JP3230170B2 - スルホニル基を含有するカルボン酸の製造方法 - Google Patents
スルホニル基を含有するカルボン酸の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は写真用薬品，医薬品等の
原料として有用なスルホニル基を含有するカルボン酸の
製造方法に関するものである。
原料として有用なスルホニル基を含有するカルボン酸の
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に本発明の目的物である一般式〔I
I〕は、一般式〔I〕を過酸化水素水で酸化することによ
り合成できる。この場合溶媒として一般に水、アルコー
ル系溶媒、酢酸などが用いられ、また触媒も用いられる
ことがある。
I〕は、一般式〔I〕を過酸化水素水で酸化することによ
り合成できる。この場合溶媒として一般に水、アルコー
ル系溶媒、酢酸などが用いられ、また触媒も用いられる
ことがある。
【０００３】しかしながら例えば水を溶媒に用いた場
合、過酸化水素を加える際の発泡が非常にはげしく製造
上困難であるという問題があり、アルコール系溶媒を用
いた場合反応中にエステル化が進み、純度が低下すると
いう問題があり、また酢酸を用いた場合、酢酸臭気が作
業環境上好ましくないという問題などがあった。
合、過酸化水素を加える際の発泡が非常にはげしく製造
上困難であるという問題があり、アルコール系溶媒を用
いた場合反応中にエステル化が進み、純度が低下すると
いう問題があり、また酢酸を用いた場合、酢酸臭気が作
業環境上好ましくないという問題などがあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
問題点を解決すべくなされたものであり、本発明の目的
は製造上、作業環境上問題なく、反応中エステル化進行
が殆どなく、高純度の一般式〔II〕で表される化合物を
高収率で製造する方法を提供することにある。
問題点を解決すべくなされたものであり、本発明の目的
は製造上、作業環境上問題なく、反応中エステル化進行
が殆どなく、高純度の一般式〔II〕で表される化合物を
高収率で製造する方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記一般式〔I〕で表される化合物を、アルコール系溶媒
中で、塩基を加えて過酸化水素水により酸化して、一般
式〔II〕で表される化合物を製造する方法によって達成
される。
記一般式〔I〕で表される化合物を、アルコール系溶媒
中で、塩基を加えて過酸化水素水により酸化して、一般
式〔II〕で表される化合物を製造する方法によって達成
される。
【０００６】
【化２】
【０００７】〔一般式〔I〕，〔II〕中、Ｒはアルキル
基又はアリール基を表し、Ｌはアルキレン基を表す。〕
以下本発明を具体的に説明する。
基又はアリール基を表し、Ｌはアルキレン基を表す。〕
以下本発明を具体的に説明する。
【０００８】一般式〔I〕及び〔II〕において、Ｒで表
されるアルキル基としては、直鎖状，分岐状及び／又は
環状でよく、さらに他の置換基によって置換されていて
もよく、例えばメチル基，エチル基，プロピル基，i-プ
ロピル基，ブチル基，t-ブチル基，ベンジル基，ペンチ
ル基，t-ペンチル基，ネオペンチル基，2-エチルヘキシ
ル基，オクチル基，デシル基，i-デシル基，sec-デシル
基，ドデシル基，トリデシル基，i-トリデシル基，ヘキ
サデシル基，i-ヘキサデシル基，オクタデシル基，シク
ロヘキシル基，メトキシメチル基等が挙げられる。
されるアルキル基としては、直鎖状，分岐状及び／又は
環状でよく、さらに他の置換基によって置換されていて
もよく、例えばメチル基，エチル基，プロピル基，i-プ
ロピル基，ブチル基，t-ブチル基，ベンジル基，ペンチ
ル基，t-ペンチル基，ネオペンチル基，2-エチルヘキシ
ル基，オクチル基，デシル基，i-デシル基，sec-デシル
基，ドデシル基，トリデシル基，i-トリデシル基，ヘキ
サデシル基，i-ヘキサデシル基，オクタデシル基，シク
ロヘキシル基，メトキシメチル基等が挙げられる。
【０００９】Ｒで表されるアリール基としては、無置換
でも他の置換基によって置換されていてもよく、例えば
フェニル基，p-トシル基，p-ドデシルオキシフェニル基
等が挙げられる。
でも他の置換基によって置換されていてもよく、例えば
フェニル基，p-トシル基，p-ドデシルオキシフェニル基
等が挙げられる。
【００１０】Ｒで表されるアルキル基として好ましいも
のは、炭素原子数５以上の直鎖状のアルキル基又は炭素
原子数５以上の分岐状のアルキル基である。
のは、炭素原子数５以上の直鎖状のアルキル基又は炭素
原子数５以上の分岐状のアルキル基である。
【００１１】Ｒで表されるアリール基として好ましいも
のは、炭素原子数５以上のアルキル基を含む置換基が置
換したフェニル基である。
のは、炭素原子数５以上のアルキル基を含む置換基が置
換したフェニル基である。
【００１２】Ｌで表されるアルキレン基は直鎖状でも、
分岐状でも、他の置換基によって置換されていても良く
炭素数１〜30が好ましい。
分岐状でも、他の置換基によって置換されていても良く
炭素数１〜30が好ましい。
【００１３】本発明の製造方法において、反応溶媒とし
て使用できるアルコール系溶媒は、例えばメタノール，
エタノール，プロパノール，i-プロパノール，ブタノー
ル，2-ブタノール，i-ブタノール，t-ブタノール等が挙
げられ、これらは単一又は２種以上のアルコール系溶媒
との混合又は水との混合であってもかまわない。
て使用できるアルコール系溶媒は、例えばメタノール，
エタノール，プロパノール，i-プロパノール，ブタノー
ル，2-ブタノール，i-ブタノール，t-ブタノール等が挙
げられ、これらは単一又は２種以上のアルコール系溶媒
との混合又は水との混合であってもかまわない。
【００１４】本発明の製造方法における反応においては
塩基を使用する。使用できる塩基は例えば水酸化ナトリ
ウム，水酸化ナトリウム水溶液，水酸化カリウム，水酸
化カリウム水溶液，炭酸ナトリウム，炭酸ナトリウム水
溶液，炭酸カリウム，炭酸カリウム水溶液，炭酸水素ナ
トリウム，炭酸水素ナトリウム水溶液，炭酸水素カリウ
ム，炭酸水素カリウム水溶液，酢酸ナトリウム，酢酸ナ
トリウム水溶液，酢酸カリウム，酢酸カリウム水溶液，
ナトリウムメトキシド，ナトリウムメトキシド水溶液，
ナトリウムメトキシドメタノール溶液，ナトリウムエト
キシド，ナトリウムエトキシド水溶液，ナトリウムエト
キシドエタノール溶液，トリエチルアミン，ジメチルア
ニリン，ピリジン等が挙げられる。
塩基を使用する。使用できる塩基は例えば水酸化ナトリ
ウム，水酸化ナトリウム水溶液，水酸化カリウム，水酸
化カリウム水溶液，炭酸ナトリウム，炭酸ナトリウム水
溶液，炭酸カリウム，炭酸カリウム水溶液，炭酸水素ナ
トリウム，炭酸水素ナトリウム水溶液，炭酸水素カリウ
ム，炭酸水素カリウム水溶液，酢酸ナトリウム，酢酸ナ
トリウム水溶液，酢酸カリウム，酢酸カリウム水溶液，
ナトリウムメトキシド，ナトリウムメトキシド水溶液，
ナトリウムメトキシドメタノール溶液，ナトリウムエト
キシド，ナトリウムエトキシド水溶液，ナトリウムエト
キシドエタノール溶液，トリエチルアミン，ジメチルア
ニリン，ピリジン等が挙げられる。
【００１５】本発明において、塩基は一般式〔I〕で表
される化合物１モル当たり0.1〜３モルの範囲で使用さ
れ、好ましくは0.3〜１モルの範囲である。
される化合物１モル当たり0.1〜３モルの範囲で使用さ
れ、好ましくは0.3〜１モルの範囲である。
【００１６】本発明の製造方法において、触媒を使用し
ても、使用しなくてもよい。本発明に使用し得る触媒と
しては、例えばタングステン酸ナトリウム，モリブデン
酸ナトリウム等が挙げられる。触媒の使用量は一般式
〔I〕で表される化合物１モル当たり10-3〜10-1モルの
範囲であることが必要で、好ましくは３×10-3〜５×10
-2モルの範囲である。
ても、使用しなくてもよい。本発明に使用し得る触媒と
しては、例えばタングステン酸ナトリウム，モリブデン
酸ナトリウム等が挙げられる。触媒の使用量は一般式
〔I〕で表される化合物１モル当たり10-3〜10-1モルの
範囲であることが必要で、好ましくは３×10-3〜５×10
-2モルの範囲である。
【００１７】以下に本発明の製造方法により製造される
一般式〔II〕で表される例示化合物を示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。
一般式〔II〕で表される例示化合物を示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。
【００１８】
【化３】
【００１９】
【化４】
【００２０】
【化５】
【００２１】
【化６】
【００２２】
【化７】
【００２３】
【実施例】以下に本発明の具体的実施例を記載するが本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
【００２４】（実施例１）例示化合物II−20の合成 下記化合物Ｉ−ａ 80.0ｇ（242.5mmol）に、エタノール
240cc、水酸化ナトリウム4.85ｇ（121.3mmol）が溶解し
ている水溶液80cc、タングステン酸ナトリウム・２水和
物2.4ｇ（7.3mmol）を加えて加熱還流させ、そこに過酸
化水素水（31％）79.8ｇ（727.5mmol）を滴下した。こ
の際発泡はそれほど激しくない。滴下後１時間加熱還流
して反応させ、その後室温まで冷却した。そして撹拌下
濃度酸（12Ｎ）12.1cc、酢酸エチル160cc、食塩16ｇを
加えて水層を除去した。次に酢酸エチル層を５％亜硫酸
水素ナトリウム水溶液100ccで洗い、その後10％の食塩
水200ccで５回洗った。
240cc、水酸化ナトリウム4.85ｇ（121.3mmol）が溶解し
ている水溶液80cc、タングステン酸ナトリウム・２水和
物2.4ｇ（7.3mmol）を加えて加熱還流させ、そこに過酸
化水素水（31％）79.8ｇ（727.5mmol）を滴下した。こ
の際発泡はそれほど激しくない。滴下後１時間加熱還流
して反応させ、その後室温まで冷却した。そして撹拌下
濃度酸（12Ｎ）12.1cc、酢酸エチル160cc、食塩16ｇを
加えて水層を除去した。次に酢酸エチル層を５％亜硫酸
水素ナトリウム水溶液100ccで洗い、その後10％の食塩
水200ccで５回洗った。
【００２５】酢酸エチル層に無水硫酸マグネシウム24ｇ
を加えて室温で５分撹拌し、その後濾過した。次に酢酸
エチル層を減圧下で濃縮し、化合物II−20を84.5ｇ（23
3.4mmol）得た。
を加えて室温で５分撹拌し、その後濾過した。次に酢酸
エチル層を減圧下で濃縮し、化合物II−20を84.5ｇ（23
3.4mmol）得た。
【００２６】収率96.2％、純度98.0％であった。
【００２７】尚、純度測定は以下の様にして行った。即
ちシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したの
ち、ガスクロマトグラフィーでメチルエステル誘導体に
して測定した結果、単純面積比で100％であった化合物I
I−20を標品とした。その標品500mgをメタノール500cc
に溶解させ、その溶液を高速液体クロマトグラフィーで
測定し、得られたメインピークの面積を100％とした。
ちシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製したの
ち、ガスクロマトグラフィーでメチルエステル誘導体に
して測定した結果、単純面積比で100％であった化合物I
I−20を標品とした。その標品500mgをメタノール500cc
に溶解させ、その溶液を高速液体クロマトグラフィーで
測定し、得られたメインピークの面積を100％とした。
【００２８】同様に合成品500mgをメタノール500ccに溶
解させ、その溶液を高速液体クロマトグラフィーで測定
し、得られたメインピークの面積を標品に対して何％で
あるか求めてそれを純度とした。尚、検出波長は210nm
で測定した。
解させ、その溶液を高速液体クロマトグラフィーで測定
し、得られたメインピークの面積を標品に対して何％で
あるか求めてそれを純度とした。尚、検出波長は210nm
で測定した。
【００２９】尚、化合物の構造は、ＮＭＲ，ＩＲ，マス
スペクトルによって確認した。
スペクトルによって確認した。
【００３０】
【化８】
【００３１】（実施例２）尚、実施例１の合成法におい
て、水酸化ナトリウム水溶液（即ち塩基）を加えない方
法で、水、エタノール、水とエタノールの混合溶液を反
応溶媒として化合物II−20を合成した。その結果を表１
に示す。
て、水酸化ナトリウム水溶液（即ち塩基）を加えない方
法で、水、エタノール、水とエタノールの混合溶液を反
応溶媒として化合物II−20を合成した。その結果を表１
に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】上記結果を実施例１と比較すれば本発明が
優れている〔収率，純度，作業性（発泡の少なさ）等〕
ことは明らかである。
優れている〔収率，純度，作業性（発泡の少なさ）等〕
ことは明らかである。
【００３４】（実施例３）例示化合物II−14の合成 下記化合物Ｉ−ｂ 144.0ｇ（500.0mmol）、i-ブタノー
ル550cc、SM−28（CH3ONaの28％メタノール溶液）48.2
ｇ（250.0mmol）、水355cc、タングステン酸ナトリウム
・２水和物495mg（1.5mmol）を加熱還流させ、そこに過
酸化水素水（31％）148.1ｇ（1350mmol）を滴下した。
この際発泡はそれ程激しくない。滴下後４時間加熱還流
で反応させ、その後冷却し、86℃になったら濃塩酸（12
Ｎ）20.8ccを滴下し、さらに15℃まで冷却した。
ル550cc、SM−28（CH3ONaの28％メタノール溶液）48.2
ｇ（250.0mmol）、水355cc、タングステン酸ナトリウム
・２水和物495mg（1.5mmol）を加熱還流させ、そこに過
酸化水素水（31％）148.1ｇ（1350mmol）を滴下した。
この際発泡はそれ程激しくない。滴下後４時間加熱還流
で反応させ、その後冷却し、86℃になったら濃塩酸（12
Ｎ）20.8ccを滴下し、さらに15℃まで冷却した。
【００３５】析出物を濾過し、残渣を水200cc、アセト
ン240ccで洗浄し、化合物II−14を145.6ｇ（455.0mmo
l）得た。
ン240ccで洗浄し、化合物II−14を145.6ｇ（455.0mmo
l）得た。
【００３６】収率91.0％、純度98.9％であった。
【００３７】尚純度測定は得られた化合物II−14をトリ
メチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液でメチルエス
テル誘導体にしてガスクロマトグラフィーで測定し、単
純面積比を純度とした。
メチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液でメチルエス
テル誘導体にしてガスクロマトグラフィーで測定し、単
純面積比を純度とした。
【００３８】尚、化合物の構造は、ＮＭＲ，ＩＲ，マス
スペクトルによって確認した。
スペクトルによって確認した。
【００３９】Ｉ−ｂ C12H25SC3H6COOH （実施例４）尚、実施例３の合成法において、SM−28
〔（CH3ONaの28％メタノール溶液）即ち塩基〕を加えな
い方法で水、i-ブタノール、水，i-ブタノールおよびメ
タノールの混合溶液を反応溶媒として化合物II−14を合
成した。その結果を表２に示す。
〔（CH3ONaの28％メタノール溶液）即ち塩基〕を加えな
い方法で水、i-ブタノール、水，i-ブタノールおよびメ
タノールの混合溶液を反応溶媒として化合物II−14を合
成した。その結果を表２に示す。
【００４０】
【表２】
【００４１】上記結果を実施例３と比較すれば本発明が
優れている〔収率，純度，作業性（発泡の少なさ）等〕
ことは明らかである。
優れている〔収率，純度，作業性（発泡の少なさ）等〕
ことは明らかである。
【００４２】尚、一般式〔II〕で表される他の例示化合
物も同様にして合成することができる。
物も同様にして合成することができる。
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば製造上、作業環境上問題
なく、反応中エステル化進行が殆どなく、高純度の一般
式〔II〕で表される化合物（スルホニル基を含有するカ
ルボン酸）を高収率で製造する方法を提供することがで
きる。
なく、反応中エステル化進行が殆どなく、高純度の一般
式〔II〕で表される化合物（スルホニル基を含有するカ
ルボン酸）を高収率で製造する方法を提供することがで
きる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−239015（ＪＰ，Ａ) 特公 昭52−18184（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭42−27650（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 317/44 C07C 315/02 C07C 323/54 C07C 323/62
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式〔I〕で表される化合物を、
アルコール系溶媒中で塩基を加えて過酸化水素水により
酸化して、下記一般式〔II〕で表される化合物を製造す
る方法。 【化１】 〔一般式〔I〕，〔II〕中、Ｒはアルキル基又はアリー
ル基を表し、Ｌはアルキレン基を表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26751593A JP3230170B2 (ja) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | スルホニル基を含有するカルボン酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26751593A JP3230170B2 (ja) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | スルホニル基を含有するカルボン酸の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07118224A JPH07118224A (ja) | 1995-05-09 |
| JP3230170B2 true JP3230170B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=17445917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26751593A Expired - Fee Related JP3230170B2 (ja) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | スルホニル基を含有するカルボン酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3230170B2 (ja) |
-
1993
- 1993-10-26 JP JP26751593A patent/JP3230170B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07118224A (ja) | 1995-05-09 |
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