JP3210946B2 - ベンゾフェノン誘導体の製造法 - Google Patents
ベンゾフェノン誘導体の製造法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感圧記録体用あるいは
感熱記録体用の無色染料として有用なフルオラン誘導体
の製造中間体として用いられるベンゾフェノン誘導体の
製造方法の改良に関する。
感熱記録体用の無色染料として有用なフルオラン誘導体
の製造中間体として用いられるベンゾフェノン誘導体の
製造方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】ベンゾフェノン誘導体の製造方法として
は、ｍ−アミノフェノール誘導体１モルと無水フタル酸
0.５〜２モルとを無溶媒或いはトルエン、キシレン、テ
トラクロロエタン等の不活性有機溶媒中において、８０
〜１５０℃の温度条件下で数時間加熱反応させる方法が
知られている。
は、ｍ−アミノフェノール誘導体１モルと無水フタル酸
0.５〜２モルとを無溶媒或いはトルエン、キシレン、テ
トラクロロエタン等の不活性有機溶媒中において、８０
〜１５０℃の温度条件下で数時間加熱反応させる方法が
知られている。
【０００３】しかし、かかる公知の方法をそのまま行っ
た場合には、生成したベンゾフェノン誘導体がさらにア
ミノフェノールと反応し、赤色染料であるローダミン型
染料等が副生することが知られている。このローダミン
染料等の副生は、目的とするベンゾフェノン誘導体の生
成を抑制するばかりでなく、その着色のため反応容器や
周囲の環境を汚染し作業性の低下をも来すため、ベンゾ
フェノン誘導体の製造上大きな問題となっている。
た場合には、生成したベンゾフェノン誘導体がさらにア
ミノフェノールと反応し、赤色染料であるローダミン型
染料等が副生することが知られている。このローダミン
染料等の副生は、目的とするベンゾフェノン誘導体の生
成を抑制するばかりでなく、その着色のため反応容器や
周囲の環境を汚染し作業性の低下をも来すため、ベンゾ
フェノン誘導体の製造上大きな問題となっている。
【０００４】また、副生したローダミン染料の除去方法
として、活性炭処理により吸着せしめる方法、またはロ
ーダミン染料に対する溶解度が大きなメチルアルコー
ル、エチルアルコール、トルエン等の有機溶媒による洗
滌処理等が一般に採用されているが、これらの方法によ
ってローダミン染料を完全にかつ選択的に除去すること
は、極めて困難である。
として、活性炭処理により吸着せしめる方法、またはロ
ーダミン染料に対する溶解度が大きなメチルアルコー
ル、エチルアルコール、トルエン等の有機溶媒による洗
滌処理等が一般に採用されているが、これらの方法によ
ってローダミン染料を完全にかつ選択的に除去すること
は、極めて困難である。
【０００５】この為、ベンゾフェノン誘導体の生成反応
液に多量のアルカリを加えてローダミン染料のみを選択
的に加熱分解する方法が提案されている（特開昭62-703
50号公報) が、この方法では、目的とするベンゾフェノ
ン誘導体を高純度・高収率で製造することは困難であ
る。
液に多量のアルカリを加えてローダミン染料のみを選択
的に加熱分解する方法が提案されている（特開昭62-703
50号公報) が、この方法では、目的とするベンゾフェノ
ン誘導体を高純度・高収率で製造することは困難であ
る。
【０００６】本発明の目的は、上記の如き従来法が有す
る難点を解消し、高純度・高収率でかつ工業的に有利に
目的とするベンゾフェノン誘導体を製造する方法を提供
することにある。
る難点を解消し、高純度・高収率でかつ工業的に有利に
目的とするベンゾフェノン誘導体を製造する方法を提供
することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（１）
【０００８】
【化３】
【０００９】〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一または異なって
いてもよく、ヘテロ原子を有してもよいアルキル基また
はシクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置
換もしくは未置換のフェニル基を表す。また、Ｒ1 とＲ
2 が一緒になってヘテロ環を形成することもできる。〕
いてもよく、ヘテロ原子を有してもよいアルキル基また
はシクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置
換もしくは未置換のフェニル基を表す。また、Ｒ1 とＲ
2 が一緒になってヘテロ環を形成することもできる。〕
【００１０】で表されるｍ−アミノフェノール誘導体と
無水フタル酸とを不活性有機溶媒の存在下に反応させた
後、次いで上記ｍ−アミノフェノール誘導体に対して１
〜６倍モルのアルカリを５〜３０重量％濃度の水溶液と
して加え、加熱・溶解した後、冷却晶析し、濾別するこ
とを特徴とする遊離酸の形で下記一般式（２）
無水フタル酸とを不活性有機溶媒の存在下に反応させた
後、次いで上記ｍ−アミノフェノール誘導体に対して１
〜６倍モルのアルカリを５〜３０重量％濃度の水溶液と
して加え、加熱・溶解した後、冷却晶析し、濾別するこ
とを特徴とする遊離酸の形で下記一般式（２）
【００１１】
【化４】
【００１２】〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前述の意味を表
す。〕で表されるベンゾフェノン誘導体の製造法であ
る。
す。〕で表されるベンゾフェノン誘導体の製造法であ
る。
【００１３】以下、本発明の方法について、更に詳しく
説明する。本発明の方法において、一般式（１）で示さ
れるｍ−アミノフェノール誘導体と無水フタル酸との反
応は、自体公知の方法が適用され、具体的にはベンゼ
ン、トルエン、キシレン、テトラクロロエタン、トリク
レン、パークレンなどの不活性有機溶媒中にて、温度８
０〜１５０℃で、数時間〜数十時間加熱反応せしめる事
によって行われる。
説明する。本発明の方法において、一般式（１）で示さ
れるｍ−アミノフェノール誘導体と無水フタル酸との反
応は、自体公知の方法が適用され、具体的にはベンゼ
ン、トルエン、キシレン、テトラクロロエタン、トリク
レン、パークレンなどの不活性有機溶媒中にて、温度８
０〜１５０℃で、数時間〜数十時間加熱反応せしめる事
によって行われる。
【００１４】本発明の方法は、かかる反応終了後の系
に、引き続いて上記ｍ−アミノフェノール誘導体に対し
て所定量のアルカリを所定の濃度になるようにして加
え、一旦加熱・溶解した後、アルカリ塩の形で冷却晶析
し、濾別するという手段を施すことを特徴とするベンゾ
フェノン誘導体の製造法である。
に、引き続いて上記ｍ−アミノフェノール誘導体に対し
て所定量のアルカリを所定の濃度になるようにして加
え、一旦加熱・溶解した後、アルカリ塩の形で冷却晶析
し、濾別するという手段を施すことを特徴とするベンゾ
フェノン誘導体の製造法である。
【００１５】本発明の方法は、上記一連の工程・手段に
よって目的とするベンゾフェノン誘導体を高純度、高収
率で製造するものであるが、まず、所定量のアルカリを
所定の濃度になるようにして加えることが重要である。
アルカリ濃度の調製は任意であり、例えば適当な濃度の
アルカリ水溶液を反応液に加えるか、水とアルカリ（或
いはアルカリ水溶液）を反応液に加えるか、反応液を水
に注入してからアルカリ（或いはアルカリ水溶液）を加
えるか、或いは反応液を水と適当な濃度のアルカリ水溶
液中に加える等の方法で行われる。
よって目的とするベンゾフェノン誘導体を高純度、高収
率で製造するものであるが、まず、所定量のアルカリを
所定の濃度になるようにして加えることが重要である。
アルカリ濃度の調製は任意であり、例えば適当な濃度の
アルカリ水溶液を反応液に加えるか、水とアルカリ（或
いはアルカリ水溶液）を反応液に加えるか、反応液を水
に注入してからアルカリ（或いはアルカリ水溶液）を加
えるか、或いは反応液を水と適当な濃度のアルカリ水溶
液中に加える等の方法で行われる。
【００１６】本発明において、添加するアルカリの量
が、上記一般式（１）で示されるｍ−アミノフェノール
誘導体に対して２〜７倍モルの範囲を出たり、また濃度
が５〜３０重量％の範囲を出る場合には、以降の冷却晶
析の工程にとの関連で高純度・高収率で目的とするベン
ゾフェノン誘導体を製造することは出来ないことを見出
した。
が、上記一般式（１）で示されるｍ−アミノフェノール
誘導体に対して２〜７倍モルの範囲を出たり、また濃度
が５〜３０重量％の範囲を出る場合には、以降の冷却晶
析の工程にとの関連で高純度・高収率で目的とするベン
ゾフェノン誘導体を製造することは出来ないことを見出
した。
【００１７】本発明において、添加するアルカリの量の
更に好ましい範囲は２．５〜６倍モル、アルカリ水溶液
の濃度は１０〜２５重量％であることを見出した。な
お、ここで、アルカリ水溶液の濃度とは、系中に存在す
る水に対するアルカリの重量％を意味する。すなわち、
アルカリの量が多過ぎたり、アルカリ水溶液の濃度が高
濃度になり過ぎると、目的物以外の原料、その他副生成
物等が噛み込み、純度低下の原因となり、またアルカリ
の量が所定量、所定濃度より少ないと収率の低下を来す
原因となる等である。
更に好ましい範囲は２．５〜６倍モル、アルカリ水溶液
の濃度は１０〜２５重量％であることを見出した。な
お、ここで、アルカリ水溶液の濃度とは、系中に存在す
る水に対するアルカリの重量％を意味する。すなわち、
アルカリの量が多過ぎたり、アルカリ水溶液の濃度が高
濃度になり過ぎると、目的物以外の原料、その他副生成
物等が噛み込み、純度低下の原因となり、またアルカリ
の量が所定量、所定濃度より少ないと収率の低下を来す
原因となる等である。
【００１８】本発明において、アルカリを加えた後の、
加熱・溶解の工程は、以後の晶析工程とも関連し、重要
な工程となる。この工程では、不活性溶媒が混在した状
態で、通常５０〜１２０℃、好ましくは７０〜１００℃
の温度で溶解させる。通常はアルカリを加えて後、加温
するのが好ましいが、発熱等により加温状態にあれば、
改めて加熱手段を採る必要はなく、溶解状態となればよ
い。また、この段階で必要により不活性有機溶媒を追加
することができるが、この時の不活性有機溶媒は、あま
り多過ぎると以降の晶析工程に支障となるので、上記上
記一般式（１）で示されるｍ−アミノフェノール誘導体
に対して５重量倍以下、更には４重量倍以下の範囲で追
加することが好ましい。
加熱・溶解の工程は、以後の晶析工程とも関連し、重要
な工程となる。この工程では、不活性溶媒が混在した状
態で、通常５０〜１２０℃、好ましくは７０〜１００℃
の温度で溶解させる。通常はアルカリを加えて後、加温
するのが好ましいが、発熱等により加温状態にあれば、
改めて加熱手段を採る必要はなく、溶解状態となればよ
い。また、この段階で必要により不活性有機溶媒を追加
することができるが、この時の不活性有機溶媒は、あま
り多過ぎると以降の晶析工程に支障となるので、上記上
記一般式（１）で示されるｍ−アミノフェノール誘導体
に対して５重量倍以下、更には４重量倍以下の範囲で追
加することが好ましい。
【００１９】本発明において、冷却晶析・濾別の工程
は、これによって目的とするベンゾフェノン誘導体以外
の副生物、不純物等を目的物から分別する工程であり、
重要な工程であるが、通常公知の冷却晶析及び濾過の手
段で容易に実施される。すなわち、冷却晶析は通常室温
以下、好ましくは２０℃以下に冷却し、ベンゾフェノン
誘導体をアルカリ塩の形で結晶として析出させる。ま
た、濾別は、加圧或いは減圧濾過器、あるいはセントル
濾過器等を用いて行われる。
は、これによって目的とするベンゾフェノン誘導体以外
の副生物、不純物等を目的物から分別する工程であり、
重要な工程であるが、通常公知の冷却晶析及び濾過の手
段で容易に実施される。すなわち、冷却晶析は通常室温
以下、好ましくは２０℃以下に冷却し、ベンゾフェノン
誘導体をアルカリ塩の形で結晶として析出させる。ま
た、濾別は、加圧或いは減圧濾過器、あるいはセントル
濾過器等を用いて行われる。
【００２０】本発明に用いられるアルカリとしては、特
に限定するものではなく、一般にカセイソーダまたはカ
セイカリが好ましく使用される。
に限定するものではなく、一般にカセイソーダまたはカ
セイカリが好ましく使用される。
【００２１】本発明の反応は不活性有機溶媒中で行わ
れ、その使用量は特に制限的ではないが、通常一般式
（１）で示されるｍ−アミノフェノール誘導体に対して
０．５〜５重量部、好ましくは１〜４重量部である。
れ、その使用量は特に制限的ではないが、通常一般式
（１）で示されるｍ−アミノフェノール誘導体に対して
０．５〜５重量部、好ましくは１〜４重量部である。
【００２２】本発明において適用される一般式（１）で
表されるｍ−アミノフェノール誘導体としては、例えば
下記の化合物が例示される。
表されるｍ−アミノフェノール誘導体としては、例えば
下記の化合物が例示される。
【００２３】Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ
−ジ−ｎ−プロピル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−
ジ−ｎ−ブチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−
Ｎ−エチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−
ｎ−プロピル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ
−iso −プロピル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル
−Ｎ−ｎ−ブチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル
−Ｎ−sec −ブチル ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−iso −ブチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エ
チル−Ｎ−ｎ−ペンチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−
エチル−Ｎ−iso −ペンチル−ｍ−アミノフェノール、
Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ヘキシル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−オクチル−ｍ−アミノフェノ
ール、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロペンチル−ｍ−アミノフ
ェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロペンチル−ｍ−アミ
ノフェノール、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−シクロペンチル
−ｍ−アミノフェノール、
ル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ
−ジ−ｎ−プロピル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−
ジ−ｎ−ブチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−
Ｎ−エチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−
ｎ−プロピル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ
−iso −プロピル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル
−Ｎ−ｎ−ブチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル
−Ｎ−sec −ブチル ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−iso −ブチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エ
チル−Ｎ−ｎ−ペンチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−
エチル−Ｎ−iso −ペンチル−ｍ−アミノフェノール、
Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ヘキシル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−オクチル−ｍ−アミノフェノ
ール、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロペンチル−ｍ−アミノフ
ェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロペンチル−ｍ−アミ
ノフェノール、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−シクロペンチル
−ｍ−アミノフェノール、
【００２４】Ｎ−iso −プロピル−Ｎ−シクロペンチル
−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−シクロ
ペンチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−iso −ブチル−
Ｎ−シクロペンチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−
ペンチル−Ｎ−シクロペンチル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ−iso −ペンチル−Ｎ−シクロペンチル−ｍ−ア
ミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル−ｍ
−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロヘキシル
−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−シク
ロヘキシル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−ブチル−
Ｎ−シクロヘキシル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−iso
−ブチル−Ｎ−シクロヘキシル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ−ｎ−ペンチル−Ｎ−シクロヘキシル−ｍ−アミ
ノフェノール、Ｎ−iso −ペンチル−Ｎ−シクロヘキシ
ル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘ
プチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−シク
ロヘプチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−プロピル
−Ｎ−シクロヘプチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ
−ブチル−Ｎ−シクロヘプチル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ−iso −ブチル−Ｎ−シクロヘプチル−ｍ−アミ
ノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−２−メチルシクロヘキ
シル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−３−メ
チルシクロヘキシル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−２−メチルシクロヘキシル−ｍ−アミノフェノ
ール、Ｎ−エチル−Ｎ−３−メチルシクロヘキシル−ｍ
−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−４−メチルシク
ロヘキシル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−
ｐ−トリル−ｍ−アミノフェノール、
−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−シクロ
ペンチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−iso −ブチル−
Ｎ−シクロペンチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−
ペンチル−Ｎ−シクロペンチル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ−iso −ペンチル−Ｎ−シクロペンチル−ｍ−ア
ミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル−ｍ
−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロヘキシル
−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−シク
ロヘキシル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−ブチル−
Ｎ−シクロヘキシル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−iso
−ブチル−Ｎ−シクロヘキシル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ−ｎ−ペンチル−Ｎ−シクロヘキシル−ｍ−アミ
ノフェノール、Ｎ−iso −ペンチル−Ｎ−シクロヘキシ
ル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘ
プチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−シク
ロヘプチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ−プロピル
−Ｎ−シクロヘプチル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−ｎ
−ブチル−Ｎ−シクロヘプチル−ｍ−アミノフェノー
ル、Ｎ−iso −ブチル−Ｎ−シクロヘプチル−ｍ−アミ
ノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−２−メチルシクロヘキ
シル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−３−メ
チルシクロヘキシル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−２−メチルシクロヘキシル−ｍ−アミノフェノ
ール、Ｎ−エチル−Ｎ−３−メチルシクロヘキシル−ｍ
−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−４−メチルシク
ロヘキシル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−
ｐ−トリル−ｍ−アミノフェノール、
【００２５】Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−トリル−ｍ−アミノ
フェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−クロロフェニル−ｍ
−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−クロロフェ
ニル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−ニ
トロフェニル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ
−ｐ−ニトロフェニル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メ
チル−Ｎ−メトキシプロピル−ｍ−アミノフェノール、
Ｎ−エチル−Ｎ−メトキシプロピル−ｍ−アミノフェノ
ール、Ｎ−メチル−Ｎ−エトキシプロピル−ｍ−アミノ
フェノール、Ｎ−アリル−Ｎ−シクロヘキシル−ｍ−ア
ミノフェノール、Ｎ−アリル−Ｎ−シクロヘプチル−ｍ
−アミノフェノール、Ｎ−アリル−Ｎ−シクロペンチル
−ｍ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−ジベンジル−ｍ−ア
ミノフェノール、ｍ−ピロリジノフェノール、ｍ−ピペ
リジノフェノール、ｍ−モルホリノフェノール、Ｎ−メ
チル−Ｎ−テトラヒドロフルフリル−ｍ−アミノフェノ
ール、Ｎ−エチル−Ｎ−テトラヒドロフルフルリ−ｍ−
アミノフェノール等。
フェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−クロロフェニル−ｍ
−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−クロロフェ
ニル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−ニ
トロフェニル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−エチル−Ｎ
−ｐ−ニトロフェニル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ−メ
チル−Ｎ−メトキシプロピル−ｍ−アミノフェノール、
Ｎ−エチル−Ｎ−メトキシプロピル−ｍ−アミノフェノ
ール、Ｎ−メチル−Ｎ−エトキシプロピル−ｍ−アミノ
フェノール、Ｎ−アリル−Ｎ−シクロヘキシル−ｍ−ア
ミノフェノール、Ｎ−アリル−Ｎ−シクロヘプチル−ｍ
−アミノフェノール、Ｎ−アリル−Ｎ−シクロペンチル
−ｍ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−ジベンジル−ｍ−ア
ミノフェノール、ｍ−ピロリジノフェノール、ｍ−ピペ
リジノフェノール、ｍ−モルホリノフェノール、Ｎ−メ
チル−Ｎ−テトラヒドロフルフリル−ｍ−アミノフェノ
ール、Ｎ−エチル−Ｎ−テトラヒドロフルフルリ−ｍ−
アミノフェノール等。
【００２６】本発明の方法によって得られるベンゾフェ
ノン誘導体は、アルカリ塩の形で取得されるので、通常
はこれを水に溶解し、必要により残存溶媒を回収し、酸
（硫酸又は塩酸等）の水溶液等により中和し、析出した
結晶を濾別、乾燥して、遊離酸の形で一般式（１）で示
されるベンゾフェノン誘導体（最終製品）とする。
ノン誘導体は、アルカリ塩の形で取得されるので、通常
はこれを水に溶解し、必要により残存溶媒を回収し、酸
（硫酸又は塩酸等）の水溶液等により中和し、析出した
結晶を濾別、乾燥して、遊離酸の形で一般式（１）で示
されるベンゾフェノン誘導体（最終製品）とする。
【００２７】上記の方法で得られたベンゾフェノン誘導
体は、フルオラン誘導体の製造中間体として、そのまま
使用することができるが、必要に応じて前記した中和の
工程の前又は後に、常法により有機溶剤による抽出、再
結晶処理等をして脱色、精製して使用することもでき
る。しかし、本発明による時は、高純度、高収率で得ら
れるのでこの精製工程は省略することができる。
体は、フルオラン誘導体の製造中間体として、そのまま
使用することができるが、必要に応じて前記した中和の
工程の前又は後に、常法により有機溶剤による抽出、再
結晶処理等をして脱色、精製して使用することもでき
る。しかし、本発明による時は、高純度、高収率で得ら
れるのでこの精製工程は省略することができる。
【００２８】なお、前述の方法でベンゾフェノン誘導体
を濾別した残りのアルカリ水溶液及び溶媒中には未反応
原料、副生成物等が存在するので、常法によってこれを
回収し、再使用することも可能である。
を濾別した残りのアルカリ水溶液及び溶媒中には未反応
原料、副生成物等が存在するので、常法によってこれを
回収し、再使用することも可能である。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、出発原料であるｍ−ア
ミノフェノール誘導体（１）と無水フタール酸から、工
業的に極めて有利な工程によって目的とするベンゾフェ
ノン誘導体を高収率、高純度で容易に製造することがで
きる。
ミノフェノール誘導体（１）と無水フタール酸から、工
業的に極めて有利な工程によって目的とするベンゾフェ
ノン誘導体を高収率、高純度で容易に製造することがで
きる。
【００３０】
【実施例】以下に本発明の方法を実施例によって具体的
に説明するが、勿論これらに限定されるものではない。
に説明するが、勿論これらに限定されるものではない。
【００３１】実施例１ Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−アミノフェノール16.5ｇ（0.1
モル）と無水フタル酸19.3ｇ（0.13モル）およびトルエ
ン４３ｇを混合し、９５〜９８℃で１５時間加熱攪拌し
た。反応液を水５２ｇ中に注入し、47％苛性ソーダ水溶
液24.3ｇを添加した。温度８５〜８５℃に加温し、溶解
状態を確認の後、１７℃まで冷却し、ナトリウム塩の結
晶を析出させた。
モル）と無水フタル酸19.3ｇ（0.13モル）およびトルエ
ン４３ｇを混合し、９５〜９８℃で１５時間加熱攪拌し
た。反応液を水５２ｇ中に注入し、47％苛性ソーダ水溶
液24.3ｇを添加した。温度８５〜８５℃に加温し、溶解
状態を確認の後、１７℃まで冷却し、ナトリウム塩の結
晶を析出させた。
【００３２】次いで、セントル濾過器を用いて濾過し、
得られた結晶を水１１０ｇに溶解し、５０度ボーメ硫酸
を加えて中和し、析出した結晶を濾過し、乾燥して目的
とする４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシ−
２′−カルボキシベンゾフェノン２８．３ｇを得た。
Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−アミノフェノールに対する収率
は９０％、純度９９．３％であった。
得られた結晶を水１１０ｇに溶解し、５０度ボーメ硫酸
を加えて中和し、析出した結晶を濾過し、乾燥して目的
とする４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシ−
２′−カルボキシベンゾフェノン２８．３ｇを得た。
Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−アミノフェノールに対する収率
は９０％、純度９９．３％であった。
【００３３】実施例２ Ｎ−エチル−Ｎ−iso-ブチル−ｍ−アミノフェノール１
9.３ｇ（0.１モル）と無水フタル酸１7.８ｇ（0.１２モ
ル）およびトルエン２６ｇを混合し、９０℃で２１時間
加熱攪拌した。１２．２％苛性ソーダ水溶液１０８ｇを
添加した。温度１００℃で溶解させた後、１０℃まで冷
却して、ナトリウム塩の結晶を析出させた。
9.３ｇ（0.１モル）と無水フタル酸１7.８ｇ（0.１２モ
ル）およびトルエン２６ｇを混合し、９０℃で２１時間
加熱攪拌した。１２．２％苛性ソーダ水溶液１０８ｇを
添加した。温度１００℃で溶解させた後、１０℃まで冷
却して、ナトリウム塩の結晶を析出させた。
【００３４】次いで、セントル濾過器を用いて濾過し、
得られた結晶を水１１０ｇに溶解し、５０度ボーメ硫酸
を加えて中和し、析出した結晶を濾過し、乾燥して目的
とする４−（Ｎ−エチル−Ｎ−iso-ブチル）アミノ−２
−ヒドロキシ２′−カルボキシベンゾフェノン２９ｇを
得た。Ｎ−エチル−Ｎ−iso-ブチル−ｍ−アミノフェノ
ールに対する収率は８５％、純度９８％であった。
得られた結晶を水１１０ｇに溶解し、５０度ボーメ硫酸
を加えて中和し、析出した結晶を濾過し、乾燥して目的
とする４−（Ｎ−エチル−Ｎ−iso-ブチル）アミノ−２
−ヒドロキシ２′−カルボキシベンゾフェノン２９ｇを
得た。Ｎ−エチル−Ｎ−iso-ブチル−ｍ−アミノフェノ
ールに対する収率は８５％、純度９８％であった。
【００３５】実施例３ 無水フタル酸１９．６ｇ（0.１３モル）にトルエン２６
ｇを加え、攪拌下にＮ，Ｎ−ジブチル−ｍ−アミノフェ
ノール２2.１ｇ（0.１モル）を２回に分けて加え、９０
℃で１７時間加熱攪拌した。反応液を水６４ｇ中に注入
し、47％苛性ソーダ水溶液24.9ｇを添加した。温度７０
〜８０℃で溶解させた後、室温まで冷却し、ナトリウム
塩の結晶を析出させた。
ｇを加え、攪拌下にＮ，Ｎ−ジブチル−ｍ−アミノフェ
ノール２2.１ｇ（0.１モル）を２回に分けて加え、９０
℃で１７時間加熱攪拌した。反応液を水６４ｇ中に注入
し、47％苛性ソーダ水溶液24.9ｇを添加した。温度７０
〜８０℃で溶解させた後、室温まで冷却し、ナトリウム
塩の結晶を析出させた。
【００３６】 次いで、セントル濾過器を用いて濾過
し、得られた結晶を水１１０ｇに溶解し、５０度ボ−メ
硫酸を加えて中和し、析出した結晶を濾過し、乾燥して
目的をとする４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ−２−ヒドロ
キシ−２′−カルボキシベンゾフェノン３４．５ｇを得
た。Ｎ，Ｎ−ジブチル−ｍ−アミノフェノ−ルに対する
収率は９３％、純度９９．９％であった。
し、得られた結晶を水１１０ｇに溶解し、５０度ボ−メ
硫酸を加えて中和し、析出した結晶を濾過し、乾燥して
目的をとする４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ−２−ヒドロ
キシ−２′−カルボキシベンゾフェノン３４．５ｇを得
た。Ｎ，Ｎ−ジブチル−ｍ−アミノフェノ−ルに対する
収率は９３％、純度９９．９％であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新谷 彰 大阪市淀川区西三国４丁目２番11号 田 岡化学工業株式会社内 審査官 伊藤 幸司 (56)参考文献 特開 昭62−70350（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 229/52 C07C 227/02 C07C 227/42 ＣＡＳＲＥＡＣＴ（ＳＴＮ)
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（1） 【化１】 [式中、Ｒ１、Ｒ２は同一又は異なっていてもよく、ヘ
テロ原子を有してもよいアルキル基またはシクロアルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基、置換もしくは未置
換のフェニル基を表す。また、Ｒ１とＲ２が一緒になっ
てヘテロ環を形成することもできる。]で表わされるｍ
−アミノフェノ−ル誘導体と無水フタル酸とを不活性有
機溶媒の存在下に反応させた後、次いで上記ｍ−アミノ
フェノ−ル誘導体に対して２.５〜６倍モルのアルカリ
を１０〜２５重量％濃度の水溶液として加え、加熱・溶
解した後、冷却晶析し、濾別することを特徴とする遊離
酸の形で下記一般式（２） 【化２】 [式中、Ｒ１、Ｒ２は前述の意味を示す。]で表わされる
ベンゾフェノン誘導体の製造法。 - 【請求項２】アルカリがカセイソーダまたはカセイカリ
である請求項１記載のベンゾフェノン誘導体の製造法。 - 【請求項３】不活性有機溶媒の量が、一般式（1）で示
されるｍ−アミノフェノ−ル誘導体に対して０．５〜５
重量倍である請求項１または請求項２記載のベンゾフェ
ノン誘導体の製造法。 - 【請求項４】不活性有機溶媒の量が、一般式（1）で示
されるｍ−アミノフェノ−ル誘導体に対して１〜４重量
倍である請求項１または請求項２記載のベンゾフェノン
誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04592592A JP3210946B2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | ベンゾフェノン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04592592A JP3210946B2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | ベンゾフェノン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05213840A JPH05213840A (ja) | 1993-08-24 |
| JP3210946B2 true JP3210946B2 (ja) | 2001-09-25 |
Family
ID=12732843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04592592A Expired - Fee Related JP3210946B2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | ベンゾフェノン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3210946B2 (ja) |
-
1992
- 1992-01-31 JP JP04592592A patent/JP3210946B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05213840A (ja) | 1993-08-24 |
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