JP3220713B2 - 耐酸化性SiC反応焼結体の製造方法 - Google Patents

耐酸化性SiC反応焼結体の製造方法

Info

Publication number
JP3220713B2
JP3220713B2 JP10074592A JP10074592A JP3220713B2 JP 3220713 B2 JP3220713 B2 JP 3220713B2 JP 10074592 A JP10074592 A JP 10074592A JP 10074592 A JP10074592 A JP 10074592A JP 3220713 B2 JP3220713 B2 JP 3220713B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sintered body
sic
powder
free
reaction sintered
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP10074592A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06100368A (ja
Inventor
みやず 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd filed Critical Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd
Priority to JP10074592A priority Critical patent/JP3220713B2/ja
Publication of JPH06100368A publication Critical patent/JPH06100368A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3220713B2 publication Critical patent/JP3220713B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、酸化雰囲気中における
加熱炉の粱、支柱ローラなどの高温構造材に最適な耐酸
化性SiC反応焼結体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】SiC焼結体は、耐熱性、耐食性及び硬
度、曲げ強さ、弾性率などの特性に優れていることか
ら、高温での構造材料としての利用が期待されている。
しかし、SiC焼結体は、一般的に炉用として用いるよ
うな大きな形状を製作するのは困難で、ほとんどが小部
品に限られている。また、コスト的にも高価であり、炉
用材料としては、使用が困難であった。一方、SiC焼
結体でもSiC反応焼結体は、製造方法の違いから、大
きな形状物でも比較的容易に製造でき、製造コストも上
記SiC焼結体に比べ、安価であるため、ローラ等炉用
構造材として使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】すなわち、SiC焼結
体の中でも、反応焼結法を用いたSiC反応焼結体は、
炉用構造材料として最適なものといえる。しかし、Si
C反応焼結体は、その製造方法からSiC以外に遊離S
iを5%〜20%程度含有し、この遊離Siが、140
0℃を越える高温では、材料の高温強度、および耐酸化
特性を著しく低下させるという問題があった。そこで、
考えられたのが、SiC反応焼結体中の遊離Siを従来
の方法、たとえば、不活性雰囲気中で高温焼成したり、
フッ酸溶液で除去したりする方法で試みたが、SiC反
応焼結体の見かけ気孔率が増大し、耐酸化性が劣化する
ため、高温用構造材料として問題であった。本発明の目
的は、上記の欠点を解消した耐酸化性SiC反応焼結体
の製造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の耐酸
化性SiC反応焼結体は、二次的な反応によるSiC反
応焼結方法において、原料粉末として、粒度3μm〜1
5μmのC粉末と粒度10μm〜50μmのSiC粉末
を混合し、加圧成形により理論成形密度の92%〜98
%の成形体を作る工程と、該成形体を非酸化雰囲気中2
000℃以上で珪化し、珪化体中の遊離Si7%以下、
かさ比重3.00以上であるような珪化体を作る工程、
および該珪化体を真空度10−1 Torr以上の高真
空中で、処理温度1600℃〜2000℃で真空処理を
行う工程を特徴とする。上記珪化工程での非酸化雰囲気
としては、N,Arなどのガス雰囲気中や真空中で行
うことが好ましい。ここで、原料粉末の粒度をC粉末3
μm〜15μmおよびSiC粉末10μm〜50μmと
したのは、この範囲をはずれたものでは理論成形密度の
92%〜98%の成形体が得られず、この場合遊離Cや
遊離Siが過剰に焼結体に残留し目的の耐酸化性SiC
焼結体が得られなかったため。また珪化反応において、
非酸化性雰囲気中2000℃以上で行うとしたのは、2
000℃以下では、二次的なSiC反応が十分行なわれ
ず、未反応部分が生じ、焼結体の特性が劣った。珪化体
の遊離Siを7%以下かさ比重3.00以上としたの
は、7%を越えると焼結体の密度が上がらず、かさ比重
が3.00未満となり、特性が劣化するため、さらに真
空中で加熱処理する場合の条件として、真空度を10
−1 Torr以上の高真空温度1600℃〜2000
℃としたのは、これをはずれた条件では、やはり焼結体
の密度が上がらず、とくに耐酸化特性が劣化するため本
発明のSiC反応焼結体の製造方法では、従来のSiC
反応焼結体の重大な欠点であった耐酸化性を大幅に向上
させることができ、しかもSiC焼結体のうちの常圧焼
結法で得られる焼結体に比べ、安価で大型形状の製品を
供給できる。そのため、今まで以上に応用範囲が広がる
新しい材料の製法といえる。
【0005】
【実施例】本発明を実施例により説明する。C粉末とし
て黒鉛粉末(粒径5μm〜13μm)30重量%とSi
C粉末として、α−SiC(粒径20μm〜50μm)
70重量%に一般的なセルロース系バインダーを数%と
水を加え、混合し、加圧プレスを用いて所定の形状に加
圧成形した。得られた成形体は、外径30mm、内径2
0mm長さ350mmの円筒形状で、理論成形密度の9
5%であった。得られた成形体を、電気炉でNガス雰
囲気中、温度2200℃でSiと反応させて珪化体とし
た。珪化体の物理特性は、かさ比重3.08珪化体中の
遊離Siは5重量%であった。次に該珪化体を真空焼成
炉で、真空度3×10−4 Torrとし、処理温度1
700℃で2h真空処理し、SiC反応焼結体を得た。
得られた焼結体の特性を以下に示す。 本発明のSiC反応焼結体特性 見かけ気孔率 4.5% かさ比重 2.97 焼結体中の遊離Si 0.8% 〃 〃 C 0.6% 〔比較例1〕上記実施例の珪化体を、Nガス雰囲気
中、処理温度2200℃2hで焼成処理し、得られたS
iC反応焼結体の特性を次に示す。 見かけ気孔率 3% かさ比重 3.01 焼結体中の遊離Si 0.7% 〃 〃 C 0.4% 〔比較例2〕従来のSiC反応焼結方法で得たSiC反
応焼結体の例を示す。C原料として粒度20μm〜30
μmの黒鉛粉末40重量%とSiC原料として粒度55
μm〜70μmのα−SiC粉末60重量%にセルロー
ス系バインダーと水を加えて混合し、加圧成形し、外径
30mm×内径20mm×長さ350mmの成形体を得
た。この成形体を電気炉で温度2000℃、Nガス雰
囲気中でSiと反応させた後に、温度2200℃で焼成
処理して焼結体を得た。以上3例について耐酸化特性を
調査した。調査の方法としては、炉内寸法、幅250m
m×長さ300mm×高さ250mmの電気炉内に実施
例、比較例1,2とも同一寸法で外径30mm×内径2
0mm×長さ100mmの円筒系の試料各n=10を設
置し、炉内に露点+70℃のしめり空気を導入して、温
度1500℃に保持した。1000時間経過後の重量変
化率を調べた。また、同様に温度1620℃でしめり空
気を導入せずに50h保持したときの試料の外観の状態
を調べた。その結果を表に示す。
【表1】
【0006】
【発明の効果】実施例で明らかなように、本発明の製造
方法によれば、従来の反応焼結体では困難であった、高
温での耐酸化特性が大幅に改善され、優れた特性を有し
ている°このように本発明のSiC反応焼結体の製造方
法によって作られた焼結体は、高温で使用される加熱炉
用構造材として最適であり、今後の拡販が期待できる。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原料粉末として粒度3μm〜15μmの
    C粉末と粒度10μm〜50μmのSiC粉末とを混合
    し、加圧成形により理論成形密度の92%〜98%とし
    た成形体に対して、非酸化性雰囲気中2000℃以上で
    珪化反応を行い、得られた珪化体の遊離Siを7%以
    下、かさ比重を3.00以上とし、次いで珪化体を10
    -1Torr以上の真空下、1600℃〜2000℃で加
    熱処理することを特徴とする耐酸化性SiC反応焼結体
    の製造方法。
JP10074592A 1992-03-10 1992-03-10 耐酸化性SiC反応焼結体の製造方法 Expired - Fee Related JP3220713B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10074592A JP3220713B2 (ja) 1992-03-10 1992-03-10 耐酸化性SiC反応焼結体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10074592A JP3220713B2 (ja) 1992-03-10 1992-03-10 耐酸化性SiC反応焼結体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06100368A JPH06100368A (ja) 1994-04-12
JP3220713B2 true JP3220713B2 (ja) 2001-10-22

Family

ID=14282089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10074592A Expired - Fee Related JP3220713B2 (ja) 1992-03-10 1992-03-10 耐酸化性SiC反応焼結体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3220713B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06100368A (ja) 1994-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0153000A1 (en) Refractories of silicon carbide and related materials having a modified silicon nitride bonding phase
JP3220713B2 (ja) 耐酸化性SiC反応焼結体の製造方法
JP3277295B2 (ja) 高温型炭化珪素質発熱体の製造方法
JPH07215781A (ja) 炭化珪素系複合材料とその製造方法
JP2737323B2 (ja) 窒化珪素質焼結体の製造方法
JPS6212663A (ja) B4c質複合体およびその製造方法
JPS6042188B2 (ja) 窒化珪素成形体の製法
JPS605550B2 (ja) 炭化珪素焼結体の製法
KR20000023762A (ko) 세라믹 복합구조로부터 성형체를 제조하는 방법
JPS62123070A (ja) 窒化ボロン系焼結体の製造方法
JP2946593B2 (ja) 窒化珪素質焼結体およびその製造方法
JPS5864278A (ja) 非酸化物セラミツクスの製造法
JP3151663B2 (ja) 低温度でMo(Al,Si)2系材料を製造する方法
JPH072570A (ja) SiC反応焼結体の製造方法
JP2000211972A (ja) 炭化珪素発熱体の製造方法
JP3176203B2 (ja) 窒化珪素質焼結体の製造方法
JPH03164472A (ja) 窒化珪素焼結体の製造方法
JPH054946B2 (ja)
JP2000007439A (ja) 窒化硼素成形体の製造方法
JPH01183465A (ja) 窒化けい素系複合セラミックスとその製造方法
JPH07206521A (ja) ホウ化チタン焼結体、その製造方法及び焼成用治具
JPH04219373A (ja) 窒化珪素質焼結体の製法
JPH0455993B2 (ja)
JPH0568428B2 (ja)
JPS6213309B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20010626

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees