JP3266650B2 - イミダゾチアゾロン誘導体の調製法 - Google Patents
イミダゾチアゾロン誘導体の調製法Info
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- JP3266650B2 JP3266650B2 JP14802692A JP14802692A JP3266650B2 JP 3266650 B2 JP3266650 B2 JP 3266650B2 JP 14802692 A JP14802692 A JP 14802692A JP 14802692 A JP14802692 A JP 14802692A JP 3266650 B2 JP3266650 B2 JP 3266650B2
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- atoms
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
- C07D513/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D513/04—Ortho-condensed systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般式I
【0002】
【化5】 (式中、R1 はH、または窒素のための保護基、R2 は
H、または1〜5個のC原子を有するアルキル、R3 お
よびR4 は、それぞれ互いに独立して、H、1〜5個の
C原子を有するアルキル、3〜7個のC原子を有するシ
クロアルキル、6〜10個のC原子を有するアリール、
5〜9個のC原子を有するヘテロアリールまたは7〜1
0個のC原子を有するアラルキル、あるいは一緒になっ
て、3〜7個のC原子を有するアルキレンまたはヘテロ
アルキレン)のイミダゾチアゾロン誘導体(化合物I)
の新規の調製法に関する。
H、または1〜5個のC原子を有するアルキル、R3 お
よびR4 は、それぞれ互いに独立して、H、1〜5個の
C原子を有するアルキル、3〜7個のC原子を有するシ
クロアルキル、6〜10個のC原子を有するアリール、
5〜9個のC原子を有するヘテロアリールまたは7〜1
0個のC原子を有するアラルキル、あるいは一緒になっ
て、3〜7個のC原子を有するアルキレンまたはヘテロ
アルキレン)のイミダゾチアゾロン誘導体(化合物I)
の新規の調製法に関する。
【0003】
【従来の技術】これら化合物の調製法は、例えば、ドイ
ツ特許明細書 36 13 245 A1 および 37 03 872 A1 から
既知である。これらはD−(+)−ビオチンの調製のた
めの中間体として用いることができる。
ツ特許明細書 36 13 245 A1 および 37 03 872 A1 から
既知である。これらはD−(+)−ビオチンの調製のた
めの中間体として用いることができる。
【0004】例えば、これらの既知の方法においては、
一般式IIのリンイリド(化合物II)
一般式IIのリンイリド(化合物II)
【0005】
【化6】 (式中、R2 は定義された通りで、Phはフェニルであ
る)を一般式III
る)を一般式III
【0006】
【化7】 (式中、R1 、R3 およびR4 は定義された通りであ
る)のイミダゾチアゾロン誘導体(化合物III)と反
応させる。
る)のイミダゾチアゾロン誘導体(化合物III)と反
応させる。
【0007】イリドIIは、一般式IV
【0008】
【化8】 (式中、XはBrまたはClで、PhおよびR2 は定義
の通りである)のハロゲン化ホスホニウム(化合物I
V)から調製される。しかし、従来の反応条件、とくに
イリドの生産に係る反応条件では、普通の収量をともな
う反応しか期待できない。
の通りである)のハロゲン化ホスホニウム(化合物I
V)から調製される。しかし、従来の反応条件、とくに
イリドの生産に係る反応条件では、普通の収量をともな
う反応しか期待できない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、一般
式Iのイミダゾチアゾロン誘導体の調製のための改良さ
れた方法を開発することである。
式Iのイミダゾチアゾロン誘導体の調製のための改良さ
れた方法を開発することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】驚いたことに、化合物I
Vから化合物IIへの変換において、収量、したがって
この反応ステップの効率をヘキサメチルジシルアジドリ
チウムを用いることおよび反応条件を変えることによっ
て実質的に改善できることが、今、見出された。
Vから化合物IIへの変換において、収量、したがって
この反応ステップの効率をヘキサメチルジシルアジドリ
チウムを用いることおよび反応条件を変えることによっ
て実質的に改善できることが、今、見出された。
【0011】したがって、本発明は、一般式IIのリン
イリドを一般式IIIのイミダゾチアゾロン誘導体と反
応させることによって一般式Iのイミダゾチアゾロン誘
導体を調製する方法であって、一般式IIの化合物がヘ
キサメチルジシルアジドリチウムとの反応によって一般
式IVのハロゲン化ホスホニウムから調製されることを
特徴とする、一般式Iのイミダゾチアゾロン誘導体を調
製する方法に関する。
イリドを一般式IIIのイミダゾチアゾロン誘導体と反
応させることによって一般式Iのイミダゾチアゾロン誘
導体を調製する方法であって、一般式IIの化合物がヘ
キサメチルジシルアジドリチウムとの反応によって一般
式IVのハロゲン化ホスホニウムから調製されることを
特徴とする、一般式Iのイミダゾチアゾロン誘導体を調
製する方法に関する。
【0012】一般式IおよびIIにおいて、基R1 は
H、または窒素に適した保護基である。「窒素に適した
保護基」とは、一般によく知られたもので、化合物Iの
分子中の窒素原子を化学反応から保護する(ブロックす
る)ために適しているが分子の他の部位で所望の化学反
応を起こさせた後は容易に除去できる基を指す。所望の
反応または反応列の後に保護基は除去されるので、これ
らの性質および大きさはもはや重要ではない。好ましい
保護基R1 は、置換されないベンジルであるが、R1 は
また、例えば、一つまたは二つのC1 〜C4 アルキルお
よび/またはC1〜C4 アルコキシ基、あるいはC3 〜
C5 アルク−2−エニルまたはC3 〜C6トリアルキル
シリルで置換されたベンジルでもよい。複数基置換、好
ましくは二基置換、のフェニル環の場合は、置換基は好
ましくは同一であるが、異なってもよい。それらは好ま
しくは、4位および/または2位に位置するが、また、
3、5、および/または6位を占めてもよい。
H、または窒素に適した保護基である。「窒素に適した
保護基」とは、一般によく知られたもので、化合物Iの
分子中の窒素原子を化学反応から保護する(ブロックす
る)ために適しているが分子の他の部位で所望の化学反
応を起こさせた後は容易に除去できる基を指す。所望の
反応または反応列の後に保護基は除去されるので、これ
らの性質および大きさはもはや重要ではない。好ましい
保護基R1 は、置換されないベンジルであるが、R1 は
また、例えば、一つまたは二つのC1 〜C4 アルキルお
よび/またはC1〜C4 アルコキシ基、あるいはC3 〜
C5 アルク−2−エニルまたはC3 〜C6トリアルキル
シリルで置換されたベンジルでもよい。複数基置換、好
ましくは二基置換、のフェニル環の場合は、置換基は好
ましくは同一であるが、異なってもよい。それらは好ま
しくは、4位および/または2位に位置するが、また、
3、5、および/または6位を占めてもよい。
【0013】基R2 は、好ましくは、水素、メチルまた
はエチルである。基R3 およびR4はまとめると、3〜
7個のC原子を有するアルキレンまたはヘテロアルキレ
ンであるが、好ましくは、それぞれ独立して、H、アル
キル、とくにメチルまたはエチル、アリール、とくにフ
ェニル、またはアラルキル、とくにベンジルである。と
くに好ましくは、これらの基の一つがHであり、もう一
つがフェニルである。
はエチルである。基R3 およびR4はまとめると、3〜
7個のC原子を有するアルキレンまたはヘテロアルキレ
ンであるが、好ましくは、それぞれ独立して、H、アル
キル、とくにメチルまたはエチル、アリール、とくにフ
ェニル、またはアラルキル、とくにベンジルである。と
くに好ましくは、これらの基の一つがHであり、もう一
つがフェニルである。
【0014】Xは、好ましくはBrである。
【0015】一般式IVの化合物は、例えば、Houben-W
eyl, Methoden der Organischen Chemie(有機化学の方
法)(Thieme Verlag, Stuttgart, 第4版)の5/16
巻、12/1巻または12/2巻に記載の方法などの既
知の方法で調製することができる。
eyl, Methoden der Organischen Chemie(有機化学の方
法)(Thieme Verlag, Stuttgart, 第4版)の5/16
巻、12/1巻または12/2巻に記載の方法などの既
知の方法で調製することができる。
【0016】一般式IIの化合物は、ヘキサメチルジシ
ルアジドリチウムを用いることによって調製される。リ
チウム試薬は、ヘキサメチルジシラザンを、好ましくは
1当量のn−ヘキサン中のn−ブチルリチウムととも
に、−10〜25℃、好ましくは10〜15℃で、好ま
しくは1〜60分間、特に好ましくは10〜20分間、
不活性ガス雰囲気中で処理することによって、調製する
ことができる。これは通常その場で用いられる。
ルアジドリチウムを用いることによって調製される。リ
チウム試薬は、ヘキサメチルジシラザンを、好ましくは
1当量のn−ヘキサン中のn−ブチルリチウムととも
に、−10〜25℃、好ましくは10〜15℃で、好ま
しくは1〜60分間、特に好ましくは10〜20分間、
不活性ガス雰囲気中で処理することによって、調製する
ことができる。これは通常その場で用いられる。
【0017】続いて、上記反応混合物を、希釈しないで
または不活性溶媒、好ましくはテトラヒドロフラン(T
HF)、ヘキサンまたはペンタン、で希釈して、化合物
IVの溶液または懸濁液に滴下して加えることができ
る。化合物IVのための適当な溶媒または懸濁剤の例
は、既述した通りである。
または不活性溶媒、好ましくはテトラヒドロフラン(T
HF)、ヘキサンまたはペンタン、で希釈して、化合物
IVの溶液または懸濁液に滴下して加えることができ
る。化合物IVのための適当な溶媒または懸濁剤の例
は、既述した通りである。
【0018】反応時間は、0.5〜3時間で、0℃と3
0℃の間の温度が推奨される。
0℃の間の温度が推奨される。
【0019】一般式IIIのニトリルは、例えば、ドイ
ツ特許明細書 36 13 245 A1 および37 03 872 A1 およ
びその中で引用された参考文献に記載された方法等の既
知の方法によって調製することができる。
ツ特許明細書 36 13 245 A1 および37 03 872 A1 およ
びその中で引用された参考文献に記載された方法等の既
知の方法によって調製することができる。
【0020】化合物IIを化合物IIIと反応させるた
めに、一つの反応物を反応容器に入れて、第二の成分を
0℃と50℃との間の温度、好ましくは20℃〜30
℃、で滴下して加えて、次いで反応混合物を好ましくは
約5〜180分間室温で攪拌して反応を完成させればよ
い。
めに、一つの反応物を反応容器に入れて、第二の成分を
0℃と50℃との間の温度、好ましくは20℃〜30
℃、で滴下して加えて、次いで反応混合物を好ましくは
約5〜180分間室温で攪拌して反応を完成させればよ
い。
【0021】この目的のために、ニトリル(化合物II
I)を、例えばエーテル、好ましくはジエチルエーテ
ル、THFまたはジオキサン、あるいはアセトン、ジエ
チルケトンまたはメチルイソブチルケトンなどのケト
ン、あるいはヘキサン、ペンタンまたはシクロヘキサン
などの炭化水素などの不活性溶媒、または該溶媒の混合
物に溶解する。
I)を、例えばエーテル、好ましくはジエチルエーテ
ル、THFまたはジオキサン、あるいはアセトン、ジエ
チルケトンまたはメチルイソブチルケトンなどのケト
ン、あるいはヘキサン、ペンタンまたはシクロヘキサン
などの炭化水素などの不活性溶媒、または該溶媒の混合
物に溶解する。
【0022】とくに好ましくは、化合物IIIをTHF
またはTHFとヘキサンとの混合物中に溶解し、THF
とヘキサンとの混合物による化合物IIの希釈溶液を2
0℃から30℃の間の温度で滴下して加える。
またはTHFとヘキサンとの混合物中に溶解し、THF
とヘキサンとの混合物による化合物IIの希釈溶液を2
0℃から30℃の間の温度で滴下して加える。
【0023】このようにして得られる一般式Iの化合物
を既知のエステル化または鹸化によって互いに変換し
て、ドイツ特許明細書 36 13 245 A1 および 37 03 872
A1に記載の方法に従ってD−(+)−ビオチンを得る
ためにさらに反応させることができる。
を既知のエステル化または鹸化によって互いに変換し
て、ドイツ特許明細書 36 13 245 A1 および 37 03 872
A1に記載の方法に従ってD−(+)−ビオチンを得る
ためにさらに反応させることができる。
【0024】このように本発明による方法は、容易に入
手できる安価な出発材料を用いる、収率の高い、D−
(+)−ビオチン前駆体である化合物Iのより優れた調
製法を提供することができる。
手できる安価な出発材料を用いる、収率の高い、D−
(+)−ビオチン前駆体である化合物Iのより優れた調
製法を提供することができる。
【0025】以下の実施例中、「従来の精製」とは、次
のことを意味する。
のことを意味する。
【0026】必要であれば、水または希釈無機酸を加え
て、混合物を酢酸エチル、クロロホルムまたは塩化メチ
レンなどの有機溶媒で抽出して、有機相を分離して、硫
酸ナトリウム上で乾燥して、濾過して、シリカゲル/活
性炭で処理して、再濾過してから蒸発させて、残滓をク
ロマトグラフィーおよび/または結晶化によって精製す
る。
て、混合物を酢酸エチル、クロロホルムまたは塩化メチ
レンなどの有機溶媒で抽出して、有機相を分離して、硫
酸ナトリウム上で乾燥して、濾過して、シリカゲル/活
性炭で処理して、再濾過してから蒸発させて、残滓をク
ロマトグラフィーおよび/または結晶化によって精製す
る。
【0027】本明細書中、全ての温度は摂氏で表す。
【0028】
[実施例1]74.3gのヘキサメチルジシラザンを、
15℃で、窒素雰囲気下で反応容器に入れたn−ヘキサ
ンに溶かした275mlのn−ブチルリチウム溶液
(1.6モル)に滴下して加えて、混合物を室温に温め
ながら15分間攪拌する。200mlのTHFで希釈し
た後、ヘキサメチルジシルアジドリチウムを含む反応混
合物を、300mlのTHFに懸濁させた88.7gの
4−カルボキシブチルトリフェニルホスホニウム臭化物
懸濁液に滴下して加え、得られる混合物を室温でさらに
15分間攪拌する。溶液は、ここで、対応するイリドを
含む。
15℃で、窒素雰囲気下で反応容器に入れたn−ヘキサ
ンに溶かした275mlのn−ブチルリチウム溶液
(1.6モル)に滴下して加えて、混合物を室温に温め
ながら15分間攪拌する。200mlのTHFで希釈し
た後、ヘキサメチルジシルアジドリチウムを含む反応混
合物を、300mlのTHFに懸濁させた88.7gの
4−カルボキシブチルトリフェニルホスホニウム臭化物
懸濁液に滴下して加え、得られる混合物を室温でさらに
15分間攪拌する。溶液は、ここで、対応するイリドを
含む。
【0029】次いで、150mlのTHFに溶解した5
0.3gの(7R、7aR)−3−フェニル−6−ベン
ジル−7−シアノ−7、7a−ジヒドロ−1H、4H−
イミダゾ[1、5−c]チアゾル−5(6H)−オンと
(7S、7aR)−3−フェニル−6−ベンジル−7−
シアノ−7、7a−ジヒドロ−1H、4H−イミダゾ
[1、5−c]チアゾル−5(6H)−オンとの混合物
を、再び室温で、この溶液に滴下して加える。得られる
混合物をさらに1.5時間攪拌して、従来の精製の後、
46.0gの3−フェニル−6−ベンジル−7−(5−
カルボキシ−1−オキソペンチル)−7、7a−ジヒド
ロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾル−5
(6H)−オンを得る。 [実施例2] 実施例1と同様にして、92.4gの4−メトキシカル
ボニルブチルトリフェニルホスホニウム臭化物から出発
して、ヘキサメチルジシルアジドリチウムとの反応およ
び続いての、生成物と、51.2gの(7R、7aR)
−3−フェニル−6−ベンジル−7−シアノ−7、7a
−ジヒドロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チア
ゾル−5(6H)−オン及び(7S、7aR)−3−フ
ェニル−6−ベンジル−7−シアノ−7、7a−ジヒド
ロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾル−5
(6H)−オンからなる混合物との反応によって、4
7.3gの3−フェニル−6−ベンジル−7−(5−メ
トキシカルボニル−1−オキソペンチル)−7、7a−
ジヒドロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾ
ル−5(6H)−オンを得る。 [α]D 25=−171.3゜、c=1(ベンゼン) [実施例3] 実施例1と同様にして、99.7gの4−エトキシカル
ボニルブチルトリフェニルホスホニウム臭化物から出発
して、ヘキサメチルジシルアジドリチウムとの反応およ
び続いての、生成物と、53.7gの(7R、7aR)
−3−フェニル−6−ベンジル−7−シアノ−7、7a
−ジヒドロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チア
ゾル−5(6H)−オン及び(7S、7aR)−3−フ
ェニル−6−ベンジル−7−シアノ−7、7a−ジヒド
ロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾル−5
(6H)−オンとからなる混合物との反応によって、4
8.7gの3−フェニル−6−ベンジル−7−(5−エ
トキシカルボニル−1−オキソペンチル)−7、7a−
ジヒドロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾ
ル−5(6H)−オンを得る。 [α]D 25=−170.0゜、c=1(ベンゼン)
0.3gの(7R、7aR)−3−フェニル−6−ベン
ジル−7−シアノ−7、7a−ジヒドロ−1H、4H−
イミダゾ[1、5−c]チアゾル−5(6H)−オンと
(7S、7aR)−3−フェニル−6−ベンジル−7−
シアノ−7、7a−ジヒドロ−1H、4H−イミダゾ
[1、5−c]チアゾル−5(6H)−オンとの混合物
を、再び室温で、この溶液に滴下して加える。得られる
混合物をさらに1.5時間攪拌して、従来の精製の後、
46.0gの3−フェニル−6−ベンジル−7−(5−
カルボキシ−1−オキソペンチル)−7、7a−ジヒド
ロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾル−5
(6H)−オンを得る。 [実施例2] 実施例1と同様にして、92.4gの4−メトキシカル
ボニルブチルトリフェニルホスホニウム臭化物から出発
して、ヘキサメチルジシルアジドリチウムとの反応およ
び続いての、生成物と、51.2gの(7R、7aR)
−3−フェニル−6−ベンジル−7−シアノ−7、7a
−ジヒドロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チア
ゾル−5(6H)−オン及び(7S、7aR)−3−フ
ェニル−6−ベンジル−7−シアノ−7、7a−ジヒド
ロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾル−5
(6H)−オンからなる混合物との反応によって、4
7.3gの3−フェニル−6−ベンジル−7−(5−メ
トキシカルボニル−1−オキソペンチル)−7、7a−
ジヒドロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾ
ル−5(6H)−オンを得る。 [α]D 25=−171.3゜、c=1(ベンゼン) [実施例3] 実施例1と同様にして、99.7gの4−エトキシカル
ボニルブチルトリフェニルホスホニウム臭化物から出発
して、ヘキサメチルジシルアジドリチウムとの反応およ
び続いての、生成物と、53.7gの(7R、7aR)
−3−フェニル−6−ベンジル−7−シアノ−7、7a
−ジヒドロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チア
ゾル−5(6H)−オン及び(7S、7aR)−3−フ
ェニル−6−ベンジル−7−シアノ−7、7a−ジヒド
ロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾル−5
(6H)−オンとからなる混合物との反応によって、4
8.7gの3−フェニル−6−ベンジル−7−(5−エ
トキシカルボニル−1−オキソペンチル)−7、7a−
ジヒドロ−1H、3H−イミダゾ[1、5−c]チアゾ
ル−5(6H)−オンを得る。 [α]D 25=−170.0゜、c=1(ベンゼン)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (73)特許権者 591032596 Frankfurter Str. 250,D−64293 Darmstadt, Federal Republic o f Germany (72)発明者 ミヒャエル カズット ドイツ連邦共和国 デー−6100 ダルム シュタットフランクフルター シュトラ ーセ 250 (56)参考文献 特開 昭62−255496(JP,A) 特表 昭61−500551(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 513/04 325 C07D 513/20 C07F 9/54 CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式I 【化1】 (式中、 R1 はH、または窒素に適する保護基、 R2 はH、または1〜5個のC原子を有するアルキル、 R3 およびR4 は、それぞれ互いに独立して、H、1〜
5個のC原子を有するアルキル、3〜7個のC原子を有
するシクロアルキル、6〜10個のC原子を有するアリ
ール、5〜9個のC原子を有するヘテロアリールまたは
7〜10個のC原子を有するアラルキル、あるいは一緒
になって、3〜7個のC原子を有するアルキレンまたは
ヘテロアルキレン) のイミダゾチアゾロン誘導体の製造法であって、 一般式II 【化2】 (式中、R2 は定義された通りで、Phはフェニルであ
る) のリンイリドを 一般式III 【化3】 (式中、R1 、R3 およびR4 は定義された通りであ
る) のイミダゾチアゾロン誘導体と反応させることによって
なり、 一般式IIの化合物は、一般式IV 【化4】 のハロゲン化ホスホニウムから、ヘキサメチルシラザン
とn−ヘキサン中のn−ブチルリチウムとの、不活性ガ
ス雰囲気下に−10℃〜25℃の温度における反応によ
り得られるヘキサメチルジシルアジドリチウムとの反応
によって調製されることを特徴とする、イミダゾチアゾ
ロン誘導体の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4116157.2 | 1991-05-17 | ||
DE4116157A DE4116157A1 (de) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | Verfahren zur herstellung von imidazothiazolon-derivaten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05208981A JPH05208981A (ja) | 1993-08-20 |
JP3266650B2 true JP3266650B2 (ja) | 2002-03-18 |
Family
ID=6431868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14802692A Expired - Fee Related JP3266650B2 (ja) | 1991-05-17 | 1992-05-15 | イミダゾチアゾロン誘導体の調製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
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