JP3252565B2 - 摺動部材およびその製造方法 - Google Patents
摺動部材およびその製造方法Info
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Description
に動きを伝達するシム等の摺動部材およびその製造方法
に係わり、特に接触面の鏡面化に要する時間を短縮する
ことの可能な摺動部材およびその製造方法に関する。
燃機関によって駆動されるカム軸に設置されているカム
の形状に応じて変位するシムによって駆動される。従っ
てカムとシムとの間の接触抵抗は内燃機関の損失となる
ため、カムおよびシムの接触面の表面粗さをカムとシム
との接触部に供給される潤滑油によって形成される油膜
の厚さと同程度にまで減少することが必要である。
であるのに対し、カムの接触面の表面粗さは周知の加工
技術によれば高々1.6〜3.2μmRzmであり十分
に接触抵抗を低減することができなかった。そこで本出
願人は、予め鏡面化したシムの接触面に適当な表面粗さ
となるように例えば窒化チタンであるコーティング層を
設け、初期摺り合わせ運転中にカムのシムとの接触面を
鏡面化するカム接触部構造をすでに提案している(特開
平5−163909公報参照)。
せ作用は、シムの摺動面が鏡面化されるほど弱くなるた
め、カムの鏡面化が完了するまで、接触抵抗低減の効果
が十分に発揮されないという課題を生じる。本発明は上
記課題に鑑みなされたものであって、接触面の鏡面化に
要する時間を短縮することの可能な摺動部材およびその
製造方法を提供することを目的とする。
部材は、カムと摺動する摺動部材であって、摺動部材の
接触面をカムの接触面より滑らかに仕上げるとともに滑
らかに仕上げられた接触面にHv硬度1,000以上の
材料の微細な凹凸を有するコーティング層を設け、摺動
部材の接触面の面積に対する基材表面から高さ0.5μ
mで微細な凹凸を切断した場合の切断面積の割合を0.
7〜5.2%とする。
は、カムと摺動する摺動部材の製造方法であって、摺動
部材の接触面を0.3μmRz以下に仕上げるとともに
その接触面にHv硬度1,000以上の材料を1平方セ
ンチメートル当たり60〜90MA(メガアンペア)の
電流密度でアーク式イオンプレーティング法によってコ
ーティングする。
凹凸によってカム接触面が鏡面化されるとともに、カム
によって摺動部材表面の微細な凹凸が折り取られて摺動
部材表面も鏡面化され、所定値以下の磨耗量で短時間に
カム接触面が鏡面化される。
置を有する内燃機関の部分断面図である。即ちシリンダ
ヘッド10上部には2本のカム軸12および14が設け
られ、一方のカム軸12はタイミングプーリおよびタイ
ミングベルト(共に図示せず)を介してクランク軸(図
示せず)によって駆動される。
気バルブリフタ18を介して吸気バルブスプリング20
に抗して吸気バルブ21を駆動する。カム軸12に配設
された歯車22は他の一方のカム軸14に配設された歯
車24と嵌合し、他の一方のカム軸14を駆動する。カ
ム軸14に配設された排気カム25は排気バルブリフタ
26を介して排気バルブスプリング28に抗して排気バ
ルブ30を駆動する。
接触面および排気バルブリフタ26の排気カム25との
接触面にはそれぞれアジャスティングシム(以下シムと
記す)34および36が設置されている。そしてシム3
4および36には本発明にかかる摺動部材が使用され
る。図2はシム34および36の側断面図であって、例
えばクロムモリブデン鋼である基材50の上下面は表面
粗さが0.3μmRz以下にまで仕上げられる。
イオンプレーティング法によってHv硬度1,000以
上の材料によってコーティング層51が形成される。な
お本実施例においてはコーティング材料としてチタン、
雰囲気ガスとして圧力10ミリトリチェリの窒素ガスを
使用し、バイアス電圧は50Vとしている。なお処理時
間は90分である。
果である。この図から理解できるように、処理中に発生
するアークスポットによって金属塊52のまま飛散し基
材50に付着したチタン上に窒化チタンがコーティング
されることにより形成されるドロップレットによって、
基材50の表面には微小の突起が存在する。
式図であって、(A)は側断面を、(B)はX−X切断
面図を示す。ドロップレットは基材50上にランダムに
発生し、大きさ、高さあるいは発生位置を制御すること
はできないが、発生密度は電流密度によってある程度制
御することが可能である。
ない場合は摺り合わせ運転中にカム接触面を十分に鏡面
化することができず、逆に数が多い場合はカム接触面に
過度の磨耗を生じる。従って短時間の摺り合わせ運転で
カム接触面の鏡面化が完了するとともに、シム表面自体
の鏡面化も完了するためには単位面積当たりのドロップ
レットの数を適当な範囲とする必要がある。
の大きさあるいは高さは制御することはできないため、
大きいドロップレットが少数存在するシムを使用した場
合にもカム接触面は過度に磨耗するおそれがある。従っ
て単位面積当たりのドロップレットの数ではなく、基材
50の面積に対する一定の高さでドロップレットを切断
した時のドロップレットの断面積(図3(B)の斜線部
の合計面積)を適当な範囲とすることが必要である。
μmにおいて切断したときの基材50の面積に対するド
ロップレットの断面積(以下ドロップレット面積比と記
す)をもって単位面積当たりのドロップレットの数を規
定するものとする。最適なドロップレット比を決定する
ためにドロップレット比の異なる5種類のシム(ドロッ
プレット比=0.7、3.0、5.2、7.2、8.0
%)を製作し、鏡面化に要する時間および接触抵抗低減
効果の試験を実施した。
プレーティングの電流密度との関係を表すグラフであっ
て、縦軸にドロップレット比を、横軸に電流密度をと
る。即ち電流密度を大とする程ドロップレット比も増加
する。このグラフで黒丸で示す5種類およびドロップレ
ット比が0%(表面粗さ0.01〜0.30μmRz)
の合計6種類のシムについて下記の試験を実施した。
ムを適用した場合のカム接触面の磨耗量を表すグラフで
あって、横軸にドロップレット比を、縦軸にカム磨耗量
をとる。即ちドロップレット比が大である程カム磨耗量
も大となるが、カム磨耗量が過大となると所定のバルブ
変位を得ることができず吸排気損失が大となるためカム
磨耗量には上限値が存在する。
るためにはドロップレット比を5.2%以下とすること
が必要である。図7は6種類のシムを適用した場合の接
触抵抗低減率を表すグラフであって、横軸にドロップレ
ット比を、縦軸に接触抵抗低減率をとる。このグラフに
示されるようにドロップレット比が0.7%以下である
場合には接触抵抗低減率はドロップレット比の増加に応
じて増加し、0.7%以上となると接触抵抗低減率は約
30%で飽和する。
鏡面化するためにはドロップレット比を0.7%以上と
することが必要となる。即ちドロップレット比は0.7
〜5.2%とすることがよい。従って図4からドロップ
レット比を0.7%とする電流密度は1平方センチメー
トル当たり60MAであり、ドロップレット比を5.2
%とする電流密度は1平方センチメートル当たり90M
Aとなる。
って0.7〜5.2%のドロップレット比を有するシム
を製作するためには1平方センチメートル当たりの電流
密度を60〜90MAとする必要がある。図8は100
0rpm摺り合わせにおいてドロップレットによってカ
ム接触面を鏡面化するのに要する時間を表すグラフであ
って、縦軸に接触抵抗(N・m)を、横軸に時間をと
る。
抵抗の経時変化であり、実線はドロップレット0.7%
のシムの接触抵抗の経時変化である。このグラフに示さ
れるようにドロップレット比0.7%のシムによれば約
10時間の摺り合わせ時間によって接触抵抗は最低値
(約1.5N・m)で飽和し、ドロップレット比0%の
シムの接触抵抗に比較して30%程度改善される。
れば短時間の摺り合わせ時間で接触抵抗を低減すること
が可能となる。図9は摺り合わせの効果を表すグラフで
あって、縦軸にカム接触面の表面粗さを、横軸にシム表
面粗さをとる。即ち白丸で示されるようにドロップレッ
ト比0%(表面粗さ0.01〜0.30μmRz)のシ
ムを使用した場合には、摺り合わせによってカム接触面
の表面粗さは2.8μmRzから0.8μmRzに鏡面
化されるものの、200時間以上の摺り合わせ時間を要
する。
レット比0.7%(表面粗さ約1.5μmRz)のシム
を使用した場合には、摺り合わせによってカム接触面の
表面粗さは2.8μmRzから0.2μmRz以下に約
10時間の摺り合わせ時間で鏡面化される。同時にシム
の表面粗さも約1.5μmRzからコーティング下地粗
さと同レベルの0.01〜0.30μmRzに鏡面化さ
れる。
表面に形成されたドロップレットによってカム接触面を
鏡面化すること、及び摺動部材表面もドロップレットが
折り取られて鏡面化し接触抵抗を低減することが可能と
なるだけでなく、鏡面化するための摺り合わせ時間を短
縮することが可能となる。
よれば、基材表面にドロップレットを有するコーティン
グ層を形成することが可能となるだけでなく、コーティ
ングする際に摺り合わせ時間を短縮することが可能とな
る適当なドロップレット比を有する摺動部材を製造する
ことが可能となる。
部分断面図である。
ある。
である。
ーティングの電流密度との関係を表すグラフである。
適用した場合のカム接触面の磨耗量を表すグラフであ
る。
低減率を表すグラフである。
面化するのに要する時間を表すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項1】 カムと摺動する摺動部材であって、 前記摺動部材の接触面をカムの接触面より滑らかに仕上
げるとともに、滑らかに仕上げられた接触面にHv硬度
1,000以上の材料の微細な凹凸を有するコーティン
グ層を設け、 前記摺動部材の接触面の面積に対する基材表面から高さ
0.5μmで微細な凹凸を切断した場合の切断面積の割
合が0.7〜5.2%である摺動部材。 - 【請求項2】 カムと摺動する摺動部材の製造方法であ
って、 前記摺動部材の接触面を0.3μmRz以下に仕上げる
とともに、その接触面にHv硬度1,000以上の材料
を1平方センチメートル当たり60〜90MA(メガア
ンペア)の電流密度でアーク式イオンプレーティング法
によってコーティングする摺動部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26253893A JP3252565B2 (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 摺動部材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP26253893A JP3252565B2 (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 摺動部材およびその製造方法 |
Publications (2)
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JPH07118832A JPH07118832A (ja) | 1995-05-09 |
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Family
ID=17377203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26253893A Expired - Lifetime JP3252565B2 (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 摺動部材およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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-
1993
- 1993-10-20 JP JP26253893A patent/JP3252565B2/ja not_active Expired - Lifetime
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