JP3261946B2 - 静電荷像現像用キャリア - Google Patents
静電荷像現像用キャリアInfo
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- G03G9/1135—Macromolecular components of coatings obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は静電荷像現像用キ
ャリアに関する。
ャリアに関する。
【０００２】
【従来の技術】二成分系乾式複写機の現像剤は、微細な
トナーとそれより大きいキャリアの二成分から構成さ
れ、両者を混合撹拌することによって生じる摩擦によ
り、トナーとキャリアがそれぞれ反対符号の電荷をもっ
て静電帯電する。このようにして帯電したトナーを、感
光体上に形成されている静電潜像に静電付着させること
により可視像が形成され、この像を転写シートに転写、
定着することにより複写が達成される。
トナーとそれより大きいキャリアの二成分から構成さ
れ、両者を混合撹拌することによって生じる摩擦によ
り、トナーとキャリアがそれぞれ反対符号の電荷をもっ
て静電帯電する。このようにして帯電したトナーを、感
光体上に形成されている静電潜像に静電付着させること
により可視像が形成され、この像を転写シートに転写、
定着することにより複写が達成される。
【０００３】静電荷像現像用キャリアとしては従来、フ
ェライト（ＭＯ・Ｆｅ2Ｏ3、Ｍは金属分子）や磁性鉄粉
を用いたものが知られている。フェライトキャリアは磁
気特性が優れており現在最も広く使用されている。この
フェライトキャリアの画像特性を改良するため、芯粒子
の組成を変える試みが行われており、例えば特開昭５９
−４８７７４号公報には、酸化銅と酸化亜鉛を含有する
静電荷像現像用キャリアが開示されている。
ェライト（ＭＯ・Ｆｅ2Ｏ3、Ｍは金属分子）や磁性鉄粉
を用いたものが知られている。フェライトキャリアは磁
気特性が優れており現在最も広く使用されている。この
フェライトキャリアの画像特性を改良するため、芯粒子
の組成を変える試みが行われており、例えば特開昭５９
−４８７７４号公報には、酸化銅と酸化亜鉛を含有する
静電荷像現像用キャリアが開示されている。
【０００４】しかしながら、従来知られているキャリア
を用いて現像を高温高湿環境下で行えば、感光体上かぶ
りが発生するという問題がある。これは、実機において
バイアス電圧をかけた場合に、現像スリーブからキャリ
アへ電荷注入され、その結果現像領域に存在するトナー
の極性が反転し、感光体上の静電像の無い部分へ付着す
ることにより発生すると考えられる。かかる感光体上か
ぶりは特に、粒子１個当たりの電荷量の小さい小粒径の
トナーにおいて多発し、問題となっている。
を用いて現像を高温高湿環境下で行えば、感光体上かぶ
りが発生するという問題がある。これは、実機において
バイアス電圧をかけた場合に、現像スリーブからキャリ
アへ電荷注入され、その結果現像領域に存在するトナー
の極性が反転し、感光体上の静電像の無い部分へ付着す
ることにより発生すると考えられる。かかる感光体上か
ぶりは特に、粒子１個当たりの電荷量の小さい小粒径の
トナーにおいて多発し、問題となっている。
【０００５】一方、低温低湿環境下においては従来のキ
ャリアは感光体上にキャリアの付着を生じるという問題
がある。これはキャリアの飽和磁化が低い場合に、キャ
リアが現像スリーブから感光体上へ付着することによっ
て生じるものと考えられる。
ャリアは感光体上にキャリアの付着を生じるという問題
がある。これはキャリアの飽和磁化が低い場合に、キャ
リアが現像スリーブから感光体上へ付着することによっ
て生じるものと考えられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高温高湿下
で感光体上かぶりを発生せず、低温低湿下においてキャ
リア付着のない静電荷像現像用キャリアを提供すること
を目的とする。
で感光体上かぶりを発生せず、低温低湿下においてキャ
リア付着のない静電荷像現像用キャリアを提供すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願発明者らは芯粒子の
フェライトの組成を制御することによってキャリアの電
気抵抗を高く、飽和磁化を高くすることができることを
見いだした。すなわち本願発明は、芯粒子がＣａＯ、Ｍ
ｎＯ、ＺｎＯおよびＣｕＯを構成成分として含有し、下
記式： （ＭＯ) ｘ (ＣａＯ) ｙ (Ｆｅ ２ Ｏ ３ ) ｚ （式中、ＭはＭｎ、ＺｎおよびＣｕを示す。ｘ、ｙおよ
びｚはそれぞれＭＯ、ＣａＯおよびＦｅ ２ Ｏ ３ のモル比
を示し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、ｘ＝0.2〜0.5、ｙ＝0.005〜
0.05である。） で示される フェライト粒子である、静電荷像現像用樹脂
被覆キャリアを提供する。
フェライトの組成を制御することによってキャリアの電
気抵抗を高く、飽和磁化を高くすることができることを
見いだした。すなわち本願発明は、芯粒子がＣａＯ、Ｍ
ｎＯ、ＺｎＯおよびＣｕＯを構成成分として含有し、下
記式： （ＭＯ) ｘ (ＣａＯ) ｙ (Ｆｅ ２ Ｏ ３ ) ｚ （式中、ＭはＭｎ、ＺｎおよびＣｕを示す。ｘ、ｙおよ
びｚはそれぞれＭＯ、ＣａＯおよびＦｅ ２ Ｏ ３ のモル比
を示し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、ｘ＝0.2〜0.5、ｙ＝0.005〜
0.05である。） で示される フェライト粒子である、静電荷像現像用樹脂
被覆キャリアを提供する。
【０００８】本願発明のキャリアはフェライト芯材にＣ
ａＯを含有させることによって、電気抵抗値を上げ、高
温高湿下における耐環境性を向上させる一方、ＭｎＯを
含有させることによってキャリアの飽和磁化を上げ、低
温低湿下における耐環境性を向上させるものである。
ａＯを含有させることによって、電気抵抗値を上げ、高
温高湿下における耐環境性を向上させる一方、ＭｎＯを
含有させることによってキャリアの飽和磁化を上げ、低
温低湿下における耐環境性を向上させるものである。
【０００９】本願発明のキャリアの芯粒子であるフェラ
イト中、ＭｎＯが２乃至２０モル％含有されているのが
好ましい。ＭｎＯの量が２モル％未満では十分な飽和磁
化を得ることができず、低温低湿環境下でキャリアの感
光体上への付着が生じる。一方、２０モル％を越えると
飽和磁化の上昇は頭打ちとなり、さらに増加させると飽
和磁化が低下する傾向を示すため好ましくない。
イト中、ＭｎＯが２乃至２０モル％含有されているのが
好ましい。ＭｎＯの量が２モル％未満では十分な飽和磁
化を得ることができず、低温低湿環境下でキャリアの感
光体上への付着が生じる。一方、２０モル％を越えると
飽和磁化の上昇は頭打ちとなり、さらに増加させると飽
和磁化が低下する傾向を示すため好ましくない。
【００１０】本発明のフェライト粒子には酸化カルシウ
ムを０．５乃至５モル％含有するのが好ましい。酸化カ
ルシウムの含有量が０．５モル％未満の場合にはフェラ
イト粒子の電気抵抗が小さく、高温高湿下で感光体カブ
リが発生する。また、酸化カルシウムが５モル％を越え
る場合には、キャリアの機械的強度が低下するため好ま
しくない。
ムを０．５乃至５モル％含有するのが好ましい。酸化カ
ルシウムの含有量が０．５モル％未満の場合にはフェラ
イト粒子の電気抵抗が小さく、高温高湿下で感光体カブ
リが発生する。また、酸化カルシウムが５モル％を越え
る場合には、キャリアの機械的強度が低下するため好ま
しくない。
【００１１】
【発明の実施の形態】本願発明に用いるフェライト粒子
には、上述のごとくＦｅ2Ｏ3とＭｎＯおよびＣａＯを含
有する。これらに加えて、ＺｎＯおよび／またはＣｕＯ
を含有していてもよい。ＺｎＯおよび／またはＣｕＯの
キャリア芯粒子中への含有量は、ＭｎＯと合計した場合
のモル比が０.２乃至０.５の範囲であることが好まし
い。本願発明のキャリアにおいて、特に好ましいフェラ
イト粒子はＺｎＯおよびＣｕＯの両方を含有するもので
ある。
には、上述のごとくＦｅ2Ｏ3とＭｎＯおよびＣａＯを含
有する。これらに加えて、ＺｎＯおよび／またはＣｕＯ
を含有していてもよい。ＺｎＯおよび／またはＣｕＯの
キャリア芯粒子中への含有量は、ＭｎＯと合計した場合
のモル比が０.２乃至０.５の範囲であることが好まし
い。本願発明のキャリアにおいて、特に好ましいフェラ
イト粒子はＺｎＯおよびＣｕＯの両方を含有するもので
ある。
【００１２】即ち本願発明のフェライト粒子は、好まし
くは以下の式Ｉ： （ＭＯ)ｘ(ＣａＯ)ｙ(Ｆｅ２Ｏ３)ｚ （式中、ＭはＭｎと、ＺｎおよびＣｕからなる群より選
択される１以上の金属の組み合わせを示す。ｘ、ｙおよ
びｚはそれぞれＭＯ、ＣａＯおよびＦｅ２Ｏ３のモル分
率を示し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、ｘ＝0.2〜0.5、ｙ＝0.005
〜0.05である。）で示される。
くは以下の式Ｉ： （ＭＯ)ｘ(ＣａＯ)ｙ(Ｆｅ２Ｏ３)ｚ （式中、ＭはＭｎと、ＺｎおよびＣｕからなる群より選
択される１以上の金属の組み合わせを示す。ｘ、ｙおよ
びｚはそれぞれＭＯ、ＣａＯおよびＦｅ２Ｏ３のモル分
率を示し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、ｘ＝0.2〜0.5、ｙ＝0.005
〜0.05である。）で示される。
【００１３】本願発明のフェライトキャリアの芯粒子
は、通常のフェライトキャリアと同様の方法で調整すれ
ばよい。すなわち、所定のモル比となるようＦｅ2Ｏ3、
ＣａＯ、ＭｎＯ、および所望によりＺｎＯ、ＣｕＯある
いは最終的に所望の酸化物となるような金属の塩類を粉
砕、混合したものを乾燥、粉砕し、仮焼を行い得られた
仮焼粉を適当な大きさに解砕した後、造粒装置を用いて
造粒し、その後焼成すればよい。
は、通常のフェライトキャリアと同様の方法で調整すれ
ばよい。すなわち、所定のモル比となるようＦｅ2Ｏ3、
ＣａＯ、ＭｎＯ、および所望によりＺｎＯ、ＣｕＯある
いは最終的に所望の酸化物となるような金属の塩類を粉
砕、混合したものを乾燥、粉砕し、仮焼を行い得られた
仮焼粉を適当な大きさに解砕した後、造粒装置を用いて
造粒し、その後焼成すればよい。
【００１４】本願発明のフェライトキャリアは、フェラ
イト芯粒子を樹脂により被覆して得られる。被覆のため
の樹脂としては、例えばポリスチレン系樹脂、ポリ（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテル系樹
脂、ポリスルフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリブチラール系樹脂、尿素系樹脂、ウレ
タン系樹脂、ウレア系樹脂、シリコーン系樹脂、テフロ
ン系樹脂等の各種熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂およ
びその混合物、並びにこれらの樹脂の共重合体、ブロッ
ク重合体、グラフト重合体およびポリマーブレンドが用
いられる。さらに、帯電性を調整するために、各種極性
基を有する樹脂を使用してもよい。これらの樹脂の中で
も熱硬化性シリコーン樹脂を用いることが好ましく、さ
らに熱硬化性アクリルシリコーン樹脂を用いることが好
ましい。
イト芯粒子を樹脂により被覆して得られる。被覆のため
の樹脂としては、例えばポリスチレン系樹脂、ポリ（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテル系樹
脂、ポリスルフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリブチラール系樹脂、尿素系樹脂、ウレ
タン系樹脂、ウレア系樹脂、シリコーン系樹脂、テフロ
ン系樹脂等の各種熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂およ
びその混合物、並びにこれらの樹脂の共重合体、ブロッ
ク重合体、グラフト重合体およびポリマーブレンドが用
いられる。さらに、帯電性を調整するために、各種極性
基を有する樹脂を使用してもよい。これらの樹脂の中で
も熱硬化性シリコーン樹脂を用いることが好ましく、さ
らに熱硬化性アクリルシリコーン樹脂を用いることが好
ましい。
【００１５】樹脂の被覆の方法は、上記被覆用樹脂を適
当な溶媒に溶解した樹脂溶液を調整し、これをスプレー
法あるいは浸漬法等によりキャリア芯材粒子に被覆すれ
ばよい。特に、浸漬法は被覆用樹脂溶液中にキャリア芯
材を浸漬した状態で攪拌および加熱しながら溶剤除去を
行った後、乾燥させ、加熱処理を行うことにより被覆を
行う方法であり、被覆用樹脂として熱硬化性樹脂を使用
する場合には、均一被覆性の観点から浸漬法で被覆する
ことが好ましい。
当な溶媒に溶解した樹脂溶液を調整し、これをスプレー
法あるいは浸漬法等によりキャリア芯材粒子に被覆すれ
ばよい。特に、浸漬法は被覆用樹脂溶液中にキャリア芯
材を浸漬した状態で攪拌および加熱しながら溶剤除去を
行った後、乾燥させ、加熱処理を行うことにより被覆を
行う方法であり、被覆用樹脂として熱硬化性樹脂を使用
する場合には、均一被覆性の観点から浸漬法で被覆する
ことが好ましい。
【００１６】樹脂の被覆量としては芯材に対して０.３
乃至１.３重量％とするのが好ましい。樹脂の被覆０.３
重量％未満である場合には被覆の効果が不十分となり、
耐環境性が悪化する。また、樹脂の被覆量を増やすこと
によってキャリアの電気抵抗が増加するが、被覆量が
１.３重量％を越えると被覆キャリアの流動性が悪化
し、画像特性を制御できなくなり、好ましくない。
乃至１.３重量％とするのが好ましい。樹脂の被覆０.３
重量％未満である場合には被覆の効果が不十分となり、
耐環境性が悪化する。また、樹脂の被覆量を増やすこと
によってキャリアの電気抵抗が増加するが、被覆量が
１.３重量％を越えると被覆キャリアの流動性が悪化
し、画像特性を制御できなくなり、好ましくない。
【００１７】本願発明のキャリアの重量平均粒径は３０
乃至８０μｍ、好ましくは４０乃至６０μｍである。本
願発明のキャリアは、二成分系の現像剤に用いられてい
るトナーと共に用いられる。特に本願発明は、フルカラ
ー画像形成のための小粒径トナーを用いる場合に有用で
ある。
乃至８０μｍ、好ましくは４０乃至６０μｍである。本
願発明のキャリアは、二成分系の現像剤に用いられてい
るトナーと共に用いられる。特に本願発明は、フルカラ
ー画像形成のための小粒径トナーを用いる場合に有用で
ある。
【００１８】
【実施例】以下実施例によって本願発明をさらに詳細に
説明する。本願発明は以下の実施例に限定されない。 （キャリアの製造例１）ＣｕＯ １５モル％、ＺｎＯ
１０モル％、ＭｎＯ ３モル％、ＣａＯ ２モル％、お
よびＦｅ2Ｏ3 ７０モル％を配合し、湿式ボールミルで
粉砕、混合した後乾燥し、さらに粉砕し、７００〜１０
００℃で仮焼を行った。仮焼粉を５μｍ以下とした後、
造粒装置（スプレードライヤー、大河原工機社製）を用
いて２００μｍ以下となるよう、約１２００℃にて８時
間焼成した。この焼成物を解砕、分級し、平均粒径５０
μｍのキャリア芯粒子Ａを得た。シリコーン樹脂（ＫＲ
２５１：信越化学工業社製）をメチルエチルケトンで希
釈し、固形比２％の被覆溶液を調製し、この被覆溶液６
０重量部とキャリア芯粒子Ａ１００重量部とを攪拌、減
圧および加熱しながら乾燥処理のできる混合攪拌機に入
れ、混合攪拌により芯粒子に樹脂被覆を行い、１５０℃
に加熱して３０分間被覆樹脂の硬化を行った後、粉砕機
で解砕し、９０μｍのフルイにて分級し、さらに磁力選
鉱を行って低磁力成分を除去して、樹脂被覆フェライト
キャリアＡを得た。
説明する。本願発明は以下の実施例に限定されない。 （キャリアの製造例１）ＣｕＯ １５モル％、ＺｎＯ
１０モル％、ＭｎＯ ３モル％、ＣａＯ ２モル％、お
よびＦｅ2Ｏ3 ７０モル％を配合し、湿式ボールミルで
粉砕、混合した後乾燥し、さらに粉砕し、７００〜１０
００℃で仮焼を行った。仮焼粉を５μｍ以下とした後、
造粒装置（スプレードライヤー、大河原工機社製）を用
いて２００μｍ以下となるよう、約１２００℃にて８時
間焼成した。この焼成物を解砕、分級し、平均粒径５０
μｍのキャリア芯粒子Ａを得た。シリコーン樹脂（ＫＲ
２５１：信越化学工業社製）をメチルエチルケトンで希
釈し、固形比２％の被覆溶液を調製し、この被覆溶液６
０重量部とキャリア芯粒子Ａ１００重量部とを攪拌、減
圧および加熱しながら乾燥処理のできる混合攪拌機に入
れ、混合攪拌により芯粒子に樹脂被覆を行い、１５０℃
に加熱して３０分間被覆樹脂の硬化を行った後、粉砕機
で解砕し、９０μｍのフルイにて分級し、さらに磁力選
鉱を行って低磁力成分を除去して、樹脂被覆フェライト
キャリアＡを得た。
【００１９】（キャリアの製造例２）芯粒子の配合比を
ＣｕＯ １５モル％、ＺnＯ １０モル％、ＭｎＯ ５
モル％、ＣａＯ ４モル％、Ｆe2Ｏ3 ６６モル％とす
る以外は製造例１と同様にしてキャリア芯粒子Ｂを得
た。被覆溶液に対するキャリア芯粒子Ｂの重量比を５
０：１００とする以外は製造例１と同様にして樹脂被覆
フェライトキャリアＢを得た。
ＣｕＯ １５モル％、ＺnＯ １０モル％、ＭｎＯ ５
モル％、ＣａＯ ４モル％、Ｆe2Ｏ3 ６６モル％とす
る以外は製造例１と同様にしてキャリア芯粒子Ｂを得
た。被覆溶液に対するキャリア芯粒子Ｂの重量比を５
０：１００とする以外は製造例１と同様にして樹脂被覆
フェライトキャリアＢを得た。
【００２０】（キャリアの製造例３）被覆樹脂としてア
クリル変性シリコーン樹脂（ＫＲ９７０６：信越化学工
業社製）を使用すること、被覆溶液に対するキャリア芯
粒子の重量比を７０：１００とすること以外は製造例１
と同様にして樹脂被覆フェライトキャリアＣを得た。
クリル変性シリコーン樹脂（ＫＲ９７０６：信越化学工
業社製）を使用すること、被覆溶液に対するキャリア芯
粒子の重量比を７０：１００とすること以外は製造例１
と同様にして樹脂被覆フェライトキャリアＣを得た。
【００２１】（キャリアの製造例４）芯粒子の配合比
を、ＣｕＯ １５モル％、ＺｎＯ １０モル％、ＭｎＯ
３モル％、Ｆｅ2Ｏ3 ７２モル％とする以外は製造例
１と同様にして樹脂被覆フェライトキャリアＤを得た。
を、ＣｕＯ １５モル％、ＺｎＯ １０モル％、ＭｎＯ
３モル％、Ｆｅ2Ｏ3 ７２モル％とする以外は製造例
１と同様にして樹脂被覆フェライトキャリアＤを得た。
【００２２】（キャリアの製造例５）芯粒子の配合比を
ＣｕＯ １５モル％、ＺｎＯ １０モル％、ＣａＯ ２
モル％、Ｆｅ2Ｏ3 ７３モル％とする以外は製造例１と
同様にして樹脂被覆フェライトキャリアＥを得た。
ＣｕＯ １５モル％、ＺｎＯ １０モル％、ＣａＯ ２
モル％、Ｆｅ2Ｏ3 ７３モル％とする以外は製造例１と
同様にして樹脂被覆フェライトキャリアＥを得た。
【００２３】（キャリア物性値の測定） （１）粒径 キャリアの平均粒径の測定はレーザー回折式粒度分布測
定装置ＳＡＬＤ−１１００（島津製作所社製）を用いて
行った。
定装置ＳＡＬＤ−１１００（島津製作所社製）を用いて
行った。
【００２４】（２）樹脂被覆量 キャリアの樹脂被覆量の測定は、キャリア１０ｇを精秤
した後、８００℃の温度で３時間焙焼し、その際の残渣
量との差より求めた。
した後、８００℃の温度で３時間焙焼し、その際の残渣
量との差より求めた。
【００２５】（３）静的電気抵抗 静的電気抵抗は、金属製の円形電極上へ厚さ１ｍｍ、直
径５０ｍｍとなるように試料を置き、質量８９５.４
ｇ、直径２０ｍｍの電極、内径３８ｍｍ、外径４２ｍｍ
のガード電極を載せ、５００Ｖの直流電圧印加時の１分
後の電流値を読み取り、試料体積固有抵抗値（ρ）に換
算した。測定環境は温度２５±１℃、相対湿度５５±５
％、測定は５回行い、その平均値を取った。
径５０ｍｍとなるように試料を置き、質量８９５.４
ｇ、直径２０ｍｍの電極、内径３８ｍｍ、外径４２ｍｍ
のガード電極を載せ、５００Ｖの直流電圧印加時の１分
後の電流値を読み取り、試料体積固有抵抗値（ρ）に換
算した。測定環境は温度２５±１℃、相対湿度５５±５
％、測定は５回行い、その平均値を取った。
【００２６】（４）飽和磁化 飽和磁化は直流磁化特性記録装置ＴＹＰＥ３２５７（横
河電機社製）を用いて測定した。得られたキャリアの物
性値を表１に示す。
河電機社製）を用いて測定した。得られたキャリアの物
性値を表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】（トナーＡの製造） 成分 重量部 スチレン ６０ ｎ−ブチルメタクリレート ３５ メタクリル酸 ５ 2,2-アゾビス-(2,4-ジメチルバレロニトリル) ０.５ 低分子量ポリプロピレン ３ （ビスコール 605P:三洋化成工業社製) カーボンブラック ８ （ＭＡ＃８：三菱化学社製）
【００２９】上記の材料をサンドスターラにより混合し
て重合組成物を調製した。この重合組成物を濃度３％の
アラビアゴム水溶液で撹拌機ＴＫオートホモミキサー
（特殊機化工業社製）を用いて回転数４０００ｒｐｍで
撹拌しながら、温度６０℃で６時間重合反応させ、平均
粒径６μｍの球状粒子を得た。これとは別にサリチル酸
金属錯体（Ｅ−８４：オリエント化学工業社製）並びに
疎水性酸化チタン（Ｔ−８０５：日本アエロジル社製）
を１：１の重量比で水媒体中にサンドミル（ペイントコ
ンデイショナー、レッドデビル社製）を用い予め粉砕し
ておいた。得られたサリチル酸金属錯体／酸化チタンの
混合物を上記球状粒子分散系に球状粒子固形分１００重
量部に対し１.５重量部を添加後、さらに撹拌を続け球
状粒子表面にサリチル酸金属錯体／酸化チタンを処理し
た。この後濾過／水洗を繰り返し行った後、この時得ら
れたケーキ状の粒子を熱風乾燥機を用い８０℃５時間乾
燥することにより、粒子同士を凝集、特に１μｍ以下の
超微粒子を３μｍ以上の粒子表面に固着、溶融させ、５
０μｍ〜１ｍｍ程度の凝集体を得た。これをクリプトロ
ンシステム（ＫＴＭ−Ｘ型：川崎重工業社製）１０００
０ｒｐｍにて解砕／表面改質処理を行い、平均粒径６μ
ｍの解砕粒子を得た。後処理として得られた解砕粒子１
００重量部に対して疎水性シリカ（Ｈ−２０００：ワッ
カー社製）０.２重量部を添加し、ヘンシェルミキサー
（三井三池化工機社製）にて１０００ｒｐｍで１分間処
理してトナーＡを得た。
て重合組成物を調製した。この重合組成物を濃度３％の
アラビアゴム水溶液で撹拌機ＴＫオートホモミキサー
（特殊機化工業社製）を用いて回転数４０００ｒｐｍで
撹拌しながら、温度６０℃で６時間重合反応させ、平均
粒径６μｍの球状粒子を得た。これとは別にサリチル酸
金属錯体（Ｅ−８４：オリエント化学工業社製）並びに
疎水性酸化チタン（Ｔ−８０５：日本アエロジル社製）
を１：１の重量比で水媒体中にサンドミル（ペイントコ
ンデイショナー、レッドデビル社製）を用い予め粉砕し
ておいた。得られたサリチル酸金属錯体／酸化チタンの
混合物を上記球状粒子分散系に球状粒子固形分１００重
量部に対し１.５重量部を添加後、さらに撹拌を続け球
状粒子表面にサリチル酸金属錯体／酸化チタンを処理し
た。この後濾過／水洗を繰り返し行った後、この時得ら
れたケーキ状の粒子を熱風乾燥機を用い８０℃５時間乾
燥することにより、粒子同士を凝集、特に１μｍ以下の
超微粒子を３μｍ以上の粒子表面に固着、溶融させ、５
０μｍ〜１ｍｍ程度の凝集体を得た。これをクリプトロ
ンシステム（ＫＴＭ−Ｘ型：川崎重工業社製）１０００
０ｒｐｍにて解砕／表面改質処理を行い、平均粒径６μ
ｍの解砕粒子を得た。後処理として得られた解砕粒子１
００重量部に対して疎水性シリカ（Ｈ−２０００：ワッ
カー社製）０.２重量部を添加し、ヘンシェルミキサー
（三井三池化工機社製）にて１０００ｒｐｍで１分間処
理してトナーＡを得た。
【００３０】（トナーＢの製造）ポリエステル樹脂（Ｎ
Ｅ−３８２：花王社製）１００ｇを塩化メチレン／トル
エン（８／２）の混合溶剤４００ｇに溶解し、フタロシ
アニン顔料５ｇおよび亜金属錯体（Ｅ−８４：オリエン
ト化学工業社製）５ｇをボールミルに入れ３時間混合し
て分散させ、均一混合分散液を得た。次に分散安定剤と
してメチルセルロース（メトセルＫ３５ＬＶ：ダウケミ
カル社製）４％溶液６０ｇ、ジオクチルスルホサクシネ
ートソーダ（ニッコールＯＴＰ７５：日光ケミカル社
製）１％溶液５ｇ、ヘキサメタクリン酸ソーダ（和光純
薬社製）０.５ｇをイオン交換水１０００ｇに溶解した
水溶液中にＴＫオートホモミクサー（特殊機化工業社
製）を用い上記均一分散液を平均粒径３〜１０μｍとな
るように回転数を調整し、水中に懸濁せしめた。この懸
濁液中に予めメタノールに分散せしめた疎水性シリカ
（ＯＸ５０：日本アエロジル社製）を樹脂１００重量部
に対し、１.０重量部の割合で添加混合し、懸濁粒子表
面にシリカ微粒子を付着させた。この後濾過／水洗を繰
り返し行った後、スラリー乾燥装置（ディスパーコー
ト：日清エンジニアリング社製）により粒子の乾燥を行
い、さらに風力分級を行って平均粒径６μｍの着色粒子
を得た。さらに後処理として得られた着色粒子１００重
量部に対し疎水性シリカ（Ｈ−２０００：ワッカー社
製）０.３重量部並びに疎水性酸化チタン（Ｔ−８０
５：日本アエロジル社製）０.５重量部を添加し、ヘン
シェルミキサー（三井三池化工機社製）にて１０００ｒ
ｐｍで１分間処理することによりトナーＢを得た。
Ｅ−３８２：花王社製）１００ｇを塩化メチレン／トル
エン（８／２）の混合溶剤４００ｇに溶解し、フタロシ
アニン顔料５ｇおよび亜金属錯体（Ｅ−８４：オリエン
ト化学工業社製）５ｇをボールミルに入れ３時間混合し
て分散させ、均一混合分散液を得た。次に分散安定剤と
してメチルセルロース（メトセルＫ３５ＬＶ：ダウケミ
カル社製）４％溶液６０ｇ、ジオクチルスルホサクシネ
ートソーダ（ニッコールＯＴＰ７５：日光ケミカル社
製）１％溶液５ｇ、ヘキサメタクリン酸ソーダ（和光純
薬社製）０.５ｇをイオン交換水１０００ｇに溶解した
水溶液中にＴＫオートホモミクサー（特殊機化工業社
製）を用い上記均一分散液を平均粒径３〜１０μｍとな
るように回転数を調整し、水中に懸濁せしめた。この懸
濁液中に予めメタノールに分散せしめた疎水性シリカ
（ＯＸ５０：日本アエロジル社製）を樹脂１００重量部
に対し、１.０重量部の割合で添加混合し、懸濁粒子表
面にシリカ微粒子を付着させた。この後濾過／水洗を繰
り返し行った後、スラリー乾燥装置（ディスパーコー
ト：日清エンジニアリング社製）により粒子の乾燥を行
い、さらに風力分級を行って平均粒径６μｍの着色粒子
を得た。さらに後処理として得られた着色粒子１００重
量部に対し疎水性シリカ（Ｈ−２０００：ワッカー社
製）０.３重量部並びに疎水性酸化チタン（Ｔ−８０
５：日本アエロジル社製）０.５重量部を添加し、ヘン
シェルミキサー（三井三池化工機社製）にて１０００ｒ
ｐｍで１分間処理することによりトナーＢを得た。
【００３１】 （トナーＣの製造） 成分 重量部 ・ポリエステル樹脂 １００ （軟化点；１３０℃、ガラス転移点；６０℃、ＡＶ２４、ＯＨＶ；３８） ・カーボンブラック（ＭＡ＃８：三菱化学社製） ８ ・荷電制御剤 ３ （スピロンブラックＴＲＨ：保土ケ谷化学工業社製）
【００３２】上記材料をボールミルで十分混合した後、
１４０℃に加熱した３本ロール上で混練した。混練物を
放置冷却後、フェザーミルを用い粗粉砕し、さらにジェ
ットミルで微粉砕した。つぎに風力分級し、平均粒径６
μｍの着色粒子を得た。さらに後処理として得られた着
色粒子１００重量部に対して疎水性シリカ（Ｈ−２００
０：ワッカー社製）０.２重量部を添加し、ヘンシェル
ミキサー（三井三池化工機社製）にて１０００ｒｐｍで
１分間処理することによりトナーＣを得た。
１４０℃に加熱した３本ロール上で混練した。混練物を
放置冷却後、フェザーミルを用い粗粉砕し、さらにジェ
ットミルで微粉砕した。つぎに風力分級し、平均粒径６
μｍの着色粒子を得た。さらに後処理として得られた着
色粒子１００重量部に対して疎水性シリカ（Ｈ−２００
０：ワッカー社製）０.２重量部を添加し、ヘンシェル
ミキサー（三井三池化工機社製）にて１０００ｒｐｍで
１分間処理することによりトナーＣを得た。
【００３３】 （トナーＤの製造） 成分 重量部 ・ポリエステル樹脂 １００ （タフトンＮＥ−３８２：花王社製） ・ブリリアントカーミン６Ｂ（Ｃ.Ｉ.１５８５０） ３ ・カリックスアレン化合物 ２ （Ｅ−８９：オリエント化学工業社製）
【００３４】上記材料をボールミルで十分混合した後、
１４０℃に加熱した３本ロール上で混練した。混練物を
放置冷却後、フェザーミルを用いて粗粉砕し、さらにジ
ェットミルで微粉砕した。つぎに風力分級し、平均粒径
６μｍの着色粒子を得た。後処理として得られた着色粒
子１００重量部に対して疎水性シリカ（Ｈ−２０００：
ワッカー社製）０.２重量部を添加し、ヘンシェルミキ
サー（三井三池化工機社製）にて１０００ｒｐｍで１分
間処理することによりトナーＤを得た。
１４０℃に加熱した３本ロール上で混練した。混練物を
放置冷却後、フェザーミルを用いて粗粉砕し、さらにジ
ェットミルで微粉砕した。つぎに風力分級し、平均粒径
６μｍの着色粒子を得た。後処理として得られた着色粒
子１００重量部に対して疎水性シリカ（Ｈ−２０００：
ワッカー社製）０.２重量部を添加し、ヘンシェルミキ
サー（三井三池化工機社製）にて１０００ｒｐｍで１分
間処理することによりトナーＤを得た。
【００３５】（評価）上記で得たトナーＡ〜Ｄおよびキ
ャリアＡ〜Ｅを、トナー含有量が５重量％となるよう混
合し、現像剤を調製し、高温高湿環境および低温低湿環
境にて実施例１〜５および比較例１〜３に関しては複写
機Ｄｉ−３０（ミノルタ社製）、実施例６に関しては複
写機ＣＦ−７０（ミノルタ社製）を用いて画像濃度、感
光体上かぶり、キャリア付着を調べた。結果を表２に示
す。
ャリアＡ〜Ｅを、トナー含有量が５重量％となるよう混
合し、現像剤を調製し、高温高湿環境および低温低湿環
境にて実施例１〜５および比較例１〜３に関しては複写
機Ｄｉ−３０（ミノルタ社製）、実施例６に関しては複
写機ＣＦ−７０（ミノルタ社製）を用いて画像濃度、感
光体上かぶり、キャリア付着を調べた。結果を表２に示
す。
【００３６】（１）画像濃度の評価：サクラ濃度計ＰＤ
Ａ６５を用いて、ベタ部の画像濃度を測定し、画像濃度
１.３以上のものを○、１.１〜１.３のものを△、１.１
未満のものを×として評価した。
Ａ６５を用いて、ベタ部の画像濃度を測定し、画像濃度
１.３以上のものを○、１.１〜１.３のものを△、１.１
未満のものを×として評価した。
【００３７】（２）感光体上かぶりの評価：かぶりの評
価については、トナー像が形成された感光体表面を目視
により観察し、感光体の非画像部にトナーかぶりのない
場合を〇、若干のかぶりがあるが実用上は使用可能であ
る場合を△、かぶりが多く実用上問題となる場合を×と
して評価した。なお、高温高湿（Ｈ／Ｈ）環境の条件は
３０℃、８５％ＲＨであり、初期に評価した。低温低湿
（Ｌ／Ｌ）環境の条件は、５℃、１５％ＲＨであり、１
万枚の耐刷試験を行った後に評価した。
価については、トナー像が形成された感光体表面を目視
により観察し、感光体の非画像部にトナーかぶりのない
場合を〇、若干のかぶりがあるが実用上は使用可能であ
る場合を△、かぶりが多く実用上問題となる場合を×と
して評価した。なお、高温高湿（Ｈ／Ｈ）環境の条件は
３０℃、８５％ＲＨであり、初期に評価した。低温低湿
（Ｌ／Ｌ）環境の条件は、５℃、１５％ＲＨであり、１
万枚の耐刷試験を行った後に評価した。
【００３８】（３）キャリア付着の評価：キャリア付着
は、トナー像が形成された感光体表面を目視により観察
し、感光体の非画像部にキャリア付着の無い場合を○、
若干のキャリア付着はあるが実用上使用可能である場合
を△、キャリア付着が多く、実用上問題となる場合を×
として評価した。結果を表２に示す。
は、トナー像が形成された感光体表面を目視により観察
し、感光体の非画像部にキャリア付着の無い場合を○、
若干のキャリア付着はあるが実用上使用可能である場合
を△、キャリア付着が多く、実用上問題となる場合を×
として評価した。結果を表２に示す。
【００３９】
【表２】
【００４０】
【発明の効果】本願発明のキャリアを用いた現像剤は、
高温高湿環境下における感光体上かぶりを示さず、低温
低湿環境下においてキャリアの付着を示さない、環境安
定性が高いものである。
高温高湿環境下における感光体上かぶりを示さず、低温
低湿環境下においてキャリアの付着を示さない、環境安
定性が高いものである。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−69185（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−194338（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−51563（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−28236（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−28234（ＪＰ，Ａ) 特表 平５−502430（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03G 9/10
Claims (3)
- 【請求項１】 ＣａＯ、ＭｎＯ、ＺｎＯおよびＣｕＯを
構成成分として含有し、下記式： （ＭＯ) ｘ (ＣａＯ) ｙ (Ｆｅ ２ Ｏ ３ ) ｚ （式中、ＭはＭｎ、ＺｎおよびＣｕを示す。ｘ、ｙおよ
びｚはそれぞれＭＯ、ＣａＯおよびＦｅ ２ Ｏ ３ のモル比
を示し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、ｘ＝0.2〜0.5、ｙ＝0.005〜
0.05である。） で示される フェライト粒子に樹脂被覆してなる、静電荷
像現像用キャリア。 - 【請求項２】 前記樹脂が熱硬化性シリコーン樹脂であ
る請求項1記載の静電荷像現像用キャリア。 - 【請求項３】 前記樹脂の被覆量がフェライト粒子に対
して0.3〜1.3重量％である請求項1または請求項2記載の
静電荷像現像用キャリア。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26390195A JP3261946B2 (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 静電荷像現像用キャリア |
| US08/729,068 US5688623A (en) | 1995-10-12 | 1996-10-10 | Carrier for developing electrostatic latent image |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26390195A JP3261946B2 (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 静電荷像現像用キャリア |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09106112A JPH09106112A (ja) | 1997-04-22 |
| JP3261946B2 true JP3261946B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=17395839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26390195A Expired - Fee Related JP3261946B2 (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 静電荷像現像用キャリア |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5688623A (ja) |
| JP (1) | JP3261946B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP4087324B2 (ja) * | 2003-10-10 | 2008-05-21 | 株式会社リコー | 静電潜像現像剤用キャリア、現像剤、現像装置、現像剤容器、画像形成装置、現像方法及びプロセスカートリッジ |
| JP6021049B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2016-11-02 | パウダーテック株式会社 | 電子写真現像剤用樹脂充填型フェライトキャリア及び該フェライトキャリアを用いた電子写真現像剤 |
| JP5790192B2 (ja) * | 2011-06-20 | 2015-10-07 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像用キャリア、その製造方法、静電荷像現像剤、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4485162A (en) * | 1982-02-12 | 1984-11-27 | Tdk Electronics Co., Ltd. | Magnetic carrier powder having a wide chargeable range of electric resistance useful for magnetic brush development |
| JPS58202456A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-11-25 | Hitachi Metals Ltd | 電子写真用フエライトキヤリア− |
| JPS5948774A (ja) * | 1982-09-13 | 1984-03-21 | Nippon Teppun Kk | 電子写真現像用キヤリヤ |
| JPS59182464A (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-17 | Hitachi Ltd | 電子写真法 |
| JPS6090345A (ja) * | 1983-10-24 | 1985-05-21 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子複写機の現像剤キヤリヤ |
| JPH0648396B2 (ja) * | 1984-11-30 | 1994-06-22 | 三田工業株式会社 | 二成分系現像剤 |
| US4855205A (en) * | 1988-08-05 | 1989-08-08 | Eastman Kodak Company | Interdispersed two-phase ferrite composite and carrier therefrom |
| JPH03217856A (ja) * | 1990-01-23 | 1991-09-25 | Ricoh Co Ltd | 静電潜像用乾式二成分系現像剤 |
| US5106714A (en) * | 1990-08-01 | 1992-04-21 | Eastman Kodak Company | Interdispersed two-phase ferrite composite and electrographic magnetic carrier particles therefrom |
| US5104761A (en) * | 1990-09-14 | 1992-04-14 | Eastman Kodak Company | Interdispersed three-phase ferrite composite and electrographic magnetic carrier particles therefrom |
-
1995
- 1995-10-12 JP JP26390195A patent/JP3261946B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-10 US US08/729,068 patent/US5688623A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09106112A (ja) | 1997-04-22 |
| US5688623A (en) | 1997-11-18 |
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