JPH06179691A - 新マイカミノシルタイロノライド誘導体 - Google Patents
新マイカミノシルタイロノライド誘導体Info
- Publication number
- JPH06179691A JPH06179691A JP4332933A JP33293392A JPH06179691A JP H06179691 A JPH06179691 A JP H06179691A JP 4332933 A JP4332933 A JP 4332933A JP 33293392 A JP33293392 A JP 33293392A JP H06179691 A JPH06179691 A JP H06179691A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- tylonolide
- chloride
- compound
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】一般式（Ｉ）：
【化１】
（式中、R1は水素原子又はOCOCH3基を表し、R2は水素原
子又は水酸基の保護基を表し、R3はアシル基を表し、R4
は水酸基、OSO2R またはハロゲン原子を表し、Ａは、保
護されていてもよいカルボニル基を表し、Ｂは、保護さ
れていてもよいアルデヒド基を表す。但し、----部分は
R1がOCOCH3基を示すときは単結合を表し、R1が水素原子
を示すときは二重結合を表す。Ｒは低級アルキル基、ト
リフロロメチル基、2-オキソ-10-ボルナニイル基、置換
又は未置換のアリール基、または置換又は未置換のアラ
ルキル基を表す）で示されるマイカミノシルタイロノラ
イド誘導体。 【効果】優れた感染防御作用を有する抗菌性物質である
３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライドを
製造するために有用な中間体である。
子又は水酸基の保護基を表し、R3はアシル基を表し、R4
は水酸基、OSO2R またはハロゲン原子を表し、Ａは、保
護されていてもよいカルボニル基を表し、Ｂは、保護さ
れていてもよいアルデヒド基を表す。但し、----部分は
R1がOCOCH3基を示すときは単結合を表し、R1が水素原子
を示すときは二重結合を表す。Ｒは低級アルキル基、ト
リフロロメチル基、2-オキソ-10-ボルナニイル基、置換
又は未置換のアリール基、または置換又は未置換のアラ
ルキル基を表す）で示されるマイカミノシルタイロノラ
イド誘導体。 【効果】優れた感染防御作用を有する抗菌性物質である
３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライドを
製造するために有用な中間体である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた感染防御作用を
有する抗菌性物質である３，４′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドを製造するために有用な中間体に
関する。
有する抗菌性物質である３，４′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドを製造するために有用な中間体に
関する。
【０００２】
【従来の技術】３，４′−ジデオキシマイカミノシルタ
イロノライド又はその塩は、グラム陽性及び陰性に属す
る微生物に対して抗菌活性を示す物質であり、特に感染
防御作用に優れた抗菌剤として有用である（特開平２−
２７５８９４号公報）。３，４′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドは、タイロシンの酸加水分解物で
あるマイカミノシルタイロノライドの官能基を適宜保護
した後、３位及び４′位の水酸基をデオキシ化し、さら
に適宜脱保護することにより製造することができる。し
かしながら、従来、3-O-アセチル−４"-O-イソバレリル
デマイシノシルタイロシン（特公昭60-16960号公報) を
出発原料として用いる製造方法は報告されていない。
イロノライド又はその塩は、グラム陽性及び陰性に属す
る微生物に対して抗菌活性を示す物質であり、特に感染
防御作用に優れた抗菌剤として有用である（特開平２−
２７５８９４号公報）。３，４′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドは、タイロシンの酸加水分解物で
あるマイカミノシルタイロノライドの官能基を適宜保護
した後、３位及び４′位の水酸基をデオキシ化し、さら
に適宜脱保護することにより製造することができる。し
かしながら、従来、3-O-アセチル−４"-O-イソバレリル
デマイシノシルタイロシン（特公昭60-16960号公報) を
出発原料として用いる製造方法は報告されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】本発明は、３，４′−ジデオキシマイカミノシ
ルタイロノライドを製造するために有用な中間体とし
て、3-O-アセチル−４"-O-イソバレリルデマイシノシル
タイロシンから誘導された新規中間体を提供することを
目的とするものである。すなわち本発明は、３，４′−
ジデオキシマイカミノシルタイロノライドを製造するた
めに有用な中間体として、下記一般式(I) で示されるマ
イカミノシルタイロノライド誘導体：
の手段】本発明は、３，４′−ジデオキシマイカミノシ
ルタイロノライドを製造するために有用な中間体とし
て、3-O-アセチル−４"-O-イソバレリルデマイシノシル
タイロシンから誘導された新規中間体を提供することを
目的とするものである。すなわち本発明は、３，４′−
ジデオキシマイカミノシルタイロノライドを製造するた
めに有用な中間体として、下記一般式(I) で示されるマ
イカミノシルタイロノライド誘導体：
【０００４】
【化２】
【０００５】（式中、R1は水素原子又はOCOCH3基を表
し、R2は水素原子又は水酸基の保護基を表し、R3はアシ
ル基、R4は水酸基、OSO2R またはハロゲン原子を表し、
Ａは、保護されていてもよいカルボニル基を表し、Ｂ
は、保護されていてもよいアルデヒド基を表す。但し、
----部分はR1がOCOCH3基を示すときは単結合を表し、R1
が水素原子を示すときは二重結合を表す。Ｒは低級アル
キル基、トリフロロメチル基、2-オキソ-10-ボルナニイ
ル基、置換又は未置換のアリール基、または置換又は未
置換のアラルキル基を表す）で示される化合物を提供す
るものである。
し、R2は水素原子又は水酸基の保護基を表し、R3はアシ
ル基、R4は水酸基、OSO2R またはハロゲン原子を表し、
Ａは、保護されていてもよいカルボニル基を表し、Ｂ
は、保護されていてもよいアルデヒド基を表す。但し、
----部分はR1がOCOCH3基を示すときは単結合を表し、R1
が水素原子を示すときは二重結合を表す。Ｒは低級アル
キル基、トリフロロメチル基、2-オキソ-10-ボルナニイ
ル基、置換又は未置換のアリール基、または置換又は未
置換のアラルキル基を表す）で示される化合物を提供す
るものである。
【０００６】本明細書において、特に断らない限り、低
級とは炭素数１〜６個であることを意味し、低級アルキ
ル基とは、炭素数１乃至６個の直鎖または分枝状のアル
キル基を意味する。例えば、低級アルキル基として、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル
基、1-メチルブチル基、2-メチルブチル基、ネオペンチ
ル基を挙げることができる。
級とは炭素数１〜６個であることを意味し、低級アルキ
ル基とは、炭素数１乃至６個の直鎖または分枝状のアル
キル基を意味する。例えば、低級アルキル基として、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル
基、1-メチルブチル基、2-メチルブチル基、ネオペンチ
ル基を挙げることができる。
【０００７】R3が示すアシル基としては、例えば、ホル
ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イ
ソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイ
ル基、ヘキサノイル基などのアルカノイル基；アクリロ
イル基、メタクロイル基、クロトノイル基などの低級ア
ルケノイル基；ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイ
ル基などのアロイル基；フェニルアセチル基、フェニル
プロピオニル基、フェニルヘキサノイル基などのフェニ
ル（低級）アルカノイル基などが挙げられる。R4がOSO2
R を示す場合、R が表す置換または未置換のアリール基
としては、例えば、フェニル基、p-メトキシフェニル
基、p-ニトロフェニル基、p-フロロフェニル基、o,p-ジ
フロロフェニル基、p-クロロフェニル基、m-クロロフェ
ニル基、o-クロロフェニル基、o,p-ジクロロフェニル
基、p-ブロモフェニル基、p-メチルフェニル基、m-メチ
ルフェニル基、o,p-ジメチルフェニル基、m,p-ジメチル
フェニル基、ナフチル基等を挙げることができ、置換ま
たは未置換のアラルキル基としては、例えば、ベンジル
基、p-ニトロベンジル基、o,p-ジニトロベンジル基、p-
クロロベンジル基、m-クロロベンジル基、p-メチルベン
ジル基、m-メチルベンジル基、o-メチルベンジル基、o,
p-ジメチルベンジル基、p-メトキシベンジル基、p-フロ
ロベンジル基等を挙げることができる。ハロゲン原子と
しては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のいずれでもよ
い。
ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イ
ソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイ
ル基、ヘキサノイル基などのアルカノイル基；アクリロ
イル基、メタクロイル基、クロトノイル基などの低級ア
ルケノイル基；ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイ
ル基などのアロイル基；フェニルアセチル基、フェニル
プロピオニル基、フェニルヘキサノイル基などのフェニ
ル（低級）アルカノイル基などが挙げられる。R4がOSO2
R を示す場合、R が表す置換または未置換のアリール基
としては、例えば、フェニル基、p-メトキシフェニル
基、p-ニトロフェニル基、p-フロロフェニル基、o,p-ジ
フロロフェニル基、p-クロロフェニル基、m-クロロフェ
ニル基、o-クロロフェニル基、o,p-ジクロロフェニル
基、p-ブロモフェニル基、p-メチルフェニル基、m-メチ
ルフェニル基、o,p-ジメチルフェニル基、m,p-ジメチル
フェニル基、ナフチル基等を挙げることができ、置換ま
たは未置換のアラルキル基としては、例えば、ベンジル
基、p-ニトロベンジル基、o,p-ジニトロベンジル基、p-
クロロベンジル基、m-クロロベンジル基、p-メチルベン
ジル基、m-メチルベンジル基、o-メチルベンジル基、o,
p-ジメチルベンジル基、p-メトキシベンジル基、p-フロ
ロベンジル基等を挙げることができる。ハロゲン原子と
しては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のいずれでもよ
い。
【０００８】Ａが保護されていてもよいカルボニル基を
示し、Ｂが保護されていてもよいアルデヒド基を示す場
合、カルボニル基またはアルデヒド基の保護基としては
当業者に自明なものはいかなるものを使用してもよい
が、例えば、カルボニル基またはアルデヒド基がケター
ルまたはアセタールとして保護されたものを例示するこ
とができる。具体的には、ジメチルアセタール（ジメチ
ルケタール）、ジエチルアセタール（ジエチルケター
ル）、エチレンアセタール（エチレンケタール）、プロ
ピレンアセタール（プロピレンケタール）、またはこれ
にメチル基などの置換基を有するものなどを用いればよ
い。
示し、Ｂが保護されていてもよいアルデヒド基を示す場
合、カルボニル基またはアルデヒド基の保護基としては
当業者に自明なものはいかなるものを使用してもよい
が、例えば、カルボニル基またはアルデヒド基がケター
ルまたはアセタールとして保護されたものを例示するこ
とができる。具体的には、ジメチルアセタール（ジメチ
ルケタール）、ジエチルアセタール（ジエチルケター
ル）、エチレンアセタール（エチレンケタール）、プロ
ピレンアセタール（プロピレンケタール）、またはこれ
にメチル基などの置換基を有するものなどを用いればよ
い。
【０００９】水酸基の保護基としては、トリメチルシリ
ル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、t-
ブチルジメチルシリル基、ジメトキシメチルシリル基、
ジメチルフェニルシリル基等のシリル基、トリチル基、
テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基を挙
げることができるが、上記のアシル基を水酸基の保護基
として用いてもよい。
ル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、t-
ブチルジメチルシリル基、ジメトキシメチルシリル基、
ジメチルフェニルシリル基等のシリル基、トリチル基、
テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基を挙
げることができるが、上記のアシル基を水酸基の保護基
として用いてもよい。
【００１０】式(I) で示される本発明の化合物は、例え
ば、以下の方法により製造することができるが、本発明
の化合物の製造方法は、これらの方法に限定されること
はない。出発原料として用いる3-0-アセチル-4″-O- イ
ソバレリルデマイシノシルタイロシン（特公昭60-16960
号公報に記載の化合物) を、例えば、J.Antibitics 35,
661(1982) 記載の方法により種々の酸無水物で処理する
ことにより、２′-O- アシル-3-O- アセチル-4″-O- イ
ソバレリルデマイシノシルタイロシンに変換することが
できる。この化合物を、酸性条件下、例えば、硫酸、塩
酸、リン酸等の水溶液中で、-10 〜１００℃、好ましく
は１０〜６０℃の温度で加水分解すると、２′-O- アシ
ル-3-O- アセチル- マイカミノシルタイロノライドが得
られる。さらにこの化合物を、脱水剤、アルコール化合
物、及び酸触媒を用いてアセタール化反応に付すること
により、２′-O- アシル-3-O- アセチルマイカミノシル
タイロノライドの9,20- ビスアセタール体を製造するこ
とができる。一方、２′-O-アシル-3-O- アセチル-4″-
O- イソバレリルデマイシノシルタイロシンを、上記と
同様の条件でアセタール化反応に付すると、アセタール
化と同時に末端糖が加水分解されるので、２′-O- アシ
ル-3-O- アセチルマイカミノシルタイロノライドの9,20
- ビスアセタール体を一工程で製造することができる。
ば、以下の方法により製造することができるが、本発明
の化合物の製造方法は、これらの方法に限定されること
はない。出発原料として用いる3-0-アセチル-4″-O- イ
ソバレリルデマイシノシルタイロシン（特公昭60-16960
号公報に記載の化合物) を、例えば、J.Antibitics 35,
661(1982) 記載の方法により種々の酸無水物で処理する
ことにより、２′-O- アシル-3-O- アセチル-4″-O- イ
ソバレリルデマイシノシルタイロシンに変換することが
できる。この化合物を、酸性条件下、例えば、硫酸、塩
酸、リン酸等の水溶液中で、-10 〜１００℃、好ましく
は１０〜６０℃の温度で加水分解すると、２′-O- アシ
ル-3-O- アセチル- マイカミノシルタイロノライドが得
られる。さらにこの化合物を、脱水剤、アルコール化合
物、及び酸触媒を用いてアセタール化反応に付すること
により、２′-O- アシル-3-O- アセチルマイカミノシル
タイロノライドの9,20- ビスアセタール体を製造するこ
とができる。一方、２′-O-アシル-3-O- アセチル-4″-
O- イソバレリルデマイシノシルタイロシンを、上記と
同様の条件でアセタール化反応に付すると、アセタール
化と同時に末端糖が加水分解されるので、２′-O- アシ
ル-3-O- アセチルマイカミノシルタイロノライドの9,20
- ビスアセタール体を一工程で製造することができる。
【００１１】上記のアセタール化反応には、所望のアセ
タールやケタールを与えるアルコール化合物を、単独あ
るいは不活性溶媒と組み合わせて用いればよい。アルコ
ール化合物としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、エチレングリコール、プロパンジ
オール、2,3-ブタンジオール等が用いられるが、それら
はマクロライド化合物１モルに対して５モル〜２０モル
の割合で使用すればよい。不活性溶媒としては、トルエ
ン、ベンゼン、酢酸エチル、クロロホルム、ジクロロメ
タンなどを用いればよい。また、脱水剤としてはオルト
蟻酸エチルの他、オルト蟻酸メチル、無水塩化カルシュ
ウム、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウム、モ
レキュラーシーブ等が使用できる。酸触媒としては、p-
トルエンスルホン酸の他に、ベンゼンスルホン酸、カン
ファースルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、アンバー
リスト１５などが使用できる。酸触媒は、マクロライド
化合物１モルに対して1.１〜1.５モル使用するのが好適
である。反応温度は、５〜８０℃、好ましくは２０〜７
０℃、特に好ましくは室温〜５０℃で行えばよい。
タールやケタールを与えるアルコール化合物を、単独あ
るいは不活性溶媒と組み合わせて用いればよい。アルコ
ール化合物としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、エチレングリコール、プロパンジ
オール、2,3-ブタンジオール等が用いられるが、それら
はマクロライド化合物１モルに対して５モル〜２０モル
の割合で使用すればよい。不活性溶媒としては、トルエ
ン、ベンゼン、酢酸エチル、クロロホルム、ジクロロメ
タンなどを用いればよい。また、脱水剤としてはオルト
蟻酸エチルの他、オルト蟻酸メチル、無水塩化カルシュ
ウム、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウム、モ
レキュラーシーブ等が使用できる。酸触媒としては、p-
トルエンスルホン酸の他に、ベンゼンスルホン酸、カン
ファースルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、アンバー
リスト１５などが使用できる。酸触媒は、マクロライド
化合物１モルに対して1.１〜1.５モル使用するのが好適
である。反応温度は、５〜８０℃、好ましくは２０〜７
０℃、特に好ましくは室温〜５０℃で行えばよい。
【００１２】このようにして得られた２′-O- アシル-3
-O- アセチルマイカミノシルタイロノライドの9,20- ビ
スアセタール体を、塩基の存在下で、例えば、反応性シ
リル化合物を作用させることにより23位水酸基が保護さ
れた化合物を得ることができる。本反応の溶媒として
は、ジメチルホルムアミドの他、アセトン、アセトニト
リル、テトラヒドロフラン、トルエン、クロロホルム等
が使用できる。又、塩基触媒としては炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、ピリジン、ルチジン、
ピコリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、イミダゾール等の無機もしくは有機塩基を用いれ
ばよい。反応性シリル化合物としては、トリメチルシリ
ルクロリド、トリエチルシリルクロリド、トリプロピル
シリルクロリド、t-ブチルジメチルシリルクロリド、ジ
メトキジメチルシリルクロリド、ジメチルフェニルシリ
ルクロリド等を用いればよい。反応は-10 乃至50℃で行
なうことができる。
-O- アセチルマイカミノシルタイロノライドの9,20- ビ
スアセタール体を、塩基の存在下で、例えば、反応性シ
リル化合物を作用させることにより23位水酸基が保護さ
れた化合物を得ることができる。本反応の溶媒として
は、ジメチルホルムアミドの他、アセトン、アセトニト
リル、テトラヒドロフラン、トルエン、クロロホルム等
が使用できる。又、塩基触媒としては炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、ピリジン、ルチジン、
ピコリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、イミダゾール等の無機もしくは有機塩基を用いれ
ばよい。反応性シリル化合物としては、トリメチルシリ
ルクロリド、トリエチルシリルクロリド、トリプロピル
シリルクロリド、t-ブチルジメチルシリルクロリド、ジ
メトキジメチルシリルクロリド、ジメチルフェニルシリ
ルクロリド等を用いればよい。反応は-10 乃至50℃で行
なうことができる。
【００１３】23位の水酸基が保護された上記の化合物
を、トルエン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサン、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒に溶解後、
水素化ナトリウム、t-ブトキシカリウム、マグネシウム
メトキシド、マグネシウムエトキシド、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、1,8-ジアザビシクロ
〔5.4.0 〕-7- ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ〔4.3.
0 〕-5- ノネン等の塩基と、-10 〜80℃で反応させるこ
とにより、2,3 位の脱酢酸体である２′-O- アシル-2,3
- デヒドロ- マイカミノシルタイロノライド ビスアセ
タール体が得られる。使用される塩基の量はマクロライ
ド化合物１モルに対して1.０〜5.０モル、好ましくは1.
0 〜3.0 モルとすることが好適である。
を、トルエン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサン、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒に溶解後、
水素化ナトリウム、t-ブトキシカリウム、マグネシウム
メトキシド、マグネシウムエトキシド、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、1,8-ジアザビシクロ
〔5.4.0 〕-7- ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ〔4.3.
0 〕-5- ノネン等の塩基と、-10 〜80℃で反応させるこ
とにより、2,3 位の脱酢酸体である２′-O- アシル-2,3
- デヒドロ- マイカミノシルタイロノライド ビスアセ
タール体が得られる。使用される塩基の量はマクロライ
ド化合物１モルに対して1.０〜5.０モル、好ましくは1.
0 〜3.0 モルとすることが好適である。
【００１４】上記の化合物から4 ′位がスルホニル化さ
れた化合物を製造するには、2,3 位の脱酢酸体を、ピリ
ジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン等の塩基の存在下に、アセトン、
メチルエチルケトン、ジメトキシエタン、アセトニトリ
ル、トルエン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミド等の不活性溶媒中で、RSO2反応性誘導体(Rは前記
と同義）と-25 乃至25℃で反応させればよい。
れた化合物を製造するには、2,3 位の脱酢酸体を、ピリ
ジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン等の塩基の存在下に、アセトン、
メチルエチルケトン、ジメトキシエタン、アセトニトリ
ル、トルエン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミド等の不活性溶媒中で、RSO2反応性誘導体(Rは前記
と同義）と-25 乃至25℃で反応させればよい。
【００１５】上記の反応において、RSO2反応性誘導体と
しては、例えばハロゲン化物、酸無水物等が使用でき
る。具体的には、メタンスルホニルクロリド、メタンス
ルホン酸無水物、エタンスルホニルクロリド、プロパン
スルホニルクロリド、ブタンスルホニルクロリド、ペン
タンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニ
ルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、ベ
ンゼンスルホニルクロリド、p-メトキシフェニルスルホ
ニルクロリド、p-ニトロフェニルスルホニルクロリド、
p-フロロフェニルスルホニルクロリド、o,p-ジフロロフ
ェニルスルホニルクロリド、p-クロロフェニルスルホニ
ルクロリド、m-クロロフェニルスルホニルクロリド、o-
クロロフェニルスルホニルクロリド、o,p-ジクロロフェ
ニルスルホニルクロリド、p-ブロモフェニルスルホニル
クロリド、p-メチルフェニルスルホニルクロリド、p-メ
チルフェニルスルホン酸無水物、m-メチルフェニルスル
ホニルクロリド、o,p-ジメチルフェニルスルホニルクロ
リド、m,p-ジメチルフェニルスルホニルクロリド、ナフ
チルスルホニルクロリド、カンファースルホニルクロリ
ド、ベンジルスルホニルクロリド、p-ニトロベンジルス
ルホニルクロリド、o,p-ジニトロベンジルスルホニルク
ロリド、p-クロロベンジルスルホニルクロリド、m-クロ
ロベンジルスルホニルクロリド、p-メチルベンジルスル
ホニルクロリド、m-メチルベンジルスルホニルクロリ
ド、o-メチルベンジルスルホニルクロリド、o,p-ジメチ
ルベンジルスルホニルクロリド、p-メトキシベンジルス
ルホニルクロリド、p-フロロベンジルスルホニルクロリ
ド等を用いればよい。
しては、例えばハロゲン化物、酸無水物等が使用でき
る。具体的には、メタンスルホニルクロリド、メタンス
ルホン酸無水物、エタンスルホニルクロリド、プロパン
スルホニルクロリド、ブタンスルホニルクロリド、ペン
タンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニ
ルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、ベ
ンゼンスルホニルクロリド、p-メトキシフェニルスルホ
ニルクロリド、p-ニトロフェニルスルホニルクロリド、
p-フロロフェニルスルホニルクロリド、o,p-ジフロロフ
ェニルスルホニルクロリド、p-クロロフェニルスルホニ
ルクロリド、m-クロロフェニルスルホニルクロリド、o-
クロロフェニルスルホニルクロリド、o,p-ジクロロフェ
ニルスルホニルクロリド、p-ブロモフェニルスルホニル
クロリド、p-メチルフェニルスルホニルクロリド、p-メ
チルフェニルスルホン酸無水物、m-メチルフェニルスル
ホニルクロリド、o,p-ジメチルフェニルスルホニルクロ
リド、m,p-ジメチルフェニルスルホニルクロリド、ナフ
チルスルホニルクロリド、カンファースルホニルクロリ
ド、ベンジルスルホニルクロリド、p-ニトロベンジルス
ルホニルクロリド、o,p-ジニトロベンジルスルホニルク
ロリド、p-クロロベンジルスルホニルクロリド、m-クロ
ロベンジルスルホニルクロリド、p-メチルベンジルスル
ホニルクロリド、m-メチルベンジルスルホニルクロリ
ド、o-メチルベンジルスルホニルクロリド、o,p-ジメチ
ルベンジルスルホニルクロリド、p-メトキシベンジルス
ルホニルクロリド、p-フロロベンジルスルホニルクロリ
ド等を用いればよい。
【００１６】4 ′位がスルホニル化された上記の化合物
を単離精製して次の反応に用いてもよいが、比較的不安
定であるので、単離することなく次の反応に供するのが
好適である。上記の方法によりスルホニル化反応を行っ
た反応液に、マクロライド化合物１モルに対して１モル
〜５モルのハロゲン化カリウム、ハロゲン化ナトリウ
ム、テトラブチルアンモニウムハライド等のハロゲン化
剤を加え、50〜100 ℃、好ましくは65〜85℃の温度で反
応させることにより、 4′位がハロゲン化された２′-O
- アシル-2,3- デヒドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ハロ
- マイカミノシルタイロノライド ビスアセタール体に
変換することができる。ハロゲン化剤としては、例え
ば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化ナトリウ
ム、臭化カリウム、塩化ナトリウム、ヨウ化テトラブチ
ルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、塩化
テトラブチルアンモニウムを用いることができる。
を単離精製して次の反応に用いてもよいが、比較的不安
定であるので、単離することなく次の反応に供するのが
好適である。上記の方法によりスルホニル化反応を行っ
た反応液に、マクロライド化合物１モルに対して１モル
〜５モルのハロゲン化カリウム、ハロゲン化ナトリウ
ム、テトラブチルアンモニウムハライド等のハロゲン化
剤を加え、50〜100 ℃、好ましくは65〜85℃の温度で反
応させることにより、 4′位がハロゲン化された２′-O
- アシル-2,3- デヒドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ハロ
- マイカミノシルタイロノライド ビスアセタール体に
変換することができる。ハロゲン化剤としては、例え
ば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化ナトリウ
ム、臭化カリウム、塩化ナトリウム、ヨウ化テトラブチ
ルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、塩化
テトラブチルアンモニウムを用いることができる。
【００１７】このハロゲン化物は、２′-O- アシル-3-O
- アセチルマイカミノシルタイロノライドの9,20- ビス
アセタール体の23位水酸基を保護することにより得られ
た化合物の4'位をスルホニル化した後にハロゲン化し、
さらに脱酢酸反応に付することによっても製造すること
ができる。スルホニル化反応は、上記のRSO2反応性誘導
体(Rは前記と同義）と塩基の存在下に、不活性溶媒中、
-25 〜25℃で反応させればよい。４′位がスルホニル化
された化合物は、単離精製して次の反応に用いてもよい
が、それ自体比較的不安定であるので単離することなく
次の反応に供するのが好適である。上記のスルホニル化
反応の反応液に、マクロライド化合物１モルに対して１
モル乃至５モルの上述したハロゲン化カリウム、ハロゲ
ン化ナトリウム、テトラブチルアンモニウムハライド等
のハロゲン化剤を加え、50〜100 ℃、好ましくは65〜85
℃で反応させることにより、 4′位がハロゲン化された
化合物である 2′-O- アシル-3-O- アセチル-4′- デオ
キシ-4′- ハロ- マイカミノシルタイロノライドビスア
セタール体に変換することができる。この化合物を用い
た脱酢酸反応は、マクロライド化合物１モルに対して1.
0 〜5.0 モル、好ましくは1.0 〜3.0 モルの前記の塩基
を用いて、-10 〜80℃で反応させればよい。
- アセチルマイカミノシルタイロノライドの9,20- ビス
アセタール体の23位水酸基を保護することにより得られ
た化合物の4'位をスルホニル化した後にハロゲン化し、
さらに脱酢酸反応に付することによっても製造すること
ができる。スルホニル化反応は、上記のRSO2反応性誘導
体(Rは前記と同義）と塩基の存在下に、不活性溶媒中、
-25 〜25℃で反応させればよい。４′位がスルホニル化
された化合物は、単離精製して次の反応に用いてもよい
が、それ自体比較的不安定であるので単離することなく
次の反応に供するのが好適である。上記のスルホニル化
反応の反応液に、マクロライド化合物１モルに対して１
モル乃至５モルの上述したハロゲン化カリウム、ハロゲ
ン化ナトリウム、テトラブチルアンモニウムハライド等
のハロゲン化剤を加え、50〜100 ℃、好ましくは65〜85
℃で反応させることにより、 4′位がハロゲン化された
化合物である 2′-O- アシル-3-O- アセチル-4′- デオ
キシ-4′- ハロ- マイカミノシルタイロノライドビスア
セタール体に変換することができる。この化合物を用い
た脱酢酸反応は、マクロライド化合物１モルに対して1.
0 〜5.0 モル、好ましくは1.0 〜3.0 モルの前記の塩基
を用いて、-10 〜80℃で反応させればよい。
【００１８】上記のようにして得られる２′-O- アシル
-2,3- デヒドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ハロ- マイカ
ミノシルタイロノライド ビスアセタール体を、例えば
メタノールまたはエタノールに溶解し、例えばラネーニ
ッケル等の触媒と塩基の存在下で、常圧〜4.0 kg/cm2程
度の水素圧により接触還元を行なうと、3,4 ′- ジデオ
キシマイカミノシルタイロノランド ビスアセタール体
が得られる。この反応は、例えば室温で行えばよく、塩
基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等を、マクロライ
ド化合物１モルに対して、１〜３モル使用すればよい。
触媒としてラネーニッケルを用いる場合には、ラネーニ
ッケルの種類は特に限定されるものではないが、例えば
川研ファインケミカル社製のNDT-65またはNDHT-90 等が
使用できる。マクロライド化合物の１重量部に対して0.
1 〜1.0 重量部の触媒を用いて反応を行なうのが好まし
い。
-2,3- デヒドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ハロ- マイカ
ミノシルタイロノライド ビスアセタール体を、例えば
メタノールまたはエタノールに溶解し、例えばラネーニ
ッケル等の触媒と塩基の存在下で、常圧〜4.0 kg/cm2程
度の水素圧により接触還元を行なうと、3,4 ′- ジデオ
キシマイカミノシルタイロノランド ビスアセタール体
が得られる。この反応は、例えば室温で行えばよく、塩
基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等を、マクロライ
ド化合物１モルに対して、１〜３モル使用すればよい。
触媒としてラネーニッケルを用いる場合には、ラネーニ
ッケルの種類は特に限定されるものではないが、例えば
川研ファインケミカル社製のNDT-65またはNDHT-90 等が
使用できる。マクロライド化合物の１重量部に対して0.
1 〜1.0 重量部の触媒を用いて反応を行なうのが好まし
い。
【００１９】3,4 ′- ジデオキシマイカミノシルタイロ
ノライド ビスアセタール体をテトラヒドロフラン，ジ
オキサン、アセトン等の有機溶媒に溶解した後、希塩酸
で処理することにより脱アセタール化及び23位の脱保護
を同時に行なえば、目的の3,4 ′- ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドが得られる。
ノライド ビスアセタール体をテトラヒドロフラン，ジ
オキサン、アセトン等の有機溶媒に溶解した後、希塩酸
で処理することにより脱アセタール化及び23位の脱保護
を同時に行なえば、目的の3,4 ′- ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドが得られる。
【００２０】
【発明の効果】本発明により、有用な抗菌性物質である
3,4 ′- ジデオキシマイカミノシルタイロノライドを製
造するために有用な製造中間体が提供される。これらの
製造中間体の効率的な製造法も提供される。以下に本発
明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明は
これら実施例に限定されるものではない。 参考例１： 3,2′- ジ-O- アセチル-4″-0- イソバレリ
ルデマイシノシルタイロシンの製造
3,4 ′- ジデオキシマイカミノシルタイロノライドを製
造するために有用な製造中間体が提供される。これらの
製造中間体の効率的な製造法も提供される。以下に本発
明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明は
これら実施例に限定されるものではない。 参考例１： 3,2′- ジ-O- アセチル-4″-0- イソバレリ
ルデマイシノシルタイロシンの製造
【００２１】
【化３】
【００２２】3-0-アセチル-4″-0- イソバレリルデマイ
シノシルタイロシン48. 4 g(55.7mmol) を酢酸エチル20
0ml に溶解し、無水酢酸6.3 ml(66.9mmol)を加えて室温
で２時間反応させた。反応液を５％重曹水200ml 、20％
食塩水２00mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧乾固して、トルエン／アセトン(1/1) 展開のシリカ
ゲルＴＬＣにてRf値0.66に硫酸呈色陽性を示す表題化合
物が５0.7g得られた。
シノシルタイロシン48. 4 g(55.7mmol) を酢酸エチル20
0ml に溶解し、無水酢酸6.3 ml(66.9mmol)を加えて室温
で２時間反応させた。反応液を５％重曹水200ml 、20％
食塩水２00mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧乾固して、トルエン／アセトン(1/1) 展開のシリカ
ゲルＴＬＣにてRf値0.66に硫酸呈色陽性を示す表題化合
物が５0.7g得られた。
【００２３】UV(MeOH)λmax; 282 nm IR(KBr) νmax; 2973, 2940, 1740, 1595, 1373, 123
5, 1169,1057,1028cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.92 (3H, t, J=7.3Hz, H-17),0.98 (6H, d, J=6.6
Hz,イソバレリルのジメチル），1.84 (3H, s, H-22),
2.06 (3H, s, OCOCH3-2′),2.13 (3H, s, OCOCH3-3),
2.41 (6H, s, N(CH3)2-3 ′),4.24 (1H, d, J=7.7Hz,
H-1′), 4.62 (1H, d, J=10.3Hz, H-4″),5.01 (1H,
dd, J=7.7, 10.6Hz, H-2′),5.06 (1H, d, J=3.3Hz, H-
1″), 5.13 (1H, d, J=10.6Hz, H-3),5.90 (1H, d, J=1
0.3Hz, H-13), 6.32 (1H, d, J=15.8Hz, H-10),7.40 (1
H, d, J=15.8 Hz, H-11), 9.60 (1H, s, H-20) FAB-MS; 910(M+H)+ 実施例１： 3,2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタイ
ロノライドの製造
5, 1169,1057,1028cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.92 (3H, t, J=7.3Hz, H-17),0.98 (6H, d, J=6.6
Hz,イソバレリルのジメチル），1.84 (3H, s, H-22),
2.06 (3H, s, OCOCH3-2′),2.13 (3H, s, OCOCH3-3),
2.41 (6H, s, N(CH3)2-3 ′),4.24 (1H, d, J=7.7Hz,
H-1′), 4.62 (1H, d, J=10.3Hz, H-4″),5.01 (1H,
dd, J=7.7, 10.6Hz, H-2′),5.06 (1H, d, J=3.3Hz, H-
1″), 5.13 (1H, d, J=10.6Hz, H-3),5.90 (1H, d, J=1
0.3Hz, H-13), 6.32 (1H, d, J=15.8Hz, H-10),7.40 (1
H, d, J=15.8 Hz, H-11), 9.60 (1H, s, H-20) FAB-MS; 910(M+H)+ 実施例１： 3,2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタイ
ロノライドの製造
【００２４】
【化４】
【００２５】3,2′- ジ-O- アセチル-4″-0- イソバレ
リルデマイシノシルタイロシン50.7ｇ（55.7mmol) に水
450ml を加え撹拌下、濃硫酸8.9ml(167mmol)を水50mlで
希釈した水溶液を注加して溶解後、温度を５０℃に昇温
した。0.５時間後、反応液を１５℃まで冷却し酢酸エチ
ル300ml ずつで３回洗浄した。水層を２０％炭酸ナトリ
ウム水でpH5.8 に調整し、酢酸エチル300ml ずつで２回
抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧乾
固して、トルエン／アセトン(2/1) 展開のシリカゲルＴ
ＬＣにてRf値0.33に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が2
9.1g 得られた。
リルデマイシノシルタイロシン50.7ｇ（55.7mmol) に水
450ml を加え撹拌下、濃硫酸8.9ml(167mmol)を水50mlで
希釈した水溶液を注加して溶解後、温度を５０℃に昇温
した。0.５時間後、反応液を１５℃まで冷却し酢酸エチ
ル300ml ずつで３回洗浄した。水層を２０％炭酸ナトリ
ウム水でpH5.8 に調整し、酢酸エチル300ml ずつで２回
抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧乾
固して、トルエン／アセトン(2/1) 展開のシリカゲルＴ
ＬＣにてRf値0.33に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が2
9.1g 得られた。
【００２６】UV(MeOH)λmax; 282 nm IR(KBr) νmax; 2973, 2938, 1738, 1593, 1373, 123
6, 1059cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.92 (3H, t, J=7.3Hz, H-17), 0.99 (3H, d,J=6.6
Hz, H-18),1.22 (3H, d, J=6.6Hz, H-21), 1.28 (3H,
d, J=6.2Hz, H-6′),1.84 (3H, d, J=0.7Hz, H-22), 2.
06 (3H, s, OCOCH3-2′),2.15 (3H, s, OCOCH3-3), 2.4
0 (6H, s, N(CH3)2 -3′),2.93 (1H, m, H-14), 3.03
(1H, t, J=9.5Hz, H-4′),3.50 (1H, brd,J=8.8Hz, H-
5),3.67(1H, dd,J=7.0, 10.6Hz, H-23a),3,72 (1H, dd,
J=4.4,10.6Hz,H-23b),4.29(1H, d, J=7.7Hz, H-1′),
4.79 (1H, m, H-15), 4.99 (1H, dd, J=7.7, 10.6Hz, H
-2′),5.14 (1H, brd,J=10.6Hz, H-3), 5.91 (1H, d, J
=10.3Hz, H-13),6.31 (1H, d, J=15.8Hz, H-10), 7.40
(1H, d, J=15.4Hz, H-11),9.61 (1H, s, H-20) FAB-MS; 682(M+H)+ 実施例２： 3,2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタイ
ロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製造
6, 1059cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.92 (3H, t, J=7.3Hz, H-17), 0.99 (3H, d,J=6.6
Hz, H-18),1.22 (3H, d, J=6.6Hz, H-21), 1.28 (3H,
d, J=6.2Hz, H-6′),1.84 (3H, d, J=0.7Hz, H-22), 2.
06 (3H, s, OCOCH3-2′),2.15 (3H, s, OCOCH3-3), 2.4
0 (6H, s, N(CH3)2 -3′),2.93 (1H, m, H-14), 3.03
(1H, t, J=9.5Hz, H-4′),3.50 (1H, brd,J=8.8Hz, H-
5),3.67(1H, dd,J=7.0, 10.6Hz, H-23a),3,72 (1H, dd,
J=4.4,10.6Hz,H-23b),4.29(1H, d, J=7.7Hz, H-1′),
4.79 (1H, m, H-15), 4.99 (1H, dd, J=7.7, 10.6Hz, H
-2′),5.14 (1H, brd,J=10.6Hz, H-3), 5.91 (1H, d, J
=10.3Hz, H-13),6.31 (1H, d, J=15.8Hz, H-10), 7.40
(1H, d, J=15.4Hz, H-11),9.61 (1H, s, H-20) FAB-MS; 682(M+H)+ 実施例２： 3,2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタイ
ロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製造
【００２７】
【化５】
【００２８】p-トルエンスルホン酸−水和物9.74g(51.2
mmol) をトルエン100ml に加えて加熱し、トルエン約50
mlを留去して脱水した。この溶液を５℃以下に冷却し、
オルト蟻酸エチル28.4ml(171mmol)、エチレングリコール
23.8ml(427mmol) を加えた後、その溶液を冷却した 3,
2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタイロノライド29.
1g(42.7mmol) のトルエン110ml 溶液に加えた。室温で
1.5 時間撹拌後、徐々に昇温し50℃にて１時間反応させ
た。次に反応液を５％重曹水150ml 、 10％食塩水150ml
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧乾固し
て、トルエン／アセトン(1/1) 展開のシリカゲルＴＬＣ
にてRf値0.55に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が30.48g
得られた。
mmol) をトルエン100ml に加えて加熱し、トルエン約50
mlを留去して脱水した。この溶液を５℃以下に冷却し、
オルト蟻酸エチル28.4ml(171mmol)、エチレングリコール
23.8ml(427mmol) を加えた後、その溶液を冷却した 3,
2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタイロノライド29.
1g(42.7mmol) のトルエン110ml 溶液に加えた。室温で
1.5 時間撹拌後、徐々に昇温し50℃にて１時間反応させ
た。次に反応液を５％重曹水150ml 、 10％食塩水150ml
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧乾固し
て、トルエン／アセトン(1/1) 展開のシリカゲルＴＬＣ
にてRf値0.55に硫酸呈色陽性を示す表題化合物が30.48g
得られた。
【００２９】UV(MeOH)λmax; 235 nm IR(KBr) νmax; 2975, 2940, 2882, 1742, 1373, 123
8, 1182,1055cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.85 (3H,br, H-18), 0.92 (3H, t, J=7.3Hz, H-1
7),1.00 (3H, d, J=6.6Hz, H-21), 1.31 (3H, d, J=6.2
Hz, H-6′),1.77 (3H, d, J=1.1Hz, H-22), 2.05 (3H,
s, OCOCH3-2′),2.13 (3H, s, OCOCH3-3), 2.39 (6H,
s, N(CH3)2 -3′),2.86 (1H, m, H-14), 3.05 (1H, t,
J=9.5Hz, H-4′),3.57 (1H, dd, J=8.1, 10.6Hz, H-2
3a), 3.64 (1H, m, H-5)，3,69 (1H, dd, J=4.4,10.6H
z,H-23b),4.29(1H, br, H-1′),4.76 (1H, m, H-15),
4.91 (1H, m, H-20),,5.03 (1H, dd, J=7.7, 10.6Hz, H
-2′), 5.06 (1H, br, H-3),5.38 (1H, brd, J=10.6Hz,
H-13), 5.69 (1H, brd, J=15.4Hz, H-10)6.54 (1H, br
d, J=15.4Hz, H-11), FAB-MS; 770(M+H)+ 実施例３： 3,2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタイ
ロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製造
8, 1182,1055cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.85 (3H,br, H-18), 0.92 (3H, t, J=7.3Hz, H-1
7),1.00 (3H, d, J=6.6Hz, H-21), 1.31 (3H, d, J=6.2
Hz, H-6′),1.77 (3H, d, J=1.1Hz, H-22), 2.05 (3H,
s, OCOCH3-2′),2.13 (3H, s, OCOCH3-3), 2.39 (6H,
s, N(CH3)2 -3′),2.86 (1H, m, H-14), 3.05 (1H, t,
J=9.5Hz, H-4′),3.57 (1H, dd, J=8.1, 10.6Hz, H-2
3a), 3.64 (1H, m, H-5)，3,69 (1H, dd, J=4.4,10.6H
z,H-23b),4.29(1H, br, H-1′),4.76 (1H, m, H-15),
4.91 (1H, m, H-20),,5.03 (1H, dd, J=7.7, 10.6Hz, H
-2′), 5.06 (1H, br, H-3),5.38 (1H, brd, J=10.6Hz,
H-13), 5.69 (1H, brd, J=15.4Hz, H-10)6.54 (1H, br
d, J=15.4Hz, H-11), FAB-MS; 770(M+H)+ 実施例３： 3,2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタイ
ロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製造
【００３０】
【化６】
【００３１】p-トルエンスルホン酸−水和物27.9g(0.14
7mol) をトルエン250ml に加えて加熱蒸留して脱水し
た。この溶液を５℃以下に冷却し、オルト蟻酸エチル8
1.2ml(0.488mol)、 エチレングリコール68.1ml(1.22mol)
を加えた後、その溶液を冷却した 3,2′- ジ-O- アセ
チル-4″-0- イソバレリルデマイシノシルタイロシン11
1.1g(0.122mol)のトルエン400ml 溶液に加えた。反応液
を徐々に昇温し、50℃にて1.５時間反応させた。次に反
応液を５％重曹水500ml 、 10％食塩水500ml ずつ２回洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧乾固した。得
られた残渣をトルエン／アセトン(3/1) を展開溶媒とす
るシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、実
施例２と同一の表題化合物がアモルファス状固体として
75.2g 得られた。 実施例４： 3,2′- ジ-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメ
チルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール）の製造
7mol) をトルエン250ml に加えて加熱蒸留して脱水し
た。この溶液を５℃以下に冷却し、オルト蟻酸エチル8
1.2ml(0.488mol)、 エチレングリコール68.1ml(1.22mol)
を加えた後、その溶液を冷却した 3,2′- ジ-O- アセ
チル-4″-0- イソバレリルデマイシノシルタイロシン11
1.1g(0.122mol)のトルエン400ml 溶液に加えた。反応液
を徐々に昇温し、50℃にて1.５時間反応させた。次に反
応液を５％重曹水500ml 、 10％食塩水500ml ずつ２回洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧乾固した。得
られた残渣をトルエン／アセトン(3/1) を展開溶媒とす
るシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、実
施例２と同一の表題化合物がアモルファス状固体として
75.2g 得られた。 実施例４： 3,2′- ジ-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメ
チルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール）の製造
【００３２】
【化７】
【００３３】3,2′- ジ-O- アセチルマイカミノシルタ
イロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）30.3g
(39.3mmol) をジメチルホルムアミド150ml に溶かし、
イミダゾール4.04g(59.4mmol) を加え０℃に冷却した。
撹拌下、t-ブチルジメチルシリルクロリド6.56g(43.5mm
ol) を加え、室温にて２時間反応させた。次に反応液に
トルエン300ml を加え、これを５％重曹水300ml ずつ２
回、水150ml で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。有機層を減圧乾固して、トルエン／アセトン(2/1)
展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.55に硫酸呈色陽性を
示す表題化合物が34.6g 得られた。
イロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）30.3g
(39.3mmol) をジメチルホルムアミド150ml に溶かし、
イミダゾール4.04g(59.4mmol) を加え０℃に冷却した。
撹拌下、t-ブチルジメチルシリルクロリド6.56g(43.5mm
ol) を加え、室温にて２時間反応させた。次に反応液に
トルエン300ml を加え、これを５％重曹水300ml ずつ２
回、水150ml で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。有機層を減圧乾固して、トルエン／アセトン(2/1)
展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.55に硫酸呈色陽性を
示す表題化合物が34.6g 得られた。
【００３４】UV(MeOH)λmax; 235 nm IR(KBr) νmax; 2936, 2884, 1746, 1373, 1236, 108
4, 1055, 837, 777cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.85 (3H,br, H-18),0.87 (9H, s, t- ブチルジメ
チルシリルのt-ブチル），0.90 (3H, t, J=7.3Hz, H-1
7), 1.00 (3H, d, J=6.6Hz, H-21),1.31 (3H, d, J=6.2
Hz, H-6′), 1.72 (3H, d, J=0.7Hz, H-22),2.05 (3H,
s, OCOCH3-2′), 2.12 (3H, s, OCOCH3-3),2.39 (6H,
s, N(CH3)2-3′), 3.04 (1H, t, J=9.5Hz, H-4′),4,2
9 (1H, brd, J=6.2Hz, H-1′), 4.83 (1H, m, H-15),
4.91 (1H, t, J=4.8Hz, H-20), 5.03 (1H,dd, J=7.7,1
0.6Hz,H-2′),5.06 (1H, br, H-3), 5.37 (1H, d, J=1
0.3Hz, H-13),5.63 (1H, brd, J=15.4Hz, H-10), 6.50
(1H, brd, J=15.4Hz, H-11) FAB-MS; 884(M+H)+ 実施例５： 2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシ
リル-2,3- デビドロ-3-デオキシマイカミノシルタイロ
ノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製造
4, 1055, 837, 777cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.85 (3H,br, H-18),0.87 (9H, s, t- ブチルジメ
チルシリルのt-ブチル），0.90 (3H, t, J=7.3Hz, H-1
7), 1.00 (3H, d, J=6.6Hz, H-21),1.31 (3H, d, J=6.2
Hz, H-6′), 1.72 (3H, d, J=0.7Hz, H-22),2.05 (3H,
s, OCOCH3-2′), 2.12 (3H, s, OCOCH3-3),2.39 (6H,
s, N(CH3)2-3′), 3.04 (1H, t, J=9.5Hz, H-4′),4,2
9 (1H, brd, J=6.2Hz, H-1′), 4.83 (1H, m, H-15),
4.91 (1H, t, J=4.8Hz, H-20), 5.03 (1H,dd, J=7.7,1
0.6Hz,H-2′),5.06 (1H, br, H-3), 5.37 (1H, d, J=1
0.3Hz, H-13),5.63 (1H, brd, J=15.4Hz, H-10), 6.50
(1H, brd, J=15.4Hz, H-11) FAB-MS; 884(M+H)+ 実施例５： 2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシ
リル-2,3- デビドロ-3-デオキシマイカミノシルタイロ
ノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製造
【００３５】
【化８】
【００３６】トルエン100 mlおよびジメチルスルホキシ
ド13.9ml（195 mmol) の混合溶媒に水素化ナトリウム
（60％ in oil)2.34ｇ（58.6 mmol)を加え10分間攪拌し
た後０℃に冷却した。この溶液に攪拌下、 3,2′- ジ-O
- アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシリルマイカミノシ
ルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール)34.
5g(39.0 mmol) のトルエン70ml溶液を滴下して加えた。
同温度で１時間反応後水100 mlを加え、１N-塩酸でpHを
６に調整後分液した。有機層を10％食塩水100 mlで洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濃縮して、トルエ
ン／アセトン（3/1)展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.
46に硫酸呈色陽性の表題化合物が32.1ｇ得られた。
ド13.9ml（195 mmol) の混合溶媒に水素化ナトリウム
（60％ in oil)2.34ｇ（58.6 mmol)を加え10分間攪拌し
た後０℃に冷却した。この溶液に攪拌下、 3,2′- ジ-O
- アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシリルマイカミノシ
ルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール)34.
5g(39.0 mmol) のトルエン70ml溶液を滴下して加えた。
同温度で１時間反応後水100 mlを加え、１N-塩酸でpHを
６に調整後分液した。有機層を10％食塩水100 mlで洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濃縮して、トルエ
ン／アセトン（3/1)展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.
46に硫酸呈色陽性の表題化合物が32.1ｇ得られた。
【００３７】UV(MeOH)λmax; 217 nm IR(KBr) νmax; 2936,2881,1750,1717,1373,1232,108
0,1057,837,777 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.89 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.34 (3H, d, J
=6.2 Hz, H-6′),1.71 (3H, d, J=0.7 Hz, H-22 ), 2.0
6 (3H, s, OCOCH3-2′),2.44 (6H, s, N(CH3)2-3′),
3.11(1H, t, J=9.2 Hz, H-4′),4.44 (1H, d, J=7.3 H
z, H-1′), 4.90(1H, m, H-15),4.96 (1H, m, H-20 ),
5.06 (1H, dd, J=7.3, 10.6 Hz, H-2′),5.29 (1H, d,
J=10.3 Hz, H-13), 5.51 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10),5.
55 (1H, d, J=15.4 Hz, H-2), 6.25 (1H, d, J=15.8 H
z, H-11),6.70 (1H, dd, J=9.5, 15.4 Hz, H-3), FAB-MS; 824(M + H)+ 実施例６： 2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシ
リル-2,3- デビドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ヨードマ
イカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセ
タール）の製造
0,1057,837,777 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.89 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.34 (3H, d, J
=6.2 Hz, H-6′),1.71 (3H, d, J=0.7 Hz, H-22 ), 2.0
6 (3H, s, OCOCH3-2′),2.44 (6H, s, N(CH3)2-3′),
3.11(1H, t, J=9.2 Hz, H-4′),4.44 (1H, d, J=7.3 H
z, H-1′), 4.90(1H, m, H-15),4.96 (1H, m, H-20 ),
5.06 (1H, dd, J=7.3, 10.6 Hz, H-2′),5.29 (1H, d,
J=10.3 Hz, H-13), 5.51 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10),5.
55 (1H, d, J=15.4 Hz, H-2), 6.25 (1H, d, J=15.8 H
z, H-11),6.70 (1H, dd, J=9.5, 15.4 Hz, H-3), FAB-MS; 824(M + H)+ 実施例６： 2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシ
リル-2,3- デビドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ヨードマ
イカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセ
タール）の製造
【００３８】
【化９】
【００３９】2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチル
シリル-2,3- デビドロ-3,4′- ジデオキシマイカミノシ
ルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）3
1.8ｇ（38.6 mmol)をメチルエチルケトン230 mlに溶解
し、トリエチルアミン10.8ml（77.3 mmol)を加えた後、
氷冷下、塩化メタンスルホニル3.9 ml(50.2 mmol）のメ
チルエチルケトン15ml溶液を加え、同温度で１時間反応
してメシル化体〔 2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメ
チルシリル-2,3- デヒドロ-3- デオキシ-4′-O-メタン
スルホニルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール）〕を得た。次にこの反応液にヨ
ウ化ナトリウム17.4ｇ（116 mmol) を加えて昇温、３時
間加熱還流してヨウ素化した。反応液を濃縮しトルエン
250 mlおよび水250 mlを加えて分液した。10％チオ硫酸
ナトリウム250 ml、10％食塩水250 mlで洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮乾固する
と、トルエン／アセトン（10/1) 展開のシリカゲルＴＬ
ＣにてRf値0.51に硫酸呈色陽性の表題化合物が36.1ｇ得
られた。
シリル-2,3- デビドロ-3,4′- ジデオキシマイカミノシ
ルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）3
1.8ｇ（38.6 mmol)をメチルエチルケトン230 mlに溶解
し、トリエチルアミン10.8ml（77.3 mmol)を加えた後、
氷冷下、塩化メタンスルホニル3.9 ml(50.2 mmol）のメ
チルエチルケトン15ml溶液を加え、同温度で１時間反応
してメシル化体〔 2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメ
チルシリル-2,3- デヒドロ-3- デオキシ-4′-O-メタン
スルホニルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール）〕を得た。次にこの反応液にヨ
ウ化ナトリウム17.4ｇ（116 mmol) を加えて昇温、３時
間加熱還流してヨウ素化した。反応液を濃縮しトルエン
250 mlおよび水250 mlを加えて分液した。10％チオ硫酸
ナトリウム250 ml、10％食塩水250 mlで洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮乾固する
と、トルエン／アセトン（10/1) 展開のシリカゲルＴＬ
ＣにてRf値0.51に硫酸呈色陽性の表題化合物が36.1ｇ得
られた。
【００４０】2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチル
シリル-2,3- デビドロ-3- デオキシ-4′-O- メタンスル
ホニルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチ
レンアセタール） Rf値 0.55〔トルエン／アセトン（6/1)〕 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.89 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.38 (3H, d, J
=6.2 Hz, H-6′),1.71 (3H,s,H-22 ),2.06(3H, s, OCOC
H3-2′),2.40(6H,s, N(CH3)2-3′),2.89 (1H, t, J=10.
3Hz, H-3′), 3.11(3H, s, OSO2CH3-4′),4.24 (1H, t,
J=9.5 Hz, H-4′), 4.42(1H, d, J=7.7 Hz, H-1′),5.
08 (1H,dd, J=7.7,10.3Hz, H-2′),5.29 (1H,d,J=10.3
Hz,H-13),5.50 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10), 5.55 (1H,
d, J=15.4 Hz, H-2),6.24 (1H, d, J=15.8Hz, H-11),
6.68 (1H,dd, J=9.5,15.4Hz, H-3) FAB-MS; 902(M + H)+ 表題化合物 UV(MeOH)λmax; 217 nm IR(KBr) νmax; 2936,2882,1752,1715,1373,1231,110
1,1051,837,777 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.89 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.53 (3H, d, J
=5.5 Hz, H-6′),1.71 (3H, d, J=0.7 Hz, H-22 ), 2.0
5 (3H, s, OCOCH3-2′),2.43 (6H, s, N(CH3)2-3′),
2.84 (1H, m, H-3′),4.42(1H,d,J=7.7Hz, H-1′),4.96
(1H, dd, J=7.7, 9.9 Hz, H-2′),5.29 (1H, d, J=10.
3 Hz, H-13), 5.50 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10),5.55 (1
H, d, J=15.4 Hz, H-2), 6.25 (1H, d, J=15.8 Hz, H-1
1),6.69 (1H, dd, J=9.5, 15.4 Hz, H-3), FAB-MS; 934(M + H)+ 実施例７： 3,2′- ジ-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメ
チルシリル-4′-O- メタンスルホニルマイカミノシルタ
イロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製造
シリル-2,3- デビドロ-3- デオキシ-4′-O- メタンスル
ホニルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチ
レンアセタール） Rf値 0.55〔トルエン／アセトン（6/1)〕 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.89 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.38 (3H, d, J
=6.2 Hz, H-6′),1.71 (3H,s,H-22 ),2.06(3H, s, OCOC
H3-2′),2.40(6H,s, N(CH3)2-3′),2.89 (1H, t, J=10.
3Hz, H-3′), 3.11(3H, s, OSO2CH3-4′),4.24 (1H, t,
J=9.5 Hz, H-4′), 4.42(1H, d, J=7.7 Hz, H-1′),5.
08 (1H,dd, J=7.7,10.3Hz, H-2′),5.29 (1H,d,J=10.3
Hz,H-13),5.50 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10), 5.55 (1H,
d, J=15.4 Hz, H-2),6.24 (1H, d, J=15.8Hz, H-11),
6.68 (1H,dd, J=9.5,15.4Hz, H-3) FAB-MS; 902(M + H)+ 表題化合物 UV(MeOH)λmax; 217 nm IR(KBr) νmax; 2936,2882,1752,1715,1373,1231,110
1,1051,837,777 cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.89 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.53 (3H, d, J
=5.5 Hz, H-6′),1.71 (3H, d, J=0.7 Hz, H-22 ), 2.0
5 (3H, s, OCOCH3-2′),2.43 (6H, s, N(CH3)2-3′),
2.84 (1H, m, H-3′),4.42(1H,d,J=7.7Hz, H-1′),4.96
(1H, dd, J=7.7, 9.9 Hz, H-2′),5.29 (1H, d, J=10.
3 Hz, H-13), 5.50 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10),5.55 (1
H, d, J=15.4 Hz, H-2), 6.25 (1H, d, J=15.8 Hz, H-1
1),6.69 (1H, dd, J=9.5, 15.4 Hz, H-3), FAB-MS; 934(M + H)+ 実施例７： 3,2′- ジ-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメ
チルシリル-4′-O- メタンスルホニルマイカミノシルタ
イロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製造
【００４１】
【化１０】
【００４２】3,2′- ジ-O- アセチル-23-O-t-ブチルジ
メチルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール）50.0mg（0.0565mmol) をメチル
エチルケトン１mlに溶解し、トリエチルアミン35.4μl
(0.254mmol)を加えた後、氷冷下、塩化メタンスルホニ
ル17.1μl (0.220mmol）のメチルエチルケトン50μl 溶
液を加え、同温度で１時間攪拌した。反応液にクロロホ
ルム10mlを加え、飽和重曹水10ml及び飽和食塩水10ml
（２回）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下濃縮乾固すると、トルエン／アセトン（5/
1)展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.57に硫酸呈色陽性
の表題化合物が53.9mg得られた。
メチルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール）50.0mg（0.0565mmol) をメチル
エチルケトン１mlに溶解し、トリエチルアミン35.4μl
(0.254mmol)を加えた後、氷冷下、塩化メタンスルホニ
ル17.1μl (0.220mmol）のメチルエチルケトン50μl 溶
液を加え、同温度で１時間攪拌した。反応液にクロロホ
ルム10mlを加え、飽和重曹水10ml及び飽和食塩水10ml
（２回）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下濃縮乾固すると、トルエン／アセトン（5/
1)展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.57に硫酸呈色陽性
の表題化合物が53.9mg得られた。
【００４３】NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.84 (3H,br, H-18),0.87 (9H, s, t- ブチルジメ
チルシリルのt-ブチル），0.90 (3H, t, J=7.3 Hz, H-1
7), 0.99 (3H, d, J=6.6 Hz, H-21 ),1.36 (3H, d, J=
5.9 Hz, H-6′), 1.72 (3H, s, H-22),2.06 (3H, s, O
COCH3-2′), 2.11(3H, s, OCOCH3-3),2.39 (6H, s, N(C
H3)2-3′), 2.73(1H, m, H-14),3.10 (3H, s, OSO2CH3-
4′), 3.43 (1H, m, H-5′),4.22 (1H, t, J=9.5 Hz,
H-4′), 5.37 (1H, d, J=10.3 Hz,H-13),5.63 (1H, d,
J=16.1 Hz, H-10), 6.49 (1H, d, J=16.1 Hz, H-11), FAB-MS; 962(M + H)+ 実施例８： 3,2′- ジ-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメ
チルシリル-4′- デオキシ-4′- ヨードマイカミノシル
タイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製
造
チルシリルのt-ブチル），0.90 (3H, t, J=7.3 Hz, H-1
7), 0.99 (3H, d, J=6.6 Hz, H-21 ),1.36 (3H, d, J=
5.9 Hz, H-6′), 1.72 (3H, s, H-22),2.06 (3H, s, O
COCH3-2′), 2.11(3H, s, OCOCH3-3),2.39 (6H, s, N(C
H3)2-3′), 2.73(1H, m, H-14),3.10 (3H, s, OSO2CH3-
4′), 3.43 (1H, m, H-5′),4.22 (1H, t, J=9.5 Hz,
H-4′), 5.37 (1H, d, J=10.3 Hz,H-13),5.63 (1H, d,
J=16.1 Hz, H-10), 6.49 (1H, d, J=16.1 Hz, H-11), FAB-MS; 962(M + H)+ 実施例８： 3,2′- ジ-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメ
チルシリル-4′- デオキシ-4′- ヨードマイカミノシル
タイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセタール）の製
造
【００４４】
【化１１】
【００４５】3,2′- ジ-O- アセチル-23-O-t-ブチルジ
メチルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール）266.1mg(0.301 mmol) をメチル
エチルケトン２mlに溶解し、トリエチルアミン62.9μl
(0.452mmol)を加えた後、氷冷下、塩化メタンスルホニ
ル28.0μl (0.361mmol）のメチルエチルケトン70μl 溶
液を加え、同温度で0.5 時間攪拌してメシル化反応を完
結した。次にこの反応液にヨウ化ナトリウム135.4 mg
（0.903 mmol) を加えて昇温し、0.5 時間加熱還流して
ヨウ素化した。反応液にクロロホルム10mlを加え、飽和
重曹水10ml、飽和食塩水10ml（２回）で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮して得られ
た残渣をトルエン／酢酸エチル（12/1) 展開のシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製すると、トルエン
／アセトン（10/1) 展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.
57に硫酸呈色陽性の表題化合物が70％の収率で210 mg得
られた。
メチルシリルマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール）266.1mg(0.301 mmol) をメチル
エチルケトン２mlに溶解し、トリエチルアミン62.9μl
(0.452mmol)を加えた後、氷冷下、塩化メタンスルホニ
ル28.0μl (0.361mmol）のメチルエチルケトン70μl 溶
液を加え、同温度で0.5 時間攪拌してメシル化反応を完
結した。次にこの反応液にヨウ化ナトリウム135.4 mg
（0.903 mmol) を加えて昇温し、0.5 時間加熱還流して
ヨウ素化した。反応液にクロロホルム10mlを加え、飽和
重曹水10ml、飽和食塩水10ml（２回）で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮して得られ
た残渣をトルエン／酢酸エチル（12/1) 展開のシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製すると、トルエン
／アセトン（10/1) 展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.
57に硫酸呈色陽性の表題化合物が70％の収率で210 mg得
られた。
【００４６】UV(MeOH)λmax; 235 nm IR(KBr) νmax; 2934, 2882, 1744, 1372, 1233, 117
9, 1103, 1049cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.87 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.90 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 0.99 (3H, d, J
=6.6 Hz, H-21 ),1.51 (3H, d, J=5.9 Hz, H-6′), 1.7
2 (3H, s, H-22),2.05 (3H, s, OCOCH3-2′), 2.12(3
H, s, OCOCH3-3),2.42 (6H, s, N(CH3)2-3′), 4.28(1
H, d, J=7.3 Hz, H-1′),5.07 (1H, br, H-3), 5.37 (1
H, d, J=11.0 Hz,H-13),5.62 (1H, d, J=15.4 Hz, H-1
0), 6.50 (1H, d, J=15.4 Hz, H-11), FAB-MS; 994(M + H) + 実施例９： 2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシ
リル-2,3- デヒドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ヨードマ
イカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセ
タール）の製造
9, 1103, 1049cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.87 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.90 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 0.99 (3H, d, J
=6.6 Hz, H-21 ),1.51 (3H, d, J=5.9 Hz, H-6′), 1.7
2 (3H, s, H-22),2.05 (3H, s, OCOCH3-2′), 2.12(3
H, s, OCOCH3-3),2.42 (6H, s, N(CH3)2-3′), 4.28(1
H, d, J=7.3 Hz, H-1′),5.07 (1H, br, H-3), 5.37 (1
H, d, J=11.0 Hz,H-13),5.62 (1H, d, J=15.4 Hz, H-1
0), 6.50 (1H, d, J=15.4 Hz, H-11), FAB-MS; 994(M + H) + 実施例９： 2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシ
リル-2,3- デヒドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ヨードマ
イカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンアセ
タール）の製造
【００４７】
【化１２】
【００４８】トルエン0.5 mlおよびジメチルスルホキシ
ド35.7μl （0.503 mmol) の混合溶媒に 3,2′- ジ-O-
アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシリル-4′- デオキシ
-4′- ヨードマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール) 50.0mg（0.0503 mmol)を溶解
し、水素化ナトリウム（60％ in oil)5.4 mg（0.226 m
mol)を加え20時間攪拌した。反応液に酢酸エチル10mlを
加え、水10ml、飽和食塩水10ml（２回）で洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して得ら
れた残渣を、トルエン／アセトン（10/1) 展開の分取用
シリカゲルＴＬＣにて精製すると実施例６と同一の表題
化合物が30mg得られた。 実施例１０：23-O-t- ブチルジメチルシリル-3,4′- デ
オキシマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチ
レンアセタール）の製造
ド35.7μl （0.503 mmol) の混合溶媒に 3,2′- ジ-O-
アセチル-23-O-t-ブチルジメチルシリル-4′- デオキシ
-4′- ヨードマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス
（エチレンアセタール) 50.0mg（0.0503 mmol)を溶解
し、水素化ナトリウム（60％ in oil)5.4 mg（0.226 m
mol)を加え20時間攪拌した。反応液に酢酸エチル10mlを
加え、水10ml、飽和食塩水10ml（２回）で洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して得ら
れた残渣を、トルエン／アセトン（10/1) 展開の分取用
シリカゲルＴＬＣにて精製すると実施例６と同一の表題
化合物が30mg得られた。 実施例１０：23-O-t- ブチルジメチルシリル-3,4′- デ
オキシマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチ
レンアセタール）の製造
【００４９】
【化１３】
【００５０】2′-O- アセチル-23-O-t-ブチルジメチル
シリル-2,3- デヒドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ヨード
マイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンア
セタール）35.9g （38.4 mmol)をメタノール 175mlに溶
解し、炭酸カリウム7.95g(57.5 mmol)、 続いてラネーニ
ッケル（川研ファインケミカル株ＮＤＴ−65）20ｇのメ
タノール30ml懸濁液を加え、水素圧3.5 kg／cm2 にて２
時間接触還元を行なった。触媒をセライトにて濾別し、
濾液を減圧濃縮した。この濃縮残渣に酢酸エチル200 ml
を加え20％食塩水200 mlずつ２回で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後減圧乾固して、クロロホルム／メタノ
ール（10/1) 展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.45に硫
酸呈色陽性を示す表題化合物が28.0ｇ得られた。
シリル-2,3- デヒドロ-3,4′- ジデオキシ-4′- ヨード
マイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エチレンア
セタール）35.9g （38.4 mmol)をメタノール 175mlに溶
解し、炭酸カリウム7.95g(57.5 mmol)、 続いてラネーニ
ッケル（川研ファインケミカル株ＮＤＴ−65）20ｇのメ
タノール30ml懸濁液を加え、水素圧3.5 kg／cm2 にて２
時間接触還元を行なった。触媒をセライトにて濾別し、
濾液を減圧濃縮した。この濃縮残渣に酢酸エチル200 ml
を加え20％食塩水200 mlずつ２回で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後減圧乾固して、クロロホルム／メタノ
ール（10/1) 展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.45に硫
酸呈色陽性を示す表題化合物が28.0ｇ得られた。
【００５１】UV(MeOH)λmax; 235 nm IR(KBr) νmax; 2938, 2884, 1734, 1169, 1111, 104
9, 837, 777cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.88 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.92 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 0.98 (3H, d, J
=6.6 Hz, H-18),1.02 (3H, d, J=7.0 Hz, H-21 ), 1.23
(3H,d, J=6.2 Hz, H-6′),1.74 (3H, d, J=1.1 Hz, H-
22), 2.27 (6H, s, N(CH3)2-3′),3.26 (1H,dd, J=7.3,
9.9Hz,H-2′), 4.28 (1H, d, J=7.3Hz, H-1′),4.91 (1
H,m,H-15), 5.01(1H,m,H-20), 5.37 (1H,d,J=10.3Hz,H-
13 ),5.61 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10), 6.39 (1H, d, J
=15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 768(M + H)+ 参考例２： 3,4′- ジデオキシマイカミノシルタイロノ
ライドの製造
9, 837, 777cm-1 NMR(CDCl3); 主要ピークのみを表す δ; 0.88 (9H, s, t- ブチルジメチルシリルのt-ブチ
ル），0.92 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 0.98 (3H, d, J
=6.6 Hz, H-18),1.02 (3H, d, J=7.0 Hz, H-21 ), 1.23
(3H,d, J=6.2 Hz, H-6′),1.74 (3H, d, J=1.1 Hz, H-
22), 2.27 (6H, s, N(CH3)2-3′),3.26 (1H,dd, J=7.3,
9.9Hz,H-2′), 4.28 (1H, d, J=7.3Hz, H-1′),4.91 (1
H,m,H-15), 5.01(1H,m,H-20), 5.37 (1H,d,J=10.3Hz,H-
13 ),5.61 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10), 6.39 (1H, d, J
=15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 768(M + H)+ 参考例２： 3,4′- ジデオキシマイカミノシルタイロノ
ライドの製造
【００５２】
【化１４】
【００５３】23-O-t- ブチルジメチルシリル-3,4′- ジ
デオキシマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エ
チレンアセタール）27.7ｇ（36.0 mmol)をテトラヒドロ
フラン150 mlに溶かし、１N-塩酸300 mlを加えて室温で
1.5 時間攪拌して加水分解した。反応液に水300 mlを加
え、この水溶液を塩化メチレン150 mlずつ二回洗浄し
た。水層のpHを6.0 に調整しながら、塩化メチレン300
mlを加えて抽出し、水層は再度pHを6.0 に調整しなが
ら、塩化メチレン300 mlで抽出した。有機層を合わせて
20％食塩水300 mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。有機層を減圧乾固して、表題化合物を9.46ｇ得
た。
デオキシマイカミノシルタイロノライド 9,20-ビス（エ
チレンアセタール）27.7ｇ（36.0 mmol)をテトラヒドロ
フラン150 mlに溶かし、１N-塩酸300 mlを加えて室温で
1.5 時間攪拌して加水分解した。反応液に水300 mlを加
え、この水溶液を塩化メチレン150 mlずつ二回洗浄し
た。水層のpHを6.0 に調整しながら、塩化メチレン300
mlを加えて抽出し、水層は再度pHを6.0 に調整しなが
ら、塩化メチレン300 mlで抽出した。有機層を合わせて
20％食塩水300 mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。有機層を減圧乾固して、表題化合物を9.46ｇ得
た。
【００５４】本物質は、J. Antibiotics 45,144 (1992)
に記載の 3,4′- ジデオキシマイカミノシルタイロノラ
イドと同一の理化学的性状を示した。
に記載の 3,4′- ジデオキシマイカミノシルタイロノラ
イドと同一の理化学的性状を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 陰山 俊治 茨城県つくば市春日２−35−２ エトワー ル春日306 (72)発明者 三宅 俊昭 神奈川県横浜市港北区下田町３丁目５−１ 日吉ハイツ207 (72)発明者 松本 直樹 神奈川県横浜市港南区日限山４−52−11 (72)発明者 小湊 嘉一郎 神奈川県大和市南林間６−４−30 (72)発明者 田中 博 神奈川県茅ヶ崎市小和田３−16−26−306 (72)発明者 吉岡 武男 神奈川県綾瀬市上土棚1959 グリーンハイ ツ３−3102
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、R1は水素原子又はOCOCH3基を表し、R2は水素原
子又は水酸基の保護基を表し、R3はアシル基を表し、R4
は水酸基、OSO2R またはハロゲン原子を表し、Ａは、保
護されていてもよいカルボニル基を表し、Ｂは、保護さ
れていてもよいアルデヒド基を表す。但し、----部分は
R1がOCOCH3基を示すときは単結合を表し、R1が水素原子
を示すときは二重結合を表す。Ｒは低級アルキル基、ト
リフロロメチル基、2-オキソ-10-ボルナニイル基、置換
又は未置換のアリール基、または置換又は未置換のアラ
ルキル基を表す）で示されるマイカミノシルタイロノラ
イド誘導体。
Priority Applications (14)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4332933A JPH06179691A (ja) | 1992-12-14 | 1992-12-14 | 新マイカミノシルタイロノライド誘導体 |
| EP93901539A EP0627443B1 (en) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof |
| ES93901539T ES2099941T3 (es) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | Derivado de 3,4'-didesoxi-micaminosiltilonolido y su produccion. |
| DE69309259T DE69309259T2 (de) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | 3,4'-didesoxymycaminosyltylonolid-derivate und herstellung davon |
| AT93901539T ATE150757T1 (de) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | 3,4'-didesoxymycaminosyltylonolid-derivate und herstellung davon |
| PCT/JP1993/000031 WO1993014101A1 (en) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof |
| CA002127259A CA2127259A1 (en) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | 3,4', dideoxymycaminosyltylonolide derivative and process for producing the same |
| US08/256,537 US5541303A (en) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | 3,4'-dideoxymycaminosltylonolide derivative and process for producing the same |
| TW082100137A TW243446B (ja) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | |
| DK93901539.2T DK0627443T3 (da) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | 3,4-dideoxymycaminosyltylonolidderivat og fremstilling deraf |
| AU32668/93A AU3266893A (en) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof |
| JP51233493A JP3264926B2 (ja) | 1992-01-14 | 1993-01-12 | ３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド誘導体及びその製造方法 |
| CN93100302A CN1076452A (zh) | 1992-01-14 | 1993-01-13 | 3，4′-二脱氧碳霉糖基太乐菌素环内酯衍生物及其制造方法 |
| GR970401178T GR3023529T3 (en) | 1992-01-14 | 1997-05-23 | 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4332933A JPH06179691A (ja) | 1992-12-14 | 1992-12-14 | 新マイカミノシルタイロノライド誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06179691A true JPH06179691A (ja) | 1994-06-28 |
Family
ID=18260440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4332933A Pending JPH06179691A (ja) | 1992-01-14 | 1992-12-14 | 新マイカミノシルタイロノライド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06179691A (ja) |
-
1992
- 1992-12-14 JP JP4332933A patent/JPH06179691A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH053476B2 (ja) | ||
| JP2002508385A (ja) | ９−ヒドロキシエリスロマイシン誘導体を用いる６−ｏ−メチルエリスロマイシンａの製造方法 | |
| JP2000109497A (ja) | スピロ環式ｃ―グリコシド | |
| EP0086430B1 (en) | Anthracyclinone derivatives and process for their production | |
| EP0627443B1 (en) | 3,4'-dideoxymycaminosyltylonolide derivative and production thereof | |
| WO2001064701A1 (fr) | Procede de preparation de flavonoides | |
| JP5908479B2 (ja) | クラジノース環のＣ−４”をエポキシド基で修飾した９−デオキソ−９ａ−アザ−９ａ−ホモエリスロマイシンＡの新規製造方法 | |
| Ichikawa et al. | Stereoselective. BETA.-C-and. BETA.-S-glycosylation of 2-deoxyribofuranose derivatives controlled by the 3-hydroxy protective group. | |
| US4933439A (en) | Tylosin derivatives and processes for producing the same | |
| US4945081A (en) | Mycaminosyl tylonolide derivatives | |
| JPH06179691A (ja) | 新マイカミノシルタイロノライド誘導体 | |
| US5374746A (en) | L-talopyranoside derivatives and process for the preparation of same | |
| AU641644B2 (en) | A process for the preparation of etoposides | |
| JPS632275B2 (ja) | ||
| JPH06116283A (ja) | ３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド誘導体の製造方法 | |
| JPH06145191A (ja) | ３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド製造中間体 | |
| JP3221955B2 (ja) | ３，４′−ジデオキシデスマイコシン | |
| JPH039919B2 (ja) | ||
| Nicolaou et al. | Total Synthesis of Everninomicin 13,384‐1—Part 2: Synthesis of the FGHA2 Fragment | |
| JP2881495B2 (ja) | プラジマイシン誘導体 | |
| JP2843695B2 (ja) | １０，１１，１２，１３−テトラヒドロ−デスマイコシン誘導体、その製造法及びその医薬としての用途 | |
| JPH0655754B2 (ja) | ３―デオキシマイカミノシルタイロノライド化合物 | |
| US5241083A (en) | Process for converting the 13-α-hydroxy group of avermectin aglycones | |
| JPH07330791A (ja) | 新規１６員環マクロリド誘導体及びそれらの新規包括的製造法 | |
| JPH0415797B2 (ja) |