JP3228516B2 - ナフトール誘導体およびその製法 - Google Patents

ナフトール誘導体およびその製法

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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は染料、顔料、感光材料等の合成用原料等とし
て用いることのできる新規なナフトール誘導体およびそ
の製法に関する。
背景技術 ナフトール誘導体は共役ポリエン系を形成し、電子帯
に吸収を有する縮合芳香族化合物の中でも最も安価であ
り、合成用原料としても利用し易いもので、種々の特徴
ある化合物、特に染料、顔料、感光材料等の原料として
用いられてきた。
このようなナフトール誘導体として２−ヒドロキシナ
フタレンの３位または６位置換基を導入した２−ヒドロ
キシ−３−フェニルアミノカルボニルナフタレンおよび
２−ヒドロキシ−６−フェニルアミノカルボニルナフタ
レンン、更にこれらのフェニル基にアルキル基、アルコ
キシ基がついたものが知られている。
しかし、２−ヒドロキシナフタレンの３および６位に
ともに置換基を有するナフタレン誘導体としては２−ヒ
ドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタレンが
知られているにすぎない。
本発明の目的は合成用原料として有用な新規3,6−ジ
置換−２−ヒドロキシナフタレン、特に２−ヒドロキシ
−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタレンの誘導体お
よびその合成方法を提供することにある。
発明の開示 本発明は一般式（Ｉ） 〔式中、Ｙは−（CONH）ｎ−Ｘまたは−COR; Ｙ′は−（CONH）ｎ−Ｘ′または−COR′； ＸおよびＸ′は同じであっても異なっていてもよいフ
ェニル基、ナフチル基、アントラキノニル基、ベンズイ
ミダゾロニル基またはカルバゾリル基であり、いずれも
置換基を有してもよい； ＲおよびＲ′は、同じであっても異なっていてもよい
水酸基、炭素原子数が１〜６の分岐を有していてもよい
アルコキシ基、ハロゲン原子、ベンジルオキシ基、フェ
ニルオキシ基またはフェナシルオキシ基； R2は水素原子、アルカリ金属、炭素原子数が１〜６の
分岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数が１〜６の
アシル基またはフェニルアルキレン基； Ｚは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基
またはアミノ基からなる群から選ばれる１種または２種
以上の基（Ｚはナフタレン環のどちらの環に置換しても
よい）； ｎは１または２の整数を示す、 ただし、ＲとＲ′が同時に水酸基のときは、R2とＺは
共に水素原子ではない〕 で表されるナフトール誘導体およびその製法に関する。
特に、本発明は、（Ｉ）に於いてＹおよびＹ′の一方
が−（CONH）ｎ−Ｘであり、他方が−（CONH）ｎ−Ｘま
たはCOR〔式中、Ｘ、ｎおよびＲは前記と同意義〕であ
る一般式（IV）または（IV′） または で表されるナフトール誘導体に関する。
更に、特に本発明は、（Ｉ）に於いてＹおよびＹ′が
それぞれCORおよびCOR′〔式中、ＲおよびＲ′は、前記
と同意義；ただし、ＲとＲ′が同時に水酸基のときは、
R2とＺは共に水素原子ではない〕である一般式（Ｖ） で表されるナフトール誘導体に関する。
本発明のナフトール誘導体（Ｉ）は新規なナフトール
誘導体化合物である。
本発明のナフトール誘導体（IV）および（IV′）は新
規化合物であり、２−ヒドロキシナフタレンの３位およ
び／または６位にアミノカルボニル基または−CONHCONH
−基を介していずれも置換基を有していてもよいフェニ
ル基、ナフチル基、アントラキノニル基、ベンズイミダ
ゾロニル基またはカルバゾリル基を付加した化合物であ
る。アミノカルボニル基または−CONHCONH−基を介して
付加するこれらの残基は３位と６位で同じものであって
も異なっていてもよい。また連結基であるアミノカルボ
ニル基または−CONHCONH−基も３位と６位で同じもので
あっても異なっていてもよい。また本発明のナフトール
誘導体は３位または６位の一方がヒドロキシカルボニル
基、炭素原子数が１〜６の分岐を有していてもよいアル
コキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、フ
ェニルオキシカルボニル基またはフェナシルオキシカル
ボニル基であってもよい。また２位の水酸基の水素原子
はアルカリ金属原子、炭素原子数１〜６の分岐を有して
もよいアルキル基、炭素原子数が１〜６のアシル基また
はフェニル置換アルキレン基で置換されていてもよい。
またナフタレン環にはハロゲン原子、ニトロ基、ニトロ
ソ基またはアミノ基の群から選ばれる１種または２種以
上が導入されていてもよい。
Ｘがフェニル、ナフチル、アントラキノニル、ベンズ
イミダゾロニルまたはカルバゾリル基の置換体である場
合、置換基は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化
アルキル基、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基、
ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、
ベンゾイルアミノ基、ジアルキルアミノスルホニル基ま
たはシアノ基であり、アルキル基は炭素原子数が１〜６
である分岐を有していてもよい飽和または不飽和のアル
キル基であり、好ましくはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチルであり、アルコキシ
基は炭素原子数が１〜６である分岐を有していてもよい
飽和または不飽和のアルコキシ基であり、好ましくはメ
トキシ基またはエトキシ基である。ハロゲン原子はフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素である。また置換基の数は１〜
５であり、置換基の種類は同一でも、異なっていてもよ
い。
本発明のナフトール誘導体（Ｖ）もまた新規化合物で
あり、２−ヒドロキシナフタレンの３位および６位にカ
ルボニル基を介して水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数
が１〜６の分岐を有していてもよいアルコキシ基、ベン
ジルオキシ基、フェニルオキシ基またはフェナシルオキ
シ基を付加した化合物である。３位および６位の置換基
は同じであっても異なっていてもよい。また２位の水酸
基の水素原子はアルカリ金属原子、炭素原子数１〜６の
分岐を有していてもよいアルキル基、炭素原子数が１〜
６のアシル基またはフェニル置換アルキレン基で置換さ
れていてもよい。またナフタレン環にはハロゲン原子、
ニトロ基、ニトロソ基またはアミノ基の群から選ばれる
１種または２種以上が導入されていてもよい。
本発明の上記ナフトール誘導体（IV）または（IV′）
は、一般式（II） 〔式中、R4およびR4′は、いずれか一方が水酸基または
ハロゲン原子で、他方が水酸基、ハロゲン原子または炭
素原子数が１〜６の分岐を有していてもよいアルコキシ
基、ベンジルオキシ基、フェニルオキシ基またはフェナ
シルオキシ基； R5は水素原子または水酸基の保護基； Ｚは前記と同意義〕 で表されるナフトール誘導体と 一般式（III） H2N−R3−Ｘ （III） 〔式中、R3は単結合または−CONH−を示す。ただし、Ｘ
は前記と同意義〕で表されるアニリン化合物とを縮合反
応することにより製造することができる。
式（II）の化合物におけるR5は水素原子、アルカリ金
属原子または水酸基の保護基を示し、水酸基の保護基と
は他の置換位置に置換基を導入する反応中、水酸基を保
護するために一時的に水酸基に結合し、所望の反応が終
了後、例えばアルカリや酸加水分解等により水酸基を容
易に回復することができる基を意味し、例えば炭素原子
数が１〜６の分岐を有していてもよいアルキル基、ベン
ジル基、アセチル基、アセトニル基、テトラヒドロピラ
ニル基、トリメチルシリル基等である。
式（III）の化合物におけるR3が−CONH−であるフェ
ニルウレア誘導体は、該当するアニリン化合物にシアン
酸を作用させるシアネート法によりウレイド基を形成し
て得ることができる。
より詳しく説明すると、反応式（VI） 〔式中、Ａは水素または適宜の置換基〕 に示すように、例えばアニリン化合物を酢酸水溶液に溶
解し、15℃でシアン酸カリ水溶液を30分間かけて滴下
し、滴下終了後30℃まで昇温し、30分間反応後、析出し
てくる結晶を濾過し、水洗して得ることができる。
化合物（II）と（III）との反応は、例えばキシレン
溶媒中に２−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロカルボニルナ
フタレンおよびアニリン化合物を仕込み、90〜100℃でP
Cl3を滴下して行うことができる。その後140℃に昇温し
て３時間反応し、反応後、加水、中和し、反応により生
成してくる結晶を濾過し、濾紙上の結晶を有機溶媒（例
えば、キシレン）で洗浄して化合物（IV）または（I
V′）が得られる。
R2に水素原子以外の置換基を導入するには、例えば、
２−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフタ
レンの該当する3,6−誘導体を、３位および６位が保護
された状態で、導入しようとする残基のハロゲン化物例
えばベンジルクロライド、ヨウ化エチル等を適当な塩基
性物質、例えば炭酸カリウムの存在下で反応させればよ
い。
また例えば１位にハロゲンを導入するには、１位未置
換の該当する化合物の溶液に、ハロゲン分子、例えば臭
素をクロロホルム等に溶かして添加すればよい。ニトロ
ソ基を導入するには、該当する１位未置換化合物の溶液
に亜硝酸ナトリウムの水溶液を反応させればよい。
本発明のナフトール誘導体（Ｖ）は、例えば一般式
（VII） で表される公知の２−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシ
カルボニルナフタレンまたはその１位および／または２
位置換体を出発物質としてこれを塩基の存在で有機ハロ
ゲン化物と反応させることにより、または一般式（VI
I）を塩素化した酸クロル体である一般式（VIII） の化合物を例えば炭素原子数が１〜６の低級アルコール
などのアルコール類と反応させることにより調製するこ
とができる。
図面の簡単な説明 図１は実施例１で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図２は実施例２で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図３は実施例３で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図４は実施例４で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図５は実施例５で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図６は実施例６で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図７は実施例７で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図８は実施例８で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図９は実施例９で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図10は実施例10で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図11は実施例11で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図12は実施例12で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図13は実施例13で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図14は実施例14で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図15は実施例15で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図16は実施例16で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図17は実施例17で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図18は実施例18で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図19は実施例19で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図20は実施例20で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図21は実施例21で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図22は実施例22で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図23は実施例23で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図24は実施例24で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図25は実施例25で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図26は実施例26で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図27は実施例27で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図28は実施例28で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図29は実施例29で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図30は実施例30で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図31は実施例31で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図32は実施例32で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図33は実施例33で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図34は実施例34で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図35は実施例35で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
図36は実施例36で得られた化合物の赤外線吸収スペル
トル。
発明の態様 以下に実施例により、より具体的に本発明を説明す
る。
実施例 1:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−２−クロロフェニ
ルアミノカルボニルナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフ
タレン11.6gおよびｏ−クロロアニリン14.0gをキシレン
232.2gに分散し、90℃まで昇温する。90〜110℃で三塩
化リン6.0gを滴下し、その後140℃で３時間反応する。
反応後、水116.1gを加え、80〜90℃にて炭酸ナトリウム
で中和する。その後、室温で濾過し、キシレン116.1gお
よび水116.1gで順次洗浄する。得られた結晶をアセトン
80gを用いてリフラックス洗浄および濾過を行う。この
操作を３回繰り返した後乾燥して、灰白色粉末結晶であ
る２−ヒドロキシ−3,6−ジ−２−クロロフェニルアミ
ノカルボニルナフタレン14.0g（融点267〜269℃）を得
た。
この赤外線吸収スペクトル（KBR法）を図１に示す。
実施例 2:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−フェニルアミノカ
ルボニルナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフ
タレン4.64gおよびアニリン4.10gをキシレン92.8gに分
散し、90℃まで昇温する。90〜100℃で三塩化リン2.4g
を滴下し、その後140℃で３時間反応する。反応後、水9
2.8gを加え、90℃にて炭酸ナトリウムで中和する。その
後、室温で濾過し、キシレン46.4gおよび水46.4gで順次
洗浄する。得られた結晶をアセトン80gを用いてリフラ
ックス洗浄および濾過を行う。この操作を３回繰り返し
た後乾燥して、白色粉末結晶である２−ヒドロキシ−3,
6−ジフェニルアミノカルボニルナフタレン3.5g（融点3
14〜317℃）を得た。
この赤外線吸収スペクトル（KBR法）を図２に示す。
実施例 3:2−ヒドロキシ−3,6−ビス（2,4−ジメチル
フェニルアミノカルボニル）ナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフ
タレン11.6gおよびｍ−キシリジン13.3gをキシレン232.
2gに分散し、90℃まで昇温する。90〜100℃で三塩化リ
ン6.0gを滴下し、その後140℃で３時間反応する。反応
後、水116.1gを加え、80〜90℃にて炭酸ナトリウムで中
和する。その後、室温で濾過し、キシレン116.1gおよび
水116.1gで順次洗浄する。得られた結晶をアセトン80g
を用いてリフラックス洗浄および濾過を行う。この操作
を３回繰り返した後乾燥して、白色粉末結晶である２−
ヒドロキシ−3,6−ビス（2,4−ジメチルフェニルアミノ
カルボニル）ナフタレン12.0g（融点284.5〜286℃）を
得た。
この赤外線吸収スペルトル（KBR法）を図３に示す。
実施例 4:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−２−メチルフェニ
ルアミノカルボニルナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキシカルボニルナフ
タレン11.6gおよびｏ−トレイジン12.0gをキシレン232.
2gに分散し、90℃まで昇温する。90〜110℃で三塩化リ
ン6.0gを滴下し、その後140℃で３時間反応する。反応
後、水116.1gを加え、80〜90℃にて炭酸ナトリウムで中
和する。その後、室温で濾過し、キシレン116.1gおよび
水116.1gで順次洗浄する。得られた結晶をアセトン80g
を用いてリフラックス洗浄および濾過を行う。この操作
を３回繰り返した後乾燥して、白色粉末結晶である２−
ヒドロキシ−3,6−ジ−２−メチルフェニルアミノカル
ボニルナフタレン7.8g（融点264.5〜268℃）を得た。
この赤外線吸収スペルトル（KBR法）を図４に示す。
実施例 5:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−２−メトキシフェ
ニルアミノカルボニルナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジカルボニルナフタレン11.6g
およびｏ−アニシジン13.5gをキシレン232.2gに分散
し、90℃まで昇温する。90〜110℃で三塩化リン6.0gを
滴下し、その後140℃で３時間反応する。反応後、水11
6.1gを加え、80〜90℃にて炭酸ナトリウムで中和する。
その後、室温で濾過し、キシレン116.1gおよび水116.1g
で順次洗浄する。得られた結晶をアセトン80gを用いて
リフラックス洗浄および濾過を行う。この操作を３回繰
り返した後乾燥して、白色粉末結晶である２−ヒドロキ
シ−3,6−ジ−２−メトキシフェニルアミノカルボニル
ナフタレン5.8g（融点206〜210℃）を得た。
この赤外線吸収スペルトル（KBR法）を図５に示す。
実施例 6:2−ヒドロキシ−3,6−ジクロルカルボニルナ
フタレンの合成 キシレン410g中に２−ヒドロキシ−3,6−ジヒドロキ
シカルボニルナフタレン24.0gとジメチルホルムアミド
0.08gを加えた後、20℃にて塩化チオニル66.2gを60分で
滴下する。その後70℃に昇温し、21時間反応する。次い
で、キシレンおよび過剰の塩化チオニルを減圧留去して
酸クロル体28.6gを得た。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図６に示す。
実施例 7:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−２−クロロフェニ
ルウレイドカルボニルナフタレンの合成 （１）ｏ−クロロフェニル尿素の合成 水400gおよび酢酸200g中にｏ−クロルアニリン50gを
加え、15℃に冷却する。次にシアン酸カリ63.6gと水300
gの溶液を15℃以下40分で滴下する。その後30℃まで昇
温し、濾過、冷水洗浄して白色結晶を得る。この結晶を
エタノール350gおよび水100gの溶液で再結晶を行い、白
色針状結晶であるｏ−クロロフェニル尿素47.1gを得
た。
（２）２−ヒドロキシ−3,6−ジ−２−クロロフェニル
ウレイドカルボニルナフタレンの合成 実施例６の方法にしたがって調製した酸クロル体、す
なわち２−ヒドロキシ−3,6−ジクロロカルボニルナフ
タレン5.9gを上記で得たｏ−クロロフェニル尿素7.5gと
トルエン150gの懸濁液に20℃で徐々に添加する。次いで
ピリジン3.5gを加えた後、90℃に昇温して16時間反応す
る。その後、15℃まで冷却し、濾過する。得られた生成
物をアセトン100gで５時間リフラックス洗浄を行った
後、濾過、乾燥して淡黄色粉末結晶である２−ヒドロキ
シ−3,6−ジ−２−クロロフェニルウレイドカルボニル
ナフタレン8.8g（融点213.2〜222.4℃）を得た。
この赤外線吸収スペクトル（KBR法）を第７図に示
す。
実施例 8:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−４−フェノキシフ
ェニルアミノカルボニルナフタレンの合成 ４−アミノジフェニルエーテル11.2g、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン75.5g、トルエン30.2gの溶液に実施例６
で得られた酸クロル体5.5gを徐々に添加した後、90℃に
昇温し25時間反応する。その後25℃まで冷却し、濾過後
トルエンを減圧留去する。次いでメタノール158.1gを添
加し結晶を析出させ、濾過する。得られた生成物をメタ
ノール200.0gで１時間リフラックス洗浄を行った後濾
過、乾燥してペールベージュ色粉末結晶である２−ヒド
ロキシ−3,6−ジ−４−フェノキシフェニルアミノカル
ボニルナフタレン9.2gを得た（DSC分析値:314.8℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図８に示す。
実施例 9:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−アントラキノン−
２−イル−アミノカルボニルナフタレンの合成 ２−アミノアントラキノン14.5g、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン145.6g、トルエン40.0gを60℃に加熱し溶解
し、実施例６で得られた酸クロル体5.5gを徐々に添加
し、実施例８に従ってアミド化反応を行う。その後25℃
まで冷却し、濾過後トルエンを減圧留去する。次いで、
メタノール244.3gで晶析する。得られた生成物をアセト
ン320.2gで１時間リフラックス洗浄、濾過、乾燥し、オ
リーブ色粉末結晶である２−ヒドロキシ−3,6−ジ−ア
ントラキノン−２−イル−アミノカルボニルナフタレン
11.0gを得た（DSC分析値367.2℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図９に示す。
実施例 10:2−ヒドロキシ−3,6−ビス（2,5−ジメトキ
シ−４−ベンゾイルアミノフェニル−アミノカルボニ
ル）ナフタレンの合成 2,5−ジメトキシ−４−ベンゾイルアミノアニリン16.
6g、Ｎ−メチル−２−ピロリドン111.2g、トルエン30.1
gを室温で溶解し、実施例６で得られた酸クロル体5.5g
を徐々に添加し、実施例８に従ってアミド化反応を行
う。その後25℃まで冷却し、濾過後トルエンを減圧留去
する。次いで、メタノール377.2gで晶析する。得られた
生成物をメタノール250.0gで１時間リフラックス洗浄、
濾過、乾燥し、ダルイエロー色粉末結晶である２−ヒド
ロキシ−3,6−ビス（2,5−ジメトキシ−４−ベンゾイル
アミノフェニル−アミノカルボニル）ナフタレン12.4g
を得た（DSC分析値:327.4℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図10に示す。
実施例 11:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−２−メトキシカ
ルボニルフェニル−アミノカルボニルナフタレンの合成 ２−アミノ安息香酸メチル9.3g、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン169.8g、トルエン136.0gを室温で溶解し、実施
例６で得られた酸クロル体5.5gを徐々に添加し、90℃で
22時間アミド化反応を行う。その後25℃まで冷却し、濾
過後トルエンを減圧留去する。次いで、メタノール226.
7gで晶析させる。得られた生成物をメタノール199.4gで
１時間リフラックス洗浄、濾過、乾燥し、ライトイエロ
ー色粉末結晶である２−ヒドロキシ−3,6−ジ−２−メ
トキシカルボニルフェニル−アミノカルボニルナフタレ
ン8.0gを得た（DSC分析値:239.6℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図11に示す。
実施例 12:2−ヒドロキシ−3,6−ビス（２−メトキシ
−５−ジエチルアミノスルフォニルフェニル−アミノカ
ルボニル）ナフタレンの合成 ３−アミノ−４−メトキシジエチルアミノスルフォニ
ルベンゼン15.6g、Ｎ−メチル−２−ピロリドン86.1g、
トルエン34.3gを室温で溶解し、実施例６で得られた酸
クロル体5.4gを徐々に添加し、90℃で24時間アミド化反
応を行う。その後25℃まで冷却し、濾過後トルエンを減
圧留去する。次いで、メタノール350.1gで晶析する。得
られた生成物を濾過、乾燥し、クリーム色粉末結晶であ
る２−ヒドロキシ−3,6−ビス（２−メトキシ−５−ジ
エチルアミノスルフォニルフェニル−アミノカルボニ
ル）ナフタレン8.9gを得た（DSC分析値:245.0℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図12に示す。
実施例 13:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−ベンズイミダゾ
ロン−５−イル−アミノカルボニルナフタレンの合成 ５−アミノベンズイミダゾロン13.5g、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン99.0g、トルエン44.8gの溶液に、実施例
６で得られた酸クロル体8.1gを徐々に添加し、90℃で29
時間アミド化反応を行なう。その後、25℃まで冷却し、
濾過、メタノール洗浄する。得られた結晶を120℃でＮ
−メチル−２−ピロリドン441.9gに溶解し、カルボラフ
ィン2.1gを添加し、120℃１時間カーボン処理を行う。
カーボン濾過後冷却し、メタノール146.4gで晶析する。
得られた生成物を濾過、乾燥し、黄緑色粉末結晶である
２−ヒドロキシ−3,6−ジ−ベンズイミダゾロン−５−
イル−アミノカルボニルナフタレン11.8gを得た（DSC分
析値:421.4℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図13に示す。
実施例 14:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−３−ニトロフェ
ニルアミノカルボニルナフタレンの合成 ｍ−ニトロアニリン8.38g、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン65.5g、トルエン30.3gを室温で溶解し、実施例６で
得られた酸クロル体5.5gを徐々に添加し、90℃で24時間
アミド化反応を行なう。その後、25℃まで冷却し、濾過
後トルエンを減圧留去する。次いで、メタノール197.3g
で晶析し、濾過、乾燥する。得られた生成物をメタノー
ル263.4gで１時間リフラックス洗浄、濾過、乾燥し、ク
リーム色粉末結晶である２−ヒドロキシ−3,6−ジ−３
−ニトロフェニルアミノカルボニルナフタレン7.8gを得
た（DSC分析値:342.9℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図14に示す。
実施例 15:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−９−エチルカル
バゾール−３−イル−アミノカルボニルナフタレンの合
成 ３−アミノ−９−エチルカルバゾール12.8g、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン65.6g、トルエン30.4gを室温で溶
解し、実施例６で得られた酸クロル体4.1gを徐々に添加
し、90℃で23時間アミド化反応を行う。その後、25℃ま
で冷却し、濾過トルエンを減圧留去する。次いで、メタ
ノール422.9gで晶析後、濾過し、得られた結晶をメタノ
ール200.5gで１時間リフラックス洗浄、濾過、乾燥す
る。得られた生成物を120℃でＮ−メチル−２−ピロリ
ドン90.4gに溶かし、カルボラフィン1.0gを添加し、120
℃、１時間カーボン処理を行う。カーボン濾過後冷却
し、メタノール301.8gで晶析した後、濾過、乾燥し、グ
レイッシュイエローグリーン色粉末結晶である２−ヒド
ロキシ−3,6−ジ−９−エチルカルバゾール−３−イル
−アミノカルボニルナフタレン3.7gを得た（TG分解点:4
17.2℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図15に示す。
実施例 16:2−ヒドロキシ−3,6−ビス（３−トリフル
オロメチルフェニル−アミノカルボニル）ナフタレンの
合成 ３−アミノトリフルオロメチルベンゼン9.7g、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン65.2g、トルエン30.0gを室温で溶
解し、実施例６で得られた酸クロル体5.5gを徐々に添加
し、90℃で24時間アミド化反応を行う。反応液を減圧乾
燥した後、メチルエチルケトン317.4gに溶解し、８％塩
酸水167.1gで３回洗浄する。次いで、水418.2gで晶析さ
せ、濾過、乾燥後、生成物を120℃でＮ−メチル−２−
ピロリドン56.8gに溶かし、カルボラフィン0.8gを添加
し、120℃、１時間カーボン処理を行う。カーボン濾過
後冷却し、水164.6gで晶析、濾過する。得られた生成物
を酢酸エチル202.1gに溶解後、キシレン123.6gを添加し
濃縮、冷却し、晶析させる。得られた生成物を濾過、乾
燥し、ペールベージュ色粉末結晶である２−ヒドロキシ
−3,6−ビス（３−トリフルオロメチルフェニルアミノ
カルボニル）ナフタレン4.9gを得た（TG分解点:256.4
℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図16に示す。
実施例 17:2−ヒドロキシ−3,6−ジ−１−ナフチルア
ミノカルボニルナフタレンの合成 １−ナフチルアミン8.6g、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン60.0g、トルエン30.0gを室温で溶解し、実施例６で得
られた酸クロル体5.5gを徐々に添加し、90℃で20時間ア
ミド化反応を行う。その後25℃まで冷却し、濾過後トル
エンを減圧留去する。次いで、メタノール209.6gで晶
析、リフラックス洗浄する。その後濾過、乾燥し、得ら
れた生成物を120℃でＮ−メチル−２−ピロリドン57.9g
に溶解し、カルボラフィン3.0gを添加し、120℃、１時
間カーボン処理を行う。カーボン濾過後濃縮し、メタノ
ール51.7gで晶析後、濾過、乾燥し、灰オリーブ色粉末
結晶である２−ヒドロキシ−3,6−ジ−１−ナフチルア
ミノカルボニルナフタレン5.5gを得た（DSC分析値:292.
1℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図17に示す。
実施例 18:2−ヒドロキシ−3,6−ビス（ペンタフルオ
ロフェニル−アミノカルボニル）ナフタレンの合成 ペンタフルオロアニリン9.1g、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン60.1g、トルエン30.0gを室温で溶解し、実施例６
で得られた酸クロル体4.5gを徐々に添加し、実施例８に
従って50℃でアミド化反応を21時間行う。反応液を減圧
乾燥した後リフラックス温度でメタノール980.1gに溶か
し、カルボラフィン5.0gを添加し１時間カーボン処理を
行う。次いで濃縮、冷却して晶析後、濾過、乾燥し、白
色粉末結晶である２−ヒドロキシ−3,6−ビス（ペンタ
フルオロフェニル−アミノカルボニル）ナフタレン2.3g
を得た（TG分解点:305.7℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図18に示す。
実施例 19:2−ベンジルオキシ−3,6−ビス（2,5−ジメ
トキシ−４−ベンゾイルアミノ−フェニルアミノカルボ
ニル）ナフタレンの合成 実施例10で得た２−ヒドロキシ−3,6−ビス（2,5−ジ
メトキシ−４−ベンゾイルアミノ−フェニルアミノカル
ボニル）ナフタレン2.5gとN,N−ジメチルホルムアミド3
0gを混合し、窒素雰囲気下で、100℃に昇温し溶解す
る。これに炭酸カリウム0.5gを徐々に添加し、次いで塩
化ベンジル0.46gを滴下し、５時間反応する。反応後、
室温まで冷却し、濾過し、水およびメタノール洗浄し
て、緑黄色結晶である２−ベンジルオキシ−3,6−ビス
（2,5−ジメトキシ−４−ベンゾイルアミノ−フェニル
アミノカルボニル）ナフタレン2.65gを得た（DSC分析
値:282.8℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図19に示す。
実施例 20:2−エトキシ−3,6−ジ−４−フェノキシフ
ェニルアミノカルボニルナフタレンの合成 実施例８で得た２−ヒドロキシ−3,6−ジ−４−フェ
ノキシフェニルアミノカルボニルナフタレン2.83gをN,N
−ジメチルホルムアミド30gに混合し、窒素雰囲気下
で、70℃に昇温し溶解する。これに炭酸カリウム0.38g
を徐々に添加し、次いでヨウ化エチル0.87gを滴下し、1
0時間反応する。反応後、室温まで冷却し、水300g中へ
滴々注ぎ入れ、濾過し、水およびメタノール洗浄して、
灰褐色結晶である２−エトキシ−3,6−ジ−４−フェノ
キシフェニルアミノカルボニルナフタレン2.81gを得た
（DSC分析値:177.6℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図20に示す。
実施例 21:1−ブロモ−２−ヒドロキシ−3,6−ジ−３
−ニトロフェニルアミノカルボニルナフタレンの合成 実施例14で得た２−ヒドロキシ−3,6−ジ−３−ニト
ロフェニルアミノカルボニルナフタレン2.4gとクロロホ
ルム40g、ジメチルスルホキシド20gおよびＮ−メチル−
２−ピロリドン20gを混合し、溶解する。次いで、臭素
0.8gとクロロホルム10gの溶液を、５℃にて１時間かけ
て滴下する。滴下後、冷却を続け、３℃にて濾過し、水
および冷メタノールで洗浄後、真空乾燥して、白黄色結
晶である１−ブロモ−２−ヒドロキシ−3,6−ジ−３−
ニトロフェニルアミノカルボニルナフタレン2.7gを得た
（DSC分析値:325.3℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図21に示す。
実施例 22:1−ブロモ−２−ヒドロキシ−3,6−ジヒド
ロキシカルボニルナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジ−ヒドロキシカルボニルナ
フタレン11.8gを、クロロホルム300gおよびジメチルス
ルホキシド100gに溶解し、氷冷する。次に臭素8.0gとク
ロロホルム50gの溶液を、５℃以下で２時間かけて滴下
する。その後、１時間撹拌を続け、次いでこの溶液を水
1500g中に滴々移し入れ、不溶物を濾過し、水洗浄した
後、少量のメタノールに分散させ、室温で減圧濃縮、真
空乾燥し、白褐色結晶である１−ブロモ−２−ヒドロキ
シ−3,6−ジ−ヒドロキシカルボニルナフタレン15.1gを
得た（DSC分析値:145.2℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図22に示す。
実施例 23:1−ブロモ−２−ヒドロキシ−3,6−ジ−ク
ロロカルボニルナフタレンの合成 実施例22で得た１−ブロモ−２−ヒドロキシ−3,6−
ジ−ヒロキシカルボニルナフタレン3.2gをキシレン100g
に分散し、さらにN,N−ジメチルホルムアミド0.1gを添
加する。次に、塩化チオニル6.8gとキシレン30gの溶液
を約30分かけて滴下する。その後、70℃に昇温し、2.5
時間反応する。ここで不溶な未反応原料を濾過して除去
し、次いでキシレンおよび過剰の塩化チオニルを減圧留
去して酸クロル体3.5gを得た（DSC分析値:162.0℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図23に示す。
実施例 24:2−ベンジルオキシ−3,6−ジ−ベンジルオ
キシカルボニルナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジ−ヒドロキシカルボニルナ
フタレン2.4gをジメチルホルムアミド50gに溶解し、100
℃に昇温する。炭酸カリウム4.6gをゆっくり添加し、次
いで塩化ベンジル4.2gを滴下して加える。約20時間加熱
後、反応液を、水300gとメタノール100gの混合液中に注
ぎ入れる。析出物を濾過して、水洗し、白黄色粉末であ
る２−ベンジルオキシ−3,6−ジ−ベンジルオキシカル
ボニル）ナフタレン3.5gを得た（DSC分析値100.5℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図24に示す。
実施例 25:1−ニトロソ−２−ヒドロキシ−3,6−ビス
（2,4−ジメチルフェニルアミノカルボニル）ナフタレ
ンの合成 実施例３で得た２−ヒドロキシ−3,6−ビス（2,4−ジ
メチルフェニルアミノカルボニル）ナフタレン1.5gを、
酢酸7.0g、エタノール7.0gおよびＮ−メチル−２−ピロ
リドン18.0gに溶解し、０℃まで冷却する。次に亜硝酸
ナトリウム0.97gを水4.2gに溶解した液を、０〜１℃に
て滴下し、その後同温度にて２時間反応した。その後室
温で一晩撹拌し、析出した結果を濾過、少量のエタノー
ルで洗浄後50℃で真空乾燥して、着色結晶1.4gを得た。
この結晶1.4gをＮ−メチル−２−ピロリドン58.3gに加
熱溶解し、活性炭0.09gで処理後、熱濾過する。濾液を
メタノールで希釈して結晶を析出させ、濾過、メタノー
ル洗浄後乾燥して、薄茶色である１−ニトロソ−２−ヒ
ドロキシ−3,6−ビス（2,4−ジメチルフェニルアミノカ
ルボニル）ナフタレン0.58gを得た（DSC分析値:267.3
℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図25に示す。
実施例 26:2−ヒドロキシ−3,6−ジメトキシカルボニ
ルナフタレンの合成 実施例６で得られた２−ヒドロキシ−3,6−ジクロロ
カルボニルナフタレン12.0gを、メタノール600gに混合
し、２時間還流した後、活性炭1.0gを添加して熱濾過を
行う。次いで、濾液を冷却して結晶を析出させた後、濾
過、乾燥して粗結晶8.3gを得た。さらにメタノール300g
を用いて精製を行い、淡黄色結晶である２−ヒドロキシ
−3,6−ジメトキシカルボニルナフタレン4.0gを得た（D
SC分析値:163.1℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図26に示す。
実施例 27:2−ヒドロキシ−３−ヒドロキシカルボニル
−６−メトキシカルボニルナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジ−ヒドロキシカルボニルナ
フタレン11.6gを無水アセトニトリル116.0g、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン39.0gに懸濁し、ヨウ化メチル7.85g
を加え、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデ−７−セ
ン（以下DBUという）8.37gを５分間で滴下し、50℃で終
夜加温した。ヨウ化メチル2.32g、DBU2.42gを加え、さ
らに終夜撹拌した。析出している結晶を濾過し、減圧乾
燥し、２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシカルボニル−６
−メトキシカルボニルナフタレンの粗結晶7.29gを得
た。この一部1.52gを酢酸エチル30.2gと５％炭酸水素ナ
トリウム水溶液に溶解した。有機層と水層とに分離し、
有機層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液10.3gで抽出し
先の水層に合わせた。この水層に氷冷下、10％塩酸をpH
7になるまで滴下した。析出結晶を濾過し、減圧乾燥し
て、２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシカルボニル−６−
メトキシカルボニルナフタレン1.02gを得た（DSC分析
値:295.1℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図27に示す。
実施例 28:2−ヒドロキシ−３−フェニルアミノカルボ
ニル−６−メトキシカルボニルナフタレンの合成 実施例27で得た２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシカル
ボニル−６−メトキシカルボニルナフタレン0.50gをＮ
−メチル−２−ピロリドン5.00gに懸濁させ、ジシクロ
ヘキシカルボジイミド（以下DCCと言う）0.42g、アニリ
ン0.57gを加え、室温で終夜撹拌した。50℃に加温後、
さらにDCC0.18gを加え終夜撹拌した。反応溶液を減圧濃
縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで２回精製
し、２−ヒドロキシ−３−フェニルアミノカルボニル−
６−メトキシカルボニルナフタレン0.65gを得た（DSC分
析値:238.1℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図28に示す。
実施例 29:ナトリウム ３−フェニルアミノカルボニ
ル−６−メトキシカルボニル−２−ナフトエートの合成 実施例28で得た２−ヒドロキシ−３−フェニルアミノ
カルボニル−６−メトキシカルボニルナフタレン0.45g
をメタノール10.0gに懸濁し、氷冷下、1N−水酸化ナト
リウム2.8gを加えた。一度溶解し析出した黄色のナトリ
ウム ３−フェニルアミノカルボニル−６−メトキシカ
ルボニル−２−ナフトエートの結晶を濾過し、減圧乾燥
し、0.32gを得た。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図29に示す。
実施例 30:2−ヒドロキシ−３−フェニルアミノカルボ
ニル−６−ヒドロキシカルボニルナフタレンの合成 実施例29で得たナトリウム３−フェニルアミノカルボ
ニル−６−メトキシカルボニル−２−ナフトエート0.08
1gをメタノール8.10g、イオン交換蒸留水8.13gに懸濁
し、氷冷下、1N−水酸化ナトリウム4.0gを滴下し、終夜
撹拌した。反応溶液を凍結乾燥し、得られた固体を水に
溶かし、希塩酸で液を酸性にし、析出した結晶を濾過し
た。これを減圧乾燥し、２−ヒドロキシ−３−フェニル
アミノカルボニル−６−ヒドロキシカルボニルナフタレ
ン0.057gを得た。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図30に示す。
実施例 31:2−ヒドロキシ−３−フェナシルオキシカル
ボニル−６−メトキシカルボニルナフタレンの合成 無水N,N−ジメチルホルムアミド（以下、DMFという）
10.0gにフッ化カリウム0.209g、フェナシルブロミド0.6
47gを加え、25℃の油浴上で約１分間撹拌した。２−ヒ
ドロキシ−３−ヒドロキシカルボニル−６−メトキシカ
ルボニルナフタレン0.80gを無水DMF5.20gに溶かして反
応溶液に加えた。反応終了後、酢酸エチル、ジエチルエ
ーテル、５％重曹水を加えて、不溶物を濾去し、分液し
た。有機層を飽和食塩水で清浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、ろ液を減圧濃縮した。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製し、２−ヒドロキシ−３−フェナシルオキシカルボ
ニル−６−メトキシカルボニルナフタレン0.57g（DSC測
定値:177.7℃）を得た。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図31に示す。
実施例 32:2−ベンジルオキシ−3,6−ジ−メトキシカ
ルボニルナフタレンの合成 実施例26で得た２−ヒドロキシ−3,6−ジ−メトキシ
カルボニルナフタレン2.7gをN,N−ジメチルホルムアミ
ド50gに溶解し、100℃に昇温する。炭酸カリウム1.5gを
ゆっくり添加し、次いで塩化ベンジル1.4gを滴下して加
える。約20時間加熱後、反応液を、水300gとメタノール
100gの混合液中に注ぎ入れる。析出物を濾過して、水洗
し、白黄色粉末である２−ベンジルオキシ−3,6−ジ−
メトキシカルボニルナフタレン2.5gを得た（DSC分析値:
113.8℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図32に示す。
実施例 33:2−ベンジルオキシ−3,6−ジ−ヒドロキシ
カルボニルナフタレンの合成 実施例32で得た２−ベンジルオキシ−3,6−ジメトキ
シカルボニルナフタレン0.52gをＮ−メチル−２−ピロ
リドン10gに溶解し、次いでメタノール10gおよび水20g
を加え、さらに1N−水酸化ナトリウム水溶液水4.5gを添
加し、約60℃にて２時間撹拌する。反応中に生じた不溶
物を濾別した後、10％−塩酸水でpH4程度に調整し、析
出物を濾過して、水洗し、微褐色粉末である２−ベンジ
ルオキシ−3,6−ジ−ヒドロキシカルボニルナフタレン
0.41gを得た（DSC分析値:241.3℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図33に示す。
実施例 34:2−アセトキシ−3,6−ジ−メトキシカルボ
ニルナフタレンの合成 実施例26で得た２−ヒドロキシ−3,6−ジ−メトキシ
カルボニルナフタレン2.6gを、無水酢酸10.0g、酢酸12.
0g、およびN,N−ジメチルホルムアミド20.0gに懸濁さ
せ、４−ジメチルアミノピリジン0.1gを添加して、50℃
に昇温する。約６時間加熱後、反応液を、水300gとメタ
ノール100gの混合液中に注ぎ入れる。析出物を濾過し
て、水洗し、淡黄色粉末である２−アセトキシ−3,6−
ジ−メトキシカルボニルナフタレン2.55gを得た（DSC分
析値:130.6℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図34に示す。
実施例 35:2−アセトキシ−3,6−ジ−ヒドロキシカル
ボニルナフタレンの合成 ２−ヒドロキシ−3,6−ジ−ヒドロキシカルボニルナ
フタレン12.1gを、無水酢酸39.0g、酢酸60.1g、および
N,N−ジメチルホルムアミド40.0gに懸濁させ、４−ジメ
チルアミノピリジン0.2gを添加して、50℃に昇温する。
約20時間加熱後、反応液を、水400gとメタノール100gの
混合液中に注ぎ入れる。析出物を濾過して、水洗し、灰
白色粉末である２−アセトキシ−3,6−ジ−ヒドロキシ
カルボニルナフタレン11.6gを得た（DSC分析値:239.2
℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図35に示す。
実施例36 :2−ヒドロキシ−3,6−ジ−イソプロピルオ
キシカルボニル）ナフタレンの合成 実施例６で得た２−ヒドロキシ−3,6−ジクロロカル
ボニルナフタレン1.17gをイソプロピルアルコール30gと
混合し、80℃に昇温し、約30分間加熱する。不溶物を濾
過した後、減圧濃縮し、残渣をメタノールで再結晶し
て、淡黄色粉末である２−ヒドロキシ−3,6−ジ−イソ
プロピルオキシカルボニルナフタレン1.36gを得た（DSC
分析値:83.7℃）。
この赤外吸収スペクトル（KBr法）を図36に示す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 275/54 Ｃ０７Ｃ 275/54 311/46 311/46 Ｃ０７Ｄ 209/82 Ｃ０７Ｄ 209/82 235/26 235/26 Ｂ (56)参考文献 特開 平６−340583（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−340582（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式（Ｉ） 〔式中、Ｙは−（CONH）ｎ−Ｘまたは−COR; Ｙ′は−（CONH）ｎ−Ｘ′または−COR′； ＸおよびＸ′は同じであっても異なっていてもよいフェ
    ニル基、ナフチル基、アントラキノニル基、ベンズイミ
    ダゾロニル基またはカルバゾリル基であり、いずれも置
    換基を有してもよい； ＲおよびＲ′は、同じであっても異なっていてもよい水
    酸基、炭素原子数が１〜６の分岐を有してもよいアルコ
    キシ基、ハロゲン原子、ベンジルオキシ基、フェニルオ
    キシ基またはフェナシルオキシ基； R2は水素原子、アルカリ金属、炭素原子数が１〜６の分
    岐を有してもよいアルキル基、炭素原子数が１〜６のア
    シル基またはフェニルアルキレン基； Ｚは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基ま
    たはアミノ基からなる群から選ばれる１種または２種以
    上の基（Ｚはナフタレン環のどちらの環に置換していて
    もよい）； ｎは１または２の整数を示す、 ただし、ＲとＲ′が同時に水酸基の場合は、R2とＺは共
    に水素原子ではない〕 で表されるナフトール誘導体。
  2. 【請求項２】ＹおよびＹ′の一方が−（CONH）ｎ−Ｘで
    あり、他方が−（CONH）ｎ−ＸまたはCOR〔式中、Ｘ、
    ｎおよびＲは前記と同意義〕である請求項１記載のナフ
    トール誘導体。
  3. 【請求項３】ＹおよびＹ′がそれぞれCORおよびCOR′
    〔式中、ＲおよびＲ′は前記と同意義；ただし、Ｒと
    Ｒ′が同時に水酸基のときは、R2とＺは共に水素原子で
    はない〕 で表される請求項１記載のナフトール誘導体。
  4. 【請求項４】一般式（II） 〔式中、R4およびR4′は、いずれか一方が水酸基または
    ハロゲン原子で、他方が水酸基、ハロゲン原子または炭
    素原子数が１〜６の分岐を有してもよいアルコキシ基、
    ベンジルオキシ基、フェニルオキシ基またはフェナシル
    オキシ基； R5は水素原子または水酸基の保護基； Ｚは前記と同じ意味を有する〕 で表されるナフトール誘導体、と 一般式（III） H2N−R3−Ｘ （III） 〔式中、R3は単結合または−CONH−を示す。ただし、Ｘ
    は前記と同意義〕で表されるアニリン化合物とを縮合反
    応することを特徴とする請求項２記載のナフトール誘導
    体の製法。
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