に置き換えることにより、第2のメモリ
ブロックと第4のメモリブロックのセンスアンプSAの
右側のワード線を選択する回路を実現できる。
【0105】図8では、第1のメモリブロックMCB1
と第3のメモリブロックMCB3でメインワードドライ
バを共有することができるので、回路面積の縮小化が図
れる。
【0106】
【発明の効果】請求項1記載の発明では、第1のメモリ
セルブロックと第2のメモリセルブロックでデータ線を
共有しているので、回路面積の縮小化が図れると共にメ
モリブロックを4つに分割しているので、各ブロック当
たりのセンスアンプの数を少なくできるので、電源線を
適切に配設することにより、データの読み出し速度を向
上させることができる。
【0107】また請求項2記載の発明では、クロック信
号の立ち上がりと立ち下がりのタイミングでデータを出
力できるダブルデータレートの同期式半導体記憶装置を
実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のシンクロナスDR
AMの回路図
【図2】図1のシンクロナスDRAMのタイミングチャ
ート
【図3】図1のシンクロナスDRAMの読み出し方法を
示す図
【図4】図1のシンクロナスDRAMの読み出し方法を
示す図
【図5】図1のシンクロナスDRAMMの読み出し方法
を示す図
【図6】図1のシンクロナスDRAMの読み出し方法を
示す図
【図7】図1のシンクロナスDRAMの読み出し方法を
示す図
【図8】図1のワード線を選択する回路の変形例
【図9】本発明のセレクタ回路の要部ブロック図
【符号の説明】
MC メモリセル WL ワード線 BL、/BL ビット線 SDL1、/SDL1、SDL2、/SDL2 サブデ
ータ線 EQC ビット線電位固定回路 TC 転送回路 SA センスアンプ C 制御回路 CLS カラムスイッチ CL0、CL1,CL2、CL3 カラム選択線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/401 - 11/4099

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワード線と、前記ワード線に接続され、デ
    ータを格納するメモリセルと、前記ワード線が選択され
    たとき、前記メモリセルに格納されたデータに基づく電
    位が与えられるビット線と、前記ビット線に与えられた
    電位を増幅するセンスアンプとをそれぞれ有する第1の
    メモリブロック、第2のブロック、第3のメモリブロック
    及び第4のメモリブロックであって、 前記第1のメモリセルブロックの前記ビット線と第1の
    データ線との間に接続され、第1のカラム選択信号及び
    第1のブロック選択信号の信号値に応答して、導通状態
    となる第1の転送回路と、前記第2のメモリブロックの
    前記ビツト線と第2のデータ線との間に接続され、第2
    のカラム選択信号及び第2のブロック選択信号の信号値
    に応答して、導通状態となる第2の転送回路と、前記第
    3のメモリブロックの前記ビット線と前記第1のデータ
    線との間に接続され、第3のカラム選択信号及び前記第
    2のブロック選択信号の信号値に応答して、導通状態と
    なる第3の転送回路と、前記第4のメモリブロックの前
    記ビット線と前記第2のデータ線との間に接続され、第
    4のカラム選択信号及び前記第1のブロック選択信号の
    信号値に応答して、導通状態となる第4の転送回路とを
    有することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】前記第1のカラム選択信号及び前記第2の
    カラム選択信号とは同一信号であり、前記第3のカラム
    選択信号と前記第4のカラム選択信号とは同一信号であ
    ることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】所定電位の前記第1のカラム選択信号と前
    記所定電位の前記第4のカラム選択信号とがそれぞれ前
    記第1の転送回路と前記第4の転送回路へほぼ同時に入
    力することにより、前記第1のメモリブロックから前記
    第1の転送回路を介して前記第1のデータ線ヘデータが
    出力される時間と、前記第4のメモリブロックから前記
    第4の転送回路を介して前記第2のデータ線ヘデータが
    出力される時間とはほぼ同時となることを特徴とする請
    求項1又は2記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】前記第1の転送回路は、前記第1のメモリ
    ブロックの前記ビット線と前記第1のデータ線との間に
    直列に接続される第1のトランジスタと第2のトランジ
    スタとにより構成され、前記第1のトランジスタは前記
    第1のブロック選択信号の信号値に応答して導通状態と
    なり、前記第2のトランジスタは前記第1のカラム選択
    信号の信号値に応答して導通状態となり、前記第2の転
    送回路は、前記第2のメモリブロックの前記ビット線と
    前記第2のデータ線との間に直列に接続される第3のト
    ランジスタと第4のトランジスタとにより構成され、前
    記第3のトランジスタは前記第2のブロック選択信号の
    信号値に応答して導通状態となり、前記第4のトランジ
    スタは前記第2のカラム選択信号の信号値に応答して導
    通状態となり、前記第3の転送回路は、前記第3のメモ
    リブロツクの前記ビット線と前記第1のデータ線との間
    に直列に接続される第5のトランジスタと第6のトラン
    ジスタとにより構成され、前記第5のトランジスタは前
    記第2のブロック選択信号の信号値に応答して導通状態
    となり、前記第6のトランジスタは前記第3のカラム選
    択信号の信号値に応答して導通状態となり、前記第4の
    転送回路は前記第4のメモリブロックの前記ビット線と
    前記第2のデータ線との間に直列に接続される第7のト
    ランジスタと第8のトランジスタとにより構成され、前
    記第7のトランジスタは前記第1のブロツク選択信号の
    信号値に応答して導通状態となり、前記第8のトランジ
    スタは前記第4のカラム選択信号の信号値に応答して導
    通状態となることを特徴とする請求項1乃至3何れか記
    載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】メインワード線を駆動するメインワードド
    ライバと、前記メインワードドライバに接続され、第1
    のブロック選択信号、アドレス信号及び前記メインワー
    ド線の電位に応答して、前記第1のメモリブロックのワ
    ード線を選択する第1のサブワードドライバと、前記メ
    インワードドライバに接続され、前記第2のブロック選
    択信号、第2のアドレス信号及び前記メインワード線の
    電位に応答して、前記第3のメモリブロックのワード線
    を選択する第2のサブワードドライバとを有することを
    特徴とする請求項1乃至4何れか記載の半導体記憶装
    置。
  6. 【請求項6】ブロック選択信号によって選択され、複数
    のメモリセルに蓄積された情報をアクセスする第1ない
    し第4のメモリブロックと、 この第1及び第3のメモリブロックのそれぞれに接続さ
    れる第1のデータラインと、 前記第2及び第4のメモリブロックのそれぞれに接続さ
    れる第2のデータラインと、 前記第1ないし第4のメモリブロックと第1または第2
    のデータラインとを、カラム選択信号に応答して選択的
    にそれぞれ接続する第1ないし第4のスイッチ回路とを
    有する半導体記憶装置において、 前記第1及び第4のメモリブロックは第1共通ブロック
    選択信号によって選択され、前記第2及び第3のメモリ
    ブロックは第2共通ブロック選択信号によって選択され
    前記第1及び第2のスイッチ回路には第1共通カラム選
    択信号が与えられ、前記第3及び第4のスイッチ回路に
    は第2共通カラム選択信号が与えられる半導体記憶装
    置。
  7. 【請求項7】前記第1および第2のメモリブロックなら
    びに前記第3および第4のメモリブロックは第1の方向
    に配列され、 前記第1および第3のメモリブロックならびに前記第2
    および第4のメモリブロックは前記第1の方向と実質的
    に直交する第2の方向に配列された請求項6記載の半導
    体記憶装置。
  8. 【請求項8】前記第1および第2共通カラム選択信号を
    供給する配線が前記第1の方向に配列され、 前記第1および第2のデータラインは前記第2の方向に
    配列された請求項7記載の半導体記憶装置。
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