JP3212881B2 - 半導体装置の製造装置および製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造装置および製造方法

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JP3212881B2 JP20029296A JP20029296A JP3212881B2 JP 3212881 B2 JP3212881 B2 JP 3212881B2 JP 20029296 A JP20029296 A JP 20029296A JP 20029296 A JP20029296 A JP 20029296A JP 3212881 B2 JP3212881 B2 JP 3212881B2
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  • Die Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、たとえば半導体
装置の製造装置および製造方法に関するもので、特に、
TAB(Tape Automated Bonding)テープにより半導体
チップとリードフレームとを接続した、いわゆる、TA
B−FP(TAB Flat Package)の製造に用いられるもの
である。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体装置の製造の分野において
は、小型化や多ピン化にともなって、半導体チップのボ
ンディングパッド間が狭ピッチ化してきており、従来の
ワイヤボンディングでは対応しきれない状況になりつつ
ある。
【0003】このような状況の中で、ワイヤボンディン
グによる接続方法に代わるものとして、TABテープを
用いて半導体チップをリードフレーム上に搭載するよう
にしたTAB−FPが開発されている。
【0004】TABテープの場合、インナリードの間隔
をワイヤボンディングが可能な限界のピッチよりも狭く
形成することができるため、ボンディングパッド間の狭
ピッチ化に対して優位であり、しかも、安価に対応でき
る。
【0005】図4は、上記したTAB−FPの製造に用
いられる、従来のボンディング装置の要部を示すもので
ある。従来のボンディング装置では、まず、ボンディン
グステージ1上にリードフレーム101を載置した後、
そのダイパッド102に、熱硬化性の接着剤からなるダ
イボンディング樹脂201を塗布する。
【0006】一方、チップ固定用ノズル2によって、あ
らかじめ形成された、TABテープ301上に半導体チ
ップ401を搭載してなるTABテープ付きチップを保
持させる。この場合、半導体チップ401上のボンディ
ングパッドのそれぞれに、TABテープ301のフィル
ム302上に形成された各配線パターン303の一端が
接続されて、TABテープ付きチップが形成されてい
る。
【0007】そして、相互の位置合わせを行った後、そ
のノズル2を所定の位置から所定の高さだけ降下させる
ことにより、半導体チップ401に所定の荷重を加えつ
つ、半導体チップ401をダイボンディング樹脂201
を介してダイパッド102上に固定する。
【0008】このとき、ボンディングステージ1に設け
られた凹部1aにより、リードフレーム101のダイパ
ッド102の下に隙間が形成されることによって、チッ
プ固定用ノズル2の高さ方向のばらつきなどによる不要
な荷重が半導体チップ401に加わるのを防いで、傷や
クラックなどのダメージから半導体チップ401を保護
できるようになっている。
【0009】また、この状態で、OLB(Outer Lead B
onding)ツール3によって、約500℃の温度と所定の
圧力とを加えながら、TABテープ301の各配線パタ
ーン303の他端を、リードフレーム101の各リード
103のインナリード103aに接合(熱圧着)する。
【0010】こうして、リードフレーム101のダイパ
ッド102上への半導体チップ401のダイボンディン
グの後、TABテープ301の各配線パターン303
の、リードフレーム101の各リード103へのアウタ
リードボンディングが連続して実行されて、リードフレ
ーム101上へのTABテープ付きチップの搭載が行わ
れる。
【0011】しかしながら、上記した従来のボンディン
グ装置の場合、ダイパッド102を固定しないようにし
ているため、ダイボンディング時の半導体チップ401
に対するダメージを回避できる反面、アウタリードボン
ディング時のOLBツール3からの熱によってダイパッ
ド102が変形しやすいという問題があった。
【0012】ダイパッド102が変形すると、たとえば
図5に示すように、ダイボンディング樹脂201に空間
201aなどができ、半導体チップ401とダイパッド
102との接着性を悪化させる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
においては、半導体チップへのダメージを回避できるも
のの、ダイパッドの変形により、半導体チップをダイパ
ッド上に良好に接着するのが難しく、接着不良を生じや
すいという問題があった。
【0014】そこで、この発明は、半導体チップに対し
てダメージを与えることなく、半導体チップのダイパッ
ド部上への接着を良好に行うことが可能な半導体装置の
製造装置および製造方法を提供することを目的としてい
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明の半導体装置の製造装置にあっては、リ
ードフレームが載置されるボンディングステージと、こ
のステージ上への前記リードフレームの載置により、該
リードフレームのダイパッド部を、その下方より支持す
る荷重制御可能に設けられたダイパッド受けと、TAB
テープ上に搭載された半導体チップを保持し、その高さ
制御により、該半導体チップを前記ダイパッド受けによ
り支持されている前記リードフレームのダイパッド部上
にダイボンディングする固定用ツールと、前記TABテ
ープのリード部を、前記リードフレームのリード部に熱
圧着により接合する接合用ツールとから構成されてい
る。
【0016】また、この発明の半導体装置の製造方法に
あっては、ボンディングステージ上へのリードフレーム
の載置により、該リードフレームのダイパッド部を、そ
の下方より荷重制御可能に設けられたダイパッド受けに
より支持させる工程と、TABテープ上に搭載された半
導体チップを固定用ツールを用いて保持し、その高さ制
御により、該半導体チップを前記ダイパッド受けにより
支持されている前記ダイパッド部上にダイボンディング
する工程と、この状態で、前記TABテープのリード部
を、接合用ツールを用いて前記リードフレームのリード
部に熱圧着する工程とからなっている。
【0017】この発明の半導体装置の製造装置および製
造方法によれば、リードフレームのダイパッド部を、半
導体チップに加えられる荷重を制御しながらも確実に固
定できるようになる。これにより、ダイパッド部の変形
を阻止でき、半導体チップとダイパッド部との接着性を
改善することが可能となるものである。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施の
一形態にかかる、ボンディング装置の要部を概略的に示
すものである。
【0019】たとえば、このボンディング装置は、リー
ドフレーム101をリード103により支持するボンデ
ィングステージ11、このステージ11とは独立して設
けられ、上記リードフレーム101のダイパッド102
を支持するダイパッド受け12、TABテープ301上
の半導体チップ401を保持し、その半導体チップ40
1を上記ダイパッド102上にダイボンディングするチ
ップ固定用ノズル(固定用ツール)13、および、上記
TABテープ301のフィルム302上に形成された配
線パターン(リード部)303を、上記リードフレーム
101のリード103に熱圧着により接合するOLBツ
ール(接合用ツール)14などを備えてなる構成とされ
ている。
【0020】ボンディングステージ11は、その略中心
部に、上記リードフレーム101のダイパッド102が
挿入される凹部11aが形成されている。そして、その
凹部11aの底部には、上記ダイパッド受け12が突出
される開口11bが形成されている。
【0021】また、ボンディングステージ11には、上
記凹部11a内に高圧エアーや冷水を供給したり、また
は、凹部11a内を真空にすることにより、上記ダイパ
ッド102を急速に冷却するための冷却路11cが設け
られている。
【0022】ダイパッド受け12は、上記開口11bよ
り上記ボンディングステージ11の凹部11a内に突出
されて、上記リードフレーム101のダイパッド102
を下方より支持するように構成されている。
【0023】このダイパッド受け12は、荷重制御用ス
プリング12aを介して取り付けられている。荷重制御
用スプリング12aは、たとえば、上記ダイパッド受け
12を上下動可能に保持し、これにより、上記チップ固
定用ノズル13の高さ方向のばらつきなどによる荷重の
過不足を調整することが可能となっている。したがっ
て、ダイボンディング時には、半導体チップ401に最
適荷重(たとえば、100g〜300g)を超える不要
な荷重が加わるのを防いで、傷やクラックなどのダメー
ジから半導体チップ401を保護できる。
【0024】チップ固定用ノズル13は、TABテープ
301上にあらかじめ搭載されたTABテープ付きの半
導体チップ401を真空吸着などにより保持するため
の、保持機構(図示していない)を有して構成されてい
る。
【0025】また、チップ固定用ノズル13は、図示し
ていない駆動機構によって昇降動作するように構成され
ており、ダイボンディング時には、所定の位置から所定
の高さだけ降下するように、その高さ位置が制御される
ようになっている。
【0026】OLBツール14は、図示していない駆動
機構によって昇降動作するように構成されている。ま
た、OLBツール14は、アウタリードボンディング時
に、上記TABテープ301の配線パターン303を約
500℃の温度で加熱するための、加熱機構(図示して
いない)を有して構成されている。
【0027】なお、このボンディング装置は、さらに、
上記ボンディングステージ11上に載置された上記リー
ドフレーム101の、上記ダイパッド102上に、たと
えば200℃以下の温度で硬化する、熱硬化性の接着剤
からなるダイボンディング樹脂を塗布するための樹脂塗
布用ノズル(図示していない)などを備えて構成されて
いる。
【0028】次に、上記した構成のボンディング装置に
よる半導体装置の製造方法について説明する。図2は、
TAB−FP(TAB Flat Package)の製造にかかるプロ
セスの要部を概略的に示すものである。
【0029】まず、ボンディングステージ11上にリー
ドフレーム101を載置した後、そのダイパッド102
上に、熱硬化性の接着剤からなるダイボンディング樹脂
201を塗布する。
【0030】一方、チップ固定用ノズル13によって、
あらかじめ別工程にて形成された、TABテープ301
上に半導体チップ401を搭載してなるTABテープ付
きチップを保持させる(以上、同図(a)参照)。
【0031】上記TABテープ付きチップは、半導体チ
ップ401上のボンディングパッドのそれぞれに、上記
TABテープ301のフィルム302上に形成された各
配線パターン303の一端が接続されてなる構成とされ
ている。
【0032】そして、相互の位置合わせを行った後、た
とえば、上記ノズル13を所定の位置から所定の高さだ
け降下させることにより、半導体チップ401に所定の
荷重を加えつつ、半導体チップ401をダイボンディン
グ樹脂201を介してダイパッド102上に固定する
(同図(b)参照)。
【0033】このとき、上記リードフレーム101のダ
イパッド102は、その下方より、ダイパッド受け12
によって支持されている。このため、ダイボンディング
時に、たとえば、上記ダイパッド102が不用意に下方
向に移動したり、振動するのを阻止できる。
【0034】したがって、適当な温度(200℃以下)
で上記ダイボンディング樹脂201を熱硬化させること
により、ダイパッド102と半導体チップ401とが、
上記ダイボンディング樹脂201を介して良好に接着さ
れる。
【0035】一方、チップ固定用ノズル13の高さ方向
のばらつきなどによって不要な荷重が半導体チップ40
1に加わる場合には、それを、荷重制御用スプリング1
2aの伸縮によって逃がすことができる。
【0036】すなわち、半導体チップ401に不要な荷
重が加えられると、その不要な荷重の分だけ荷重制御用
スプリング12aによって半導体チップ401の位置が
下げられる。これにより、半導体チップ401に加わる
荷重が制御されることによって、半導体チップ401の
ダイパッド102へのダイボンディングを良好に行うた
めの、最適な接着荷重力(たとえば、1N〜3N)を常
に確保することが可能となると同時に、半導体チップ4
01に不要な荷重が加わるのを防いで、傷やクラックな
どのダメージから半導体チップ401を確実に保護でき
る。
【0037】この後、OLBツール14によって、約5
00℃の温度と所定の圧力とを加えながら、TABテー
プ301の各配線パターン303の他端を、リードフレ
ーム101の各リード103のインナリード103aに
接合(熱圧着)する(同図(c)参照)。
【0038】このときも、上記リードフレーム101の
ダイパッド102は、その下方より、上記ダイパッド受
け12によって支持されている。このため、アウタリー
ドボンディング時の、上記OLBツール14からの熱に
よってダイパッド102が変形するのを阻止できる。
【0039】しかも、このアウタリードボンディング時
に、たとえば、上記冷却路11cを介して上記ダイパッ
ド102などを急速に冷却することによって、ダイボン
ディング樹脂201の温度が高くなるのを防止できる。
したがって、ダイボンディング樹脂201の成分が揮発
するのを防ぐことが可能となり、半導体チップ401と
ダイパッド102とを、より強固に接着できるようにな
る。
【0040】このように、リードフレーム101のダイ
パッド102を荷重制御が可能なダイパッド受け12に
より支持するようにしているため、ダイボンディング時
に半導体チップ401に不要な荷重が加えられるのを防
ぐことができるとともに、アウタリードボンディング時
の熱によってダイパッド102が変形するのを阻止でき
るようになる。
【0041】したがって、傷やクラックなどのダメージ
から半導体チップ401を保護しつつ、たとえば図3に
示すように、ダイボンディング樹脂201に空間ができ
るのを防いで、リードフレーム101のダイパッド10
2上への半導体チップ401の接着を良好に行うことが
可能となる。
【0042】なお、半導体チップ401がダイパッド1
02上にダイボンディングされ、かつ、TABテープ3
01の配線パターン303とリード103とがアウタリ
ードボンディングされることにより、TABテープ付き
チップが搭載されたリードフレーム101は、別工程、
たとえばトランスファモールド工程に送られる。
【0043】そして、上記配線パターン303とリード
103とのアウタリードボンディング点を含んで、上記
ダイパッド102上にダイボンディングされた半導体チ
ップ401の周囲が樹脂封止された後、上記リードフレ
ーム101の各リード103のアウタリード103bが
所定の形状にフォーミングされて、最終的に、TAB−
FPが形成される。
【0044】上記したように、リードフレームのダイパ
ッドを、半導体チップに加えられる荷重を制御しながら
も確実に固定できるようにしている。すなわち、荷重制
御用スプリングを介して取り付けられたダイパッド受け
により、リードフレームのダイパッドを下方より支持す
るようにしている。これにより、アウタリードボンディ
ング時の熱によってダイパッドが変形したりするのを阻
止できるとともに、半導体チップに不要な荷重が加えら
れるのを防止できるようになる。したがって、半導体チ
ップとダイパッドとの接着性を改善でき、ダメージや接
着不良を防ぐことが可能となるものである。
【0045】しかも、ダイパッド受けで荷重制御するも
ののため、複雑なチップ固定用ノズルによる荷重制御の
代替え技術として、特に、有用である。なお、上記した
本発明の実施の一形態においては、TABテープの配線
パターンを押さえずに半導体チップをダイボンディング
するようにした場合について説明したが、これに限ら
ず、たとえばOLBツールによって配線パターンをリー
ドに当接させながら、ダイボンディングを行うようにす
ることも可能である。その他、この発明の要旨を変えな
い範囲において、種々変形実施可能なことは勿論であ
る。
【0046】
【発明の効果】以上、詳述したようにこの発明によれ
ば、半導体チップに対してダメージを与えることなく、
半導体チップのダイパッド部上への接着を良好に行うこ
とが可能な半導体装置の製造装置および製造方法を提供
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の一形態にかかる、ボンディン
グ装置の要部を示す概略図。
【図2】同じく、製造プロセスを説明するために示すボ
ンディング装置の概略図。
【図3】同じく、TABテープ付きチップが搭載された
状態を示すリードフレームの概略構成図。
【図4】従来技術とその問題点を説明するために示す、
ボンディング装置の概略図。
【図5】同じく、かかる問題点を説明するために示すボ
ンディング装置の概略図。
【符号の説明】
11…ボンディングステージ 11a…凹部 11b…開口 11c…冷却路 12…ダイパッド受け 12a…荷重制御用スプリング 13…チップ固定用ノズル 14…OLBツール 101…リードフレーム 102…ダイパッド 103…リード 103a…インナリード 103b…アウタリード 201…ダイボンディング樹脂 301…TABテープ 302…フィルム 303…配線パターン 401…半導体チップ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/52 H01L 21/60

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレームが載置されるボンディン
    グステージと、 このステージ上への前記リードフレームの載置により、
    該リードフレームのダイパッド部を、その下方より支持
    する荷重制御可能に設けられたダイパッド受けと、 TABテープ上に搭載された半導体チップを保持し、そ
    の高さ制御により、該半導体チップを前記ダイパッド受
    けにより支持されている前記リードフレームのダイパッ
    ド部上にダイボンディングする固定用ツールと、 前記TABテープのリード部を、前記リードフレームの
    リード部に熱圧着により接合する接合用ツールとを具備
    したことを特徴とする半導体装置の製造装置。
  2. 【請求項2】 前記ダイパッド受けは、荷重制御用のス
    プリングを有して構成されていることを特徴とする請求
    項1に記載の半導体装置の製造装置。
  3. 【請求項3】 前記固定用ツールは、前記半導体チップ
    の表面を真空吸着するための機構を備えてなることを特
    徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造装置。
  4. 【請求項4】 前記ボンディングステージは、前記リー
    ドフレームのダイパッド部を冷却するための冷却機構を
    有してなることを特徴とする請求項1に記載の半導体装
    置の製造装置。
  5. 【請求項5】 ボンディングステージ上へのリードフレ
    ームの載置により、該リードフレームのダイパッド部
    を、その下方より荷重制御可能に設けられたダイパッド
    受けにより支持させる工程と、 TABテープ上に搭載された半導体チップを固定用ツー
    ルを用いて保持し、その高さ制御により、該半導体チッ
    プを前記ダイパッド受けにより支持されている前記ダイ
    パッド部上にダイボンディングする工程と、 この状態で、前記TABテープのリード部を、接合用ツ
    ールを用いて前記リードフレームのリード部に熱圧着す
    る工程とからなることを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 前記ダイパッド受けは、スプリングによ
    りダイボンディング時に前記半導体チップおよび前記ダ
    イパッド部にかかる荷重を制御するものであることを特
    徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記固定用ツールは、前記半導体チップ
    の表面を真空吸着するものであることを特徴とする請求
    項5に記載の半導体装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記ボンディングステージは、冷却機構
    によりダイボンディング時に前記リードフレームのダイ
    パッド部を冷却するものであることを特徴とする請求項
    5に記載の半導体装置の製造方法。
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