JP3218109B2 - 芳香族ポリカーボネート - Google Patents

芳香族ポリカーボネート

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JP3218109B2 JP03008393A JP3008393A JP3218109B2 JP 3218109 B2 JP3218109 B2 JP 3218109B2 JP 03008393 A JP03008393 A JP 03008393A JP 3008393 A JP3008393 A JP 3008393A JP 3218109 B2 JP3218109 B2 JP 3218109B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は芳香族ポリカーボネート
に関する。さらに詳しくは、末端基として特定構造の基
を有する芳香族ポリカーボネートに関する。
【0002】
【従来技術】従来より、芳香族ポリカーボネートは、透
明性、耐熱性、機械的強度、寸法安定性等に優れたエン
ジニアリングプラスチックとして知られており、自動
車、電気、電子材料等の部品として幅広く用いられてい
る。通常、芳香族ポリカーボネートを製造するには、芳
香族ポリカーボネートの分子量を調節する目的で、末端
封止剤(分子量調節剤、重合停止剤、連鎖停止剤、末端
停止剤などとも呼ばれている)を添加し重合がなされて
いる(例えば、米国特許第3028365号、米国特許
第3085992号、米国特許第3173891号、米
国特許第3275601号、米国特許第3399172
号)。中でも、末端封止剤として、フェノールまたはp
−tert−ブチルフェノールが最も一般的に広く使用され
ている。しかし、フェノールまたはp−tert−ブチルフ
ェノールを末端封止剤として製造される通常の芳香族ポ
リカーボネートは、溶融粘度が非常に高く、溶融流動性
が悪いため、成形品を製造する際には、充分な流動性を
確保するために、高温条件下で溶融成形が行われてき
た。しかしながら、薄肉の成形品あるいは複雑な形状の
成形品を製造する場合には、溶融時の流動性はなお不充
分であり、金型内で未充填を起こしやすく、高精度の寸
法安定性が要求される精密成形品が得られにくいという
問題点がある。
【0003】最近、特に、例えば、データ保存用ディス
クまたはオーディオ用コンパクトディスク等の光学機器
用に必要とされる高い寸法安定性が要求される分野にお
いては、優れた溶融流動性を有する芳香族ポリカーボネ
ートが必要となっている。溶融流動性を改良する方法と
して、例えば、Cm 2m+1O−基(mは3〜10の整
数)をパラ位に有するフェノール誘導体または安息香酸
誘導体を末端封止剤として使用し、芳香族ポリカーボネ
ートを製造する方法が提案されている(特開昭63−2
58922号公報)。しかし、末端封止剤として、例え
ば、p−n−ヘキシルオキシフェノールまたはp−n−
オクチルオキシ安息香酸を使用して製造される芳香族ポ
リカーボネートは、溶融流動性はある程度改善されるも
のの、熱安定性(ガラス転移点)が低いという問題点が
ある。現在では、溶融流動性に優れ、かつ熱安定性にも
優れた芳香族ポリカーボネートが強く要望されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の従来技術の欠点を克服し、芳香族ポリカーボネートの
溶融流動性を充分に改善し、さらに熱安定性に優れた芳
香族ポリカーボネートを提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、芳香族ポ
リカーボネートに関し鋭意検討した結果、本発明に到達
した。すなわち、本発明は、末端基の少なくとも1つ
が、一般式(1)で表される基である芳香族ポリカーボ
ネートに関するものである。 −A−(O)p −R1 (1) (式中、R1 はアルキル基を表し、p は0または1を表
し、Aはナフチレン基を表す)本発明に係る一般式
(1)で表される末端基において、R1 はアルキル基を
表し、好ましくは、炭素数1〜16のアルキル基であ
り、より好ましくは、炭素数1〜12のアルキル基であ
る。
【0006】R1 の具体例としては、例えば、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、sec −ブチル基、tert−ブチ
ル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチ
ルブチル基、3−メチルブチル基、ネオペンチル基、n
−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペン
チル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル
基、4−メチル−2−ペンチル基、2−エチルブチル
基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチ
ルヘキシル基、2,4−ジメチルペンチル基、n−オク
チル基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、5
−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、1,3−
ジメチルヘキシル基、n−ノニル基、1,1−ジメチル
ヘプチル基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル基、3,
5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、3,7
−ジメチルオクチル基、n−ウンデシル基、1−メチル
デシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テ
トラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデ
シル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シク
ロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロヘキサ
デシル基、3−メチルシクロペンチル基、2−メチルシ
クロペンチル基、4−メチルシクロヘキシル基、3−メ
チルシクロヘキシル基、2−メチルシクロヘキシル基、
4−エチルシクロヘキシル基、4−n−ブチルシクロヘ
キシル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、4−n
−オクチルシクロヘキシル基、4−シクロヘキルシクロ
ヘキシル基、2,2−ジメチルシクロペンチル基、2,
2−ジメチルシクロヘキシル基、2,3−ジメチルシク
ロヘキシル基、2,5−ジメチルシクロヘキシル基、
2,6−ジメチルシクロヘキシル基、3,4−ジメチル
シクロヘキシル基、3,5−ジメチルシクロヘキシル
基、4,4−ジメチルシクロヘキシル基、3,3,5−
トリメチルシクロヘキシル基、2−ノルボルニル基、2
−アダマンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘ
キシルメチル基、2−シクロヘキシルエチル基、3−シ
クロヘキシルプロピル基、シクロオクチルメチル基、2
−ノルボルナンメチル基、2−アダマンタンメチル基を
挙げることができる。
【0007】一般式(1)で表される末端基において、
p は0または1を表す。また、Aはナフチレン基を表
し、1,2−ナフチレン基、1,3−ナフチレン基、
1,4−ナフチレン基、1,5−ナフチレン基、1,6
−ナフチレン基、1,7−ナフチレン基、1,8−ナフ
チレン基、2,3−ナフチレン基、2,6−ナフチレン
基または2,7−ナフチレン基等が挙げられ、これらの
基は、さらに炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8
のアルコキシ基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数
7〜10のアラルキル基またはハロゲン原子で単置換あ
るいは多置換されていてもよい。
【0008】末端基の少なくとも1つが、一般式(1)
で表される基である本発明の芳香族ポリカーボネートを
製造する際に使用する好適な末端封止剤としては、一般
式(1−A)で表される化合物を挙げることができる。 Y−A−(O)p −R1 (1−A) 〔式中、R1 、p およびAは前記に同じであり、Yは−
OH基、−OM基、−OCOZ基、−COOH基、−C
OOM基または−COZ基(但し、Mは金属イオン、Z
はハロゲン原子を表す)を表す〕本発明に係る一般式
(1−A)で表される化合物において、金属イオンMと
しては、好ましくは、1価または2価のアルカリ金属イ
オンまたはアルカリ土類金属イオンであり、リチウム、
ナトリウム、カリウム、カルシウムイオン等を具体例と
して挙げることができる。ハロゲン原子Zとしては、好
ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子を挙げるこ
とができ、より好ましくは、塩素原子である。本発明に
係る一般式(1−A)において、Yの置換位置は、−O
1 基がナフタレン環の1位(α位)に置換している場
合、2位、3位、4位、5位、6位、7位または8位で
あり、また、−OR1 基がナフタレン環の2位(β位)
に置換している場合、Yの置換位置は、1位、3位、4
位、5位、6位、7位または8位である。
【0009】一般式(1−A)で表される化合物は、公
知の方法、例えば、J.Chem.Soc.,678(1954)、
Mol.Cry.Liq.Cry., 37、249(1976)、J.Org.
Chem.,51、271(1986)、J.Org.Chem.,53
5345(1988)、J.Am. Chem.Soc.,111、54
68(1989)等に記載の方法により製造することが
できる。例えば、一般式(1−A)において、p が1で
あり、Yが−OH基または−COOH基で表される化合
物は、一般式(a)で表される化合物に、塩基、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリ
ウム等の存在下、一般式(b)で表される化合物を作用
させることにより製造することができる。 Y−A−OH (a) (式中、Aは前記に同じであり、Yは−OH基または−
COOH基を表す) Z−R1 (b) (式中、R1 は前記に同じであり、Zはハロゲン原子を
表す)
【0010】一般式(1−A)において、Yが−OCO
Z基で表される化合物において、例えば、Zが塩素原子
である化合物は、Yが−OH基である化合物に、例え
ば、ホスゲンを作用させ製造することができる。一般式
(1−A)において、Yが−COZ基で表される化合物
において、例えば、Zが塩素原子である化合物は、Yが
−COOH基である化合物に、例えば、塩化チオニルま
たはオギザリルクロライドを作用させ製造することがで
きる。一般式(1−A)において、Yが−OM基で表さ
れる化合物は、Yが−OH基である化合物に、例えば、
水溶液中で水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
カルシウム等のアルカリ金属塩基またはアルカリ土類塩
基を作用させ製造することができる。また、一般式(1
−A)において、Yが−COOM基で表される化合物
は、Yが−COOH基である化合物に、例えば、水溶液
中で水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム等のアルカリ金属塩基またはアルカリ土類塩基を作
用させ製造することができる。
【0011】本発明の末端基の少なくとも1つが、一般
式(1)で表される基である芳香族ポリカーボネートに
おいて、一般式(1)で表される基としては、代表的に
は以下に示す基を挙げることができるが、勿論本発明は
これらに限定されるものではない。 例示番号 1.2−メチル−1−ナフチル基 2.2−エチル−3−tert−ブチル−1−ナフチル基 3.2−n−オクチル−1−ナフチル基 4.2−エトキシ−1−ナフチル基 5.2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフチル基 6.3−(3’−メチルブチル)−1−ナフチル基 7.3−イソプロポキシ−1−ナフチル基 8.4−n−ブチル−3−フェニル−1−ナフチル基 9.4−(1’,1’−ジメチルヘプチル)−1−ナフ
チル基 10.4−sec −ブトキシ−1−ナフチル基
【0012】11.4−n−デシルオキシ−1−ナフチ
ル基 12.4−n−テトラデシルオキシ−2−メチル−1−
ナフチル基 13.4−シクロヘキシルオキシ−1−ナフチル基 14.4−(2’−ノルボルニルオキシ)−1−ナフチ
ル基 15.5−n−ブチル−1−ナフチル基 16.5−ネオペンチル−1−ナフチル基 17.5−シクロペンチル−4−ベンジル−1−ナフチ
ル基 18.5−n−プロポキシ−1−ナフチル基 19.5−(1’−メチルブチルオキシ)−1−ナフチ
ル基 20.5−シクロヘキシルメチルオキシ−1−ナフチル
基 21.6−シクロヘキシル−1−ナフチル基 22.7−n−テトラデシルオキシ−1−ナフチル基 23.8−メチル−1−ナフチル基 24.8−イソブトキシ−1−ナフチル基 25.1,4−ジメチル−2−ナフチル基
【0013】26.1−n−ヘキシル−2−ナフチル基 27.1−エトキシ−4−クロロ−2−ナフチル基 28.1−イソポキシ−2−ナフチル基 29.1−(3’−メチルブチルオキシ)−2−ナフチ
ル基 30.1−シクロヘキシルオキシ−2−ナフチル基 31.3−メチル−2−ナフチル基 32.3−n−ペンチル−2−ナフチル基 33.3−メトキシ−2−ナフチル基 34.3−n−ブトキシ−2−ナフチル基 35.3−n−オクチルオキシ−2−ナフチル基 36.3−n−デシルオキシ−2−ナフチル基 37.3−シクロヘキシオキシ−2−ナフチル基 38.4−n−オクチル−2−ナフチル基 39.4−sec −ブトキシ−2−ナフチル基 40.5−n−ペンチルオキシ−2−ナフチル基
【0014】41.6−イソプロピル−2−ナフチル基 42.6−tert −ブチル−2−ナフチル基 43.6−n−ヘキシル−2−ナフチル基 44.6−tert −オクチル−2−ナフチル基 45.6−シクロヘキシル−2−ナフチル基 46.6−メトキシ−3−エチル−2−ナフチル基 47.6−イソプロポキシ−2−ナフチル基 48.6−n−ヘキシルオキシ−2−ナフチル基 49.6−n−オクチルオキシ−2−ナフチル基 50.6−シクロペンチルオキシ−1−クロロ−2−ナ
フチル基 51.6−(4’−メチルシクロヘキシルオキシ)−2
−ナフチル基 52.6−シクロヘキシルメチルオキシ−2−ナフチル
基 53.7−n−ペンチル−2−ナフチル基 54.7−イソプロポキシ−6−エトキシ−2−ナフチ
ル基 55.7−n−ペンチルオキシ−2−ナフチル基 56.7−n−ヘプチルオキシ−2−ナフチル基 57.7−(2’−エチルヘキシルオキシ)−2−ナフ
チル基 58.7−(4’−tert−ブチルシクロヘキシルオキ
シ)−2−ナフチル基 59.8−メチル−2−ナフチル基 60.8−n−ペンチルオキシ−2−ナフチル基
【0015】本発明の芳香族ポリカーボネートは、少な
くとも1種の芳香族ジヒドロキシ化合物、カーボネート
前駆体および少なくとも1種の一般式(1−A)で表さ
れる化合物から製造することができ、その製造方法とし
ては、当業者においては公知の界面重合法、溶液重合法
またはエステル交換法を利用することができ、特に、界
面重合法は好ましい製造方法である。本発明の新規な末
端基を有する芳香族ポリカーボネートを製造する際に、
一般式(1−A)で表される化合物は末端封止剤として
作用し、本発明の芳香族ポリカーボネートの製造工程に
おいて芳香族ポリカーボネートの分子量を制御又は調整
するのに役立つ。これらの末端封止剤と芳香族ジヒドロ
キシ化合物とは、カーボネート前駆体の作用により、カ
ーボネート結合またはエステル結合を形成し、本発明の
一般式(1)で表される末端基を有する芳香族ポリカー
ボネートを生成する。カーボネート結合は、一般式(1
−A)で表される化合物において、Yが、−OH基、−
OM基または−OCOZ基である化合物を使用すること
により形成され、一方、エステル結合は、Yが、−CO
OH基、−COOM基または−COZ基である化合物を
使用することにより形成される。
【0016】本発明の芳香族ポリカーボネートの重量平
均分子量は、製造の際に使用する一般式(1−A)で表
される化合物の使用量により、任意の重量平均分子量を
とることができるが、成形加工性、衝撃抵抗性などの諸
物性を考慮し、約15000〜約150000の重量平
均分子量であることが好ましく、より好ましくは約20
000〜約100000の重量平均分子量である。重量
平均分子量は、一般に、芳香族ポリカーボネート生成時
に使用される一般式(1−A)で表される化合物の量に
依存する。概して、一般式(1−A)で表される化合物
の使用量が多くなれば芳香族ポリカーボネートの重量平
均分子量は小さくなり、逆に、一般式(1−A)で表さ
れる化合物の使用量が少なくなれば芳香族ポリカーボネ
ートの重量平均分子量は大きくなる。一般に、一般式
(1−A)で表される化合物の使用量は、使用する芳香
族ジヒドロキシ化合物の量に対して、約1.2〜約1
0.0モル%であるのが好ましく、さらには、約1.5
〜約7.0モル%がより好ましい。
【0017】一般式(1−A)で表される末端封止剤
は、一般に、芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート
前駆体との反応において、最初に、すなわちカーボネー
ト前駆体の添加に先立って、芳香族ジヒドロキシ化合物
と共に存在させてもよく、またはカーボネート前駆体の
添加に伴い、逐次連続的に供給することもできる。本発
明のポリカーボネートの製造に際して、一般式(1−
A)で表される化合物は、一種あるいは複数使用するこ
とができる。一種だけを使用した場合には、芳香族ポリ
カーボネートの末端基は、全部同じ構造を有する基にな
る。また、複数併用した場合には、使用した一般式(1
−A)で表される化合物の数、量およびタイプにより種
々の末端基が混合した形になる。更に、一般式(1−
A)で表される化合物は、本発明の所望の効果を損なわ
ない範囲で他の公知の末端封止剤と組み合わせて使用す
ることも可能である。本発明の芳香族ポリカーボネート
を製造する際に、一般式(1−A)で表される化合物
と、他の公知の末端封止剤を併用する場合、全末端封止
剤中、一般式(1−A)で表される化合物の割合は、3
0モル%以上であることが好ましく、50モル%以上で
あることがより好ましく、60モル%以上であることが
特に好ましい。
【0018】一般式(1−A)で表される化合物以外の
末端封止剤としては、例えば、1価のヒドロキシ芳香族
化合物、1価のヒドロキシ芳香族化合物のクロロホーメ
ート化合物、1価のカルボン酸基を有する化合物および
1価のカルボン酸のクロライド化合物等である。1価の
ヒドロキシ芳香族化合物としては、例えば、フェノー
ル、p−クレゾール、o−エチルフェノール、p−エチ
ルフェノール、p−イソプロピルフェノール、p−tert
−ブチルフェノール、p−クミルフェノール、p−シク
ロヘキシルフェノール、p−オクチルフェノール、p−
ノニルフェノール、2,4−キシレノール、p−メトキ
シフェノール、p−ヘキシルオキシフェノール、p−デ
シルオキシフェノール、o−クロロフェノール、m−ク
ロロフェノール、p−クロロフェノール、p−ブロモフ
ェノール、ペンタブロモフェノール、ペンタクロロフェ
ノール、p−フェニルフェノール、p−イソプロペニル
フェノール、2,4−ジ(1−メチル−1−フェニルエ
チル)フェノール、β−ナフトール、α−ナフトール、
p−(2’,4’,4’−トリメチルクロマニル)フェ
ノール、2−(4’−メトキシフェニル)−2−(4”
−ヒドロキシフェニル)プロパン等のフェノール類であ
る。1価のヒドロキシ芳香族化合物のクロロホーメート
化合物としては、上述の1価のヒドロキシ芳香族化合物
のクロロホーメート誘導体等である。
【0019】また、1価のカルボン酸基を有する化合物
としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草
酸、カプロン酸、ヘプタン酸、カプリル酸、2,2−ジ
メチルプロピオン酸、3−メチル酪酸、3,3−ジメチ
ル酪酸、4−メチル吉草酸、3,3−ジメチル吉草酸、
4−メチルカプロン酸、2,4−ジメチル吉草酸、3,
5−ジメチルカプロン酸、フェノキシ酢酸等の脂肪酸
類、安息香酸、p−メチル安息香酸、p−tert−ブチル
安息香酸、p−プロピルオキシ安息香酸、p−ブトキシ
安息香酸、p−ヘキシルオキシ安息香酸、p−オクチル
オキシ安息香酸、p−フェニル安息香酸、p−ベンジル
安息香酸、p−クロロ安息香酸等の安息香酸類である。
1価のカルボン酸のクロライド化合物としては、上記の
1価のカルボン酸基を有する化合物のクロライド誘導体
等である。尚、上述の1価のヒドロキシ芳香族化合物ま
たは1価のカルボン酸基を有する化合物のアルカリ金属
(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム)塩、アル
カリ土類金属(例えば、カルシウム)塩も末端封止剤と
して使用できる。
【0020】本発明の芳香族ポリカーボネートを製造す
る際に使用する芳香族ジヒドロキシ化合物としては、一
般式(2)で表される化合物を挙げることができる。 HO−R−OH (2) (式中、Rは芳香族炭化水素基、またはアルキル基、シ
クロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン
原子、ニトロ基あるいはアルコキシ基等の置換基を有す
る置換芳香族炭化水素基である)上記の一般式(2)に
おいて、基Rは好ましくは、一般式(3)で表される基
である。
【0021】 −Ar1−B−Ar2− (3) (式中、Ar1とAr2は各々単環の二価芳香族基であり、
BはAr1とAr2を結び付ける基である)
【0022】上記一般式(3)において、Ar1およびA
r2は、各々単環の二価芳香族基であり、好ましくは、フ
ェニレン基もしくは置換基を有する置換フェニレン基で
あり、置換基としては、例えば、アルキル基、シクロア
ルキル基、アルケニル基、アリール基等の炭化水素基
や、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基等が挙げら
れる。Ar1とAr2の両方がp−フェニレン基、m−フェ
ニレン基またはo−フェニレン基、あるいは一方がp−
フェニレン基であり、一方がm−フェニレン基またはo
−フェニレン基であるのが好ましく、特にAr1とAr2
両方がp−フェニレン基であるのが好ましい。Bは、A
r1とAr2を結び付ける基であり、単結合もしくは2価の
炭化水素基、更には−O−、−S−、−SO−、−SO
2 −、−CO−等の炭素と水素以外の原子を含む基であ
っても良い。2価の炭化水素基とは、飽和の炭化水素
基、例えば、メチレン、エチレン、2,2−プロピリデ
ン、シクロヘキシリデン等のアルキリデン基があげられ
るが、アリール基等で置換された基も包含され、また、
芳香族基やその他の不飽和の炭化水素基を含有する炭化
水素基であってもよい。
【0023】芳香族ジヒドロキシ化合物の具体例として
は、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−
ビス(4’−ヒドロキシフェニル)エタン、1,2−ビ
ス(4’−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)フェニルメタン、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−ナフチルメタン、1,1−ビス
(4’−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、
2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン〔”ビスフェノールA”〕、1,1−ビス(4'−ヒド
ロキシフェニル)−3−メチルプロパン、1,3−ビス
(4’−ヒドロキシフェニル)−1,1−ジメチルプロ
パン、2−(4’−ヒドロキシフェニル)−2−(3’
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4’
−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4’−
ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、2,2−ビ
ス(4’−ヒドロキシフェニル)ペンタン、2,2−ビ
ス(4’−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタ
ン、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)ヘキサ
ン、4,4−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)ヘプタ
ン、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)オクタ
ン、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)ノナ
ン、
【0024】ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)メタン、2,2−ビス(3'−メチル−4’−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3’−
エチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3’−n−プロピル−4’−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3’−イソプロピル−4'
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3’
−sec −ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3’−tert−ブチル−4’−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス(37−シクロヘ
キシル−4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3’−アリル−4'−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(3’−メトキシ−4’−ヒドロキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(3’,5’−ジ
メチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(2’,3’,5’,6’−テトラメチル−4’
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3'−
クロロ−4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3’,5’−ジクロロ−4’−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3’−ブロモ−4’−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3’,
5’−ジブロモ−4’−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(2’,6’−ジブロモ−3’,5’
ジメチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シアノメタン、1−シアノ
−3,3−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)ブタン、
2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)ヘキサフル
オロプロパン等のビス(ヒドロキシアリール)アルカン
類、
【0025】1,1−ビス(4’−ヒドロキシフェニ
ル)シクロペンタン、1,1−ビス(4'−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3’−メチル
−4’−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1
−ビス(3’,5’−ジメチル−4’−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3’,5’−ジ
クロロ−4’−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1,1−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)−4−メチ
ルシクロヘキサン、1,1−ビス (4’−ヒドロキシフ
ェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、
1,1−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)シクロヘプ
タン、1,1−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)シク
ロオクタン、1,1−ビス(4’−ヒドロキシフェニ
ル)シクロノナン、1,1−ビス(4’−ヒドロキシフ
ェニル)シクロドデカン、2,2−ビス(4’−ヒドロ
キシフェニル)ノルボルナン、8,8−ビス(4’−ヒ
ドロキシフェニル)トリシクロ〔5.2.1.02.6
デカン、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)ア
ダマンタン等のビス(ヒドロキシアリール)シクロアル
カン類、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、
3,3’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルエーテル、エチレングリコールビス(4−ヒドロキシ
フェニル)エーテル等のビス(ヒドロキシアリール)エ
ーテル類、
【0026】4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフ
ィド、3,3’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキシジ
フェニルスルフィド、3,3’−ジシクロヘキシル−
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,
3’−ジフェニル−4,4’−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,
4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド等のビス(ヒ
ドロキシアリール)スルフィド類、4,4’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホキシド、3,3’−ジメチル−
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド等のビス
(ヒドロキシアリール)スルホキシド類、4,4’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’
−ジフェニル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン等のビス(ヒドロキシアリール)スル
ホン類、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ケトン等のビ
ス(ヒドロキシアリール)ケトン類、
【0027】更には、6,6’−ジヒドロキシ−2,
2’,3,3’−テトラヒドロ−3,3'3’,3’−テ
トラメチル−1,1’−スピロビ(1H−インデ
ン)〔”スピロビインダンビスフェノール”〕、7,7
−ジヒドロキシ−3,3’,4,4’−テトラヒドロ−
4,4,4’,4’−テトラメチル−2,2’−スピロ
ビ(2H−1−ベンゾピラン)〔”スピロビクロマ
ン”〕、トランス−2,3−ビス(4'−ヒドロキシフェ
ニル)−2−ブテン、9,9−ビス(4’−ヒドロキシ
フェニル)フルオレン、3,3−ビス(4’−ヒドロキ
シフェニル)−2−ブタノン、1,6−ビス(4’−ヒ
ドロキシフェニル)−1,6−ヘキサンジオン、1,1
−ジクロロ−2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニ
ル)エチレン、1,1−ジブロモ−2,2−ビス(4’
−ヒドロキシフェニル)エチレン、1,1−ジクロロ−
2,2−ビス(3’−フェノキシ−4’−ヒドロキシフ
ェニル)エチレン、α,α,α’,α’−テトラメチル
−α,α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−p−キ
シレン、α,α,α’,α’−テトラメチル−α,α’
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−キシレン、
【0028】3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
フタリド、2,6−ジヒドロキシジベンゾ−p−ジオキ
シン、2,6−ジヒドロキシチアントレン、2,7−ジ
ヒドロキシフェノキサチイン、2,7−ジヒドロキシ−
9,10−ジメチルフェナジン、3,6−ジヒドロキシ
ジベンゾフラン、3,6−ジヒドロキシジベンゾチオフ
ェン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、1,4−ジ
ヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレ
ン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒド
ロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシピレン等が挙
げられる。上記の芳香族ジヒドロキシ化合物の他にもハ
イドロキノン、レゾルシン等も同様に使用される。更に
は、例えば、ビスフェノールA2モルとイソフタロイル
クロライド又はテレフタロイルクロライド1モルとを反
応させることにより製造することができるエステル結合
を含むビスフェノール類(芳香族ジヒドロキシ化合物)
も有用である。これらは単独で、あるいは2種以上混合
して使用してもよい。特に好ましく使用される芳香族ジ
ヒドロキシ化合物は、ビスフェノールAである。
【0029】カーボネート前駆体としては、ハロゲン化
カルボニル、ハロホーメート化合物、ジアルキルカーボ
ネート化合物、ジアリールカーボネート化合物、アルキ
ルアリールカーボネート化合物を挙げることができ、好
ましくは、ハロゲン化カルボニルおよびハロホーメート
化合物である。ハロゲン化カルボニルとしては、通常、
ホスゲンと呼ばれる塩化カルボニルが用いられるが、塩
素以外のハロゲンより誘導されるハロゲン化カルボニ
ル、例えば臭化カルボニル、ヨウ化カルボニル、フッ化
カルボニル等でもよく、これらの混合物であってもよ
い。また、ハロホーメート基を形成させる能力を有する
化合物、例えば、ホスゲンの2量体であるトリクロロメ
チルクロロホーメートやホスゲンの3量体であるビス
(トリクロロメチル)カーボネート等であっても良い
が、通常はホスゲンを使用するのが好ましい。ハロホー
メート化合物としては、ビスまたはモノハロホーメート
化合物、オリゴマー状のビスまたはモノハロホーメート
化合物が用いられ、代表的には一般式(4)で表される
化合物を挙げることができる。
【0030】 X−(O−R’−O−C(=O))n −O−R’−O−X (4) (式中、Xは水素原子またはハロカルボニル基を表し、
少なくとも1個のXはハロカルボニル基であり、R’は
2価の脂肪族基または芳香族基を表し、nは0または正
の整数を表す)一般式(4)で表される化合物は、脂肪
族ジヒドロキシ化合物から誘導されるビスハロホーメー
ト化合物およびオリゴマー状のビスハロホーメート化合
物、および芳香族ジヒドロキシ化合物から誘導されるビ
スハロホーメート化合物およびオリゴマー状のビスハロ
ホーメート化合物である。一般式(4)において、2価
の脂肪族基R’としては、炭素数2〜20のアルキレン
基および炭素数4〜12のシクロアルキレン基が挙げら
れ、例えば、直鎖状または分岐状のエチレン基、プロピ
レン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘ
プチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、
ウンデシレン基、ドデシレン基等の2価の炭化水素基、
また、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロ
ヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン
基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロウン
デシレン基、シクロドデシレン基またはそれらの任意に
置換された2価の環状炭化水素基である。
【0031】これらの脂肪族ジヒドロキシ化合物の具体
例としては、エチレングリコール、1,3−プロパンジ
オール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジ
オール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,
6−ヘキサンジオール、1,5−ヘキサンジオール、
1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオー
ル、1,11−ウンデカンジオール、1,12−ドデカ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、2−エチル−
1,6−ヘキサンジオール、2−メチル−1,3−プロ
パンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,
4−シクロヘキサンジオール、2,2−ビス(4’−ヒ
ドロキシシクロヘキシル)プロパン等を挙げることがで
きる。また、2価の脂肪族基R’は、一般式(5)で表
されるような基も含む。 −R”−Ar3 −R”− (5) (式中、R”は炭素数1〜6のアルキレン基を表し、A
3 は炭素数6〜12の2価の芳香族基を表す)一般式
(5)において、R”基は炭素数1〜6のアルキレン基
を表し、例えば、直鎖状または分岐状のメチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、
ヘキシレン基の2価の炭化水素基が挙げられ、Ar3
は、炭素数6〜12の2価の芳香族基を表し、フェニレ
ン基、置換フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられ
る。
【0032】この種の脂肪族ジヒドロキシ化合物の具体
例としては、キシリレンジオール、1,4−ビス(2’
−ヒドロキシエチル)ベンゼン、1,4−ビス(3’−
ヒドロキシプロピル)ベンゼン、1,4−ビス(4’−
ヒドロキシブチル)ベンゼン、1,4−ビス(5’−ヒ
ドロキシペンチル)ベンゼン、1,4−ビス(6’−ヒ
ドロキシヘキシル)ベンゼン等を挙げることができる。
一般式(4)において、R’基が芳香族基である芳香族
ジヒドロキシ化合物としては、前述した芳香族ジヒドロ
キシ化合物、例えば、ビスフェノールA、ハイドロキノ
ン等を挙げることができる。さらに、オリゴマー状のビ
スまたはモノハロホーメート化合物は、同一分子中に構
造の異なるR’基を有していてもよい。これらのハロホ
ーメート化合物は、単独で使用しても、混合して使用し
てもよく、さらにハロゲン化カルボニルと混合して使用
することも可能である。ジアルキルカーボネート化合
物、ジアリールカーボネート化合物、アルキルアリール
カーボネート化合物としては、ジメチルカーボネート、
ジフェニルカーボネート、メチルフェニルカーボネート
化合物、ハロゲン原子、ニトロ基等で置換されたジフェ
ニルカーボネートおよびこれらの混合物が挙げられる。
【0033】界面重合法により本発明の芳香族ポリカー
ボネートを製造する場合、カーボネート前駆体として
は、ハロゲン化カルボニルまたは/およびハロホーメー
ト化合物が好ましく使用される。カーボネート前駆体
は、気体、液体、固体のいずれの状態で使用してもよい
が、ハロゲン化カルボニルを使用する場合には、気体の
状態で使用するか、あるいは有機溶媒に溶解させた状態
で有機溶媒溶液として使用することが好ましく、ハロホ
ーメート化合物を使用する場合には、固体状態あるいは
有機溶媒に溶解させた状態で有機溶媒溶液として使用す
ることが好ましい。本発明の芳香族ポリカーボネート
を、界面重合法により製造する場合には、公知の芳香族
ポリカーボネートを製造する方法を用いることができ
る。例えば、少なくとも1種の芳香族ジヒドロキシ化合
物とアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属塩基、水お
よび水と実質的に不溶性の有機溶媒の2相混合溶媒中
で、ハロゲン化カルボニルまたは/およびハロホーメー
ト化合物を一般式(1−A)で表される化合物の存在下
で作用させ、芳香族ポリカーボネートを製造する方法
で、より好ましくは、ポリカーボネート生成触媒の存在
下で製造する方法である。
【0034】本発明の芳香族ポリカーボネートを界面重
合法により製造するに際し、カーボネート前駆体とし
て、例えば、ハロゲン化カルボニル化合物を使用する場
合、その使用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物の量に対
し、約1.0〜約1.3倍モルとなる量を使用するのが
好ましい。1.0倍モルよりも極端に少ない量のハロゲ
ン化カルボニル化合物を使用することは、未反応の芳香
族ジヒドロキシ化合物を生じる結果となり、色調の良く
ない芳香族ポリカーボネートを生成する要因となる。ま
た、1.3倍モルよりも過度に多いハロゲン化カルボニ
ル化合物の使用は、末端がハロホーメート末端基で停止
したオリゴマーを多量に生成することとなり、その結
果、反応系内のオリゴマーのハロホーメート末端基とO
H基(あるいはフェノラート基)の割合が、ハロホーメ
ート末端基が過剰になるため、通常の重合時間では、ハ
ロホーメート末端基で重合停止された分子量の小さい芳
香族ポリカーボネートを形成させることになるため好ま
しくない。
【0035】有機溶媒は、水に対して実質的に不溶性で
あり、かつ反応に対して不活性であり、芳香族ポリカー
ボネートを溶解するものであれば任意に使用可能であ
る。例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−
ジクロロエタン、1,2−ジクロロエチレン、トリクロ
ロエタン、テトラクロロエタン、ジクロロプロパン等の
脂肪族塩素化物或いは、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン等の芳香族塩素化物のような塩素化炭化水素または
それらの混合物を好適な有機溶媒として挙げることがで
きる。またそれらの塩素化炭化水素あるいはそれらの混
合物に、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香
族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の
脂肪族炭化水素等を混合した有機溶媒を使用してもよ
い。特に好ましい有機溶媒はジクロロメタンである。
【0036】有機溶媒の使用量は、通常、重合終了時の
芳香族ポリカーボネートを含有する有機溶媒溶液中の芳
香族ポリカーボネートの濃度が約5〜約35重量%程度
になるように使用するのが好ましい。芳香族ポリカーボ
ネートの濃度が極端に低い場合には、多量の有機溶媒を
必要とし、生産性の点から好ましくない。また芳香族ポ
リカーボネートの濃度が飽和濃度に近い濃度であると芳
香族ポリカーボネートの有機溶媒溶液の粘度が非常に高
くなるため、界面重合の反応効率の低下、重合後の有機
溶媒溶液の取り扱い性の悪化等の問題点があり好ましく
ない。重合終了時の芳香族ポリカーボネートの有機溶媒
溶液中の芳香族ポリカーボネートの濃度が、約10〜約
20重量%になるように有機溶媒を使用するのが特に好
ましい。また、有機溶媒の使用量は水の使用量にも依存
する。反応混合物が実質的に均一な乳化状態を維持する
に必要な量であれば良く、通常、水相対有機相の容量比
は約0.4〜約1.5:1とするのが好ましい。上記範
囲より有機溶媒が少ない場合には、カーボネート前駆体
およびハロホーメート基の加水分解が多くなり、また均
一な乳化状態を形成する為に多大な攪拌動力を必要と
し、また、上記範囲より有機溶媒が多い場合にも、より
大きな攪拌動力を必要とするため、生産性の点からも好
ましくない。
【0037】本発明の芳香族ポリカーボネートを製造す
る際に使用するアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属
塩基(以下、塩基と略記する)は、通常、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ
金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物であって、比
較的入手が容易な点から水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが好ましく、特に水酸化ナトリウムが好ましい。塩
基は通常水溶液の状態で用いられ、更にこの水溶液に芳
香族ジヒドロキシ化合物を溶解させて反応に使用するこ
とが好ましい。この場合、芳香族ジヒドロキシ化合物の
塩基性水溶液は一般に着色しやすいので、酸化防止剤と
して亜硫酸ナトリウム、ソジウムハイドロサルファイト
あるいはソジウムボロハイドライド等の還元剤を添加し
て芳香族ジヒドロキシ化合物の塩基性水溶液を調製して
もよい。界面重合法において使用する好適なポリカーボ
ネート生成触媒(重合触媒、重縮合触媒とも呼ばれる)
は、三級アミン、四級アンモニウム塩、三級ホスフィ
ン、四級ホスホニウム塩あるいは含窒素複素環化合物及
びその塩、イミノエーテル及びその塩、アミド基を有す
る化合物等が挙げられる。好ましくは、三級アミンであ
るトリアルキルアミンであり、より好ましくは1位及び
2位にある炭素原子上に分岐を持たず、アルキル基がC
1 〜C4 までのトリアルキルアミンであり、例えば、ト
リエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、ジエチル
−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン等が挙
げられ、入手の容易さ、及び触媒効果が優れている点で
トリエチルアミンが特に好ましい。ポリカーボネート生
成触媒の使用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物のモル数
に対して約0.0005〜約1.5モル%が好ましい。
0.0005モル%より過度に少ない触媒量では、芳香
族ポリカーボネートを形成させるための触媒効果が充分
でなく、非常に長い重合時間が必要となるため、経済的
でなく好ましくない。また、触媒量が1.5モル%より
過度に多くても、重合反応を特に速める効果はなく、過
剰分のポリカーボネート生成触媒が無駄になるため好ま
しくない。ポリカーボネート生成触媒の添加時期は、本
発明の芳香族ポリカーボネートを製造する際、反応前あ
るいは反応中に加えることができる。
【0038】界面重合法においては、反応温度は、約1
0℃〜反応に使用する有機溶媒の沸点温度で本発明の芳
香族ポリカーボネートを製造することが好ましい。10
℃より極端に低い温度では、反応速度が遅くなり、反応
効率が悪くなる。また冷却媒体あるいは冷却装置を必要
としたりする等実用的ではなくなる。使用される有機溶
媒が、ジクロロメタンである場合には、大気圧におい
て、還流温度である約39℃で行うことができる。実際
には、反応は通常、室温付近で開始され、それから反応
熱により還流温度付近にまで上昇される。反応は通常大
気圧で行うが、所望ならば、加圧下または減圧下で反応
を行ってもよい。
【0039】尚、本発明の芳香族ポリカーボネートは、
所望により、分岐化剤を添加することにより、分岐化さ
れた芳香族ポリカーボネートとすることができる。本発
明の芳香族ポリカーボネートに対して適する分岐化剤
は、例えば、3つ以上の芳香族性ヒドロキシ基、クロロ
ホーメート基、カルボン酸基、カルボン酸クロライド基
さらには活性なハロゲン原子を有する化合物を挙げるこ
とができ、具体例としては、フロログルシノール、1,
1,4,4−テトラキス(4’−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン、1,3,5−トリス(4’−ヒドロキ
シフェニル)ベンゼン、1,1,1−トリス(4’−ヒ
ドロキシフェニル)エタン、1,1,2−トリス(4’
−ヒドロキシフェニル)プロパン、α,α,α’,α’
−テトラキス(4’−ヒドロキシフェニル)−1,4−
ジエチルベンゼン、1−ヒドロキシ−2,4−ビス〔α
−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕
ベンゼン、2,2,5,5−テトラキス(4’−ヒドロ
キシフェニル)ヘキサン、1,1,2,3−テトラキス
(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2−(4'−ヒ
ドロキシフェニル)−2−(2”,4”−ジヒドロキシ
フェニル)プロパン、4,6−ジメチル−2,4,6−
トリス(4’−ヒドロキシフェニル)−2−ヘプテン、
4,6−ジメチル−2,4,6−トリス(4’−ヒドロ
キシフェニル)ヘプタン、1,4−ビス(4’,4”−
ジヒドロキシトリフェニルメチル)ベンゼン、3,
3’,5,5’−テトラヒドロキシジフェニルエーテ
ル、トリス(4−ヒドロキシフェニル)ホスフィン、ト
リメシン酸トリクロライド、シアヌル酸クロライド、
3,3−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)−2−オキ
ソ−2,3−ジヒドロインドール、3,3−ビス(4’
−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−2−オキソ−
2,3−ジヒドロインドール等を挙げることができる。
分岐化剤を使用する場合には、その使用量は、目的とす
る芳香族ポリカーボネートの分岐度にあわせて変化させ
ることができるが、通常、芳香族ジヒドロキシ化合物に
対して0.05〜2.0モル%程度用いるのが好まし
い。
【0040】さらに、本発明の芳香族ポリカーボネート
は、芳香族ポリエステルカーボネートをも包含するもの
であり、少なくとも1種の芳香族ジヒドロキシ化合物
〔例えば、一般式(2)で表される化合物〕、カーボネ
ート前駆体(例えば、ホスゲン)、2価のカルボン酸ま
たは該化合物の誘導体(例えば、米国特許第31691
21号記載のイソフタル酸、テレフタル酸、イソフタル
酸ジクロライド、テレフタル酸ジクロライド等)および
一般式(1−A)で表される化合物を用い、好適に芳香
族ポリエステルカーボネートを製造することができる。
この際、2価のカルボン酸または該化合物の誘導体の使
用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物に対し、30〜80
モル%程度用いるのが好ましい。
【0041】また、本発明の芳香族ポリカーボネートを
製造する際には、当業者ではすでに公知の溶液重合法を
利用することもでき、例えば、ピリジン溶液中で、芳香
族ジヒドロキシ化合物、カーボネート前駆体として、ハ
ロゲン化カルボニルまたは/およびハロホーメート化合
物および一般式(1−A)で表される化合物を約0〜5
0℃で作用させることにより製造することができる。ジ
アルキルカーボネート化合物、アルキルアリールカーボ
ネート化合物または/およびジアリールカーボネート化
合物を用いて、芳香族ジヒドロキシ化合物と一般式(1
−A)で表される化合物とより本発明の芳香族ポリカー
ボネートを製造する場合には、ジアルキルカーボネート
化合物、アルキルアリールカーボネート化合物または/
およびジアリールカーボネート化合物、芳香族ジヒドロ
キシ化合物と一般式(1−A)で表される化合物との混
合物を、約60〜約300℃の温度で、常圧、加圧下ま
たは減圧下で、必要に応じてエステル交換触媒(例え
ば、金属酸化物、水酸化物、炭酸塩等)の存在下で、当
業者ではすでに公知のエステル交換法により製造するこ
とができる。
【0042】本発明の芳香族ポリカーボネートは、界面
重合法または溶液重合法により製造した場合、通常該芳
香族ポリカーボネートを含有する有機溶媒溶液を水層と
分離した後、水洗浄により、実質的に電解質が無くなる
まで洗浄した後、該有機溶媒溶液から公知の方法により
有機溶媒を除去して、本発明の芳香族ポリカーボネート
を得ることができる。また、エステル交換法により製造
された芳香族ポリカーボネートは、エステル交換条件下
で溶融した芳香族ポリカーボネートを、直接ペレット化
あるいは成形物へと加工することも可能である。
【0043】本発明の芳香族ポリカーボネートは、特定
の有機溶媒(たとえばジクロロメタン等のハロゲン化炭
化水素系溶媒)に可溶であり、該有機溶媒よりフィルム
のような成形加工品に加工し得る。本発明の芳香族ポリ
カーボネートは、熱可塑性であり、溶融物から射出成
形、押し出し成形、吹き込み成形、積層等の公知の成形
法により容易に成形加工される。
【0044】本発明の芳香族ポリカーボネートは、他の
芳香族ポリカーボネートあるいはポリエチレンテレフタ
レートやポリ(1,4−ブチレンテレフタレート)等の
ポリエステルと混合しえる。また、本発明の芳香族ポリ
カーボネートには、芳香族ポリカーボネートに加工時の
熱安定性、耐光性、耐候性、耐難燃性、離型性およびそ
の他の性質を付与する目的で、芳香族ポリカーボネート
の製造時または製造後に公知の方法で、極めて広範囲に
わたる添加剤、安定剤、難燃剤および充填剤、すなわち
加工および熱安定剤、酸化防止剤、加水分解安定剤、耐
衝撃安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、有機ハロゲン化合
物、アルカリ金属スルホン酸塩、ガラス繊維、ガラスビ
ーズ、硫酸バリウム、TiO2 等を添加しても良い。
【0045】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 実施例1 例示番号5の末端基を有する芳香族ポリカ
ーボネートの製造 10lのバッフル付フラスコに、三段六枚羽根の攪拌機
および還流冷却管を設け、このフラスコに、ビスフェノ
ールA912g(4.0モル)、2−n−ヘプチルオキ
シ−1−ナフタレンカルボン酸38.9g(0.136
モル,ビスフェノールAに対して3.4モル%)、ジク
ロロメタン4l及び脱イオン水4lを入れ、懸濁液と
し、フラスコ内の酸素を除去する為に窒素パージを行っ
た。次に、上記懸濁液にソジウムハイドロサルファイト
1.2gおよび苛性ソーダ432g(10.8モル)を
溶解した水溶液2.2lを供給し、15℃でビスフェノ
ールAを溶解した。この溶液に、ホスゲン495g
(5.0モル)を8.25g/分の速度で供給した。反
応温度は39℃まで上昇し、ジクロロメタンの還流が確
認された。ホスゲンの供給が完了した後、トリエチルア
ミン0.64gを添加して、反応液をさらに90分間攪
拌し、重合反応を行った。その後、反応液を静置し、有
機層を分液し、塩酸により中和し、電解質が無くなるま
で脱イオン水で洗浄した。このようにして得られた芳香
族ポリカーボネートのジクロロメタン溶液にトルエン2
lと水5lを加え、98℃まで加熱することによりジク
ロロメタン及びトルエンを留去して、芳香族ポリカーボ
ネートの粉体を得た。得られた芳香族ポリカーボネート
の数平均分子量は20900、重量平均分子量は512
00であった。
【0046】実施例2 例示番号8の末端基を有する
芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、4−n−ブチル−
3−フェニル−1−ナフトール37.5g(ビスフェノ
ールAに対して3.4モル%)を用いた以外は、実施例
1と同様にして芳香族ポリカーボネートを製造した。得
られた芳香族ポリカーボネートの数平均分子量は208
00、重量平均分子量は51000であった。
【0047】実施例3 例示番号11の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、4−n−デシルオ
キシ−1−ナフタレンカルボン酸クロライド44.4g
(ビスフェノールAに対して3.2モル%)を用いた以
外は、実施例1と同様にして芳香族ポリカーボネートを
製造した。得られた芳香族ポリカーボネートの数平均分
子量は21900、重量平均分子量は53400であっ
た。
【0048】実施例4 例示番号16の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、5−ネオペンチル
−1−ナフタレンカルボン酸クロライド35.4g(ビ
スフェノールAに対して3.4モル%)を用いた以外
は、実施例1と同様にして芳香族ポリカーボネートを製
造した。得られた芳香族ポリカーボネートの数平均分子
量は21000、重量平均分子量は51300であっ
た。
【0049】実施例5 例示番号20の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、5−シクロヘキシ
ルメチルオキシ−1−ナフトール34.8g(ビスフェ
ノールAに対して3.4モル%)を用いた以外は、実施
例1と同様にして芳香族ポリカーボネートを製造した。
得られた芳香族ポリカーボネートの数平均分子量は20
900、重量平均分子量は51100であった。
【0050】実施例6 例示番号29の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、1−(3’−メチ
ルブチルオキシ)−2−ナフタレンカルボン酸クロライ
ド35.4g(ビスフェノールAに対して3.4モル
%)を用いた以外は、実施例1と同様にして芳香族ポリ
カーボネートを製造した。得られた芳香族ポリカーボネ
ートの数平均分子量は20800、重量平均分子量は5
0700であった。
【0051】実施例7 例示番号35の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、3−n−オクチル
オキシ−2−ナフタレンカルボン酸40.8g(ビスフ
ェノールAに対して3.4モル%)を用いた以外は、実
施例1と同様にして芳香族ポリカーボネートを製造し
た。得られた芳香族ポリカーボネートの数平均分子量は
20600、重量平均分子量は50500であった。
【0052】実施例8 例示番号45の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、6−シクロヘキシ
ル−2−ナフトール30.7g(ビスフェノールAに対
して3.4モル%)を用いた以外は、実施例1と同様に
して芳香族ポリカーボネートを製造した。得られた芳香
族ポリカーボネートの数平均分子量は21500、重量
平均分子量は52600であった。
【0053】実施例9 例示番号48の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、6−n−ヘキシル
オキシ−2−ナフチルクロロホーメート41.8g(ビ
スフェノールAに対して3.4モル%)を用いた以外
は、実施例1と同様にして芳香族ポリカーボネートを製
造した。得られた芳香族ポリカーボネートの数平均分子
量は21100、重量平均分子量は51200であっ
た。
【0054】実施例10 例示番号51の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、6−(4’−メチ
ルシクロヘキシルオキシ)−2−ナフタレンカルボン酸
38.6g(ビスフェノールAに対して3.4モル%)
を用いた以外は、実施例1と同様にして芳香族ポリカー
ボネートを製造した。得られた芳香族ポリカーボネート
の数平均分子量は20700、重量平均分子量は510
00であった。
【0055】実施例11 例示番号57の末端基を有す
る芳香族ポリカーボネートの製造 実施例1において、2−n−ヘプチルオキシ−1−ナフ
タレンカルボン酸を用いる代わりに、7−(2’−エチ
ルヘキシルオキシ)−2−ナフトール37.0g(ビス
フェノールAに対して3.4モル%)を用いた以外は、
実施例1と同様してに芳香族ポリカーボネートを製造し
た。得られた芳香族ポリカーボネートの数平均分子量は
21700、重量平均分子量は52800であった。
【0056】比較例1 比較のため、実施例1において、2−n−ヘプチルオキ
シ−1−ナフタレンカルボン酸を用いる代わりに、p−
tert−ブチルフェノール20.4g(ビスフェノールA
に対して3.4モル%)を用いた以外は、実施例1と同
様にして芳香族ポリカーボネートを製造した。得られた
芳香族ポリカーボネートの数平均分子量は21000、
重量平均分子量は51000であった。
【0057】比較例2 比較のため、実施例1において、2−n−ヘプチルオキ
シ−1−ナフタレンカルボン酸を用いる代わりに、p−
n−ヘキシルオキシフェノール26.4g(ビスフェノ
ールAに対して3.4モル%)を用いた以外は、実施例
1と同様にして芳香族ポリカーボネートを製造した。得
られた芳香族ポリカーボネートの数平均分子量は208
00、重量平均分子量は51300であった。
【0058】比較例3 比較のため、実施例1において、2−n−ヘプチルオキ
シ−1−ナフタレンカルボン酸を用いる代わりに、p−
n−オクチルオキシ安息香酸34.0g(ビスフェノー
ルAに対して3.4モル%)を用いた以外は、実施例1
と同様にして芳香族ポリカーボネートを製造した。得ら
れた芳香族ポリカーボネートの数平均分子量は2070
0、重量平均分子量は50800であった。
【0059】尚、各実施例および比較例で製造した各芳
香族ポリカーボネートの分子量は、GPC〔ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィー、昭和電工(株)社製、
GPCシステム−11〕で測定したものである。各実施
例および各比較例で製造した各芳香族ポリカーボネート
のメルトフローインデックス(MI)およびガラス転移
点(Tg、℃)の測定結果を第1表(表1)に示した。
・メルトフローインデックス(MI)は、東洋精機製S
−01メルトインデックサーを用い、温度280℃、荷
重2.16kgの条件で測定し、10分間に溶出するポ
リマーの重量(単位:g)で示す。数値が大きいほど、
溶融流動性に優れていることを示している。・ガラス転
移点(Tg、℃)は、DSC〔マックサイエンス(株)
社製、DSC−3100〕を用い、昇温速度は16℃/
分の条件で測定した。
【0060】
【表1】
【0061】第1表から、本発明の芳香族ポリカーボネ
ートは、公知の末端封止剤を用いて製造される芳香族ポ
リカーボネートに比較して、溶融流動性に優れ、かつガ
ラス転移点も高く、実用上充分な熱安定性を有している
ことが判った。特に、アルキル基またはアルキルオキシ
基を有するナフトール誘導体あるいはナフタレンカルボ
ン酸誘導体より誘導される末端基を有する本発明の芳香
族ポリカーボネートが、公知の鎖状のアルコキシ基を有
するフェノール誘導体または安息香酸誘導体を末端封止
剤として用いて製造される芳香族ポリカーボネートに比
較して、ガラス転移点が非常に高く、熱安定性に優れて
いることは、非常に驚くべきことである。
【0062】
【発明の効果】本発明により、溶融流動性に優れ、かつ
熱安定性に優れた芳香族ポリカーボネートを提供するこ
とが可能になった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 彰宏 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 審査官 森川 聡 (56)参考文献 特開 昭57−133149(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 64/00 - 64/42

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 末端基の少なくとも1つが、一般式
    (1)で表される基である芳香族ポリカーボネート。 −A−(O)p −R1 (1) (式中、R1 はアルキル基を表し、p は0または1を表
    し、Aはナフチレン基を表す)
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