JP3207319B2 - Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same - Google Patents

Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JP3207319B2
JP3207319B2 JP11153494A JP11153494A JP3207319B2 JP 3207319 B2 JP3207319 B2 JP 3207319B2 JP 11153494 A JP11153494 A JP 11153494A JP 11153494 A JP11153494 A JP 11153494A JP 3207319 B2 JP3207319 B2 JP 3207319B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoelectric conversion
ccd
conversion element
insulating adhesive
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP11153494A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0799214A (en
Inventor
雅雄 瀬川
一成 大井
正信 木村
修一 杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Digital Media Engineering Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Digital Media Engineering Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11153494A priority Critical patent/JP3207319B2/en
Publication of JPH0799214A publication Critical patent/JPH0799214A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3207319B2 publication Critical patent/JP3207319B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Landscapes

  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、光電変換素子の実装
装置および製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a photoelectric conversion element.

【0002】[0002]

【従来の技術】光電変換素子は、産業用にはば広く使わ
れている。なかでもCCD(固体撮像素子)は応用範囲
が広く、CCD素子を用いたカメラは、民生用から産業
用まで幅広く使用されている。この中で特に医療用で
は、内視鏡用として小径のカメラが実用化されている。
このカメラは、径が最小8mmであるが、小形化は商品性
を大きく左右するため、今後8mm以下の超小型カメラの
開発が急務である。この中で、CCD素子はカメラ本体
の中核であり、そのパッケージング技術は最も重要な開
発テーマである。
2. Description of the Related Art Photoelectric conversion elements are widely used for industrial purposes. Above all, CCDs (solid-state imaging devices) have a wide range of applications, and cameras using CCD devices are widely used from consumer use to industrial use. Among them, particularly for medical use, a small-diameter camera has been put to practical use for an endoscope.
Although this camera has a minimum diameter of 8 mm, miniaturization greatly affects its commercial value, so it is urgently necessary to develop an ultra-small camera of 8 mm or less in the future. Among them, the CCD element is the core of the camera body, and its packaging technology is the most important development theme.

【0003】現行の汎用カメラのCCDパッケージは、
ワイヤボンディングを用いたセラミックパッケージが、
量産性に優れ安価な点で多用されている。しかし、小形
化の観点から限界があり、各社共それに変わる実装法を
開発中である。
[0003] The CCD package of the current general-purpose camera is:
Ceramic package using wire bonding,
It is widely used because of its excellent mass productivity and low cost. However, there is a limit from the viewpoint of miniaturization, and each company is developing an alternative mounting method.

【0004】その中で既に実用化されている、従来法を
図23〜図26を用いて説明する。図23は、出願人に
おいて開発したCOG(Chip On Glass) 法である。この
実装法では、まず図23(a)の如く、光学ガラス23
1を用意し(工程a)、CCD素子との接続部と配線の
外部引き出し用に、光学ガラス231の平面部232及
び端面233に、金の厚膜配線層234(工程b)を形
成する。次に、CCD素子との接続部に、例えばインジ
ウム・鉛合金で代表される低融点金属ペーストをスクリ
ーン印刷法にて印刷して加熱溶融させ、突起部(バン
プ)235を形成する(工程c)。一方CCD素子23
6を用意し(工程d)、このCCD素子236には、接
続パッド上にワイヤボンディング法を用いて、金ボール
バンプ237を形成する(工程e)。
A conventional method which has already been put to practical use among them will be described with reference to FIGS. FIG. 23 shows a COG (Chip On Glass) method developed by the applicant. In this mounting method, first, as shown in FIG.
1 is prepared (step a), and a gold thick film wiring layer 234 (step b) is formed on the flat portion 232 and the end surface 233 of the optical glass 231 for connection to the CCD element and external drawing of wiring. Next, a low-melting metal paste typified by, for example, an indium-lead alloy is printed by a screen printing method on the connection portion with the CCD element and melted by heating to form a projection (bump) 235 (step c). . On the other hand, the CCD element 23
6 are prepared (step d), and gold ball bumps 237 are formed on the connection pads of the CCD element 236 by using a wire bonding method (step e).

【0005】次に、光学ガラス231上に形成済みの低
融点金属バンプ235とCCD素子236上の金ボール
バンプ237を、CCDの耐熱温度(150℃)以下で
熱圧着を行ない接続する(工程f)。そして、接続部の
機械強度の向上のため、バンプ接続部とCCD画素内に
樹脂238を充填し封止する(工程g)。その後に、光
学ガラスの端面に引き出された、外部接続用電極239
をフレキシブル基板340と接続する(工程h)。その
際には、例えば異方導電性を有する接着シート等を使用
して、熱圧着する方法を用いる。
Next, the low-melting metal bump 235 formed on the optical glass 231 and the gold ball bump 237 on the CCD element 236 are connected by thermocompression bonding at a temperature lower than the heat resistance temperature (150 ° C.) of the CCD (step f). ). Then, in order to improve the mechanical strength of the connection portion, a resin 238 is filled and sealed in the bump connection portion and the inside of the CCD pixel (step g). After that, the external connection electrode 239 pulled out to the end face of the optical glass
Is connected to the flexible substrate 340 (step h). At that time, a method of thermocompression bonding using, for example, an adhesive sheet having anisotropic conductivity is used.

【0006】COG法のメリットは、CCDと光学ガラ
スの合わせ精度に優れ、10μm以内が可能である。
The advantage of the COG method is that the alignment accuracy between the CCD and the optical glass is excellent, and it can be within 10 μm.

【0007】次に、もう一方の従来例を図24を用いて
説明する。図24は、SP−TAB(Single Point TA
B) 法である。まずCCD素子2415(工程a)に、
金メッキバンプをあらかじめ形成済みのTABテープ2
417を用いて、ボンディング用小型のヒータツール2
418を用いてCCDの電極パッドとを1ピン毎に超音
波併用熱圧着法で接続する(工程b)。小型ヒータツー
ル2418は、COG法と同様に、CCDの耐熱温度
(150℃)以下で熱圧着を行ない接続することを実現
している。この実装法はCCD実装後にTABテープ2
417上でCCDの特性確認ができるのが最大のメリッ
トである。次に、CCD2415の上面に光学接着剤2
419を塗布した後に(工程c)、光学ガラス2411
をCCD上面に精度よく貼り合わせる(工程d)。この
時の貼り合わせ精度は、±20μm程度である。その後、
TABテープ2417をCCD接続部の外側より曲げる
ことで(工程e)、容易にCCD裏面に外部接続用リー
ドを引き出すことができることも、大きな長所である。
Next, another conventional example will be described with reference to FIG. FIG. 24 shows an SP-TAB (Single Point TA).
B) The law. First, the CCD element 2415 (step a)
TAB tape 2 with gold plated bumps pre-formed
417, small heater tool 2 for bonding
Using 418, an electrode pad of the CCD is connected to each pin by ultrasonic and thermocompression bonding for each pin (step b). Similar to the COG method, the small heater tool 2418 realizes connection by performing thermocompression bonding at or below the heat resistance temperature (150 ° C.) of the CCD. This mounting method uses TAB tape 2 after CCD mounting.
The greatest advantage is that the characteristics of the CCD can be confirmed on the 417. Next, the optical adhesive 2 is applied to the upper surface of the CCD 2415.
After applying 419 (step c), the optical glass 2411
Is precisely bonded to the upper surface of the CCD (step d). The bonding accuracy at this time is about ± 20 μm. afterwards,
It is also a great advantage that the external connection leads can be easily pulled out on the back surface of the CCD by bending the TAB tape 2417 from the outside of the CCD connection portion (step e).

【0008】しかしながら、従来法には解決すべき問題
点があった。まずCOG法では、光学ガラス231の端
面に配線層を引き出すのに、スクリーン印刷する必要が
あるが、エッジ部で断線等の印刷不良が発生しやすく歩
留まり低下の原因になっていた。また、CCDパッケー
ジの実装後に外部接続用のフレキシブル基板を接続する
工程が必要であり、製造プロセスが煩雑であった。
However, the conventional method has a problem to be solved. First, in the COG method, it is necessary to perform screen printing in order to draw out the wiring layer to the end face of the optical glass 231. However, printing defects such as disconnection at an edge portion are apt to occur, which causes a decrease in yield. Further, a step of connecting a flexible substrate for external connection after mounting the CCD package is required, and the manufacturing process is complicated.

【0009】また、SP−TAB法では特に、光学ガラ
ス2411と接着剤2419の貼り合わせ法が困難で、
簡便な方法が望まれる。これは、図25に見られるよう
に、CCDの両側にある細いTABリード2517の上
部に光学ガラス2515を保持する必要があり、技術的
に困難である。またCCDの電極部との接続は、1ピン
毎に熱圧着するため、実装時間が長く、非効率的であっ
た。
[0009] In the SP-TAB method, it is particularly difficult to bond the optical glass 2411 and the adhesive 2419.
A simple method is desired. This is technically difficult because it requires holding the optical glass 2515 on top of the thin TAB leads 2517 on both sides of the CCD, as seen in FIG. In addition, since connection with the electrode portion of the CCD is performed by thermocompression bonding for each pin, the mounting time is long and inefficient.

【0010】さらに、COG、SP−TAB法に共通す
る課題として、CCD画像エリヤの空隙化(キャビティ
化)があった。すなわち、パッケージ実装後に樹脂封止
を施すが、電極パッドの接続部以外はCCD素子と光学
ガラスの間隙が比較的大きく(20〜50μm)、樹脂
封止した際にCCDの画像エリヤ内に封止樹脂が侵入す
る。そうすると、CCDの表面に形成してある、集光用
のマイクロレンズ効果が光学的に失われ、CCDの特性
を劣化させるという不都合があった。
[0010] Further, as a problem common to the COG and SP-TAB methods, there is a void (cavity) in a CCD image area. In other words, resin sealing is performed after the package is mounted, but the gap between the CCD element and the optical glass is relatively large (20 to 50 μm) except for the connection part of the electrode pad. Resin enters. Then, the microlens effect for condensing formed on the surface of the CCD is optically lost, and there is a disadvantage that the characteristics of the CCD are deteriorated.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上記した従来のCOG
法では歩留まり低下を招いていたばかりか、製造プロセ
スが煩雑であった。SP−TAB法では実装時間が長
く、非効率的であった。COG、SP−TAB法に共通
する課題として、CCD画像エリヤの空隙化があり、C
CDの劣化させる不都合があった。
SUMMARY OF THE INVENTION The above-mentioned conventional COG
According to the method, not only the yield was lowered, but also the manufacturing process was complicated. The SP-TAB method has a long mounting time and is inefficient. A problem common to the COG and SP-TAB methods is the porosity of the CCD image area.
There was an inconvenience that the CD deteriorated.

【0012】この発明は、COGとSP−TAB法の長
所を生かしつつ、しかも両者の短所を補った、簡便で性
能の優れたCCD素子の実装構造とその製造方法を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a CCD device mounting structure which is simple and has excellent performance while utilizing the advantages of the COG and SP-TAB methods, and which compensates for the disadvantages of both, and a method of manufacturing the same. .

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、この発明の光電変換素子の実装装置は、光電変換素
子と配線基板とを異方性導電膜を用いてフェイスダウン
ボンディングで接続するという手段を用いる。
In order to solve the above-mentioned problems, a photoelectric conversion element mounting apparatus according to the present invention connects a photoelectric conversion element and a wiring board by face-down bonding using an anisotropic conductive film. Use means.

【0014】また、前記基板は開口部を有し、接続用パ
ターン以外の光電変換素子の外周部にダミーパターン等
を有することを特徴とする。
Further, the substrate has an opening, and a dummy pattern or the like is provided on an outer peripheral portion of the photoelectric conversion element other than the connection pattern.

【0015】また、電子部品が実装でき、配線基板の折
り曲げ部を除去し、光学ガラスと接着する基板の裏面を
粗面化することを特徴とする。
Further, the electronic component can be mounted, the bent portion of the wiring substrate is removed, and the back surface of the substrate bonded to the optical glass is roughened.

【0016】[0016]

【作用】それにより、光電変換素子と配線基板の合わせ
精度が飛躍的に向上する。また実装法は全ピンを一度に
接続する、一括ボンディングが可能となり、従来法のS
P−TAB法の課題が解決する。またTABテープを用
いることで、従来のCOG法の課題であった、外部リー
ドの引き出し法も簡便化できる。また、受光面に封止樹
脂が存在しない空洞化が容易に形成でき、上記課題が解
決するものである。
As a result, the alignment accuracy between the photoelectric conversion element and the wiring board is remarkably improved. In addition, the mounting method allows all pins to be connected at one time, and enables batch bonding.
The problem of the P-TAB method is solved. Also, by using a TAB tape, the method of drawing out external leads, which has been a problem of the conventional COG method, can be simplified. In addition, a cavity in which the sealing resin does not exist on the light receiving surface can be easily formed, and the above problem is solved.

【0017】[0017]

【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して詳
細に説明する。図1はこの発明の一実施例に係るCCD
実装装置の構成を示す正面図である。図1において、光
学ガラス101の一方の面にTABテープ102を接着
剤103により接着する。光学ガラス101は、光を透
過する。光学ガラス101の厚さは光学設計で決定する
が、例えば1mmである。光学ガラス101として、光学
ローパスフィルタを用い、この機能を併用させてもよ
い。また、赤外カットフィルタ等と前記ローパスフィル
タを積層したしたガラスを用いても良い。光学ガラス1
01は透光性の部材であれば、これに限らず、例えば水
晶・シリコン等の無機質あるいはポリエチレン等の有機
質材料でもよい。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a CCD according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a front view illustrating a configuration of a mounting device. In FIG. 1, a TAB tape 102 is bonded to one surface of an optical glass 101 with an adhesive 103. The optical glass 101 transmits light. The thickness of the optical glass 101 is determined by optical design, and is, for example, 1 mm. An optical low-pass filter may be used as the optical glass 101, and this function may be used in combination. Further, glass in which an infrared cut filter or the like and the low-pass filter are laminated may be used. Optical glass 1
01 is not limited to this as long as it is a light-transmitting member, and may be an inorganic material such as quartz or silicon or an organic material such as polyethylene.

【0018】TABテープ102は、図2に示すよう
に、絶縁シート104上に、複数の銅リード105を形
成してなる。TABテープ102は、自由に折り曲げる
ことが可能である。絶縁シート104は、例えばポリイ
ミド・ポリアミド・ポリエステル、またはフェノール・
ガラスエポキシ樹脂等と紙・ガラス基材の複合基板から
なる。絶縁シート104の厚さT104は、例えば10
0μm程度である。絶縁シート104は、例えば矩形の
開口部106を有する。開口部106は、光学ガラス1
01を介して入光した光を通過させるために形成する。
銅リード105は、開口部106の対向する2辺10
7、108の絶縁シート104上に一定の間隔をもって
形成されている。換言すると、隣接する銅リード105
間には、常に絶縁シート104が存在する。なお、開口
部106の対向する2辺107、108以外の他の2辺
109、110の絶縁シート104上には、銅リード1
05が形成されていないが、これらの2辺109、11
0の絶縁シート104上にも銅リード105を形成して
も良い。銅リード105の厚さは、例えば35μm程度
である。
The TAB tape 102 is formed by forming a plurality of copper leads 105 on an insulating sheet 104 as shown in FIG. The TAB tape 102 can be freely bent. The insulating sheet 104 is made of, for example, polyimide, polyamide, polyester, or phenol.
It consists of a composite substrate of glass epoxy resin and paper / glass substrate. The thickness T104 of the insulating sheet 104 is, for example, 10
It is about 0 μm. The insulating sheet 104 has, for example, a rectangular opening 106. The opening 106 is provided in the optical glass 1.
It is formed in order to allow the light that has entered through 01 to pass through.
The copper lead 105 is connected to two opposite sides 10 of the opening 106.
7 and 108 are formed at regular intervals on the insulating sheet 104. In other words, the adjacent copper lead 105
The insulating sheet 104 always exists between them. The copper lead 1 is placed on the insulating sheet 104 on the other two sides 109 and 110 other than the two opposite sides 107 and 108 of the opening 106.
05 are not formed, but these two sides 109, 11
The copper leads 105 may be formed on the zero insulating sheet 104. The thickness of the copper lead 105 is, for example, about 35 μm.

【0019】銅リード105の幅は、例えば100μm
程度である。TABテープ102に代え、自由に折り曲
げることができない基板を用いてもよい。これらの基板
は、黒色とした方がよい。これにより反射を防止でき、
不要輻射の入射を防止できる。この場合、黒色の材質の
基板を用いてもよいし、基板に黒色の塗料を塗布しても
よい。
The width of the copper lead 105 is, for example, 100 μm
It is about. Instead of the TAB tape 102, a substrate that cannot be bent freely may be used. These substrates are preferably black. This can prevent reflection,
Unnecessary radiation can be prevented from entering. In this case, a black substrate may be used, or a black paint may be applied to the substrate.

【0020】接着剤103は、例えばエポキシアクリレ
ート・変成アクリル・エポキシ等の接着剤であって、例
えば熱や紫外線であるいはその両方によって硬化するタ
イプの接着剤が用いられる。接着剤103の厚さは、例
えば10〜20μm程度である。
The adhesive 103 is, for example, an adhesive such as epoxy acrylate, modified acryl, or epoxy. For example, an adhesive that is cured by heat, ultraviolet light, or both is used. The thickness of the adhesive 103 is, for example, about 10 to 20 μm.

【0021】TABテープ102上には、異方性導電膜
111を介してCCD112が接続されている。異方性
導電膜111は、図3に示すように、銅リード105が
存在する辺107、108に沿って形成するばかりでな
く、辺107、108以外の他の2辺109、110に
沿って形成する方がより好ましい。このように形成され
た異方性導電膜111は、電気的接続の機能の他に、T
ABテープ102とCCD112とを機械的に接続する
機能及び開口部106等によって生じた中空部を外部か
ら封止する機能も有する。
A CCD 112 is connected to the TAB tape 102 via an anisotropic conductive film 111. As shown in FIG. 3, the anisotropic conductive film 111 is formed not only along the sides 107 and 108 where the copper leads 105 exist but also along the other two sides 109 and 110 other than the sides 107 and 108. It is more preferable to form them. The anisotropic conductive film 111 formed as described above has a function of T
It also has a function of mechanically connecting the AB tape 102 and the CCD 112 and a function of sealing a hollow portion formed by the opening 106 and the like from the outside.

【0022】異方性導電膜111は黒色とした方がよ
い。これにより反射を防止でき、不要輻射の入射を防止
できる。
The anisotropic conductive film 111 is preferably black. Thereby, reflection can be prevented, and incidence of unnecessary radiation can be prevented.

【0023】CCD112は例えば41万画素を有す
る。CCD112の大きさは例えば4×4mmである。C
CD112の厚さは、例えば0.6mmである。CCD1
12の表面には、図4に示したように、銅リード105
に対応して、CCD112の2辺に沿って電極パッド1
17を形成する。銅リード105を4辺に沿って形成
し、CCD112の4辺に沿って電極パッド117を形
成してもよい。
The CCD 112 has, for example, 410,000 pixels. The size of the CCD 112 is, for example, 4 × 4 mm. C
The thickness of the CD 112 is, for example, 0.6 mm. CCD1
12, on the surface of the copper lead 105, as shown in FIG.
Corresponding to the electrode pad 1 along the two sides of the CCD 112.
17 is formed. The copper leads 105 may be formed along the four sides, and the electrode pads 117 may be formed along the four sides of the CCD 112.

【0024】各電極パッド117の大きさは、例えば1
00μm×100μm程度である。各電極パッド117
には、バンプ113が形成されている。各バンプ113
の径は、例えば90μmである。各バンプの高さは、例
えば30μmである。各銅リード105とこれに対応し
たバンプ113とは、異方性導電膜111が含有する導
電粒子を介して電気的に接続する。CCD112の受光
面には、マイクロレンズ115を形成する。CCD11
2は、光学ガラス101、開口部106及びマイクロレ
ンズ115を介して光を受光する。
The size of each electrode pad 117 is, for example, 1
It is about 00 μm × 100 μm. Each electrode pad 117
Are formed with bumps 113. Each bump 113
Is 90 μm, for example. The height of each bump is, for example, 30 μm. Each of the copper leads 105 and the corresponding bump 113 are electrically connected via conductive particles contained in the anisotropic conductive film 111. On the light receiving surface of the CCD 112, a micro lens 115 is formed. CCD11
2 receives light through the optical glass 101, the opening 106, and the microlens 115.

【0025】光学ガラス101上には、異方性導電膜1
11を覆うように封止樹脂116を形成する。封止樹脂
116は、例えばフェノールやエポキシ系の封止樹脂で
あって、例えば熱あるいは紫外線またはその併用で硬化
するタイプの封止樹脂が用いられる。封止樹脂116
は、TABテープ102とCCD112との間の電気的
接続及び機械的接続を補強する。ただし、このCCD実
装装置では、封止樹脂116を省略してもよい。これ
は、異方性導電膜111が、封止樹脂116の機能を既
に有しているからである。封止樹脂116を省略すれ
ば、製造工程を簡略化できる。CCD112と光学ガラ
ス101の合わせ精度はCOG法と同等の10μm以内
である。
On the optical glass 101, an anisotropic conductive film 1
A sealing resin 116 is formed so as to cover 11. The sealing resin 116 is, for example, a phenol or epoxy-based sealing resin, for example, a type of sealing resin that is cured by heat, ultraviolet light, or a combination thereof. Sealing resin 116
Reinforces the electrical and mechanical connections between the TAB tape 102 and the CCD 112. However, in this CCD mounting device, the sealing resin 116 may be omitted. This is because the anisotropic conductive film 111 has the function of the sealing resin 116 already. If the sealing resin 116 is omitted, the manufacturing process can be simplified. The alignment accuracy between the CCD 112 and the optical glass 101 is within 10 μm, which is equivalent to the COG method.

【0026】図5は図1に示したCCD実装装置の製造
方法を示す図である。まず、絶縁シート104上に銅リ
ード105をエッチング法等を用いて形成する(ステッ
プ501)。
FIG. 5 is a diagram showing a method of manufacturing the CCD mounting device shown in FIG. First, a copper lead 105 is formed on an insulating sheet 104 by using an etching method or the like (Step 501).

【0027】ステップ501で形成されたTABテープ
102の銅リード105が形成されていない面上に、ス
クリーン印刷等を用いて接着剤103を形成する(ステ
ップ502)。
The adhesive 103 is formed on the surface of the TAB tape 102 formed in step 501 on which the copper leads 105 are not formed by using screen printing or the like (step 502).

【0028】次に、光学ガラス101とTABテープ1
02とを接着剤103により接着する(ステップ50
3)。ステップ503では、図6に示すように、押圧ツ
ール601を用いて銅リード105の上部から圧着し、
光学ガラス101の裏面より紫外線602を照射する。
これにより、数秒〜数十秒程度の短時間で、光学ガラス
101とTABテープ102とを接着することが可能で
ある。つまり、銅リード105を1本づつ接着する場合
に比べ、接着に要する作業時間を飛躍的に短縮できる。
Next, the optical glass 101 and the TAB tape 1
02 with an adhesive 103 (step 50).
3). In step 503, as shown in FIG. 6, pressure is applied from above the copper lead 105 using a pressing tool 601,
Ultraviolet rays 602 are irradiated from the back surface of the optical glass 101.
Thereby, the optical glass 101 and the TAB tape 102 can be bonded in a short time of several seconds to several tens of seconds. That is, the working time required for bonding can be significantly reduced as compared with the case where the copper leads 105 are bonded one by one.

【0029】TABテープ102上に、スクリーン印刷
等を用いて異方性導電膜111を形成する(ステップ5
04)。異方性導電膜111は、ペースト状の材料を用
い、ディスペンサ法またはスクリーン印刷法等により、
TABテープ102上に塗布する。また、異方性導電膜
111は、額縁形のフィルム状の材料をTABテープ1
02上に載せるようにしてもよい。
An anisotropic conductive film 111 is formed on the TAB tape 102 by screen printing or the like (step 5).
04). The anisotropic conductive film 111 is formed using a paste-like material by a dispenser method, a screen printing method, or the like.
It is applied on the TAB tape 102. Further, the anisotropic conductive film 111 is made of a frame-shaped film-like material made of TAB tape 1.
02.

【0030】CCD112の画素エリヤからCCD11
2のチップ端までの距離は0.3〜0.5mm程度であ
り、塗布幅が狭いため額縁形の異方性導電膜フィルムは
形成が困難である。従って、異方性導電ペーストが適し
ている。ディスペンサで塗布する場合は、例えば異方性
導電ペーストの粘度が10000〜25000cps のも
のを使用する。このときディスペンサの注出部の径が
0.2mm程度で塗布圧:1.5〜3.0kgで塗布スピー
ドが1〜3mm/sec の時に、TABテープ102上に塗
布される部分は、幅0.2mmで高さが60〜90μmで
最適な塗布量が得られる。スクリーン印刷法では、例え
ば250メッシュのスクリーンを用い、印刷圧力が2〜
3kgで上記の最適な塗布量が得られる。
From the pixel area of the CCD 112 to the CCD 11
The distance to the chip end of No. 2 is about 0.3 to 0.5 mm, and since the coating width is narrow, it is difficult to form a frame-shaped anisotropic conductive film. Therefore, an anisotropic conductive paste is suitable. When applying with a dispenser, for example, an anisotropic conductive paste having a viscosity of 10,000 to 25000 cps is used. At this time, when the diameter of the dispensing portion of the dispenser is about 0.2 mm, the application pressure is 1.5 to 3.0 kg, and the application speed is 1 to 3 mm / sec, the portion applied on the TAB tape 102 has a width of 0 mm. An optimum coating amount can be obtained when the height is 0.2 mm and the height is 60 to 90 μm. In the screen printing method, for example, a screen of 250 mesh is used, and the printing pressure is 2 to 2.
With 3 kg, the above optimum amount of coating can be obtained.

【0031】次に、TABテープ102と既にバンプ1
13が形成されたCCD112とをTABテープ102
の銅リード105とバンプ113とを位置合わせをし
て、異方性導電膜111を介して接続する(ステップ5
05)。異方性導電膜111による接続は、加熱及び加
圧によって行われる。異方性導電膜111は、例えばエ
ポキシ樹脂に、直径が1〜10μm程度の金粒子を3〜
30%程度分散させたものを使用する。
Next, the TAB tape 102 and the bump 1
13 and the CCD 112 on which the TAB tape 102 is formed.
The copper lead 105 and the bump 113 are aligned and connected via the anisotropic conductive film 111 (step 5).
05). The connection by the anisotropic conductive film 111 is performed by heating and pressing. The anisotropic conductive film 111 is formed, for example, by adding gold particles having a diameter of about 1 to
Use what is dispersed about 30%.

【0032】最後に異方性導電膜111を覆うよう封止
樹脂116を加熱あるいは紫外線の照射、あるいはその
両方により形成する(ステップ506)。
Finally, the sealing resin 116 is formed so as to cover the anisotropic conductive film 111 by heating, irradiation of ultraviolet rays, or both (step 506).

【0033】なお、TABテープ102とCCD112
とを異方性導電膜111により接続した後、光学ガラス
101とTABテープとを接着剤103により接着して
もよい。
The TAB tape 102 and the CCD 112
May be connected by an anisotropic conductive film 111, and then the optical glass 101 and the TAB tape may be bonded by an adhesive 103.

【0034】図1または図5のステップ506に示され
るCCD実装装置のTABテープ102を、図7に示す
ように折り曲げることで、4mm角のサイズのCCD1
12で、TABテープ102の引きだし部を含め対角が
約7mmとなり、カメラ筐体径として8mmの超小型カメ
ラが実現する。
The TAB tape 102 of the CCD mounting apparatus shown in step 506 of FIG. 1 or FIG. 5 is folded as shown in FIG.
At 12, the diagonal including the drawn-out portion of the TAB tape 102 is about 7 mm, and an ultra-small camera having a camera housing diameter of 8 mm is realized.

【0035】この実施例のCCD実装装置では、絶縁シ
ート104に形成された多数の銅リード105を一度に
まとめて光学ガラス101に接着しているので、これら
を接着する工程を簡略化することができる。
In the CCD mounting apparatus of this embodiment, since a large number of copper leads 105 formed on the insulating sheet 104 are collectively adhered to the optical glass 101, the step of adhering these can be simplified. it can.

【0036】銅リード105を一度にまとめて光学ガラ
ス101に接着する場合、図8(a)に示すように銅リ
ード105に曲りを生じ、隣接する銅リード105間で
接触による短絡不良801を生じたり、銅リード105
とCCD112との間で接続不良を生ずる恐れがある。
そこで、この実施例の実装装置では、図8(b)に示す
ように絶縁シート104上に銅リード105を一定の間
隔をもって形成したTABテープ102、換言すると隣
接する銅リード105間に常に絶縁シート104が存在
し、及び銅リード105の裏面に常に絶縁シート104
が存在するTABテープ102を光学ガラス101に接
着しているので、図8(a)に示したような銅リード1
05の曲りを生じることはない。加えて、このような構
造とした場合、隣接する銅リード105間に常に絶縁シ
ート104が存在しているので、異方性導電膜111を
用いてTABテープ102とCCD112とを接続する
際、異方性導電膜111は絶縁シート104及び銅リー
ド105に粘着しようとする。このため、異方性導電膜
111がTABテープ102の開口部106等に流れる
ことを防止できる。しかも、このような構造とした場
合、バンプ113と光学ガラス101との間には、絶縁
シート104が、加えて部分的に銅リード105が存在
するのでバンプ113と光学ガラス101との間隔が2
0〜30μm程度に狭くなる。これによっても、異方性
導電膜111がTABテープ102の開口部106等に
流れることを防止できる。
When the copper leads 105 are collectively bonded to the optical glass 101 at one time, the copper leads 105 are bent as shown in FIG. 8A, and short-circuit defects 801 occur due to contact between the adjacent copper leads 105. Or copper lead 105
There is a possibility that a connection failure may occur between the device and the CCD 112.
Therefore, in the mounting apparatus of this embodiment, as shown in FIG. 8B, the TAB tape 102 in which the copper leads 105 are formed on the insulating sheet 104 at regular intervals, in other words, the insulating sheet is always provided between the adjacent copper leads 105. 104 is present, and an insulating sheet 104
Is bonded to the optical glass 101, so that the copper lead 1 shown in FIG.
No bending of 05 occurs. In addition, in the case of such a structure, since the insulating sheet 104 is always present between the adjacent copper leads 105, when connecting the TAB tape 102 and the CCD 112 using the anisotropic conductive film 111, there is a difference. The isotropic conductive film 111 tends to adhere to the insulating sheet 104 and the copper leads 105. Therefore, it is possible to prevent the anisotropic conductive film 111 from flowing into the opening 106 of the TAB tape 102 and the like. In addition, in the case of such a structure, the insulating sheet 104 and the copper lead 105 partially exist between the bump 113 and the optical glass 101, so that the distance between the bump 113 and the optical glass 101 becomes two.
It becomes narrow to about 0 to 30 μm. This also prevents the anisotropic conductive film 111 from flowing into the opening 106 of the TAB tape 102 and the like.

【0037】これは、図8(b)に示すように、絶縁シ
ート104が形成されるとCCD112との間隔G82
1は、バンプ113の高さと銅リード105の厚みを加
算し、約65μmである。異方性導電膜111の塗布厚
みがそれより少ないと、異方性導電膜111でCCD1
12を封止できない部分開口部815が発生しやすい。
そこで、図8(c)のように、銅リード105をダミー
リードとして形成すると、CCD112との間隔G82
2は、バンプ高さのみの間隔となり、約30μmに減少
できる。したがって、異方性導電膜の塗布量を少なくし
て、開口部106への異方性導電膜の侵入を防止すると
共に、異方性導電膜とCCD間の完全封止も達成しやす
くなる効果が得られる。
As shown in FIG. 8B, when the insulating sheet 104 is formed, the distance G82 between the insulating sheet 104 and the CCD 112 is reduced.
1 is the sum of the height of the bump 113 and the thickness of the copper lead 105, and is about 65 μm. If the coating thickness of the anisotropic conductive film 111 is smaller than that, the CCD 1
Partial opening 815 that cannot seal 12 is likely to occur.
Therefore, when the copper lead 105 is formed as a dummy lead as shown in FIG.
2 is an interval of only the bump height, which can be reduced to about 30 μm. Therefore, the amount of the anisotropic conductive film applied is reduced to prevent the anisotropic conductive film from entering the opening 106, and it is easy to achieve complete sealing between the anisotropic conductive film and the CCD. Is obtained.

【0038】異方性導電膜111がTABテープ102
の開口部106等に流れることを防止できると、中空部
の空間を確実に確保できるというメリットがある。つま
りCCD112の画素エリヤ内への異方性導電膜111
の侵入を防止でき、CCD112表面に形成したマイク
ロレンズ115の光学的効果の劣化を抑え、CCDの特
性の劣化を防止できる。
The anisotropic conductive film 111 is a TAB tape 102
There is an advantage that the space in the hollow portion can be reliably secured if it can be prevented from flowing into the opening 106 or the like. That is, the anisotropic conductive film 111 in the pixel area of the CCD 112
Of the micro lens 115 formed on the surface of the CCD 112 can be prevented from deteriorating, and the characteristics of the CCD can be prevented from deteriorating.

【0039】さらに、この実施例のCCD実装装置で
は、このようなTABテープ102を使って光学ガラス
101に接着しているので、接着面が広くとれ接着強度
が向上する。
Further, in the CCD mounting apparatus of this embodiment, since the TAB tape 102 is used for bonding to the optical glass 101, the bonding surface is widened and the bonding strength is improved.

【0040】つぎに図9を用いこの発明の他の実施例に
ついて説明する。図9はこの実施例のCCD実装装置の
平面図、図10はその正面図である。これらの図に示す
CCD実装装置は、以下の4つの点で図1に示したCC
D実装装置と異なる。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a plan view of the CCD mounting apparatus of this embodiment, and FIG. 10 is a front view thereof. The CCD mounting apparatus shown in these figures is the same as the CC mounting apparatus shown in FIG.
Different from D mounting device.

【0041】第一に、この実施例のCCD実装装置は、
TABテープ901が電子部品902を実装している点
で、図1に示したCCD実装装置と構成を異にする。電
子部品902は、例えばコンデンサ、抵抗、トランジス
タあるいはIC等がある。TABテープ901の表裏両
面に電子部品902を実装してもよい。TABテープ9
01から外側に引き出される銅リード903は、例えば
検査用のパッドまたはメイン基板やケーブルとの接続に
使用する。このようにTABテープ901が電子部品9
02を実装したことで、CCD実装装置の高密度実装が
可能になり、より小型のカメラが実現可能となる。この
場合、TABテープ901とCCD112とを接続する
工程より前に、電子部品902をTABテープ901に
実装して検査をしたほうがよい。これは、CCD112
を電子部品902の実装より前に実装すると、CCD1
12は耐熱性が低いので半田付けを伴う電子部品902
の実装工程でせCCD112熱破壊等による不具合を発
生しやすいからである。これにより、比較的価格の高い
CCD112の歩留まりを向上できる。
First, the CCD mounting apparatus of this embodiment is
The configuration is different from the CCD mounting apparatus shown in FIG. 1 in that a TAB tape 901 mounts an electronic component 902. The electronic component 902 includes, for example, a capacitor, a resistor, a transistor, or an IC. Electronic components 902 may be mounted on both sides of the TAB tape 901. TAB tape 9
The copper lead 903 pulled out from 01 is used, for example, for connection to an inspection pad or a main board or a cable. In this manner, the TAB tape 901 is
By mounting No. 02, high-density mounting of the CCD mounting device becomes possible, and a smaller camera can be realized. In this case, before the step of connecting the TAB tape 901 and the CCD 112, it is better to mount the electronic component 902 on the TAB tape 901 and perform an inspection. This is the CCD 112
Is mounted before the mounting of the electronic component 902, the CCD 1
Reference numeral 12 denotes an electronic component 902 with soldering due to low heat resistance.
This is because a failure due to thermal destruction of the CCD 112 or the like is likely to occur in the mounting process. Thereby, the yield of the CCD 112, which is relatively expensive, can be improved.

【0042】また、半田付け以外の低温実装工程、例え
ば導電ペースト接続等を用いるとCCD112の実装の
後でもよい。また、CCD112とTABテープ901
とを異方性導電膜により接続するときに、CCD駆動処
理ICや他の電子部品902の接続を同時に行うことも
可能である。
If a low-temperature mounting process other than soldering, for example, using a conductive paste connection, may be performed after the CCD 112 is mounted. Also, the CCD 112 and the TAB tape 901
When they are connected by an anisotropic conductive film, it is also possible to simultaneously connect the CCD drive processing IC and other electronic components 902.

【0043】第二に、この実施例のCCD実装装置は、
TABテープ901がその屈曲部において絶縁シート9
04を除去した除去部905を有する点で、図1に示し
たCCD実装装置と構成を異にする。除去部905は、
図11に示すようにTABテープ901をカメラ筐体9
06内により鋭角的に折り曲げて収納することを可能と
する。これにより、カメラ筐体906の径D906をよ
り細くすることができる。
Second, the CCD mounting apparatus of this embodiment is
The TAB tape 901 has an insulating sheet 9 at its bent portion.
The configuration is different from that of the CCD mounting apparatus shown in FIG. The removing unit 905 includes:
As shown in FIG. 11, the TAB tape 901 is
06 can be stored at a sharper angle. Thereby, the diameter D906 of the camera housing 906 can be made smaller.

【0044】第三に、この実施例のCCD実装装置は、
TABテープ901がダミーリード907を有する点
で、図1に示したCCD実装装置と構成を異にする。ダ
ミーリード907は、開口部908の4辺のうち銅リー
ド903が形成されていない2辺909、910の絶縁
シート904上に、辺909、910と平行して設けた
ものである。ダミーリード907は、例えば図3に示し
たように異方性導電膜111を4辺に沿って形成する場
合に、異方性導電膜111が辺909、910からTA
Bテープ901の開口部908等に流れることを防止で
きる。ダミーリード907は、図12に示すような銅リ
ード903が形成されている辺911、912に沿って
形成してもよい。この場合も、上述した場合と同様に異
方性導電膜111がTABテープ901の開口部908
等に流れることを防止できる。ダミーリード907は、
光学ガラス101に設けてもよい。さらに、ダミーリー
ド907は、TABテープ901及び光学ガラス101
の両方に設けてもよい。
Third, the CCD mounting apparatus of this embodiment is
The configuration differs from the CCD mounting apparatus shown in FIG. 1 in that the TAB tape 901 has dummy leads 907. The dummy lead 907 is provided on the insulating sheet 904 on two sides 909 and 910 where the copper lead 903 is not formed among the four sides of the opening 908, in parallel with the sides 909 and 910. For example, when the anisotropic conductive film 111 is formed along four sides as shown in FIG.
It can be prevented from flowing into the opening 908 of the B tape 901 or the like. The dummy lead 907 may be formed along the sides 911 and 912 where the copper lead 903 as shown in FIG. 12 is formed. Also in this case, the anisotropic conductive film 111 is formed in the opening 908 of the TAB tape 901 similarly to the case described above.
Can be prevented. The dummy lead 907 is
It may be provided on the optical glass 101. Further, the dummy lead 907 is formed of the TAB tape 901 and the optical glass 101.
May be provided in both.

【0045】第四に、この実施例のCCD実装装置は、
TABテープ901の光学ガラス101との接着面91
3に粗面処理が施されている点が、図1に示したCCD
実装装置と構成を異にする。このように接着面913に
粗面処理が施されていることで、TABテープ901と
光学ガラス101との接着強度が向上する。図16は粗
面処理の一例を示す図である。同図に示すように、基体
1601の表裏両面に接着剤1602、1603を介し
て銅箔1604、1605が形成された基板1606の
一方の面の銅箔1605をエッチングにより除去する。
銅箔1605が除去された面には、接着剤1603が残
っており、この接着剤1603が粗面の役割を果たす。
粗面処理された面は、CCD112に入射する光の反射
防止も兼ねる。
Fourth, the CCD mounting apparatus of this embodiment is
Adhesive surface 91 of TAB tape 901 with optical glass 101
The point that the surface is roughened is the CCD shown in FIG.
The configuration differs from the mounting device. By performing the roughening treatment on the bonding surface 913 in this manner, the bonding strength between the TAB tape 901 and the optical glass 101 is improved. FIG. 16 is a diagram illustrating an example of the rough surface processing. As shown in the figure, the copper foil 1605 on one side of the substrate 1606 on which the copper foils 1604 and 1605 are formed on both sides of the base 1601 via adhesives 1602 and 1603 is removed by etching.
The adhesive 1603 remains on the surface from which the copper foil 1605 has been removed, and the adhesive 1603 serves as a rough surface.
The roughened surface also serves to prevent reflection of light incident on the CCD 112.

【0046】図13は別の実施例に関するCCD実装装
置の正面図である。図に示すCCD実装装置は、多層基
板1301から突出したフレキシブルテープ1302を
CCD112との接続に使用している点で、図1に示し
たCCD実装装置と構成を異にする。このように、複合
基板1301を使用することで、CCD実装装置の高密
度化が可能になる。
FIG. 13 is a front view of a CCD mounting apparatus according to another embodiment. The CCD mounting apparatus shown in the drawing differs from the CCD mounting apparatus shown in FIG. 1 in that a flexible tape 1302 protruding from a multilayer substrate 1301 is used for connection with the CCD 112. As described above, by using the composite substrate 1301, the density of the CCD mounting device can be increased.

【0047】図14はさらに別の実施例に関するCCD
実装装置の正面図である。図に示すCCD実装装置は、
例えば矩形に近いTABテープ1401の例えばほぼ中
央部に開口部1402を設け、開口部1402にCCD
(図示略)を配置した点で、図1に示したCCD実装装
置と構成を異にする。図14において、符号1403は
ダミーリード、符号1404は銅リードである。
FIG. 14 shows a CCD according to still another embodiment.
It is a front view of a mounting device. The CCD mounting device shown in the figure is
For example, an opening 1402 is provided in, for example, a substantially central portion of a TAB tape 1401 having a substantially rectangular shape, and a CCD is provided in the opening 1402.
1 (not shown) is different from the CCD mounting apparatus shown in FIG. In FIG. 14, reference numeral 1403 denotes a dummy lead, and reference numeral 1404 denotes a copper lead.

【0048】図15(a),(b)は別の実施例に関す
るCCD実装装置の平面図である。図15(a)に示す
CCD実装装置は、図3に示したように、異方性導電膜
111を、辺107、108、109、110に沿って
形成する際に、その一部に異方性導電膜111を形成し
ない異方性導電膜未形成部1501を設けたものであ
る。異方性導電膜未形成部1501は、異方性導電膜1
11をTABテープ102に熱圧着する際に、接着工程
で発生するガスを逃がしたり、空洞部106に閉じ込め
られた空気が熱膨脹して接続部に機械的応力を加えない
ようにガス抜きにしたり、またCCD112の実装後に
空洞部106の空気を窒素ガス置換したり、さらには空
洞部106に混入したゴミ等の異物をバキューム吸引や
エアブロー等で除去するために設けられる。異方性導電
膜未形成部1501は、TABテープ102とCCD1
12とを接着した後、例えば封止樹脂により封止され
る。また、同目的のガス抜き部分1501は図15
(b)に示すように、絶縁シート104の一部を削除し
て形成してもよい。
FIGS. 15A and 15B are plan views of a CCD mounting apparatus according to another embodiment. In the CCD mounting apparatus shown in FIG. 15A, as shown in FIG. 3, when the anisotropic conductive film 111 is formed along the sides 107, 108, 109 and 110, a part of the anisotropic conductive film 111 is anisotropic. An anisotropic conductive film non-formed portion 1501 in which the conductive film 111 is not formed is provided. The portion 1501 where the anisotropic conductive film is not formed is the anisotropic conductive film 1
When thermocompression-bonding 11 to the TAB tape 102, the gas generated in the bonding process is released, or the air trapped in the cavity 106 is thermally expanded to release gas so that no mechanical stress is applied to the connection. Further, it is provided to replace the air in the cavity 106 with nitrogen gas after mounting the CCD 112 and to remove foreign substances such as dust mixed in the cavity 106 by vacuum suction or air blow. The portion 1501 where the anisotropic conductive film is not formed is composed of the TAB tape 102 and the CCD 1
After bonding with the sealing resin 12, the sealing is performed with, for example, a sealing resin. In addition, the degassing portion 1501 for the same purpose is shown in FIG.
As shown in (b), a part of the insulating sheet 104 may be deleted.

【0049】この発明のもう一つの他の実施例について
説明する。この実施例は、CCDとして図17に示すよ
うに1辺に沿ってのみ電極パッド1701が形成された
CCD1702を用いる。電極パッド1701を1辺に
沿ってのみ形成すると、銅リード105の引き出しが1
方向となり、周辺部品の実装やカメラケーブル等との接
続やアッセンブリ工程が簡便となる。
Next, another embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, a CCD 1702 having an electrode pad 1701 formed only along one side as shown in FIG. 17 is used as the CCD. When the electrode pad 1701 is formed only along one side, the lead of the copper lead 105 becomes 1
Direction, which facilitates mounting of peripheral parts, connection with camera cables and the like, and assembly process.

【0050】この発明のさらにもう一つの他の実施例に
ついて説明する。この実施例は、図18に示すように、
銅リード1801の電極パッドと銅リード1802の電
極パッドを、銅リード1804を経由して相互に引き回
して回路接続の効率化を達成するものである。これは配
線パターンが1層の場合である。図19に示すように、
TABテープ1803を多層構造にして各層に線路19
01を設け、各線路1901と銅リード1801及び銅
リード1802とをスルーホール1902により接続す
ることも可能である。また、銅リード1804は、ダミ
ーリードの機能も果たす。
Next, another embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, as shown in FIG.
The electrode pad of the copper lead 1801 and the electrode pad of the copper lead 1802 are routed to each other via the copper lead 1804 to achieve efficient circuit connection. This is a case where the wiring pattern has a single layer. As shown in FIG.
The TAB tape 1803 has a multi-layer structure, and each layer has a line 19.
01, and each line 1901 can be connected to the copper lead 1801 and the copper lead 1802 through the through hole 1902. The copper lead 1804 also performs the function of a dummy lead.

【0051】図20は別の実施例に関するCCD実装装
置の断面図である。CCD112と銅リード105を異
方性導電膜111で接続する際に、異方性導電膜111
等がCCD112の画素エリヤに侵入しないように、銅
リード105の先端の絶縁シート104上にダム枠20
19を形成する。ダム枠2019は、例えば銅リード1
05を形成した後に、例えばエポキシ等の絶縁性ペース
トをスクリーン印刷法で形成してもよい。また、レジス
ト液を塗布してフォトエッチング法で形成することもで
きる。さらに同ダム枠はCCD112上の画素エリヤの
周囲に形成してもよい。このときには、バンプ接続を疎
外しないようにダム枠の高さをバンプより低くするなど
の管理が必要である。また、シリコーン系のような弾力
性の材料を使用するとバンプ接続の際に応力を緩和する
こともできる。さらに、異方性導電膜111に対し、不
溶性の材料が望ましい。
FIG. 20 is a sectional view of a CCD mounting apparatus according to another embodiment. When connecting the CCD 112 and the copper lead 105 with the anisotropic conductive film 111,
The dam frame 20 is placed on the insulating sheet 104 at the end of the copper lead 105 so that
19 is formed. The dam frame 2019 is, for example, a copper lead 1.
After forming 05, an insulating paste such as epoxy may be formed by a screen printing method. Alternatively, a resist solution can be applied and formed by a photoetching method. Further, the dam frame may be formed around the pixel area on the CCD 112. At this time, it is necessary to manage the height of the dam frame to be lower than the bump so as not to alienate the bump connection. In addition, when an elastic material such as a silicone material is used, stress can be reduced at the time of bump connection. Further, a material that is insoluble in the anisotropic conductive film 111 is desirable.

【0052】図21はこの発明に係る他の製造方法を説
明する図である。まず、光学ガラス101とTABテー
プ102とを接着し(ステップ2101)、TABテー
プ102をあらかじめ折り曲げる(ステップ210
2)。これと平行してCCD112の電極パッドに金ボ
ールバンプ2110を形成する。その後、CCD112
の裏面側に位置合わせ用の支持ガラス板2111を貼り
合わせる(ステップ2104)。
FIG. 21 is a view for explaining another manufacturing method according to the present invention. First, the optical glass 101 and the TAB tape 102 are bonded (Step 2101), and the TAB tape 102 is bent in advance (Step 210).
2). In parallel with this, gold ball bumps 2110 are formed on the electrode pads of the CCD 112. After that, the CCD 112
A support glass plate 2111 for positioning is attached to the back side of the substrate (step 2104).

【0053】次に、カメラ筐体(図示せず)に挿入し、
TABテープ102側の下部にある光学ガラス101と
CCD112側の支持ガラス板2111とを精度良く圧
接嵌合することで、バンプ113とTABテープ102
を電気的に接続することができる(ステップ210
5)。
Next, it is inserted into a camera housing (not shown),
By precisely press-fitting the optical glass 101 at the lower part on the TAB tape 102 side and the supporting glass plate 2111 on the CCD 112 side, the bump 113 and the TAB tape 102 are fitted.
Can be electrically connected (step 210).
5).

【0054】加圧はCCD112の裏面に貼りつけた支
持ガラス板2111にシリコンゴム等を用いて、接圧5
0gf/バンプ程度で、充分な接続が可能となる。図2
2は平面図であるが、TABリードの引き出し部以外
の、双方のガラス板101及び2111が直線上と円弧
上になっている部分2112を位置合わせ基準として用
いることで実現が可能となる。この実施例は、CCD素
子の実装時に不良が発生した時にTABテープ等の部材
を損傷せず、完全に不良CCDを交換できることが最大
のメリットである。
Pressing is performed by applying a contact pressure of 5 to the supporting glass plate 2111 attached to the back surface of the CCD 112 using silicon rubber or the like.
About 0 gf / bump enables a sufficient connection. FIG.
Although FIG. 2 is a plan view, this can be realized by using a portion 2112 where the two glass plates 101 and 2111 are on a straight line and on an arc other than the lead portion of the TAB lead as a positioning reference. This embodiment has the greatest advantage that a defective CCD can be completely replaced without damaging a member such as a TAB tape when a failure occurs during mounting of the CCD element.

【0055】上述した実施例は光電変換素子としてCC
Dを用いていたが、例えばC−MOS型の撮像素子や光
センサ等を用いても良い。また、レーザダイオードや半
導体レーザ等の光ピックアップやLED素子といった、
回路基板と光学レンズやを光学ガラスおよび光センサ等
の素子との接続にも応用が可能である。
In the above-described embodiment, CC is used as the photoelectric conversion element.
Although D is used, for example, a C-MOS type image sensor, an optical sensor, or the like may be used. In addition, optical pickups such as laser diodes and semiconductor lasers and LED elements,
The present invention is also applicable to connection between a circuit board and an optical lens or an element such as an optical glass or an optical sensor.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上説明したように、この発明の光電変
換素子の実装装置及びその製造方法によれば、簡便な製
造プロセスで実装でき、かつ小型な光電変換素子モジュ
ールの実現が可能となる。
As described above, according to the photoelectric conversion element mounting apparatus and the method of manufacturing the same of the present invention, a small-sized photoelectric conversion element module which can be mounted by a simple manufacturing process can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例を説明するためのCCD実
装装置の正面図。
FIG. 1 is a front view of a CCD mounting device for explaining an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すTABテープの斜視図。FIG. 2 is a perspective view of the TAB tape shown in FIG.

【図3】図1に示すTABテープの平面図。FIG. 3 is a plan view of the TAB tape shown in FIG. 1;

【図4】図1に示すCCDの正面図。FIG. 4 is a front view of the CCD shown in FIG. 1;

【図5】この発明の一実施例に係るCCD実装装置の工
程図。
FIG. 5 is a process chart of the CCD mounting apparatus according to one embodiment of the present invention.

【図6】TABテープと光学ガラスとの接着を説明する
ための説明図。
FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining adhesion between a TAB tape and optical glass.

【図7】図5の後の工程の説明図。FIG. 7 is an explanatory view of a step after FIG. 5;

【図8】この発明の効果を説明するための説明図。FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining the effect of the present invention.

【図9】この発明の他の実施例に係るCCD実装装置の
平面図。
FIG. 9 is a plan view of a CCD mounting apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図10】この発明の他の実施例に係るCCD実装装置
の正面図。
FIG. 10 is a front view of a CCD mounting apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図11】この発明の効果を説明するための説明図。FIG. 11 is an explanatory diagram for explaining effects of the present invention.

【図12】この発明の他の実施例に係るTABテープの
平面図。
FIG. 12 is a plan view of a TAB tape according to another embodiment of the present invention.

【図13】この発明の他の実施例に係るCCD実装装置
の正面図。
FIG. 13 is a front view of a CCD mounting apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図14】この発明の他の実施例に係るTABテープの
平面図。
FIG. 14 is a plan view of a TAB tape according to another embodiment of the present invention.

【図15】この発明の他の実施例に係るTABテープの
平面図。
FIG. 15 is a plan view of a TAB tape according to another embodiment of the present invention.

【図16】この発明の他の実施例に係るTABテープの
正面図。
FIG. 16 is a front view of a TAB tape according to another embodiment of the present invention.

【図17】この発明の他の実施例に係るCCDの平面
図。
FIG. 17 is a plan view of a CCD according to another embodiment of the present invention.

【図18】この発明の他の実施例に係るTABテープの
平面図。
FIG. 18 is a plan view of a TAB tape according to another embodiment of the present invention.

【図19】この発明の他の実施例に係るTABテープの
平面図。
FIG. 19 is a plan view of a TAB tape according to another embodiment of the present invention.

【図20】この発明の他の実施例に係るCCD実装装置
の平面図。
FIG. 20 is a plan view of a CCD mounting apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図21】この発明の他の実施例に係るCCD実装装置
の工程図。
FIG. 21 is a process chart of a CCD mounting apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図22】この発明の他の実施例に係るCCD実装装置
の正面図。
FIG. 22 is a front view of a CCD mounting apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図23】従来のCOG法の示す工程図。FIG. 23 is a process chart showing a conventional COG method.

【図24】従来のSP−TAB法を示す工程図。FIG. 24 is a process chart showing a conventional SP-TAB method.

【図25】従来のSP−TAB法による光学ガラスと接
着剤の貼り合わせ部を示す上面図。
FIG. 25 is a top view showing a bonded portion of an optical glass and an adhesive by a conventional SP-TAB method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101…光学ガラス、102,1401…TABテー
プ、103…接着剤、104…絶縁シート、105,9
03,1801,1802,1804…銅リード、10
6,908,1402…開口部、111…異方性導電
膜、112,1701…CCD、113…バンプ、11
5…マイクロレンズ、116…封止樹脂、117,17
01…電極パッド、901,1803…TABテープ、
902…電子部品、904…絶縁シート、905…除去
部、906…カメラ筐体、907,1403…ダミーリ
ード、1301…多層基板、1302…フレキシブルテ
ープ、1501…異方性導電膜未形成部、1601,1
606…基板、1602、1603…接着剤、160
4、1605…銅箔、1901…線路、1902…スル
ーホール、2019…ダム枠、2110…金ボールバン
プ、2111…支持ガラス板。
101: Optical glass, 102, 1401: TAB tape, 103: Adhesive, 104: Insulating sheet, 105, 9
03, 1801, 1802, 1804: Copper lead, 10
6, 908, 1402: opening, 111: anisotropic conductive film, 112, 1701: CCD, 113: bump, 11
5 micro lens, 116 sealing resin, 117, 17
01 ... electrode pad, 901, 1803 ... TAB tape,
Reference numeral 902: electronic component, 904: insulating sheet, 905: removed part, 906: camera housing, 907, 1403: dummy lead, 1301: multilayer substrate, 1302: flexible tape, 1501: unformed part of anisotropic conductive film, 1601 , 1
606: substrate, 1602, 1603: adhesive, 160
4, 1605: copper foil, 1901: line, 1902: through hole, 2019: dam frame, 2110: gold ball bump, 2111: supporting glass plate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大井 一成 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株式会社東芝 マルチメディア技術研究 所内 (72)発明者 木村 正信 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株式会社東芝 マルチメディア技術研究 所内 (72)発明者 杉 修一 東京都港区新橋3丁目3番9号 東芝エ ー・ブイ・イー株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−278872(JP,A) 特開 平5−6989(JP,A) 特開 平1−95553(JP,A) 特開 平4−207072(JP,A) 特開 平7−183329(JP,A) 特開 平2−103967(JP,A) 特開 平6−188403(JP,A) 実開 平1−57862(JP,U) 実開 平1−121956(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 H01L 23/02 H01L 23/12 H01L 27/14 H04N 5/335 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kazunari Oi 8 Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Toshiba Multimedia Technology Research Institute (72) Inventor Masanobu Kimura 8 Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Toshiba Corporation Multimedia Technology Research Institute (72) Inventor Shuichi Sugi 3-3-9, Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Toshiba A-V E Corporation (56) References JP-A-2-278872 (JP, A) JP-A-5-6989 (JP, A) JP-A-1-95553 (JP, A) JP-A-4-207707 (JP, A) JP-A-7-183329 (JP, A) JP-A-2 -1003967 (JP, A) JP-A-6-188403 (JP, A) JP-A-1-57862 (JP, U) JP-A-1-121956 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. . 7, DB name) H01 L 21/60 H01L 23/02 H01L 23/12 H01L 27/14 H04N 5/335

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 透光性部材と、 前記透光性部材に接着され、絶縁シートおよびその上に
形成された複数のリードを含み、かつ折り曲げ可能な配
線基板と、 前記透光性部材に対向配置されると共に、前記配線基板
に絶縁性接着剤を用いて電気的に接続してなる光電変換
素子とを備え、 前記絶縁性接着剤は前記光電変換素子の受光面を取り囲
む連続した環状に形成してなることを特徴とする光電変
換装置。
1. A and the light-transmitting member, wherein the contact wear translucent member, insulating sheet and thereon
A wiring board that includes a plurality of formed leads and is bendable; and is disposed to face the translucent member, and is electrically connected to the wiring board using an insulating adhesive. A photoelectric conversion device, comprising: a photoelectric conversion element comprising: an insulating adhesive formed in a continuous ring surrounding a light receiving surface of the photoelectric conversion element.
【請求項2】 前記光電変換素子の受光面を取り囲んだ
前記絶縁性接着剤の外側は樹脂により封止してなること
を特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
2. The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the outside of the insulating adhesive surrounding the light receiving surface of the photoelectric conversion element is sealed with a resin.
【請求項3】 前記絶縁性接着剤と少なくとも光が当た
る部分の前記配線基板の一方または両方は、黒色化して
なることを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
3. The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein one or both of the portions of the wiring substrate that are exposed to light with the insulating adhesive are blackened.
【請求項4】 前記絶縁性接着剤と前記光電変換素子の
受光面の周囲に形成される前記配線基板の一方または両
方は、一部に連通部を設けてなることを特徴とする請求
項1に記載の光電変換装置。
4. The communication device according to claim 1, wherein one or both of the insulating adhesive and the wiring board formed around the light receiving surface of the photoelectric conversion element are provided with a communication part in a part thereof. 3. The photoelectric conversion device according to claim 1.
【請求項5】 前記透光性部材あるいは前記配線基板の
接着面を粗面化してなることを特徴とする請求項1に記
載の光電変換装置。
5. The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein an adhesive surface of the light transmitting member or the wiring substrate is roughened.
【請求項6】 前記配線基板の接着面の粗面化は、パタ
ーンをエッチングして接着面を残すことで形成してなる
ことを特徴とする請求項5に記載の光電変換装置。
6. The photoelectric conversion device according to claim 5, wherein the bonding surface of the wiring substrate is roughened by etching a pattern to leave the bonding surface.
【請求項7】 前記透光性部材は光学ガラスであり、光
学ローパスフィルタを兼用してなることを特徴とする請
求項1に記載の光電変換装置。
7. The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the translucent member is an optical glass and also serves as an optical low-pass filter.
【請求項8】 透光性部材と、 前記透光性部材に接着され、絶縁シートおよびその上に
形成された複数のリードを含み、かつ折り曲げ可能な多
層配線基板と、 前記多層配線基板の任意の層に絶縁性接着剤を用いて電
気的に接続してなる光電変換素子とを備え、 前記絶縁性接着剤は前記光電変換素子の受光面を取り囲
む連続した環状に形成してなることを特徴とする光電変
換装置。
8. A light-transmitting member, wherein the contact wear translucent member, insulating sheet and thereon
A multi- layer wiring board including a plurality of leads formed and bendable, and a photoelectric conversion element electrically connected to an arbitrary layer of the multi-layer wiring board using an insulating adhesive. The photoelectric conversion device, comprising: an insulating adhesive formed in a continuous ring surrounding a light receiving surface of the photoelectric conversion element.
【請求項9】 前記配線基板が、前記光電変換素子の受
光面に対向する開口部を有することを特徴とする請求項
1または8に記載の光電変換装置。
9. The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the wiring substrate has an opening facing a light receiving surface of the photoelectric conversion element.
【請求項10】 対向する第1および第2の主面に連通
した開口部を有し、絶縁シートおよびその上に形成され
た複数のリードを含み、かつ折り曲げ可能な配線基板
と、 前記第1の主面側の前記開口部周縁において、前記配線
基板に接着してなる透光性部材と、 前記透光性部材と対向する受光面を有し、かつ前記第2
の主面側の前記開口部周縁において、前記配線基板に絶
縁性接着剤を用いて電気的に接続してなる光電変換素子
とを備え、 前記絶縁性接着剤は前記開口部を連続して取り囲むよう
に形成してなることを特徴とする光電変換装置。
10. An insulating sheet having an opening communicating with opposing first and second main surfaces, and formed on the insulating sheet.
A plurality of leads and a bendable wiring board; a light-transmitting member adhered to the wiring board at the periphery of the opening on the first main surface side; and a light-transmitting member facing the light-transmitting member. Light receiving surface, and the second
And a photoelectric conversion element electrically connected to the wiring board by using an insulating adhesive at the periphery of the opening on the main surface side of the opening, and the insulating adhesive continuously surrounds the opening. A photoelectric conversion device characterized by being formed as described above.
【請求項11】 透光性部材に、絶縁シートおよびその
上に形成された複数のリードを含み、かつ折り曲げ可能
な配線基板を接着する第一の工程と、 光電変換素子の電極パッドあるいは配線基板の接続パッ
ドに絶縁性接着剤を形成する第二の工程と、 光電変換素子を前記第一の工程の配線基板に接続する第
三の工程とを具備することを特徴とする光電変換装置の
製造方法。
11. An insulating sheet and a light-transmitting member ,
Includes multiple leads formed on it and can be folded
A first step of bonding the Do wiring substrate, a second step of forming an insulating adhesive to the connection pad of the electrode pad or the wiring substrate of the photoelectric conversion element, the wiring photoelectric conversion element of the first step And a third step of connecting to the substrate.
【請求項12】 前記絶縁性接着剤あるいは前記配線基
板には一部に連通部が設けられており、 前記光電変換素子と前記配線基板とを前記絶縁性接着剤
を用いて接続した後に、前記連通部を樹脂で封止する第
四の工程とを具備することを特徴とする請求項11記載
の光電変換装置の製造方法。
12. The walking insulating adhesive is communicating portion is provided in a part on the wiring substrate, and a pre-Symbol wiring board and the photoelectric conversion element using the insulating adhesive The method according to claim 11, further comprising: a fourth step of sealing the communication portion with a resin after the connection.
【請求項13】 光電変換素子の電極パッドあるいは絶
縁シートおよびその上に形成された複数のリードを含
み、かつ折り曲げ可能な配線基板の接続パッドに絶縁性
接着剤を形成する第一の工程と、 前記光電変換素子を前記第一の工程の配線基板に接続す
る第二の工程と、 透光性部材と前記配線基板を接着する第三の工程とを具
備することを特徴とする光電変換装置の製造方法。
13. walk electrode pad of the photoelectric conversion element is absolutely
Including an edge sheet and a plurality of leads formed thereon.
A first step of forming seen, and the insulating adhesive to the connection pads of the wiring substrate foldably, a second step of connecting the photoelectric conversion element to the wiring substrate of the first step, translucent And a third step of bonding the conductive member and the wiring board.
JP11153494A 1993-05-28 1994-05-25 Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same Expired - Lifetime JP3207319B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11153494A JP3207319B2 (en) 1993-05-28 1994-05-25 Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12676393 1993-05-28
JP5-126763 1993-05-28
JP11153494A JP3207319B2 (en) 1993-05-28 1994-05-25 Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0799214A JPH0799214A (en) 1995-04-11
JP3207319B2 true JP3207319B2 (en) 2001-09-10

Family

ID=26450905

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11153494A Expired - Lifetime JP3207319B2 (en) 1993-05-28 1994-05-25 Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3207319B2 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7420608B2 (en) 2003-06-18 2008-09-02 Canon Kabushiki Kaisha Display device with image sensing device
WO2008132802A1 (en) 2007-04-13 2008-11-06 Panasonic Corporation Solid-state imaging device and method for manufacturing the same
WO2009098875A1 (en) 2008-02-06 2009-08-13 Panasonic Corporation Solid-state imaging device and method for manufacturing the same
JP2011082458A (en) * 2009-10-09 2011-04-21 Olympus Corp Mounting structure and manufacturing method for imaging unit
JP2011210808A (en) * 2010-03-29 2011-10-20 Casio Computer Co Ltd Semiconductor structure and semiconductor device
JP2011210818A (en) * 2010-03-29 2011-10-20 Casio Computer Co Ltd Semiconductor structure and method for manufacturing the same
JP2015029145A (en) * 2014-10-14 2015-02-12 オリンパス株式会社 Mounting structure and manufacturing method of imaging unit

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990036077A (en) * 1995-08-02 1999-05-25 모리 가즈히로 Solid-state imaging device and its manufacturing method
JP3410907B2 (en) * 1996-08-30 2003-05-26 株式会社東芝 Photoelectric conversion device mounting apparatus and method of manufacturing the same
JPH1174494A (en) 1997-08-28 1999-03-16 Toshiba Corp Optical integrated circuit device
US6055322A (en) * 1997-12-01 2000-04-25 Sensor, Inc. Method and apparatus for illuminating and imaging eyes through eyeglasses using multiple sources of illumination
JP2000058593A (en) 1998-08-03 2000-02-25 Nec Corp Mounting structure of surface elastic wave element and mounting thereof
DE19854733A1 (en) * 1998-11-27 2000-05-31 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Scanning unit of a position measuring device
US6784409B2 (en) 2000-03-28 2004-08-31 Canon Kabushiki Kaisha Electronic device with encapsulant of photo-set resin and production process of same
JP4890682B2 (en) * 2000-03-30 2012-03-07 パナソニック株式会社 Solid-state imaging device and manufacturing method thereof
JP3607160B2 (en) 2000-04-07 2005-01-05 三菱電機株式会社 Imaging device
JP3626661B2 (en) * 2000-04-27 2005-03-09 三菱電機株式会社 Imaging device, imaging device mounted product, and imaging device manufacturing method
JP4405062B2 (en) 2000-06-16 2010-01-27 株式会社ルネサステクノロジ Solid-state imaging device
KR20020032027A (en) * 2000-10-25 2002-05-03 듀흐 마리 에스. A Packaging Structure for CCD Imaging Chip
US7304684B2 (en) 2000-11-14 2007-12-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Image pickup apparatus, method of making, and electric apparatus having image pickup apparatus
JP2002305261A (en) 2001-01-10 2002-10-18 Canon Inc Electronic component and its manufacturing method
TW548843B (en) * 2001-02-28 2003-08-21 Fujitsu Ltd Semiconductor device and method for making the same
JP4938936B2 (en) * 2001-05-14 2012-05-23 オリンパス株式会社 Solid-state imaging device
JP4729825B2 (en) * 2001-08-17 2011-07-20 ソニー株式会社 Image sensor
JP4934935B2 (en) * 2001-09-19 2012-05-23 ソニー株式会社 Solid-state imaging device
JP4929553B2 (en) * 2001-09-27 2012-05-09 富士通セミコンダクター株式会社 Camera module and manufacturing method thereof
JP4533635B2 (en) * 2004-01-21 2010-09-01 オリンパス株式会社 Method for manufacturing capsule medical device
JP4561143B2 (en) * 2004-03-26 2010-10-13 パナソニック株式会社 Imaging device
JP2005345571A (en) 2004-05-31 2005-12-15 Canon Inc Image pickup unit and electronic equipment
JP2005351997A (en) 2004-06-09 2005-12-22 Canon Inc Lens apparatus
JP2005352314A (en) * 2004-06-11 2005-12-22 Canon Inc Imaging device and electronic apparatus
JPWO2006062195A1 (en) * 2004-12-09 2008-06-12 松下電器産業株式会社 Semiconductor mounting board
JP4572383B2 (en) * 2004-12-13 2010-11-04 セイコーエプソン株式会社 Piezoelectric device
KR100910772B1 (en) * 2005-07-05 2009-08-04 삼성테크윈 주식회사 Flip-chip package for image sensor and compact camera module comprising the same
KR100730077B1 (en) 2005-11-25 2007-06-19 삼성전기주식회사 Image sensor module and camera module package therewith
JP2007194271A (en) * 2006-01-17 2007-08-02 Olympus Imaging Corp Structure of mounting imaging element
JP4940731B2 (en) * 2006-03-31 2012-05-30 パナソニック株式会社 Solid-state imaging device and portable imaging device
TW200803651A (en) * 2006-06-02 2008-01-01 Chicony Electronic Co Ltd Method of fabricating electronic module with side contact
JP5154783B2 (en) * 2006-11-14 2013-02-27 オリンパス株式会社 Manufacturing method of imaging module
US8204352B2 (en) 2007-11-29 2012-06-19 Kyocera Corporation Optical apparatus, sealing substrate, and method of manufacturing optical apparatus
US8421979B2 (en) 2008-07-28 2013-04-16 Sharp Kabushiki Kaisha Display panel and display device including the same
JP5376865B2 (en) 2008-08-19 2013-12-25 キヤノン株式会社 Solid-state imaging device and electronic imaging device
JP5045952B2 (en) * 2009-02-12 2012-10-10 セイコーエプソン株式会社 Optical device, optical module, and electronic equipment
JP2011023595A (en) * 2009-07-16 2011-02-03 Renesas Electronics Corp Solid-state imaging device
JP5046308B2 (en) * 2009-10-09 2012-10-10 シャープ株式会社 Wiring sheet, solar cell with wiring sheet, solar cell module, and wiring sheet roll
JP5701550B2 (en) * 2010-09-17 2015-04-15 オリンパス株式会社 Imaging apparatus and manufacturing method of imaging apparatus
JP5541088B2 (en) * 2010-10-28 2014-07-09 ソニー株式会社 IMAGING ELEMENT PACKAGE, IMAGING ELEMENT PACKAGE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5818455B2 (en) * 2011-02-17 2015-11-18 キヤノン株式会社 Solid-state imaging device and manufacturing method thereof
JP5389970B2 (en) 2012-03-26 2014-01-15 シャープ株式会社 Imaging module and imaging module manufacturing method
JP6102148B2 (en) * 2012-09-26 2017-03-29 日本電気株式会社 Hermetically sealed package and manufacturing method thereof
JP6070933B2 (en) * 2012-12-20 2017-02-01 セイコーインスツル株式会社 Optical device and method for manufacturing optical device
JP5631457B2 (en) * 2013-08-05 2014-11-26 キヤノン株式会社 Solid-state imaging device and electronic imaging device
JP6427864B2 (en) * 2013-11-05 2018-11-28 株式会社ニコン Solid-state imaging device and electronic camera
WO2016084632A1 (en) * 2014-11-27 2016-06-02 ソニー株式会社 Camera module, manufacturing method of camera module, imaging device and electronic device
JP6690157B2 (en) * 2014-11-27 2020-04-28 ソニー株式会社 Camera module, camera module manufacturing method, imaging device, and electronic apparatus
KR101689703B1 (en) * 2015-01-23 2016-12-27 옵토팩 주식회사 Photo sensor package module
JP6831477B2 (en) * 2017-01-11 2021-02-17 ▲寧▼波舜宇光▲電▼信息有限公司 Circuit boards and molded photosensitive modules and their manufacturing methods, as well as camera modules and electronic devices
CN108307094B (en) * 2017-01-11 2022-10-11 宁波舜宇光电信息有限公司 Circuit board, molded photosensitive assembly, manufacturing method of molded photosensitive assembly, camera module and electronic equipment
JP7201767B1 (en) * 2021-10-08 2023-01-10 株式会社芝浦電子 Temperature sensor and temperature sensor manufacturing method

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7420608B2 (en) 2003-06-18 2008-09-02 Canon Kabushiki Kaisha Display device with image sensing device
WO2008132802A1 (en) 2007-04-13 2008-11-06 Panasonic Corporation Solid-state imaging device and method for manufacturing the same
WO2009098875A1 (en) 2008-02-06 2009-08-13 Panasonic Corporation Solid-state imaging device and method for manufacturing the same
JP2011082458A (en) * 2009-10-09 2011-04-21 Olympus Corp Mounting structure and manufacturing method for imaging unit
JP2011210808A (en) * 2010-03-29 2011-10-20 Casio Computer Co Ltd Semiconductor structure and semiconductor device
JP2011210818A (en) * 2010-03-29 2011-10-20 Casio Computer Co Ltd Semiconductor structure and method for manufacturing the same
JP2015029145A (en) * 2014-10-14 2015-02-12 オリンパス株式会社 Mounting structure and manufacturing method of imaging unit

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0799214A (en) 1995-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3207319B2 (en) Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same
KR0172142B1 (en) Use of anisotropically conductive film for connecting leads of wiring board with electrode pads of photoelectric transducer
JP3540281B2 (en) Imaging device
US7414663B2 (en) Imaging element, imaging device, camera module and camera system
US20070241273A1 (en) Camera module
KR100366934B1 (en) Solid-state image pickup apparatus and manufacturing method thereof
JP2001128072A (en) Image pickup element, image pickup device, camera module and camera system
JP4849703B2 (en) Optical module
JP3355881B2 (en) Solid-state imaging device and manufacturing method thereof
KR100264314B1 (en) Apparatus and method for mounting photoelectric conversion element
JP2005116628A (en) Solid-state imaging device and manufacturing method thereof
JP3073550B2 (en) Semiconductor device
JP2005242242A (en) Image sensor package and camera module
KR20070106364A (en) Semiconductor flip-chip package component and fabricating method
JP4361300B2 (en) OPTICAL MODULE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE
JP3712584B2 (en) Solid-state imaging device and manufacturing method thereof
JP4483016B2 (en) Solid-state imaging device and manufacturing method thereof
JPH10144898A (en) Solid state image pickup apparatus
JP2008166521A (en) Solid-state imaging device
JPS6362266A (en) Manufacture of solid-state image sensing device
JPH01228178A (en) Solid state image sensor
JP2002244146A (en) Method for internal connection of flat panel display provided with opaque substrate, and device formed by the method
JP2001085654A (en) Solid-state image device and manufacturing method thereof
TWI245394B (en) Device including an opto-electronic chip with inner lead bonding and method for manufacturing the same
TW202135246A (en) Camera module package structure

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20010619

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080706

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090706

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090706

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100706

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110706

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120706

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130706

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term