JP3264926B2 - ３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド誘導体及びその製造方法 - Google Patents

３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド誘導体及びその製造方法

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JP3264926B2
JP3264926B2 JP51233493A JP51233493A JP3264926B2 JP 3264926 B2 JP3264926 B2 JP 3264926B2 JP 51233493 A JP51233493 A JP 51233493A JP 51233493 A JP51233493 A JP 51233493A JP 3264926 B2 JP3264926 B2 JP 3264926B2
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純夫 梅沢
修 土屋
俊治 陰山
俊昭 三宅
直樹 松本
嘉一郎 小湊
博 田中
武男 吉岡
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
    • C07H17/08—Hetero rings containing eight or more ring members, e.g. erythromycins

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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 この発明は、優れた感染防御作用を有する抗菌性物質
である3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライ
ドを製造するために有用な製造中間体ならびに該化合物
の製造方法に関するものである。
背景技術 3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド又
はその塩は、グラム陽性及び陰性に属する微生物に対し
て抗菌活性を示す物質であり、特に感染防御作用に優れ
た抗菌剤として有用である（特開平２−275894号公
報）。
3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド
は、タイロシンの酸加水分解物であるマイカミノシルタ
イロノライドの官能基を保護した後に、３位及び４′位
の水酸基をデオキシ化し、さらに脱保護することにより
製造することができる。４′位の水酸基のデオキシ化方
法としては、例えば、３位と４′位の水酸基をスルホニ
ル化した後に、ジャーナル・オブ・アンティバイオティ
ックス（J.Antibiotics 34、1374〜1376頁）、又は特開
平２−191295号公報に記載された方法により４′位の水
酸基をハロゲン化し、更に水素化トリブチル錫を用いて
ハロゲン原子を還元的に除去する方法が知られている。
３位の水酸基については、アルカリ条件下でスルホン酸
を脱離させて二重結合を形成させた後、二重結合を接触
還元することによりデオキシ化を行うことができる。
しかし、これらの方法により3,4′−ジデオキシマイ
カミノシルタイロノライドを製造するには、３位及び
４′位のデオキシ化を行うにあたって、両水酸基をスル
ホニル化;4′位のハロゲン化および水素化トリブチル錫
による該ハロゲン原子の還元的除去；ならびに３位のス
ルホニルオキシ基の脱離による二重結合形成工程および
二重結合の還元を行わなければならないので、収率が低
くなるという問題があった。さらに、４′位のデオキシ
化に使用する水素化トリブチル錫は悪臭を伴い、反応後
の生成物の精製が困難になるので、この反応を工業的に
応用することには問題があった。
従って本発明は、3,4′−ジデオキシマイカミノシル
タイロノライドを製造するための有用な製造中間体を提
供することを目的としている。また、効率よく３位及び
４′位のデオキシ化を行う方法を提供することを目的と
している。
発明の開示 本発明は、3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロ
ノライドを製造するための有用な製造中間体として、以
下の式（Ｉ）： （式中、Ａは保護されていてもよいカルボニル基を示
し;Bは保護されていてもよいアルデヒド基を示し;R1は
下記一般式（II）で表わされる基を示し;R2は水素原子
またはアシル基を示し;Wは水素原子、または置換スルホ
ニルオキシ基を示し;Yは水素原子、ハロゲン原子、また
は置換スルホニルオキシ基を示す。ただし、 は単結合を示す）で示される化合物を提供するものであ
る。
（式中、ＺはCHR4またはＣ＝０を示し、R4は保護されて
いてもよい水酸基を示す） また、本発明によれば、 （ｉ）Ａ、Ｂ、およびR2が上記の定義のとおりであり、
R1が水酸基又は上記一般式（II）で表わされる基、Ｗが
置換スルホニルオキシ基であり、Ｙがハロゲン原子であ
り、 が単結合である式（Ｉ）の化合物を、アルカリ条件下で
還元して、Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記の定義のとおり
であり、ＷおよびＹが水素原子であり、 が単結合である化合物を製造する方法；ならびに （ii）Ａ、Ｂ、およびR2が上記定義のとおりであり、R1
が水酸基又は上記一般式（II）で表わされる基、Ｗおよ
びＹが水酸基であり、 が単結合である化合物をスルホニル化剤を反応させて、
Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記定義のとおりであり、Ｗお
よびＹが置換スルホニルオキシ基であり、 が単結合である式（Ｉ）の化合物を製造する工程；上記
工程で得られた化合物をハロゲン化剤と反応させて、
Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記定義のとおりであり、Ｗが
置換スルホニルオキシ基であり、Ｙがハロゲン原子であ
り、 が単結合である式（Ｉ）の化合物を製造する工程；およ
び、上記工程で得られた化合物をアルカリ条件下で還元
して、Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記定義のとおりであ
り、ＷおよびＹが水素原子であり、 が単結合である式（Ｉ）の化合物を製造する方法、 が提供される。
発明を実施するための最良の形態 本発明の式（Ｉ）で示される化合物において、Ａは保
護されていてもよいカルボニル基を示し、Ｂは保護され
ていてもよいアルデヒド基を示す。カルボニル基又はア
ルデヒド基の保護基としては、当業者に自明なものなら
ば、いかなるものを使用してもよい。例えば、ジメチル
アセタール（ジメチルケタール）、ジエチルアセタール
（ジエチルケタール、ジエチルチオアセタール（ジエチ
ルチオケタール）、エチレンアセタール（エチレンケタ
ール）、プロピレンアセタール（プロピレンケタール）
等のアセタール（又はチオアセタール）又はケタール
（又はチオケタール）や、これらの基にさらにメチル基
などの置換基を有するものなどを用いることができる。
本発明の式（Ｉ）で示される化合物において、R1は一
般式（II）で表わされる基を示す。一般式（II）中の水
酸基の保護基としては、当業者に自明なものならばいか
なるものを用いてもよい。例えばｔ−ブチルジメチルシ
リル、ジメチルセキシルシリル、トリメチルシリル、ト
リエチルシリル、トリ（ｔ−ブチル）シリル等のアルキ
ルシリル基、トリチル基、テトラヒドロピラニル基、テ
トラヒドロフラニル基、アリル（allyl）基、例えば置
換または未置換のアセチル基等の低級アルカノイル基、
ベンゾイル基、ベンジル基、メトキシメチル基、または
ベンジルオキシカルボニル基等を使用することができ
る。置換または未置換のアセチル基としては、フルオロ
アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセ
チル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリ
クロロアセチル基、ブロモアセチル基、ジブロモアセチ
ル基等のハロゲン置換アセチル基、または、メトキシア
セチル基、エトキシアセチル基、フェノキシアセチル基
などのアルコキシアセチル基を用いることができる。
本発明の式（Ｉ）で示される化合物において、R2は水
素原子又はアシル基を示す。アシル基としては、例え
ば、低級アルカノイル基、低級アルケノイル基、アロイ
ル基、またはフェニル（低級）アルカノイル基等を用い
ることができる。低級アルカノイル基としては、例え
ば、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアルカノイル基を
挙げることができる。より具体的には、アシル基とし
て、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバ
レリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基等のアルカノ
イル基、ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイル基な
どのアロイル基、フェニルアセチル基、フェニルプロピ
オニル基、フェニルヘキサノイル基などのフェニル（低
級）アルカノイル基などを用いることができる。
本発明の式（Ｉ）で示される化合物において、Ｗは水
素原子、または置換スルホニルオキシ基を示す。置換ス
ルホニルオキシ基は−OSO2R3で示される基である。上記
の式において、R3は、例えば、低級アルキル基、トリフ
ルオロメチル基、２−オキソ−10−ボルナニイル基、置
換または未置換のアリール基、もしくは置換又は未置換
のアラルキル基等を示す。低級アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチ
ル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、ネオ
ペンチル基などを挙げることができる。置換または未置
換のアリール基としては、フェニル基、ｐ−メトキシフ
ェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−フルオロフェニ
ル基、o,p−ジフルオロフェニル基、ｐ−クロロフェニ
ル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、
o,p−ジクロロフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ
−メチルフェニル基、ｍ−メチルフェニル基、o,p−ジ
メチルフェニル基、m,p−ジメチルフェニル基、ナフチ
ル基等を挙げることができる。置換または未置換のアラ
ルキル基としては、例えば、ベンジル基、ｐ−ニトロベ
ンジル基、o,p−ジニトロベンジル基、ｐ−クロロベン
ジル基、ｍ−クロロベンジル基、ｐ−メチルベンジル
基、ｍ−メチルベンジル基、ｏ−メチルベンジル基、o,
p−ジメチルベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ま
たはｐ−フルオロベンジル基を挙げることができる。
本発明の式（Ｉ）で示される化合物において、Ｙは水
素原子、ハロゲン原子、または置換スルホニルオキシ基
を示す。ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子等のいずれを用いてもよい。置換ス
ルホニルオキシ基としては、上記のものを用いればよ
い。Ｙがハロゲン原子、または置換スルホニルオキシ基
を示す場合には、置換基Ｙの立体配置は、隣接するジメ
チルアミノ基（−Ｎ（CH3）２）に対して、シス配置ま
たはトランス配置のいずれであってもよい。従って、式
（Ｉ）で示される化合物には、置換基Ｙの立体配置が隣
接するジメチルアミノ基（−Ｎ（CH3）２）に対してシ
ス配置またはトランス配置をとる幾何異性体、およびそ
れらの異性体の任意の割合の混合物が含まれる。また、
本発明の式（Ｉ）で示される化合物において、 は単結合を示す。
上記の化合物において、ＺはCHR4またはＣ＝０を示
し、R4は保護されていてもよい水酸基を示す。保護され
ていてもよい水酸基としては、マイシノシル基で保護さ
れた水酸基を除く上記のものを用いればよい。
本発明の化合物は、例えば、以下に示すスキームに従
って製造することができるが、本発明の化合物およびそ
の製造方法は、これらのスキームに記載された化合物お
よび製造方法に限定されることはない。スキーム中に記
載された化合物の番号は、本明細書に記載された実施例
の番号に対応している。
略語表 Ac:アセチル Bes:ベンジルスルホニル DM:デスマイコシン DMT:デマイシノシルタイロシン Do:デオキシ ED:エチレンジオキシ iVal:イソバレリル Ms:メタンスルホニル MT:マイカミノシルタイロノライド TBDS:t−ブチルジメチルシリル TMS:トリメチルシリル EDMT:マイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エ
チレンアセタール） TBDS−EDMT:23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルマイカ
ミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセタ
ール） 3,4′−Bes−TBDS−EDMT:3,4′−ジ−Ｏ−ベンジルスル
ホニル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルマイカミノ
シルタイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセター
ル） ３−Bes−４′−Ｉ−TBDS−EDMT:3−Ｏ−ベンジルスル
ホニル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−４′−デ
オキシ−４′−ヨードマイカミノシルタイロノライド
9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,4′−Do−TBDS−EDMT:23−Ｏ−ｔ−ブチルメチルシリ
ル−3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド
9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,4′−Do−MT:3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイ
ロノライド ２′−Ac−EDDM:2′−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,
20−ビス（エチレンアセタール） ２′−Ac−４″−TMS−EDDM:2′−Ｏ−アセチル−４″
−Ｏ−トリメチルシリルデスマイコシン 9,20−ビス
（エチレンアセタール） ２′,4″−Ac−EDDM:2′,4″−ジ−Ｏ−アセチルデスマ
イコシン 9,20−ビス（エチレンアセタール） ２′−Ac−3,4′−Ms−４″−TMS−EDDM:2′−Ｏ−アセ
チル−3,4′−ジ−Ｏ−メタンスルホニル−４″−Ｏ−
トリメチルシリルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレ
ンアセタール） ２′−Ac−４′−Ｉ−3Ms−４″−TMS−EDDM:2′−Ｏ−
アセチル−４′−デオキシ−４′−ヨード−３−Ｏ−メ
タンスルホニル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデスマイ
コシン 9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,4′−Do−EDDM:3,4′−ジデオキシデスマイコシン
9,20−ビス（エチレンアセタール） ２′−Ac−3,4′−Do−EDDM:2′−Ｏ−アセチル−3,4′
−ジデオキシデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンア
セタール） ２′−Ac−3,4′−Do−４″−Oxo−EDDM:2′−Ｏ−アセ
チル−3,4′−ジデオキシ−４″−オキソデスマイコシ
ン 9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,4′−Do−EDMT:3,4′−ジデオキシマイカミノシルタ
イロノライド 9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,2′,4″−Ac−EDDM:3,2′,4″−トリ−Ｏ−アセチル
デスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタール） ２′,4″−Ac−Δ２−EDDM:2′,4″−ジ−Ｏ−アセチル
−2,3−デヒドロ−３−デオキシデスマイコシン 9,20
−ビス（エチレンアセタール） ２′,4″−Ac−Δ２−４′−EDDM:2′,4″−ジ−Ｏ−ア
セチル−2,3−デヒドロ−３−デオキシ−４′−Ｏ−メ
タンスルホニルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレン
アセタール） ２′,4″−Ac−Δ２−４′−Ｉ−EDDM:2′,4″−ジ−Ｏ
−アセチル−2,3−デヒドロ−3,4′−ジデオキシ−４′
−ヨードデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタ
ール） 3,2′,4″−Ac−４′−Ms−EDDM:3,2′,4″−トリ−Ｏ
−アセチル−４′−Ｏ−メタンスルホニルデスマイコシ
ン 9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,2′,4″−Ac−４′−Ｉ−EDDM:3,2′,4″−トリ−Ｏ
−アセチル−４′−デオキシ−４′−ヨードデスマイコ
シン 9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,2′−Ac−４″−iVal−DMT:3,2′−ジ−Ｏ−アセチル
−４″−Ｏ−イソバレリルデマイシノシルタイロシン 3,2′−Ac−MT:3,2′−Ｏ−アセチルマイカミノシルタ
イロノライド 3,2′−Ac−EDMT:3,2′−ジ−Ｏ−アセチルマイカミノ
シルタイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセター
ル） 3,2′−Ac−TBDS−EDMT:3,2′−ジ−Ｏ−アセチル−23
−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルマイカミノシルタイロ
ノライド 9,20−ビス（エチレンアセタール） ２′−Ac−Δ２−TBDS−EDMT:2′−Ｏ−アセチル−23−
Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−2,3−デヒドロ−３−
デオキシマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス
（エチレンアセタール） ２′−Ac−Δ２−４′−Ms−TBDS−EDMT:2′−Ｏ−アセ
チル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−2,3−デヒ
ドロ−３−デオキシ−４′−Ｏ−メタンスルホニルマイ
カミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセ
タール） ２′−Ac−Δ２−４′−Ｉ−TBDS−EDMT:2′−Ｏ−アセ
チル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−2,3−デヒ
ドロ−3,4′−ジデオキシ−４′−ヨードマイカミノシ
ルタイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,2′−Ac−４′−Ms−TBDS−EDMT:3,2′−ジ−Ｏ−ア
セチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−４′−Ｏ
−メタンスルホニルマイカミノシルタイロノライド 9,
20−ビス（エチレンアセタール） 3,2′−Ac−４′−Ｉ−TBDS−EDMT:3,2′−ジ−Ｏ−ア
セチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−3,4′−
ジデオキシ−４′−ヨードマイカミノシルタイロノライ
ド 9,20−ビス（エチレンアセタール） 本発明によれば、 （ｄ）Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記の定義のとおりであ
り、Ｗが置換スルホニルオキシ基であり、Ｙがハロゲン
原子であり、 が単結合である式（Ｉ）の化合物を、アルカリ条件下で
還元して、Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記の定義のとおり
であり、ＷおよびＹは水素原子であり、 が単結合である化合物を製造する方法；ならびに （ｅ）Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記定義のとおりであ
り、ＷおよびＹが水酸基であり、 が単結合である化合物をスルホニル化剤を反応させて、
Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記定義のとおりであり、Ｗお
よびＹが置換スルホニルオキシ基であり、 が単結合である式（Ｉ）の化合物を製造する工程；上記
工程で得られた化合物をハロゲン化剤と反応させて、
Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記定義のとおりであり、Ｗが
置換スルホニルオキシ基であり、Ｙがハロゲン原子であ
り、 が単結合である式（Ｉ）の化合物を製造する工程；およ
び、上記工程で得られた化合物をアルカリ条件下で還元
して、Ａ、Ｂ、R1、およびR2が上記定義のとおりであ
り、ＷおよびＹが水素原子であり、 が単結合である式（Ｉ）の化合物を製造する方法、 が提供される。これらの製造方法により製造されるＡ、
Ｂ、R1、およびR2が上記の定義のとおりであり、Ｗおよ
びＹが水素原子であり、 が単結合である化合物も本発明において好ましい化合物
である。
製造スキーム１、２に示すマイカミノシルタイロノラ
イド誘導体は、容易に入手可能なタイロシンから製造す
ることができる。例えば、タイロシンを酸加水分解して
得たマイカミノシルタイロノライドの水酸基、アルデヒ
ド基、及びカルボニル基を、必要に応じて上記の保護基
により保護することにより製造すればよい。また、例え
ば、ジャーナル・オブ・アンティバイオティクス（35,6
61,1982）に記載された方法により、タイロシンを酸無
水物で処理して２′−Ｏ−アシルタイロシンを得、さら
に該化合物を酸加水分解と同時に、又は、行なったあと
保護基で保護することにより、マイシノシル基を有する
マイカミノシルタイロノライド誘導体を製造してもよ
い。
このようにして製造されるマイカミノシルタイロノラ
イド誘導体を、スルホニル化剤と反応させることによ
り、３位及び４′位の水酸基が置換スルホニルオキシ基
に変換された化合物を製造することができる。例えば、
スルホニル化剤としてハロゲン化物や無水物を使用すれ
ばよいが、所望の置換スルホニルオキシ基を与えるスル
ホニル化剤は、当業者により容易に選択される。スルホ
ニル化剤として、例えば、メタンスルホニルクロリド、
メタンスルホン酸無水物、エタンスルホニルクロリド、
プロパンスルホニルクロリド、ブタンスルホニルクロリ
ド、ペンタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタン
スルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸無
水物、ベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−メトキシフェ
ニルスルホニルクロリド、ｐ−ニトロフェニルスルホニ
ルクロリド、ｐ−フルオロフェニルスルホニルクロリ
ド、o,p−ジフルオロフェニルスルホニルクロリド、ｐ
−クロロフェニルスルホニルクロリド、ｍ−クロロフェ
ニルスルホニルクロリド、ｏ−クロロフェニルスルホニ
ルクロリド、o,p−ジクロロフェニルスルホニルクロリ
ド、ｐ−ブロモフェニルスルホニルクロリド、ｐ−メチ
ルフェニルスルホニルクロリド、ｐ−メチルフェニルス
ルホン酸無水物、ｍ−メチルフェニルスルホニルクロリ
ド、o,p−ジメチルフェニルスルホニルクロリド、m,p−
ジメチルフェニルスルホニルクロリド、ナフチルスルホ
ニルクロリド、カンファースルホニルクロリド、ベンジ
ルスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンジルスルホニル
クロリド、o,p−ジニトロベンジルスルホニルクロリ
ド、ｐ−クロロベンジルスルホニルクロリド、ｍ−クロ
ロベンジルスルホニルクロリド、ｐ−メチルベンジルス
ルホニルクロリド、ｍ−メチルベンジルスルホニルクロ
リド、ｏ−メチルベンジルスルホニルクロリド、o,p−
ジメチルベンジルスルホニルクロリド、ｐ−メトキシベ
ンジルスルホニルクロリド、ｐ−フルオロベンジルスル
ホニルクロリド等を用いればよいが、これらに限定され
ることはない。
上記のスルホニル化剤を用いたスルホニル化反応は、
通常−40℃〜＋50℃の温度下に有機溶媒中で行えばよ
い。溶媒としては、例えば、アセトニトリル、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジメチルスルホキシド、ジオ
キサン、トルエン等を使用すればよい。ピリジン、４−
ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン等を、塩基
性触媒及び／又は溶媒としても使用してもよい。
３位及び４′位の水酸基が置換スルホニルオキシ基に
変換された上記のマイカミノシルタイロノライド誘導体
を、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジメトキシ
エタン、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中で、ヨ
ウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化リチウム、臭化
テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニ
ウム等のハロゲン化剤と反応させることにより、選択的
に４′位がハロゲン化された化合物を製造することがで
きる。ハロゲン化反応は通常、置換スルホニルオキシ基
の種類に応じて室温〜100℃で行えばよい。ハロゲン化
の条件によっては、2,3位又は3,4位が二重結合になった
化合物が一部生成する場合があるが、これらの化合物を
次工程の原料化合物として用いてもよい。
３位及び４′位の水酸基がそれぞれ置換スルホニルオ
キシ基およびハロゲン原子である上記の化合物をアルカ
リ条件下で還元することにより、３位及び４′位を同時
に水素置換して、3,4′−ジデオキシ誘導体を製造する
ことができる。この反応は、例えば、反応に不活性な溶
媒中で、触媒を用いた触媒還元により行うことができ
る。アルカリ条件を形成するために用いる塩基として
は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等、好ましく
は炭酸カリウムを用いることができる。これらの塩基
は、通常、基質となる３−置換スルホニルオキシ−４′
−ハロゲン化合物に対して１〜５モルの割合で使用され
る。接触還元に使用する触媒としては、白金、パラジウ
ム、ラネーニッケル等、好ましくはラネーニッケルを挙
げることができる。触媒の使用量は、触媒の種類により
異なるが、一般に、基質の化合物に対して1/10〜１の割
合（重量）で使用すればよい。不活性溶媒としては、メ
タノール、エタノール、テトラヒドロフラン等の溶媒を
挙げることができる。接触還元は、例えば、水素の添加
圧を常圧〜5kg/cm2とし、反応温度を、例えば、冷却下
〜室温、好ましくは−10〜30℃として行えばよい。これ
らの条件は原料化合物や触媒の種類により異なるが、当
業者により適宜選択されるものである。
上記の反応によれば、３−置換スルホニルオキシ−
４′−ハロゲン化合物の３位及び４′位を同時に水素置
換することができるので、一段階かつ高収率で、3,4′
−ジデオキシ化合物を製造することができる。このよう
にして得られた3,4′−ジデオキシ化合物は、常法に従
って保護基を除去することにより、抗菌剤として有用な
3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド又は
その塩に変換することができる。保護基の除去は、通
常、水の存在下に塩酸、硫酸等の鉱酸で処理するか、酢
酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸等の有機酸で処
理することにより行えばよい。場合によっては、ジオキ
サン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル等の溶媒中で、ｐ−トルエンスルホン酸
等のアリールスルホン酸、メタンスルホン酸等のアルキ
ルスルホン酸等を用いて、室温〜加熱下で処理すること
によっても行うことができる。一方、水酸基の保護基と
してマイシノシル基を用いた場合には、マイシノシル基
を酸化して対応するケトン体とした後に、酸または塩基
を用いた処理により除去してもよい。
本発明の式（Ｉ）の化合物において、Ａ、Ｂ、および
R2が上記定義のとおりであり、Ｗが水素原子であり、Ｙ
が水酸基であり、R1が保護された水酸基であり、 が二重結合である化合物（2',4''−ジ−Ｏ−アシル−Δ
２−デスマイコシン ビスアセタール体）は、例えば、
製造スキーム３−１に示された方法により製造すること
ができる。この方法によれば、容易に入手可能な３−Ｏ
−アセチルタイロシン（ジャーナル・オブ・アンティバ
イオティックス27,542,1979年）を、例えばジャーナル
・オブ・アンティバイオティックス（35,661,1982年）
に記載された方法によりアシル化して、2',4'''−ジま
たは2',4'',4'''−トリ−Ｏ−アシル−３−Ｏ−アセチ
ルタイロシンに変換した後、得られた化合物に対して1.
1−1.5モル程度の酸触媒を用いて、例えばトルエン等の
不活性溶媒中で、脱水剤及びアルコール化合物により５
−80℃程度で処理して、2',4''−ジ−Ｏ−アシル−３−
Ｏ−アセチルデスマイコシンの9,20−のビスアセタール
体に変換し、さらに、得られた化合物を例えばジメチル
スルホキシド等の不活性溶媒中で該化合物に対して1.0
−5.0モル程度の塩基で処理して脱酢酸反応を行うこと
により製造することができる。
上記の反応において、アルコール化合物としては、例
えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコール、プロパンジオール、2,3−
ブタンジオール等を用いることができ、これらは原料化
合物に対して５ないし20モル程度で使用される。脱水剤
としては、オルト蟻酸エチル、オルト蟻酸メチル、無水
塩化カルシウム、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネ
シウム、モレキュラーシーブ等を用いることができ、酸
触媒としてはカンファースルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、ア
ンバーリスト15等を使用すればよい。また脱酢酸工程で
使用される塩基としては、水素化ナトリウム、tert−ブ
トキシカリウム、マグネシウムメトキシド、マグネシウ
ムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデセ
ン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン等を使
用すればよい。
上記の化合物を、ピリジン、コリジン、ルチジン、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機
塩基の存在下に、不活性溶媒中で上記のスルホニル化剤
と−25〜25℃程度の温度で反応させることにより、Ｙが
置換スルホニルオキシ基である化合物に変換することが
できる。また、アセトン、メチルエチルケトン、ジメト
キシエタン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド等の溶媒中で、Ｙが置換スルホニ
ルオキシ基である上記の化合物に対して１〜５モル程度
の上記のハロゲン化剤を、50〜100℃程度の温度で作用
させることにより、Ｙがハロゲン原子である化合物を得
ることができる。
本発明の式（Ｉ）で示される化合物において、Ａ、
Ｂ、およびR2が上記の定義のとおりであり、Ｗが水素原
子であり、Ｙがハロゲン原子であり、R1が保護された水
酸基であり、 が二重結合である化合物を用いて、３位及び４′位を同
時に水素置換して3,4′−ジデオキシ化合物に変換する
には、例えば、上記の反応条件に従って、アルカリ条件
下で接触還元すればよい。その後、常法により保護基を
除去すれば、抗菌剤として有用な3,4′−ジデオキシマ
イカミノシルタイロノライド又はその塩を製造すること
ができる。
また、３−Ｏ−アセチルタイロシンを原料として用い
ることにより、例えば、製造スキーム３−２に従って本
発明の化合物を製造することができる。例えば、３−Ｏ
−アセチルタイロシンを、ジャーナル・オブ・アンティ
バイオティックス（35,661,1982年）に記載された方法
に従ってアシル化して2',4'''−ジ又は、2',4'',4'''−
トリ−Ｏ−アシル−３−Ｏ−アセチルタイロシンを製造
した後、得られた化合物を、脱水剤、アルコール化合
物、及び酸触媒を用いてアセタール化反応に付すること
により、2',4''−ジ−Ｏ−アシル−３−Ｏ−アセチルデ
スマイコシンの9,20−ビスアセタール体を製造すること
ができる。
上記のアセタール化反応には、所望のアセタールやケ
タールを与えるアルコール化合物を、単独あるいは不活
性溶媒と組み合わせて用いればよい。アルコール化合物
としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、エチレングリコール、プロパンジオール、2,
3−ブタンジオール等が用いられるが、それらはマクロ
ライド化合物１モルに対して５モル〜20モルの割合で使
用すればよい。不活性溶媒としては、トルエン、ベンゼ
ン、酢酸エチル、クロロホルム、ジクロロメタンなどを
用いればよい。また、脱水剤としてはオルト蟻酸エチル
の他、オルト蟻酸メチル、無水塩化カルシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウム、モレキュラーシ
ーブ等が使用できる。酸触媒としては、ｐ−トルエンス
ルホン酸の他に、ベンゼンスルホン酸、カンファースル
ホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、アンバーリスト15な
どが使用できる。酸触媒は、原料化合物１モルに対して
1.1〜1.5モル使用するのが好適である。反応温度は、５
〜80℃、好ましくは20〜70℃、特に好ましくは室温〜50
℃で行えばよい。
このようにして得られた化合物を、上記の反応条件に
従ってスルホニル化剤と反応させることにより、４′位
がスルホニル化された化合物に変換できる。４′位がス
ルホニル化された化合物は、比較的不安定であり、単離
ないしは精製することなく次の反応に付することが好ま
しい。つづいて、４′位がスルホニル化された化合物
を、上記の条件に従ってハロゲン化することにより、
４′位がハロゲン化された化合物に変換することができ
る。
上記の化合物を、２、３位の脱酢酸体である2',4''−
ジ−Ｏ−アシル−2,3−デヒドロ−3,4'−ジデオキシ−
4'−ハロ−デスマイコシンビスアセタールに変換するに
は、４′位がハロゲン化された化合物をトルエン、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド等の不活性溶媒に溶解した後、水酸化ナトリウ
ム、tert−ブトキシカリウム、マグネシウムメトキシ
ド、マグネシウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］
−７−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５
−ノネン等の塩基で処理すればよい。この反応は、たと
えば−10乃至80℃で行えばよく、塩基は原料化合物１モ
ルに対して1.0乃至5.0モル、好ましくは1.0乃至位3.0モ
ルの割合で用いればよい。
このようにして製造された２、３位脱酢酸体を製造ス
キーム３−３に従い、例えばメタノールまたはエタノー
ルに溶解し、例えばラネーニッケル等の触媒と塩基の存
在下で、常圧〜4.0kg/cm2程度の水素圧により接触還元
を行なうと、3,4'−ジデオキシデスマイコシンビスアセ
タール体が得られる。この反応は、例えば室温で行えば
よく、塩基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等を、マ
クロライド化合物１モルに対して、１〜３モル使用すれ
ばよい。触媒としてラネーニッケルを用いる場合には、
ラネーニッケルの種類は特に限定されるものではない
が、例えば川研ファインケミカル社製のNDT−65またはN
DHT−90等が使用できる。マクロライド化合物の１重量
部に対して0.1〜1.0重量部の触媒を用いて反応を行なう
のが好ましい。得られた化合物を、1.1当量程度の酸無
水物で処理して２′位をアシル化すると２′−Ｏ−アシ
ル−3,4′−ジデオキシデスマイコシンビスアセタール
体を製造することができる。
上記の化合物を酸化剤で処理することにより、4''位
の水酸基が酸化された化合物を高収率で製造することが
できる。酸化剤としては、例えば、ジメチルスルホキシ
ド−無水酢酸、ジメチルスルホキシド−無水トリフロロ
酢酸、ジメチルスルホキシド−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド−ピリジン−トリフロロ酢酸、ジメチルスルフ
ィド−Ｎ−クロロコハク酸イミド−トリエチルアミン、
テトラヒドロチオフェン−Ｎ−クロロコハク酸イミド−
トリエチルアミン等の組み合わせの他、二級水酸基の一
般的な酸化剤を用いればよい。酸化剤は、原料化合物１
モルに対して２〜10モル程度の割合で用いればよい。反
応条件は、酸化剤の種類により異なるが、−20〜80℃で
行なえばよい。
上記記載の方法により得られた４″−オキソ体を、不
活性な溶媒中で塩基で処理することにより、マイシノー
ス部分を容易に除去することができる。例えば、4''−
オキソ体をメタノール、エタノール、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジメチルホルムア
ミド、それらの混合物等の有機溶媒、またはこれらの有
機溶媒と水との混合物中で、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸アンモ
ニウム、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデセ
ン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン等の塩
基で処理すればよい。反応温度は０℃〜100℃で行なう
ことができるが、室温以下で行うことが好ましい。
２′位のアセチル基の除去は、脱マイシノース化反応
に先立ってメタノール、エタノール等の溶媒中でアルコ
リシス反応を行うか、または上記の脱マイシノース化を
行なった後、同様のアルコリシスにより行うことができ
る。このようにして得られた3,4'−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドビスアセタールを、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等の有機溶媒に溶解した後、希塩酸
で処理することにより、脱アセタール化（脱ケタール
化）を行なえば、3,4′−ジデオキシマイカミノシルタ
イロノライドを製造することができる。
さらに製造スキーム４−１によれば、３−Ｏ−アセチ
ル−４″−Ｏ−イソバレリルデマイシノシルタイロシン
（特公昭60−16960号公報に記載の化合物）を、例え
ば、ジャーナル・オブ・アンティバイオティクス（35,6
61,1982年）に記載の方法に従って種々の酸無水物で処
理することにより、2'−Ｏ−アシル−３−Ｏ−アセチル
−4''−Ｏ−イソバレリルデマイシノシルタイロシンに
変換することができる。得られた化合物を、酸性条件
下、例えば、硫酸、塩酸、リン酸等の水溶液中で、−10
〜100℃、好ましくは10〜60℃の温度で加水分解する
と、２′−Ｏ−アシル−３−Ｏ−アセチル−マイカミノ
シルタイロノライドが得られる。さらにこの化合物を、
脱水剤、アルコール化合物、及び酸触媒を用いて、上記
の反応条件に従ってアセタール化することにより、2'−
Ｏ−アシル−３−Ｏ−アセチルマイカミノシルタイロノ
ライドの9,20−ビスアセタール体を製造することができ
る。一方、2'−Ｏ−アシル−３−Ｏ−アセチル−４″−
Ｏ−イソバレリルデマイシノシルタイロシンを、上記と
同様の条件でアセタール化反応に付すると、アセタール
化と同時に末端糖が加水分解されるので、２′−Ｏ−ア
シル−３−Ｏ−アセチルマイカミノシルタイロノライド
の9,20−ビスアセタール体を一工程で製造することがで
きる。
このようにして得られた２′−Ｏ−アシル−３−Ｏ−
アセチルマイカミノシルタイロノライドの9,20−ビスア
セタール体を、塩基の存在下で、例えば、反応性シリル
化合物を作用させることにより23位水酸基が保護された
化合物を得ることができる。本反応の溶媒としては、ジ
メチルホルムアミドの他、アセトン、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン、トルエン、クロロホルム等が使用
できる。又、塩基触媒としては炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素ナトリウム、ピリジン、ルチジン、ピ
コリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、イミダゾール等の無機もしくは有機塩基を用いれば
よい。反応性シリル化合物としては、トリメチルシリル
クロリド、トリエチルシリルクロリド、トリプロピルシ
リルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、ジ
メトキシメチルシリルクロリド、ジメチルフェニルシリ
ルクロリド等を用いればよい。反応は−10乃至50℃で行
なうことができる。
23位の水酸基が保護された上記の化合物を、トルエ
ン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミド等の不活性溶媒に溶解後、水素化ナトリ
ウム、ｔ−ブトキシカリウム、マグネシウムメトキシ
ド、マグネシウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕
−７−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−５
−ノネン等の塩基と、−10〜80℃で反応させることによ
り、2,3位の脱酢酸体である２′−Ｏ−アシル−2,3−デ
ヒドロ−マイカミノシルタイロノライド ビスアセター
ル体が得られる。使用される塩基の量はマクロライド化
合物１モルに対して1.0〜5.0モル、好ましくは1.0〜3.0
モルとすることが好適である。上記の化合物から４′位
がスルホニル化された化合物を製造するには、2,3位の
脱酢酸体を、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基の存在
下に、アセトン、メチルエチルケトン、ジメトキシエタ
ン、アセトニトリル、トルエン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中で、上記の
スルホニル化剤と−25乃至25℃で反応させればよい。
４′位がスルホニル化された上記の化合物を単離精製
して次の反応に用いてもよいが、比較的不安定であるの
で、単離することなく４′位のハロゲン化反応に付する
のが好ましい。上記の反応条件に従ってハロゲン化反応
を行うことによれば、４′位がハロゲン化された２′−
Ｏ−アシル−2,3−デヒドロ−3,4′−ジデオキシ−４′
−ハロ−マイカミノシルタイロノライド ビスアセター
ル体を得ることができる。
さらに製造スキーム４−２によればこのハロゲン化物
は、２′−Ｏ−アシル−３−Ｏ−アセチルマイカミノシ
ルタイロノライドの9,20−ビスアセタール体の23位水酸
基を保護することにより得られた化合物の4'位を上記の
反応条件によりスルホニル化した後、さらに上記の反応
条件によりハロゲン化し、さらに上記の反応条件にした
がって脱酢酸反応に付することによっても製造すること
ができる。４′位がスルホニル化された化合物は、単離
精製して次の反応に用いてもよいが、それ自体比較的不
安定であるので単離することなく次の反応に供するのが
好適である。
上記のようにして製造される２′−Ｏ−アシル−2,3
−デヒドロ−3,4′−ジデオキシ−４′−ハロ−マイカ
ミノシルタイロノライド ビスアセタール体を製造スキ
ーム４−３に従い、例えばメタノールまたはエタノール
に溶解し、上記の反応条件に従って、例えば、ラネーニ
ッケル等の触媒と塩基の存在下で、常圧〜4.0kg/cm2程
度の水素圧により接触還元を行なうと、3,4'−ジデオキ
シマイカミノシルタイロノライド ビスアセタール体が
得られる。得られた3,4′−ジデオキシマイカミノシル
タイロノライド ビスアセタール体を、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、アセトン等の有機溶媒に溶解した
後、希塩酸で処理することにより脱アセタール化及び23
位の脱保護を同時に行なえば、3,4′−ジデオキシマイ
カミノシルタイロノライドを製造することができる。
実施例 以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されることはない。
例1:3,4′−ジ−Ｏ−ベンジルスルホニル−23−Ｏ−ｔ
−ブチルジメチルシリル−マイカミノシルタイロノライ
ド 9,20−ビス（エチレンアセタール） 23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−マイカミノシル
タイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセタール）1.
00g（1.25mmol）を無水ピリジン20mlに溶解した。−40
℃に冷却した後、攪拌下に塩化ベンジルスルホニル0.67
g（3.51mmol）を加え、−20℃で３時間反応した。TLC上
で反応を確認し、水0.67mlを加えて反応を停止し、室温
に戻した。水を加えて１時間後、反応液を減圧濃縮し、
クロロホルムで抽出した後、クロロホルム層を飽和重そ
う水、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで
脱水した後に濾過し、濾液を濃縮して、未精製の3,4′
−ジ−Ｏ−ベンジルスルホニル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジ
メチルシリル−マイカミノシルタイロノライド 9,20−
ビス（エチレンアセタール）1.38g（定量的）を淡黄色
泡状固体として得た。
例2:3−Ｏ−ベンジルスルホニル−23−Ｏ−ｔ−ブチル
ジメチルシリル−４′−デオキシ−４′−ヨード−マイ
カミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセ
タール） 上記例１で得た未精製の化合物415mg（0.375mmol）を
無水メチルエチルケトン6.2mlに溶解し、窒素置換後、
ヨウ化ナトリウム84mg（0.56mmol）を加えて80℃で加熱
攪拌した。30分後に反応液を室温に戻して濾過し、アセ
トンで濾物を洗浄し、濾液と洗液を合わせて濃縮した。
濃縮残渣をクロロホルムで抽出し、飽和重そう水、10％
チオ硫酸ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫
酸マグネシウムで脱水した。濾過後、濾液を濃縮し、淡
黄色シロップ410mgを得た。得られたシロップをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、３−Ｏ−ベン
ジルスルホニル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−
４′−デオキシ−４′−ヨード−マイカミノシルタイロ
ノライド 9,20−ビス（エチレンアセタール）300mg
（収率75％）を無色固体として得た。
比施光度 〔α〕27 D−70℃（cl、CHCl3） 元素分析 C48H76NO13ISSiとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｉ（％） 実験値 54.09 7.27 1.08 11.95 計算値 54.17 7.39 1.32 11.92 FAB−MS:1064（Ｍ＋Ｈ）＋ 例3:23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−3,4′−ジデ
オキシマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エ
チレンアセタール） 上記例２で得た化合物296mg（0.278mmol）をメタノー
ル6mlに溶解し、ラネーニッケル0.5mlを加えた。アルゴ
ンで置換した後、炭酸カリウム116mg（0.835mmol）を加
え、水素を３時間吹き込んだ。HPLCで反応終了を確認し
た後、反応液を濾過した。濾液を濃縮し、クロロホルム
で抽出して1M炭酸カリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗
浄した。硫酸マグネシウムで脱水し、濾過後に濾液を濃
縮し、無色泡状固体の粗化合物204mg（95％）を得た。
得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製して、23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−3,4′
−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビ
ス（エチレンアセタール）186mgを無色泡状固体として
得た（収率87％）。
本品は、別ルートにより合成した標品と1H−nmrおよ
びMassスペクトルが一致した。
NMR（CDCl3、TMS内部標準） δ0.88（9H,s,t−ブチルジメチルシリルのｔ−ブチ
ル）， 1.02（3H,d,H−21）,1.24（3H,d,H−６′）,1.74（3
H,s,H−22）， 2.29（6H,s,N（CH3）２−３′）,4.28（1H,d,H−
１′）,5.37（1H,d,H−13）， 5.61（1H,d,H−10）,6.39（1H,d,H−11） FAB−MS:768（Ｍ＋Ｈ）＋ 例4:2′−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,20−ビス
（エチレンアセタール） ２′−Ｏ−アセチルタイロシン23.7gをトルエン100ml
に懸濁し、続いてこの懸濁液にオルト蟻酸エチル12.36g
（83.5mmol）、エチレングリコール12.95g（208.8mmo
l）及びカンファースルホン酸6.30g（27.1mmol）を加え
ると均一の溶液になった。この溶液を50℃で２時間攪拌
した後、反応液を５％重曹水100ml、水100ml、10％食塩
水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後に減圧乾固すると、トルエン／アセトン（1/1）展開
のシリカゲルTLC上でRf値0.49に硫酸呈色陽性を示す表
題化合物が20.20g得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3470,2975,2938,2882,1746,1236,116
9,1084,961cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.78（3H,bs,H−18）,0.93（3H,t,J＝7.3Hz,H−1
7）， 1.01（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.26（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６″）， 1.32（3H,d,J＝6.2Hz,H−６′）,1.70（3H,s,H−2
2）， 2.01（3H,s,OCOCH3−２′）,2.39（6H,s,N（CH3）２
−３′）， 3.05（1H,t,J＝9.5Hz,H−４′）,3.18（1H,bd,J＝7.0
Hz,H−４″）， 3.49（3H,s,OCH3−２″）,3.62（3H,s,OCH3−３″）,
4.55（1H,d,J＝8.1Hz,H−１″）， 4.64（1H,br,H−１′）,4.96（1H,m,H−20）,4.96（1
H,m,H−15）， 5.03（1H,dd,J＝10.6＆7.7Hz,H−２′）,5.42（1H,d,
J＝10.6Hz,H−13）， 5.64（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,6.37（1H,d,J＝15.8H
z,H−11） FAB−MS:902（Ｍ＋Ｈ）＋ 例5:2′−Ｏ−アセチル−４″−Ｏ−トリメチルシリル
デスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタール）の
製造 ２′−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,20−ビス（エ
チレンアセタール）18.9g（20.9mmol）をトルエン94ml
に溶解した。その後、ピリジン2.52ml（31.2mmol）を加
えて−５℃に冷却した。この溶液に、塩化トリメチルシ
ラン3.42ml（27mmol）を滴下し、同温度で80分間反応さ
せた。反応液を５％重曹水150ml、10％食塩水150mlで洗
浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮
すると、トルエン／アセトン（1/1）展開のシリカゲルT
LC上でRf値0.57に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が20.6
4g得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3520,2973,2884,1748,1713,1373,123
6,1171,1100,966,882,841cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.17（9H,s,Si（CH3）３）,0.77（3H,bs,H−18）,
0.91（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）， 1.01（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.18（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６″）， 1.32（3H,d,J＝5.9,H−６′）,1.69（3H,d,J＝0.7Hz,
H−22）， 2.01（3H,s,OCOCH3−２′）,2.38（6H,s,N（CH3）２
−３′）， 2.59（1H,t,J＝10.3Hz,H−３′）,3.05（1H,t,J＝9.9
Hz,H−４′）， 3.28（1H,dd,J＝9.2＆2.6Hz,H−４″）,3.49（3H,s,O
CH3−２″）， 3.60（3H,s,OCH3−３″）,4.59（1H,d,J＝7.7Hz,H−
１″）， 4.64（1H,br,H−１′）,4.95（1H,m,H−20）,4.96（1
H,m,H−15）， 5.03（1H,dd,J＝10.6＆7.7Hz,H−２′）,5.42（1H,d,
J＝10.6Hz,H−13）， 5.62（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,6.36（1H,d,J＝15.8H
z,H−11） FAB−MS:974（Ｍ＋Ｈ）＋ 例6:2′,4″−ジ−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,20
−ビス（エチレンアセタール）の製造 ２′−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,20−ビス（エ
チレンアセタール）200mg（0.222mmol）を塩化メチレン
2mlに溶解して、ピリジン35.7μｌ（0.444mmol）を加え
た。氷冷下に塩化アセチル23.6μｌ（0.333mmol）を加
え、同温度で１時間反応させた。反応液に塩化メチレン
20mlを加え、５％重曹水20mlおよび飽和食塩水20mlで洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減
圧濃縮し、得られた残渣244mgをシリカゲルクロマトグ
ラフィー（10g）に付してトルエン／アセトン（5/1）で
溶出した。トルエン／アセトン（2/1）展開のシリカゲ
ルTLCでRf値0.45に硫酸呈色陽性を示すフラクションを
分取すると、65％の収率で表題化合物の無色アモルファ
ス状固体が133mg得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3524,1745,1236,1088,1049cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.77（3H,bs,H−18）,0.92（3H,t,J＝7.3Hz,H−1
7）， 1.00（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.17（3H,d,J＝6.6Hz,
H−６″）， 1.32（3H,d,J＝5.9Hz,H−６′）,1.70（3H,s,H−2
2）,2.01（3H,s,OCOCH3）， 2.11（3H,s,OCOCH3）,2.39（6H,s,N（CH3）２−
３′）,2.59（1H,t,J＝10.3Hz,H−3'）， 2.89（1H,m,H−14）,3.31（1H,m,H−５′）,3.48（3
H,s,OCH3−２″）， 3.52（3H,s,OCH3−３″）,4.44（1H,dd,J＝2.9＆9.5H
z,H−４″）， 4.61（1H,d,J＝8.1Hz,H−１″）,5.03（1H,dd,J＝10.
3＆7.3Hz,H−２′）， 5.40（1H,d,J＝10.3Hz,H−13）,5.63（1H,d,J＝15.4H
z,H−10）， 6.36（1H,d,J＝15.4Hz,H−11） FAB−MS:944（Ｍ＋Ｈ）＋ 例7:2′−Ｏ−アセチル−3,4′−ジ−Ｏ−メタンスルホ
ニル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデスマイコシン 9,
20−ビス（エチレンアセタール） ２′−Ｏ−アセチル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデ
スマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタール）10.0
7g（10.3mmol）をトルエン50mlに溶解した。この後、ト
リエチルアミン7.20ml（51.7mmol）を加えて−15℃に冷
却した。この溶液にメタンスルホニルクロリド2.8ml（3
6.2mmol）を加えて、−10℃で１時間反応させた。反応
液にトルエン40mlを加え、有機層を水80ml、５％重曹水
40ml、10％食塩水40mlで洗浄して、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。有機層を減圧乾固すると、トルエン／アセ
トン（3/1）展開のシリカゲルTLC上で、Rf値0.55に硫酸
呈色陽性を示す表題化合物が12.94g得られた。この化合
物は不安定なためただちに次の反応に供した。
NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.16（9H,s,Si（CH3）３）,0.88（3H,d,J＝7.3Hz,
H−18）， 0.92（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.02（3H,d,J＝6.6Hz,
H−21）， 1.18（3H,d,J＝6.2Hz,H−６″）,1.35（3H,d,J＝5.9H
z,H−６′）， 1.69（3H,d,J＝0.7Hz,H−22）,2.04（3H,s,OCOCH3−
２′）， 2.39（6H,s,N（CH3）２−３′）,2.93（1H,t,J＝10.3
Hz,H−３′）， 3.10（3H,s,OSO2CH3）,3.14（3H,s,OSO2CH3）,3.28
（1H,dd,J＝9.5＆2.6Hz,H−４″）， 3.47（3H,s,OCH3−２″）,3.59（3H,s,OCH3−
３″）， 4.22（1H,t,J＝9.9Hz,H−４′）， 4.57（1H,d,J＝7.7Hz,H−１″）,4.60（1H,br,H−
１′）,4.75（1H,br,H−３）， 4.93（1H,m,H−15）,4.96（1H,m,H−20）,5.03（1H,d
d,J＝10.3＆8.0Hz,H−２′）， 5.47（1H,d,J＝11.0Hz,H−13）,5.54（1H,d,J＝15.8H
z,H−10）， 6.34（1H,d,J＝15.8Hz,H−11） FAB−MS:1130（Ｍ＋Ｈ）＋ 例8:2′,4″−ジ−Ｏ−アセチル−3,4′−ジ−Ｏ−メタ
ンスルホニルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンア
セタール） ２′,4″−ジ−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,20−
ビス（エチレンアセタール）109mg（0.115mmol）をトル
エン0.5mlに溶解し、トリエチルアミン80.2ml（0.575mm
ol）を加えて氷冷した。メタンスルホニルクロリド31.2
ml（0.403mmol）を加え、同温度で1.5時間反応させた。
反応液に酢酸エチル10mlを加え、５％重曹水10ml、飽和
食塩水10mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
有機層を減圧濃縮乾固すると、トルエン／アセトン（2/
1）展開のシリカゲルTLC上で、Rf値0.64に硫酸呈色陽性
を示す表題化合物が、134mg得られた。この化合物は不
安定なためただちに次の反応に供した。
NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.88（3H,d,J＝7.3Hz,H−18）,0.93（3H,t,J＝7.3
Hz,H−17）， 1.03（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.17（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６″）， 1.36（3H,d,J＝5.9Hz,H−６′）,1.70（3H,s,H−2
2）,2.04（3H,s,OCOCH3）， 2.11（3H,s,OCOCH3）,2.40（6H,s,N（CH3）２−
３′）,2.84（1H,m,H−14）， 2.94（1H,t,J＝10.3Hz,H−３′）,3.04（1H,dd,J＝2.
9＆8.1Hz,H−２″）， 3.10（3H,s,OSO2CH3）,3.12（3H,s,OSO2CH3）,3.46
（3H,s,OCH3−２″）， 3.52（3H,s,OCH3−３″）,4.22（1H,t,J＝9.9Hz,H−
２′）， 4.45（1H,dd,J＝2.6＆9.9Hz,H−４″）,4.60（1H,d,J
＝8.1Hz,H−１″）， 5.03（1H,dd,J＝10.3＆7.7Hz,H−２′）,5.46（1H,d,
J＝10.6Hz,H−13）， 5.55（1H,d,J＝15.6Hz,H−10）,6.35（1H,d,J＝15.6H
z,H−11） FAB−MS:1100（Ｍ＋Ｈ）＋ 例9:2′−Ｏ−アセチル−3,4′−ジ−Ｏ−ベンジルスル
ホニル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデスマイコシン
9,20−ビス（エチレンアセタール） ２′−Ｏ−アセチル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデ
スマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタール）1.0g
（1.03mmol）をトルエン10mlに溶解した後、トリエチル
アミン0.46ml（3.4mmol）を加えて−15℃に冷却した。
この溶液にベンジルスルホニルクロリド430mg（2.3mmo
l）を加え、−10℃にて1.5時間反応させた。反応液にト
ルエン40mlを加えて、有機層を水50ml、５％重曹水50m
l、10％食塩水50mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。有機層を減圧乾固すると、トルエン／アセ
トン（4/1）展開のシリカゲルTLC上で、Rf値0.57に硫酸
呈色陽性を示す表題化合物が1.34g得られた。この化合
物は不安定なためただちに次の反応に供した。
NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.16（9H,s,Si（CH3）３）,0.81（3H,d,J＝7.3Hz,
H−18）， 0.94（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.01（3H,d,J＝6.6Hz,
H−21）， 1.18（3H,d,J＝6.2Hz,H−６″）,1.31（3H,d,J＝6.2H
z,H−６′）， 1.69（3H,d,J＝0.7Hz,H−22）,1.99（3H,s,OCOCH3−
２′）， 2.47（6H,s,N（CH3）２−３′）,2.94（1H,t,J＝10.3
Hz,H−３′）， 3.29（1H,dd,J＝9.2＆2.6Hz,H−４″）,3.47（3H,s,O
CH3−２″）， 3.59（3H,s,OCH3−３″）,4.33（1H,t,J＝9.9Hz,H−
４′）， 4.40（1H,bd,J＝15.0Hz,OSO2C H Hph）,4.51（1H,m,H
−１′）， 4,53（2H,m,OSO2CH2ph）,4.57（1H,m,SO2CH H ph）， 4.58（1H,d,J＝8.1Hz,H−１″）,4.87（1H,br,H−
３）， 4.97（1H,m,H−15）,5.03（1H,dd,J＝10.3＆7.7Hz,H
−４′）， 5.50（1H,d,J＝10.6Hz,H−13）,5.55（1H,d,J＝15.8H
z,H−10）， 6.36（1H,d,J＝15.8Hz,H−11）,7.36−7.42（10H,m,2
×ph） FAB−MS:1282（Ｍ＋Ｈ）＋ 例10:2′−Ｏ−アセチル−４′−デオキシ−４′−ヨー
ド−３−Ｏ−メタンスルホニル−４″−Ｏ−トリメチル
シリルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセター
ル） ２′−Ｏ−アセチル−3,4′−ジ−Ｏ−メタンスルホ
ニル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデスマイコシン 9,
20−ビス（エチレンアセタール）12.94g（11.5mmol）を
メチルエチルケトン60mlに溶解し、ヨウ化ナトリウム2.
58g（17.2mmol）を加えて暗所で85℃、１時間反応させ
た。反応液を室温に冷却した後、析出物を濾別し、沈殿
物をトルエン5mlで洗浄した。洗浄液と母液とを合わせ
て減圧濃縮した後、トルエン60ml及び水60mlを加えて分
液した。有機層を10％チオ硫酸ナトリウム40ml、水40ml
で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧濃縮
乾固すると、トルエン／アセトン（4/1）展開のシリカ
ゲルTLC上でRf値0.51に硫酸呈色陽性を示す表題化合物
が10.73g得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3443,2973,2940,2886,1746,1360,123
3,1173,1101,1049,966,909,882,843cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.16（9H,s,Si（CH3）３）,0.89（3H,d,J＝7.3Hz,
H−18）， 0.92（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.02（3H,d,J＝7.0Hz,
H−21）， 1.18（3H,d,J＝6.2Hz,H−６″）,1.51（3H,d,J＝5.9H
z,H−６′）， 1.69（3H,d,J＝0.7Hz,H−22）,2.02（3H,s,OCOCH3−
２′）， 2.42（6H,s,N（CH3）２−３′）,3.12（3H,s,OSO2CH3
−３）， 3.47（3H,s,OCH3−２″）,3.59（3H,s,OCH3−３″）,
4.57（1H,d,J＝8.1Hz,H−１″）， 4.57（1H,br,H−１′）,4.77（1H,br,H−３）,4.91
（1H,dd,J＝9.9＆7.3Hz,H−２′）， 4.93（1H,m,H−15）,4.98（1H,br,H−20）,5.47（1H,
d,J＝10.6Hz,H−13）， 5.54（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,6.34（1H,d,J＝15.8H
z,H−11） FAB−MS:1162（Ｍ＋Ｈ）＋ 例11:2′,4″−ジ−Ｏ−アセチル−４′−デオキシ−
４′−ヨード−３−Ｏ−メタンスルホニルデスマイコシ
ン 9,20−ビス（エチレンアセタール） ２′,4″−ジ−Ｏ−アセチル−3,4′−ジ−Ｏ−メタ
ンスルホニルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンア
セタール）134mg（0.115mmol）をメチルエチルケトン1m
lに溶解し、ヨウ化ナトリウム25.7mg（0.173mmol）を加
えて、30分間加熱還流した。反応液に酢酸エチル10mlを
加え、５％重曹水10ml、飽和食塩水10mlで洗浄した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮し、
得られた残渣128mgをトルエン／アセトン（3/1）展開の
分取用シリカゲルTLCで精製した。同展開系のTLC上でRf
値0.61に硫酸呈色陽性を示す表題化合物86mgが２′,4″
−ジ−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,20−ビス（エチ
レンアセタール）より２工程72％の収率で得られた。
UV（MeOH）λmax:234nm IR（KBr）νmax:2975,2938,2884,1740,1377,1233,117
1,1088,1049,963,909cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.89（3H,d,J＝7.3Hz,H−18）,0.92（3H,t,J＝7.3
Hz,H−17）， 1.02（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.17（3H,d,J＝5.9Hz,
H−６″） 1.51（3H,d,J＝5.9Hz,H−６′）,1.70（3H,s,H−2
2）， 2.02（3H,s,OCOCH3）,2.11（3H,s,OCOCH3）， 2.42（6H,s,N（CH3）２−３′）,3.04（1H,dd,J＝2.9
＆8.1Hz,H−２″）， 3.12（3H,s,OSO2CH3−３）,3.46（3H,s,OCH3−
２″）， 3.52（3H,s,OCH3−３″）,4.47（1H,dd,J＝2.9＆11.7
Hz,H−４″）， 4.60（1H,d,J＝8.1Hz,H−１″）,5.46（1H,d,J＝11.0
Hz,H−13）， 5.55（1H,d,J＝15.4Hz,H−10）,6.35（1H,d,J＝15.4H
z,H−11） FAB−MS:1134（Ｍ＋Ｈ）＋ 例12:2′−Ｏ−アセチル−３−Ｏ−ベンジルスルホニル
−４′−デオキシ−４′−ヨード−４″−Ｏ−トリメチ
ルシリルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタ
ール） ２′−Ｏ−アセチル−3,4′−ジ−Ｏ−ベンジルスル
ホニル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデスマイコシン
9,20−ビス（エチレンアセタール）1.23g（0.96mmol）
をメチルエチルケトン10mlに溶解し、ヨウ化ナトリウム
216mg（1.4mmol）を加えて暗所で85℃、30分反応させ
た。反応液を室温に冷却した後、析出物を濾別し、沈殿
物をトルエン5mlで洗浄した。洗浄液と母液とを合わせ
て減圧濃縮した後、トルエン30ml及び水30mlを加えて分
液した。有機層を飽和重曹水30ml、10％食塩水30mlで洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧濃縮乾固
すると、トルエン／アセトン（4/1）展開のシリカゲルT
LC上で、Rf値0.51に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が1.
22g得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3488,2938,2886,1748,1456,1373,123
3,1171,1101,1049,968,882cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.17（9H,s,Si（CH3）３）,0.81（3H,d,J＝7.3Hz,
H−18）， 0.93（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.01（3H,d,J＝6.6Hz,
H−21）， 1.18（3H,d,J＝6.2Hz,H−６″）,1.49（3H,d,J＝5.5H
z,H−６′）， 1.68（3H,s,H−22）,1.97（3H,s,OCOCH3−２′）,2.4
1（6H,s,N（CH3）２−３′）， 2.78（1H,t,J＝10.3Hz,H−３′）,3.48（3H,s,OCH3−
２″）， 3.59（3H,s,OCH3−３″）,4.40（1H,m,H−１′）,4.4
0（1H,m,OSO2CH Hph）， 4.58（1H,d,J＝8.1Hz,H−１″）,4.58（1H,m,OSO2CH
H ph）， 4.87（1H,dd,J＝9.9＆7.7Hz,H−２′）,4.96（1H,m,H
−15）， 5.51（1H,d,J＝11.4Hz,H−13）,5.54（1H,d,J＝15.8H
z,H−10）， 6.36（1H,d,J＝15.8Hz,H−11）,7.40（5H,s,ph） FAB−MS:1238（Ｍ＋Ｈ） 例13:2′−Ｏ−アセチル−3,4′−ジデオキシデスマイ
コシン 9,20−ビス（エチレンアセタール） ２′−Ｏ−アセチル−４′−デオキシ−４′−ヨード
−３−Ｏ−メタンスルホニル−４″−Ｏ−トリメチルシ
リルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセター
ル）10.70g（9.2mmol）をメタノール50mlに溶解し、炭
酸カリウム3.82g（27.6mmol）、続いてラネーニッケル
（川研ファインケミカル（株）製NDT−65）湿重量6.4g
（5ml）のメタノール8ml懸濁液を加えて、水素圧3Kg/cm
2で２時間接触還元を行なった。触媒をセライトで濾別
した後、母液を減圧濃縮した。残査に酢酸エチル100m
l、水100mlを加えて分液し、有機層を20％食塩水100ml
で洗浄した後、減圧濃縮した。濃縮液に無水酢酸0.86ml
を加えて室温で1.5時間反応させた後、５％重曹水30m
l、20％食塩水30mlで洗浄した。有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後、減圧乾固すると、クロロホルム／
メタノール（10/1）展開のシリカゲルTLC上でRf値0.44
に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が7.46gが得られた。
２′−Ｏ−アセチル−３−Ｏ−ベンジルスルホニル−
４′−デオキシ−４′−ヨード−４″−Ｏ−トリメチル
シリルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセター
ル）480mgを用い、上記と同様に還元後アセチル化して
表題化合物303mgを得た。
２′,4″−ジ−Ｏ−アセチル−４′−デオキシ−４′
−ヨード−３−Ｏ−メタンスルホニルデスマイコシン
9,20−ビス（エチレンアセタール）100mgを用い上記と
同様に還元後アセチル化して表題化合物71mgを得た。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3476,2973,2938,2882,1744,1373,123
8,1167,1061,961cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.82（3H,bd,J＝5.5Hz,H−18）,0.92（3H,t,J＝7.
3Hz,H−17）， 1.00（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.23（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６′）， 1.26（3H,d,J＝6.2Hz,H−６″）,1.35（1H,m,H−４′
ａ）,1.71（1H,m,H−４′ｂ）， 1.73（3H,d,J＝1.1Hz,H−22）,2.04（3H,s,OCOCH3−
２′）， 2.26（6H,s,N（CH3）２−３′）,2.68（1H,ddd,J＝1
2.3＆10.4＆4.4Hz,H−３′）， 3.18（1H,br,H−４″）,3.48（3H,s,OCH3−２″）,3.
61（3H,s,OCH3−３″）， 4.31（1H,d,J＝7.7Hz,H−１′）,4.55（1H,d,J＝7.7H
z,H−１″）， 4.80（1H,dd,J＝10.4＆7.7Hz,H−２′）,4.90（1H,m,
H−15）， 4.95（1H,bt,J＝5.1Hz,H−20）,5.42（1H,d,J＝10.6H
z,H−13）， 5.62（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,6.36（1H,d,J＝15.8H
z,H−11） FAB−MS:1238（Ｍ＋Ｈ）＋ 例14:2′−Ｏ−アセチル−3,4′−ジデオキシ−４″−
オキソデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセター
ル） トルエン8mlにＮ−クロロコハク酸イミド491mg（3.68
mmol）を懸濁させて０℃に冷却した後、ジメチルスルフ
ィド0.4ml（5.5mmol）を加えて同温度で20分攪拌した。
この溶液を−20℃に冷却した後、2'−Ｏ−アセチル−3,
4′−ジデオキシデスマイコシン 9,20−ビス（エチレ
ンアセタール）800mg（0.92mmol）のトルエン溶液4mlを
加えて同温度で1.5時間反応させた。この反応液にトリ
エチルアミン0.64ml（4.6mmol）を加え、更に20分反応
させた。反応液を10％食塩水15mlで２回洗浄した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧乾固すると、クロロホ
ルム／メタノール（5/1）展開のシリカゲルTLC上でRf値
0.65に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が755mg得られ
た。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3441,2971,2938,2882,1744,1373,124
0,1169,1117,1057,974cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.83（3H,d,J＝5.9Hz,H−18）,0.94（3H,t,J＝7.3
Hz,H−17）， 1.00（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.24（3H,d,J＝5.9Hz,
H−６′）， 1.35（3H,d,J＝7.0Hz,H−６″）,1.38（1H,m,H−４′
ａ）,1.73（1H,m,H−４′ｂ）， 1.76（3H,d,J＝1.1Hz,H−22）,2.04（3H,s,OCOCH3−
２′）， 2.26（6H,s,N（CH3）２−３′）,3.46（3H,s,OCH3−
２″）,3.50（3H,s,OCH3−３″）， 3.74（1H,t,J＝3.3Hz,H−２″）,4.17（1H,q,J＝7.0H
z,H−５″）， 4.26（1H,d,J＝3.7Hz,H−３″）,4.32（1H,d,J＝7.7H
z,H−１′）， 4.81（1H,dd,J＝10.6＆7.7Hz,H−２′）,4.83（1H,d,
J＝2.9Hz,H−１″）， 4.92（1H,m,H−15）,4.95（1H,bt,J＝5.1Hz,H−2
0）， 5.39（1H,d,J＝10.3Hz,H−13）,5.67（1H,d,J＝15.8H
z,H−10）， 6.37（1H,d,J＝15.8Hz,H−11） FAB−MS:868（Ｍ＋Ｈ）＋ 例15:3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド
9,20−ビス（エチレンアセタール） ２′−Ｏ−アセチル−3,4′−ジデオキシ−４″−オ
キソデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセター
ル）100mg（0.115mmol）をメタノール1mlに溶解した
後、０℃で1N−NaOH 0.115mlを加え、同温度で１時間反
応させた。更に、濃アンモニア水40μｌを加えて昇温
し、60℃で２時間反応させた。反応後にクロロホルム5m
lを加え、有機層を10％食塩水5mlで４回洗浄した。この
有機層を減圧乾固すると、クロロホルム／メタノール
（5/1）展開のシリカゲルTLC上でRf値0.31に硫酸呈色陽
性を示す表題化合物が74mg得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3449,2938,2880,1730,1642,1458,138
1,1169,1111,1049,974cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.93（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,0.99（3H,d,J＝6.6
Hz,H−18）， 1.02（3H,d,J＝7.0Hz,H−21）,1.24（3H,d,J＝5.9Hz,
H−６′）， 1.78（3H,d,J＝1.1Hz,H−22）,2.35（6H,s,N（CH3）
２−３′）， 3.30（1H,dd,J＝10.3＆7.3Hz,H−２′）,4.29（1H,d,
J＝7.0Hz,H−１′）， 4.84（1H,m,H−15）,5.01（1H,bt,J＝5.1Hz,H−2
0）， 5.34（1H,d,J＝9.9Hz,H−13）,5.66（1H,d,J＝15.8H
z,H−10）， 6.42（1H,d,J＝15.8Hz,H−11） FAB−MS:654（Ｍ＋Ｈ）＋、676（Ｍ＋Na）＋ 例16:3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド 3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド
9,20−ビス（エチレンアセタール）26mg（0.05mmol）を
テトラヒドロフラン0.2mlに溶解した後、1N塩酸0.2mlを
加えて、室温で1.5時間反応させた。反応液を水で希釈
後クロロホルム3mlを加えた。有機層を５％重曹水2ml、
10％食塩水2mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。この有機層を減圧乾固すると、クロロホルム／
メタノール（5/1）展開のシリカゲルTLC上でRf値0.25に
硫酸呈色陽性を示す表題化合物が20mg得られた。
UV（MeOH）λmax:283nm IR（KBr）νmax:3436,2967,2878,1725,1676,1591,145
8,1383,1316,1167,1071,984cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.94（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.04（3H,d,J＝6.6
Hz,H−18）， 1.20（3H,d,J＝6.2Hz,H−６′）,1.21（3H,d,J＝6.6H
z,H−21）， 1.85（3H,d,J＝1.1Hz,H−22）,2.29（6H,s,N（CH3）
２−３′）,2.90（1H,m,H−14）， 3.20（1H,dd,J＝7.3＆10.3Hz,H−２′）,4.19（1H,d,
J＝7.3Hz,H−１′）， 4.88（1H,m,H−15）,5.84（1H,d,J＝10.6Hz,H−13）,
6.35（1H,d,J＝15.6Hz,H−10）， 7.30（1H,d,J＝15.6Hz,H−11）,9.69（1H,s,H−20） FAB−MS:566（Ｍ＋Ｈ）＋ 例17:3,2',4''−トリ−Ｏ−アセチルデスマイコシン
9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,2',4'',4'''−テトラ−Ｏ−アセチルタイロシン1.0
0g（0.922mmol）をトルエン5mlに溶解し、オルトギ酸エ
チル0.61ml（3.69mmol）、エチレングリコール0.51ml
（9.22mmol）、dl−カンファスルホン酸321mg（1.38mmo
l）を順次加え、50℃で２時間反応させた。反応液にト
ルエン10mlを加え、５％重曹水15ml、飽和食塩水15mlで
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を
減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（55g）に付して、トルエン／アセトン（5/1）で溶
出した。トルエン／アセトン（2/1）展開のシリカゲルT
LC上でRf値0.38に硫酸呈色陽性を示すフラクションを分
取すると、58％の収率で表題化合物525mgの無色アモル
ファス状固体が得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3468,2976,2938,2882,1742,1372,123
6,1175,1086,1049cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.84（3H,br,H−18）,0.90（3H,t,J＝7.3Hz,H−1
7）， 0.99（3H,d,J＝5.9Hz,H−21）,1.16（3H,d,J＝6.6Hz,
H−6''）， 1.31（3H,d,J＝5.9Hz,H−6'）,1.71（3H,s,H−22）， 2.05（3H,s,OCOCH3）,2.11（6H,s,2×OCOCH3）， 2.39（6H,s,N（CH3）２−3'）， 2.91（1H,m,H−14）,3.28（1H,m,H−5'）,3.45（3H,
s,OCH3−2''）， 3.52（3H,s,OCH3−3''）,4.29（1H,d,J＝6.6Hz,H−
1'）， 4.43（1H,dd,J＝2.2＆10.3Hz,H−4''）， 4.60（1H,d,J＝8.1Hz,H−1''）,4.81（1H,m,H−1
5）， 4.90（1H,bs,H−20）,5.42（1H,d,J＝10.3Hz,H−1
3）， 5.61（1H,d,J＝16.1Hz,H−10）,6.49（1H,d,J＝16.1H
z,H−11） FAB−MS:986（Ｍ＋Ｈ）＋ 例18:2',4''−ジ−Ｏ−アセチル−2,3−デヒドロ−３−
デオキシデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタ
ール） 3,2',4''−トリ−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,20
−ビス（エチレンアセタール）100mg（0.101mmol）をテ
トラヒドロフラン1mlに溶解した。氷冷下で水素化ナト
リウム9.7mg（0.404mmol）を加え、室温で1.5時間反応
した。反応液に酢酸エチル20mlを加えて水洗した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮し、得
られた残渣110mgをトルエン／アセトン（2/1）展開の分
取用シリカゲルTLCで精製すると、同展開TLCにてRf値0.
49に硫酸呈色陽性の表題化合物80mgが85％の収率で得ら
れた。
UV（MeOH）λmax:218nm IR（KBr）νmax:3468,2975,2938,2882,1746,1373,123
5,1171,1086,1051cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.95（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.17（3H,d,J＝6.6
Hz,H−6''）， 1.33（3H,d,J＝6.6Hz,H−6'）,1.70（3H,s,H−22）， 2.05（3H,s,OCOCH3）,2.11（3H,s,OCOCH3）， 2.40（6H,s,N（CH3）２−3'）,2.57（1H,t,J＝10.3H
z,H−3'）， 2.91（1H,m,H−14）,3.33（1H,m,H−5'）,3.48（3H,
s,OCH3−2''）， 3.52（3H,s,OCH3−3''）,4.62（1H,d,J＝8.1Hz,H−
1''）， 4.87（1H,m,H−15）,4.97（1H,bs,H−20）， 5.05（1H,dd,J＝7.3＆10.3Hz,H−2'）， 5.33（1H,d,J＝10.3Hz,H−13）,5.48（1H,d,J＝15.4H
z,H−10）， 5.54（1H,d,J＝15.4Hz,H−２）,6.24（1H,d,J＝15.4H
z,H−11）， 6.70（1H,dd,J＝15.4＆9.5Hz,H−３） FAB−MS:926（Ｍ＋Ｈ）＋ 例19:2',4''−ジ−Ｏ−アセチル−2,3−デヒドロ−３−
デオキシ−4'−Ｏ−メタンスルホニルデスマイコシン
9,20−ビス（エチレンアセタール） 2',4''−ジ−Ｏ−アセチル−2,3−デヒドロ−３−デ
オキシデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセター
ル）50mg（0.0539mmol）をメチルエチルケトン0.5mlに
溶解した。トリエチルアミン22.5μｌ（0.161mmol）を
加えた後、氷冷下でメタンスルホニルクロリド6.3μｌ
（0.0808mmol）のメチルエチルケトン100μｌ溶液を加
え、同温度で15分間反応させた。反応液に酢酸エチル10
mlを加え、５％重曹水10ml、飽和食塩水10mlで洗浄後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮乾固
すると、トルエン／アセトン（4/1）展開のシリカゲルT
LC上でRf値0.51に硫酸呈色陽性を示す表題化合物55mg得
られた。
NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.95（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.17（3H,d,J＝6.6
Hz,H−6''）， 1.38（3H,d,J＝5.9Hz,H−6'）,1.70（3H,s,H−22）， 2.06（3H,s,OCOCH3）,2.11（3H,s,OCOCH3）， 2.40（6H,s,N（CH3）２−3'）,3.05（1H,dd,J＝8.1＆
2.9Hz,H−2''）， 3.11（3H,s,OSO2CH3−4'）,3.48（3H,s,OCH3−
2''）， 3.52（3H,s,OCH3−3''）,4.24（1H,t,J＝9.5Hz,H−
4'）， 4.62（1H,d,J＝8.1Hz,H−1''） 5.08（1H,dd,J＝7.3＆10.3Hz,H−2'）， 5.33（1H,d,J＝10.3Hz,H−13）,5.48（1H,d,J＝15.4H
z,H−10）， 5.55（1H,d,J＝15.4Hz,H−２）,6.24（1H,d,J＝15.4H
z,H−11）， 6.68（1H,dd,J＝15.4＆9.5Hz,H−３） FAB−MS:1004（Ｍ＋Ｈ）＋ 例20:2',4''−ジ−Ｏ−アセチル−2,3−デヒドロ−3,4'
−ジデオキシ−4'−ヨードデスマイコシン 9,20−ビス
（エチレンアセタール） 2',4''−ジ−Ｏ−アセチル−2,3−デヒドロ−３−デ
オキシデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセター
ル）1.88（2.03mmol）をメチルエチルケトン20mlに溶解
した。トリエチルアミン0.85ml（6.09ml）を加えた後、
氷冷下でメタンスルホニルクロリド0.20ml（2.64mmol）
のメチルエチルケトン1.5ml溶液を加え、同温度で３分
間反応させた。この反応液にヨウ化ナトリウム907mg
（6.09mmol）を加え、30分間加熱還流した。反応液を減
圧濃縮した後、酢酸エチル50mlを加えて、５％重曹水50
ml、飽和食塩水50mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。有機層を減圧濃縮、真空乾燥すると、表題
化合物を主成分として含む無色アモルファス状固体が2.
10g得られた。
UV（MeOH）λmax:216nm IR（KBr）νmax:2975,2936,2880,1750,1717,1373,123
3,1171,1090,1049cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.95（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.17（3H,d,J＝6.6
Hz,H−6''）， 1.53（3H,d,J＝5.1Hz,H−6'）,1.69（3H,s,H−22）， 2.04（3H,s,OCOCH3）,2.11（3H,s,OCOCH3）， 3.05（1H,dd,J＝2.9＆8.1Hz,H−2''）,3.48（3H,s,OC
H3−2''）， 3.52（3H,s,OCH3−3''）,4.62（1H,d,J＝8.1Hz,H−
1''）， 5.33（1H,d,J＝10.3Hz,H−13）,5.47（1H,d,J＝15.4H
z,H−10）， 5.55（1H,d,J＝15.4Hz,H−２）,6.24（1H,d,J＝15.4H
z,H−11）， 6.69（1H,dd,J＝15.4＆9.5Hz,H−３） FAB−MS:1036（Ｍ＋Ｈ）＋ 例21:3,2',4''−トリ−Ｏ−アセチル−４′−Ｏ−メタ
ンスルホニルデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンア
セタール） 3,2',4''−トリ−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,20
−ビス（エチレンアセタール）100mg（0.101mmol）をメ
チルエチルケトン1mlに溶解し、トリエチルアミン63.1
μｌ（9.455mmol）を加えた。氷冷下でメタンスルホニ
ルクロリド30.5μｌ（0.394mmol）のメチルエチルケト
ン100μｌ溶液を加えて、同温度で30分間反応させた。
反応液にクロロホルム10mlを加え、５％重曹水10ml、飽
和食塩水10mlで２回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。有機層を減圧濃縮した後に真空乾燥すると、
表題化合物を主成分として含む無色アモルファス状固体
が115mgが得られた。
NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.84（3H,br,H−18）,0.90（3H,t,J＝7.3Hz,H−1
7）， 0.99（3H,d,J＝5.9Hz,H−21）,1.17（3H,d,J＝6.6Hz,
H−６″）， 1.36（3H,d,J＝5.9Hz,H−６′）,1.70（3H,s,H−2
2）， 2.06（3H,s,OCOCH3）,2.10（3H,s,OCOCH3）,2.11（3
H,s,OCOCH3）， 2.39（3H,s,N（CH3）２−３′）,3.03（1H,dd,J＝2.9
＆8.1Hz,H−２″）， 3.10（3H,s,OSO2CH3−４′）,3.45（3H,s,OCH3−
２″）， 3.51（3H,s,OCH3−３″）,4.22（1H,t,J＝9.5Hz,H−
４′）， 4.43（1H,dd,J＝2.2＆9.5Hz,H−４″）， 4.60（1H,d,J＝8.1Hz,H−１″）,4.81（1H,m,H−1
5）， 4.88（1H,t,J＝5.1Hz,H−20）,5.42（1H,d,J＝10.3H
z,H−13）， 5.61（1H,d,J＝16.1Hz,H−10）,6.48（1H,d,J＝16.1H
z,H−11）， FAB−MS:1064（Ｍ＋Ｈ）＋ 例22:3,2′,4″−トリ−Ｏ−アセチル−４′−デオキシ
−４′−ヨードデスマイコシン 9,20−ビス（エチレン
アセタール） 3,2′,4″−トリ−Ｏ−アセチルデスマイコシン 9,2
0−ビス（エチレンアセタール）100mg（0.101mmol）を
メチルエチルケトン1mlに溶解した。トリエチルアミン7
0.1μｌ（0.507mmol）を加えた後に、氷冷下でメタンス
ルホニルクロリド11.8μｌ（0.152mmol）のメチルエチ
ルケトン0.1ml溶液を加えた。同温度で30分間攪拌して
メシル化反応を完成させた後、反応液に、ヨウ化ナトリ
ウム45.4mg（0.303mmol）を加え、30分間加熱還流し
た。反応液を減圧濃縮した後、酢酸エチル20mlを加えて
５％重曹水20ml、水20mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮した後、真空乾燥し
て得られた残渣をトルエン／アセトン（3/1）展開の分
取用シリカゲルTLCで精製すると、同展開系を用いたTLC
上でRf値0.66に硫酸呈色陽性を示す表題化合物98.5mgが
89％の収率で得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:2976,2938,2884,1744,1373,1235,104
9cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.85（3H,br,H−18）,0.90（3H,t,J＝7.3Hz,H−1
7）， 0.99（3H,d,J＝6.2Hz,H−21）,1.17（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６″）， 1.51（3H,d,J＝5.5Hz,H−6'）,1.71（3H,d,J＝1.1Hz,
H−22）， 2.05（3H,s,OCOCH3）,2.11（6H,s,2×OCOCH3）， 2.42（6H,s,N（CH3）２−３′）,2.91（1H,m,H−1
4）， 3.03（1H,dd,J＝2.9＆8.1Hz,H−２″）,3.45（3H,s,O
CH3−２″）， 3.52（3H,s,OCH3−３″）,4.27（1H,br,H−１′）， 4.43（1H,dd,J＝2.6＆9.9Hz,H−４″）， 4.60（1H,d,J＝8.1Hz,H−１″）,4.82（1H,m,H−1
5）， 4.88（1H,t,J＝4.9Hz,H−20）,4.94（1H,dd,J＝8.1＆
9.9Hz,H−２′）， 5.07（1H,br,H−３）,5.42（1H,d,J＝10.3Hz,H−1
3）， 5.60（1H,bd,J＝15.8Hz,H−10）,6.50（1H,d,J＝15.8
Hz,H−11）， FAB−MS:1096（Ｍ＋Ｈ）＋ 例23:2',4''−ジ−Ｏ−アセチル−2,3−デヒドロ−3,
4′−ジデオキシ−４′−ヨードデスマイコシン 9,20
−ビス（エチレンアセタール） トルエン6mlにジメチルスルホキシド162μｌ（2.28mm
ol）と水素化ナトリウム27.4mg（0.684mmol）を加えて
室温で10分間反応した。この溶液を氷冷した後に、3,
2′,4″−トリ−Ｏ−アセチル−４′−デオキシ−４′
−ヨードデスマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタ
ール）500mg（0.456mmol）を加え、室温で２時間攪拌し
た。その後に水素化ナトリウム9.1mg（0.228mmol）を加
え、室温で14時間反応した。反応液にトルエン10mlを加
え、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機
層を減圧濃縮、真空乾燥すると、トルエン／アセトン
（4/1）展開のシリカゲルTLC上でRf値0.69に硫酸呈色陽
性を示す表題化合物を主成分とするアモルファス状固体
が481mg得られた。
UV（MeOH）λmax:216nm IR（KBr）νmax:2975,2936,2880,1750,1717,1373,123
3,1171,1090,1049cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.95（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.17（3H,d,J＝6.6
Hz,H−６″）， 1.53（3H,d,J＝5.1Hz,H−６′）,1.69（3H,s,H−2
2）， 2.04（3H,s,OCOCH3）,2.11（3H,s,OCOCH3）， 2.43（6H,s,N（CH3）２−３′）， 3.05（1H,dd,J＝2.9＆8.1Hz,H−２″）,3.48（3H,s,O
CH3−２″）， 3.52（3H,s,OCH3−３″）,4.62（1H,d,J＝8.1Hz,H−
１″）， 5.33（1H,d,J＝10.3Hz,H−13）,5.47（1H,d,J＝15.4H
z,H−10）， 5.55（1H,d,J＝15.4Hz,H−２）,6.24（1H,d,J＝15.4H
z,H−11）， 6.69（1H,dd,J＝15.4＆9.5Hz,H−３）， FAB−MS:1036（Ｍ＋Ｈ）＋ 例24:3,4′−ジデオキシデスマイコシン 9,20−ビス
（エチレンアセタール） ２′,4″−ジ−Ｏ−アセチル
−2,3−デヒドロ−3,4′−ジデオキシ−４′−ヨードデ
スマイコシン 9,20−ビス（エチレンアセタール）470m
g（0.454mmol）をメタノール6mlに溶解した。この溶液
に炭酸カリウム200mg（1.45mmol）を加え、続いてラネ
ーニッケル（川研ファインケミカル（株）製NDT−65）
湿重量400mg（0.3ml）のメタノール1ml懸濁液を加え
て、水素圧3.5Kg/cm2で２時間接触還元した。触媒をセ
ライトで濾別し、母液を１晩放置した後に減圧濃縮し
た。残渣に酢酸エチル20ml及び水20mlを加えて分液し
た。有機層を飽和食塩水20mlで洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮して得られた残
渣423mgをシリカゲルクロマトグラフィー（40g）に付し
て、クロロホルム／メタノール（25/1）で溶出した。ク
ロロホルム／メタノール（5/1）展開のシリカゲルTLC上
でRf値0.45に硫酸呈色陽性を示すフラクションを分取す
ると、表題化合物285mgの無色アモルファス状固体が76
％の収率で得られた。
UV（MeOH）λmax:234nm IR（KBr）νmax:3466,2971,2936,2880,1730,1379,116
7,1082cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.93（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.23（3H,d,J＝6.2
Hz,H−６′）， 1.26（3H,d,J＝6.6Hz,H−６″）,1.72（3H,s,H−2
2）， 2.28（6H,s,N（CH3）２−３′）,2.86（1H,m,H−1
4）， 3.48（3H,s,OCH3−２″）,3.61（3H,s,OCH3−
３″）， 4.28（1H,d,J＝7.3Hz,H−1'）,4.54（1H,d,J＝7.7Hz,
H−１″）， 4.91（1H,m,H−15）,5.01（1H,br,H−20）,5.42（1H,
d,J＝10.6Hz,H−13）， 5.60（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,6.39（1H,d,J＝15.8H
z,H−11）， FAB−MS:828（Ｍ＋Ｈ）＋ 例25:2'−Ｏ−アセチル−3,4'−ジデオキシマイコシン
9,20−ビス（エチレンアセタール） 3,4'−ジデオキシマイコシン 9,20−ビス（エチレン
アセタール）285mgを酢酸エチル3.0mlに溶解した後、無
水酢酸51.4μｌを加えて室温で３時間反応させた。酢酸
エチル10mlを加え、５％重曹水10ml、20％食塩水10mlで
洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧乾
固すると、クロロホルム／メタノール（10/1）展開のシ
リカゲルTLC上でRf値0.44に硫酸呈色陽性を示す表題化
合物が300mg得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:3476,2973,2938,2882,1744,1373,123
8,1167,1061,961cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.82（3H,bd,J＝5.5Hz,H−18）,0.92（3H,t,J＝7.
3Hz,H−17）， 1.00（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.23（3H,d,J＝6.2Hz,
H−6'）， 1.26（3H,d,J＝6.2Hz,H−6''）,1.35（1H,m,H−4'
a）,1.71（1H,m,H−4'b）， 1.73（3H,d,J＝1.1Hz,H−22）,2.04（3H,s,OCOCH3−
2'）， 2.26（6H,s,N（CH3）２−3'）,2.68（1H,ddd,J＝12.3
＆10.4＆4.4Hz,H−3'）， 3.18（3H,br,H−4''）,3.48（3H,s,OCH3−2''）,3.61
（3H,s,OCH3−3''）， 4.31（1H,d,J＝7.7Hz,H−1'）,4.55（1H,d,J＝7.7Hz,
H−1''）， 4.80（1H,dd,J＝10.4＆7.7Hz,H−2'）,4.90（1H,m,H
−15）， 4.95（1H,bt,J＝5.1Hz,H−20）,5.42（1H,d,J＝10.6H
z,H−13）， 5.62（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,6.36（1H,d,J＝15.8H
z,H−11） FAB−MS:870（Ｍ＋Ｈ）＋ 例26:3,2′−ジ−Ｏ−アセチル−４″−Ｏ−イソバレリ
ルデマイシノシルタイロシン ３−Ｏ−アセチル−４″−Ｏ−イソバレリルデマイシ
ノシルタイロシン48.4g（55.7mmol）を酢酸エチル200ml
に溶解し、無水酢酸6.3ml（66.9mmol）を加えて室温で
２時間反応させた。反応液を５％重曹水200ml、20％食
塩水200mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
て減圧乾固した。トルエン／アセトン（1/1）展開のシ
リカゲルTLC上でRf値0.66に硫酸呈色陽性を示す表題化
合物が50.7g得られた。
UV（MeOH）λmax:282nm IR（KBr）νmax:2973,2940,1740,1595,1373,1235,116
9,1057,1028cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.92（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）， 0.98（6H,d,J＝6.6Hz,イソバレリルのジメチル）， 1.84（3H,s,H−22）,2.06（3H,s,OCOCH3−2'）， 2.13（3H,s,OCOCH3−３）,2.41（6H,s,N（CH3）２−
3'）， 4.24（1H,d,J＝7.7Hz,H−1'）,4.62（1H,d,J＝10.3H
z,H−4''）， 5.01（1H,dd,J＝7.7＆10.6Hz,H−2'）,5.06（1H,d,J
＝3.3Hz,H−１″）， 5.13（1H,d,J＝10.6Hz,H−３）,5.90（1H,d,J＝10.3H
z,H−13）， 6.32（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,7.40（1H,d,J＝15.8H
z,H−11）， 9.60（1H,s,H−20） FAB−MS:910（Ｍ＋Ｈ）＋ 例27:3,2′−ジ−Ｏ−アセチルマイカミノシルタイロノ
ライド 3,2'−ジ−Ｏ−アセチル−４″−Ｏ−イソバレリルデ
マイシノシルタイロシン50.7g（55.7mmol）に水450mlを
加えて撹拌した。濃硫酸8.9ml（167mmol）を水50mlで希
釈した水溶液を注加して原料を溶解させた後に、温度を
50℃に昇温した。0.5時間後、反応液を15℃まで冷却し
て、酢酸エチル300mlで３回洗浄した。水層を20％炭酸
ナトリウム水でpH5.8に調整し、酢酸エチル300mlで２回
抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧乾
固して、トルエン／アセトン（2/1）展開のシリカゲルT
LC上でRf値0.33に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が29.1
g得られた。
UV（MeOH）λmax:282nm IR（KBr）νmax:2973,2938,1738,1593,1373,1236,105
9cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.92（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,0.99（3H,d,J＝6.6
Hz,H−18）， 1.22（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.28（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６′）， 1.84（3H,d,J＝0.7Hz,H−22）,2.06（3H,s,OCOCH3−
２′）， 2.15（3H,s,OCOCH3−３）,2.40（6H,s,N（CH3）２−
３′）， 2.93（1H,m,H−14）,3.03（1H,t,J＝9.5Hz,H−
４′）， 3.50（1H,bd,J＝8.8Hz,H−５）,3.67（1H,dd,J＝7.0
＆10.6Hz,H−23a）， 3.72（1H,dd,J＝4.4＆10.6Hz,H−23b）,4.29（1H,d,J
＝7.7Hz,H−1'）， 4.79（1H,m,H−15）,4.99（1H,dd,J＝7.7＆10.6Hz,H
−２′）， 5.14（1H,bd,J＝10.6Hz,H−３）,5.91（1H,d,J＝10.3
Hz,H−13）， 6.31（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,7.40（1H,d,J＝15.4H
z,H−11）， 9.61（1H,s,H−20） FAB−MS:682（Ｍ＋Ｈ）＋ 例28:3,2′−ジ−Ｏ−アセチルマイカミノシルタイロノ
ライド 9,20−ビス（エチレンアセタール） ｐ−トルエンスルホン酸−水和物9.74g（51.2mmol）
をトルエン100mlに加えて加熱し、トルエン約50mlを留
去して脱水した。この溶液を５℃以下に冷却し、オルト
蟻酸エチル28.4ml（171mmol）、エチレングリコール23.
8ml（427mmol）を加え、その後、この溶液を冷却した3,
2'−ジ−Ｏ−アセチルマイカミノシルタイロノライド2
9.1g（42.7mmol）のトルエン110ml溶液に加えた。室温
で1.5時間撹拌後、徐々に50℃まで昇温して１時間反応
させた。反応後を５％重曹水150ml、10％食塩水150mlで
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧乾固し
て、トルエン／アセトン（1/1）展開のシリカゲルTLC上
でRf値0.55に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が30.48gを
得た。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:2975,2940,2882,1742,1373,1238,118
2,1055cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.85（3H,br,H−18）,0.92（3H,t,J＝7.3Hz,H−1
7）， 1.00（3H,d,J＝6.6Hz,H−21）,1.31（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６′）， 1.77（3H,d,J＝1.1Hz,H−22）,2.05（3H,s,OCOCH3−
２′）， 2.13（3H,s,OCOCH3−３）,2.39（6H,s,N（CH3）２−
３′）， 2.86（1H,m,H−14）,3.05（1H,t,J＝9.5Hz,H−
４′）， 3.57（1H,dd,J＝8.1＆10.6Hz,H−23a）,3.64（1H,m,H
−５）， 3.69（1H,dd,J＝4.4＆10.6Hz,H−23b）,4.29（1H,br,
H−１′）， 4.76（1H,m,H−15）,4.91（1H,m,H−20）， 5.03（1H,dd,J＝7.7＆10.6Hz,H−２′）,5.06（1H,b
r,H−３）， 5.38（1H,bd,J＝10.6Hz,H−13）,5.69（1H,bd,J＝15.
4Hz,H−10） 6.54（1H,bd,J＝15.4Hz,H−11） FAB−MS:770（Ｍ＋Ｈ）＋ 例29:3,2′−ジ−Ｏ−アセチルマイカミノシルタイロノ
ライド 9,20−ビス（エチレンアセタール） ｐ−トルエンスルホン酸−水和物27.9g（0.147mol）
をトルエン250mlに加えて加熱蒸留して脱水した。この
溶液を５℃以下に冷却して、オルト蟻酸エチル81.2ml
（0.488mol）、エチレングリコール68.1ml（1.22mmol）
を加えた。その溶液を冷却した3,2′−ジ−Ｏ−アセチ
ル−４″−Ｏ−イソバレリルデマイシノシルタイロシン
111.1g（0.122mol）のトルエン400ml溶液に加えた。反
応液を徐々に50℃まで昇温し、1.5時間反応させた。反
応液を５％重曹水500ml、10％食塩水500mlで２回洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に減圧乾固した。
得られた残渣をトルエン／アセトン（3/1）を展開溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに対して精
製すると、例28と同一の表題化合物がアモルファス状の
固体として75.2g得られた。
例30:3,2′−ジ−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジ
メチルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビ
ス（エチレンアセタール） 3,2′−ジ−Ｏ−アセチルマイカミノシルタイロノラ
イド 9,20−ビス（エチレンアセタール）30.3g（39.3m
mol）をジメチルホルムアミド150mlに溶解し、イミダゾ
ール4.04g（59.4mmol）を加えて０℃に冷却した。撹拌
下にｔ−ブチルジメチルシリルクロリド6.56g（43.5mmo
l）を加えて、室温で２時間反応させた。反応液にトル
エン300mlを加え、５％重曹水300mlで２回、水150mlで
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧
乾固すると、トルエン／アセトン（2/1）展開のシリカ
ゲルTLC上でRf値0.55に硫酸呈色陽性を示す表題化合物3
4.6gが得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:2936,2884,1746,1373,1236,1084,105
5,837,777cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.85（3H,br,H−18）， 0.87（9H,s,t−ブチルメチルジシリルのｔ−ブチ
ル）， 0.90（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.00（3H,d,J＝6.6Hz,
H−21）， 1.31（3H,d,J＝6.2Hz,H−６′）,1.72（3H,d,J＝0.7H
z,H−22）， 2.05（3H,s,OCOCH3−２′）,2.12（3H,s,OCOCH3−
３）， 2.39（6H,s,N（CH3）２−３′）,3.04（1H,t,J＝9.5H
z,H−４′）， 4.29（1H,bd,J＝6.2Hz,H−１′）,4.83（1H,m,H−1
5）， 4.91（1H,t,J＝4.8Hz,H−20）,5.03（1H,dd,J＝7.7＆
10.6Hz,H−２′）， 5.06（1H,br,H−３）,5.37（1H,d,J＝10.3Hz,H−1
3）， 5.63（1H,bd,J＝15.4Hz,H−10）,6.50（1H,bd,J＝15.
4Hz,H−11） FAB−MS:884（Ｍ＋Ｈ）＋ 例31:2′−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチル
シリル−2,3−デビドロ−３−デオキシマイカミノシル
タイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセタール） トルエン100mlおよびジメチルスルホキシド13.9ml（1
95mmol）の混合溶媒に水素化ナトリウム（60％ in oi
l）2.34g（58.6mmol）を加えて10分間攪拌した。反応液
を０℃に冷却した後、攪拌下に3,2′−ジ−Ｏ−アセチ
ル23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルマイカミノシルタ
イロノライド 9,20−ビス（エチレンアセタール）34.5
g（39.0mmol）のトルエン70ml溶液を滴下して加えた。
同温度で１時間反応した後に水100mlを加え、1N−塩酸
でpHを６に調整して分液した。有機層を10％食塩水100m
lで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃
縮して、トルエン／アセトン（3/1）展開のシリカゲルT
LC上でRf値0.46に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が32.1
gを得た。
UV（MeOH）λmax:217nm IR（KBr）νmax:2936,2881,1750,1717,1373,1232,108
0,1057,837,777cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.89（9H,s,t−ブチルジメチルシリルのｔ−ブチ
ル）， 0.95（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.34（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６′）， 1.71（3H,d,J＝0.7Hz,H−22）,2.06（3H,s,OCOCH3−
２′）， 2.44（6H,s,N（CH3）２−３′）,3.11（1H,t,J＝9.2H
z,H−４′）， 4.44（1H,d,J＝7.3Hz,H−１′）,4.90（1H,m,H−1
5）， 4.96（1H,m,H−20）,5.06（1H,dd,J＝7.73＆10.6Hz,H
−２′）， 5.29（1H,d,J＝10.3Hz,H−13）,5.51（1H,d,J＝15.8H
z,H−10）， 5.55（1H,d,J＝15.4Hz,H−２）,6.25（1H,d,J＝15.8H
z,H−11）， 6.70（1H,dd,J＝9.5＆15.4Hz,H−３） FAB−MS:824（Ｍ＋Ｈ）＋ 例32:2′−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチル
シリル−2,3−デビドロ−3,4'−ジデオキシ−４′−ヨ
ードマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エチ
レンアセタール） ２′−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシ
リル−2,3−デヒドロ−３−デオキシマイカミノシルタ
イロノライド 9,20−ビス（エチレンアセタール）31.8
g（38.6mmol）をメチルエチルケトン230mlに溶解した。
トリエチルアミン10.8ml（77.3mmol）を加えた後、氷冷
下でメタンスルホニルクロリド3.9ml（50.2mmol）のメ
チルエチルケトン15ml溶液を加え、同温度で１時間反応
してメシル化体〔2'−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチ
ルジメチルシリル−2,3−デヒドロ−３−デオキシ−
４′−Ｏ−メタンスルホニルマイカミノシルタイロノラ
イド 9,20−ビス（エチレンアセタール）〕を得た。こ
の反応液にヨウ化ナトリウム17.4g（116mmol）を加えて
昇温し、３時間加熱還元してヨウ素化した。反応液を濃
縮し、トルエン250mlおよび水250mlを加えて分液した。
10％チオ硫酸ナトリウム250ml、10％食塩水250mlで洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮
乾固すると、トルエン／アセトン（10/1）展開のシリカ
ゲルTLC上でRf値0.51に硫酸呈色陽性を示す表題化合物
が36.1g得られた。
2'−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリ
ル−2,3−デヒドロ−３デオキシ−4'−Ｏ−メタンスル
ホニルマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エ
チレンアセタール） Rf値 0.55〔トルエン／アセトン（6/1）〕 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.89（9H,s,t−ブチルメチルシリルのｔ−ブチ
ル）， 0.95（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.38（3H,d,J＝6.2Hz,
H−６′）， 1.71（3H,s,H−22）,2.06（3H,s,OCOCH3−２′）， 2.40（6H,s,N（CH3）２−３′）， 2.89（1H,t,J＝10.3Hz,H−３′）,3.11（3H,s,OSO2CH
3−４′）， 4.24（1H,t,J＝9.5Hz,H−４′）,4.42（1H,d,J＝7.7H
z,H−１′）， 5.08（1H,dd,J＝7.7＆10.3Hz,H−2'）,5.29（1H,d,J
＝10.3Hz,H−13）， 5.50（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,5.55（1H,d,J＝15.4H
z,H−２）， 6.24（1H,d,J＝15.8Hz,H−11）,6.68（1H,dd,J＝9.5
＆15.4Hz,H−３） FAB−MS:902（Ｍ＋Ｈ）＋ 表題化合物 UV（MeOH）λmax:217nm IR（KBr）νmax:2936,2882,1752,1715,1373,1231,110
1,1051,837,777cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.89（9H,s,t−ブチルメチルシリルのｔ−ブチ
ル）， 0.95（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,1.53（3H,d,J＝5.5Hz,
H−6'）， 1.71（3H,d,J＝0.7Hz,H−22）,2.05（3H,s,OCOCH3−
2'）， 2.43（6H,s,N（CH3）２−3'）,2.84（1H,m,H−3'）， 4.42（1H,d,J＝7.7Hz,H−1'）， 4.96（1H,dd,J＝7.7＆9.9Hz,H−2'）， 5.29（1H,d,J＝10.3Hz,H−13）,5.50（1H,d,J＝15.8H
z,H−10）， 5.55（1H,d,J＝15.4Hz,H−２）,6.25（1H,d,J＝15.8H
z,H−11）， 6.69（1H,dd,J＝9.5＆15.4Hz,H−３） FAB−MS:934（Ｍ＋Ｈ）＋ 例33:3,2′−ジ−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジ
メチルシリル−４′−Ｏ−メタンスルホニルマイカミノ
シルタイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセター
ル） 3,2′−ジ−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメ
チルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス
（エチレンアセタール）50.0mg（0.0565mmol）をメチル
エチルケトン1mlに溶解した。トリエチルアミン35.4μ
ｌ（0.254mmol）を加えた後、氷冷下でメタンスルホニ
ルクロリド17.1μｌ（0.220mmol）のメチルエチルケト
ン50μｌ溶液を加えて、同温度で１時間攪拌した。反応
液にクロロホルム10mlを加え、飽和重曹水10ml、飽和食
塩水10mlで２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下濃縮乾固すると、トルエン／アセトン
（5/1）展開のシリカゲルTLC上でRf値0.57に硫酸呈色陽
性を示す表題化合物が53.9mg得られた。
NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.84（3H,br,H−18）， 0.87（9H,s,t−ブチルジメチルシリルのｔ−ブチ
ル）， 0.90（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,0.99（3H,d,J＝6.6Hz,
H−21）， 1.36（3H,d,J＝5.9Hz,H−６′）,1.72（3H,s,H−2
2）， 2.06（3H,s,OCOCH3−2'）,2.11（3H,s,OCOCH3−
３）， 2.39（6H,s,N（CH3）２−3'）,2.73（1H,m,H−14）， 3.10（3H,s,OSO2CH3−4'）,3.43（1H,m,H−5'）， 4.22（1H,t,J＝9.5Hz,H−4'）,5.37（1H,d,J＝10.3H
z,H−13）， 5.63（1H,d,J＝16.1Hz,H−10）,6.49（1H,d,J＝16.1H
z,H−11） FAB−MS:962（Ｍ＋Ｈ）＋ 例34:3,2′−ジ−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジ
メチルシリル−4'−デオキシ−４′−ヨードマイカミノ
シルタイロノライド 9,20−ビス（エチレンアセター
ル） 3,2′−ジ−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメ
チルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス
（エチレンアセタール）266.1mg（0.301mmol）をメチル
エチルケトン2mlに溶解した。トリエチルアミン62.9μ
ｌ（0.452mmol）を加えた後、氷冷下でメタンスルホニ
ルクロリド28.0μｌ（0.361mmol）のメチルエチルケト
ン70μｌ溶液を加え、同温度で0.5時間攪拌してメシル
化反応を完結した。この反応液にヨウ化ナトリウム135.
4mg（0.903mmol）を加えて昇温し、0.5時間加熱還流し
てヨウ素化した。反応液にクロロホルム10mlを加え、飽
和重曹水10ml、飽和食塩水10mlで２回洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮して得ら
れた残渣を、トルエン／酢酸エチル（12/1）展開のシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付して精製すると、
トルエン／アセトン（10/1）展開のシリカゲルTLC上でR
f値0.57に硫酸呈色陽性を示す表題化合物210mgが70％の
収率で得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:2934,2882,1744,1372,1233,1179,110
3,1049cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.87（9H,s,t−ブチルジメチルシリルのｔ−ブチ
ル）， 0.90（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,0.99（3H,d,J＝6.6Hz,
H−21）， 1.51（3H,d,J＝5.9Hz,H−6'）,1.72（3H,s,H−22）， 2.05（3H,s,OCOCH3−２′）,2.12（3H,s,OCOCH3−
３）， 2.42（6H,s,N（CH3）２−3'）,4.28（1H,d,J＝7.3Hz,
H−１′）， 5.07（1H,br,H−３）,5.37（1H,d,J＝11.0Hz,H−1
3）， 5.62（1H,d,J＝15.4Hz,H−10）,6.50（1H,d,J＝15.4H
z,H−11）， FAB−MS:994（Ｍ＋Ｈ）＋ 例35:2′−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチル
シリル−2,3−デヒドロ−3,4'−ジデオキシ−4'−ヨー
ドマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エチレ
ンアセタール） トルエン0.5mlおよびジメチルスルホキシド35.7μｌ
（0.503mmol）の混合溶媒に3,2′−ジ−Ｏ−アセチル−
23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−４′−デオキシ−
４′−ヨードマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビ
ス（エチレンアセタール）50.0mg（0.0503mmol）を溶解
した。この溶液には水素化ナトリウム（60％ in oil）
5.4mg（0.226mmol）を加えて20時間攪拌した。反応液に
酢酸エチル10mlを加えて、水10ml、飽和食塩水10mlで２
回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、減圧濃縮して得られた残渣を、トルエン／アセトン
（10/1）展開の分取用シリカゲルTLCに対して精製する
と、例32と同一の表題化合物が30mg得られた。
例36:23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−3,4′−ジ
デオキシマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス
（エチレンアセタール） ２′−Ｏ−アセチル−23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシ
リル−2,3−デヒドロ−3,4′−ジデオキシ−4'−ヨード
マイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エチレン
アセタール）35.9g（38.4mmol）をメタノール175mlに溶
解した。この溶液に、炭酸カリウム7.95g（57.5mmo
l）、続いてラネーニッケル（川研ファインケミカル
（株）製NDT−65）20gのメタノール30ml懸濁液を加え、
水素圧3.5Kg/cm2で２時間接触還元を行なった。触媒を
セライトで濾別して濾液を減圧濃縮した。この濃縮残渣
に酢酸エチル200mlを加えて20％食塩水200mlで２回洗浄
した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に減圧乾固する
と、クロロホルム／メタノール（10/1）展開のシリカゲ
ルTLC上でRf値0.45に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が2
8.0g得られた。
UV（MeOH）λmax:235nm IR（KBr）νmax:2938,2884,1734,1169,1111,1049,83
7,777cm-1 NMR（CDCl3）：主要ピークのみを表す δ:0.88（9H,s,t−ブチルジメチルシリルのｔ−ブチ
ル）， 0.92（3H,t,J＝7.3Hz,H−17）,0.98（3H,d,J＝6.6Hz,
H−18）， 1.02（3H,d,J＝7.0Hz,H−21）,1.23（3H,d,J＝6.2,H
−6'）， 1.74（3H,d,J＝1.1Hz,H−22）,2.27（6H,s,N（CH3）
２−３′）， 3.26（1H,dd,J＝7.3＆9.9Hz,H−２′）,4.28（1H,d,J
＝7.3Hz,H−１′）， 4.91（1H,m,H−15）,5.01（1H,m,H−20）,5.37（1H,
d,J＝10.3Hz,H−13）， 5.61（1H,d,J＝15.8Hz,H−10）,6.39（1H,d,J＝15.8H
z,H−11） FAB−MS:768（Ｍ＋Ｈ）＋ 例37:3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド 23−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−3,4′−ジデオ
キシマイカミノシルタイロノライド 9,20−ビス（エチ
レンアセタール）27.7g（36.0mmol）をテトラヒドロフ
ラン150mlに溶解した。1N−塩酸300mlを加えて室温で1.
5時間攪拌し、加水分解反応を行った。反応液に水300ml
を加え、得られた水溶液を塩化メチレン150mlで２回洗
浄した。水層のpHを6.0に調整しながら、塩化メチレン3
00mlを加えて抽出し、水層を再度pH6.0に調整して塩化
メチレン300mlで抽出した。有機層を合わせて20％食塩
水300mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有
機層を減圧乾固して、表題化合物を9.46g得た。
本物質は、ジャーナル・オブ・アンティバイオティク
ス（1992）に記載の3,4′−ジデオキシマイカミノシル
タイロノライドと同一の理化学的性状を示した。
産業上の利用可能性 本発明の方法を用いて得ることができる3,4′−ジデ
オキシマイカミノシルタイロノライドは、特開平２−27
5894号公報に記載されたように、グラム陽性及び陰性に
属する広範囲の微生物に対して抗菌活性を示す物質であ
り、特に感染防御作用に優れているので、抗菌剤として
有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平4−332933 (32)優先日 平成４年12月14日(1992．12．14) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 陰山 俊治 茨城県つくば市春日２−35−２ エトワ ール春日306 (72)発明者 三宅 俊昭 神奈川県横浜市港北区下田町３丁目５− １ 日吉ハイツ207 (72)発明者 松本 直樹 神奈川県横浜市港南区日限山４−52−11 (72)発明者 小湊 嘉一郎 神奈川県大和市南林間６−４−30 (72)発明者 田中 博 神奈川県茅ケ崎市小和田３−16−26− 306 (72)発明者 吉岡 武男 神奈川県綾瀬市上土棚1959 グリーンハ イツ３−3102 (56)参考文献 特開 昭57−28100（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−275894（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−191295（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−42698（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07H 17/08 C07H 1/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】以下の式： （式中、Ａは保護されていてもよいカルボニル基を示
    し;Bは保護されていてもよいアルデヒド基を示し;R1は
    下記一般式（Ｉ）で表わされる基を示し;R2は水素原子
    またはアシル基を示し;Wは水素原子、または置換スルホ
    ニルオキシ基を示し;Yは水素原子、ハロゲン原子、また
    は置換スルホニルオキシ基を示す。ただし、 は単結合を示す）で示される化合物。 （式中、ＺはCHR4またはＣ＝０を示し、R4は保護されて
    いてもよい水酸基を示す。）
  2. 【請求項２】以下の式： （式中、Ａは保護されていてもよいカルボニル基を示
    し;Bは保護されていてもよいアルデヒド基を示し;R1は
    水酸基または下記一般式（Ｉ）で表わされる基を示し;R
    2は水素原子またはアシル基を示し;Wは置換スルホニル
    オキシ基を示し;Yはハロゲン原子を示し、 は単結合を示す）で示される化合物を、アルカリ条件下
    で還元して、上記の式（式中、Ａ、Ｂ、R1、およびR2は
    上記の定義のとおりであり、ＷおよびＹは水素原子であ
    り、 は単結合を示す）で示される化合物を製造する方法。 （式中、ＺはCHR4またはＣ＝０を示し、R4は保護されて
    いてもよい水酸基を示す。）
  3. 【請求項３】以下の式： （式中、Ａは保護されていてもよいカルボニル基を示
    し;Bは保護されていてもよいアルデヒド基を示し;R1は
    水酸基または下記一般式（Ｉ）で表わされる基を示し;R
    2は水素原子またはアシル基を示し;WおよびＹは水酸基
    を示し、 は単結合を示す）で示される化合物を、スルホニル化剤
    と反応させて、上記の式（式中、Ａ、Ｂ、R1、およびR2
    は上記定義のとおりであり、ＷおよびＹは置換スルホニ
    ルオキシ基であり、 は単結合を示す）で示される化合物を製造する工程；上
    記工程で得られた化合物をハロゲン化剤と反応させて、
    上記の式（式中、Ａ、Ｂ、R1、およびR2は上記定義のと
    おりであり、Ｗは置換スルホニルオキシ基であり、Ｙは
    ハロゲン原子であり、 は単結合を示す）で示される化合物を製造する工程；お
    よび、上記工程で得られた化合物をアルカリ条件下で還
    元する工程を含む、上記の式（式中、Ａ、Ｂ、R1、およ
    びR2は上記定義のとおりであり、ＷおよびＹは水素原子
    であり、 は単結合を示す）で示される化合物を製造する方法。 （式中、ＺはCHR4またはＣ＝０を示し、R4は保護されて
    いてもよい水酸基を示す。）
  4. 【請求項４】以下の式： （式中、Ａは保護されていてもよいカルボニル基を示
    し;Bは保護されていてもよいアルデヒド基を示し;R1は
    水酸基または下記一般式（Ｉ）で表わされる基を示し;R
    2は水素原子またはアシル基を示し;WおよびＹは水酸基
    を示し、 は単結合を示す）で示される化合物を、スルホニル化剤
    と反応させて、上記の式（式中、Ａ、Ｂ、R1、およびR2
    は上記定義のとおりであり、ＷおよびＹは置換スルホニ
    ルオキシ基であり、 は単結合を示す）で示される化合物を製造する工程；上
    記工程で得られた化合物をハロゲン化剤と反応させて、
    上記の式（式中、Ａ、Ｂ、R1、およびR2は上記定義のと
    おりであり、Ｗは置換スルホニルオキシ基であり、Ｙは
    ハロゲン原子であり、 は単結合を示す）で示される化合物を製造する工程；上
    記工程で得られた化合物をアルカリ条件下で還元して、
    上記の式（式中、Ａ、Ｂ、R1、およびR2は上記定義のと
    おりであり、ＷおよびＹは水素原子であり、 は単結合を示す）で示される化合物を製造する工程；お
    よび上記工程で得られた化合物の保護基を除去する工程
    を含む、3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロノラ
    イドまたはその塩を製造する方法。 （式中、ＺはCHR4またはＣ＝０を示し、R4は保護されて
    いてもよい水酸基を示す。）
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