JP2001085654A - Solid-state image device and manufacturing method thereof - Google Patents
Solid-state image device and manufacturing method thereofInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、固体撮像装置及び
その製造方法に関する。The present invention relates to a solid-state imaging device and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の光電変換撮像装置においては、図
5に示すように、開口部101aを有する樹脂もしくは
セラミック製のパッケージ101内の開口部101a内
に固体撮像素子102を収納し、パッケージ101の開
口部101aをシールガラス103で塞いでなるものが
ある。2. Description of the Related Art In a conventional photoelectric conversion imaging apparatus, as shown in FIG. 5, a solid-state imaging device 102 is housed in an opening 101a in a resin or ceramic package 101 having an opening 101a. Is closed with a sealing glass 103.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記構成の光電変換撮
像装置はパッケージを用いているので、外部からの反射
による固体撮像素子への影響を抑えることはできるが、
小型化をすることはできないのが現状である。Since the photoelectric conversion imaging device having the above-described structure uses a package, it is possible to suppress the influence of external reflection on the solid-state imaging device.
At present, miniaturization cannot be achieved.
【0004】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、小型化を実現することができる固体撮像装置及び
その製造方法を提供することを目的とする。[0004] The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a solid-state imaging device capable of realizing miniaturization and a method of manufacturing the same.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下の手段を講じた。本発明は、可撓性基
板上に固体撮像素子を実装してなる固体撮像装置であっ
て、樹脂フィルム上に配線パターンを形成してなる可撓
性基板と、前記可撓性基板を支持する支持基板と、前記
可撓性基板の前記配線パターン上に電気的に接続するよ
うに実装された固体撮像素子と、を具備し、前記可撓性
基板は、導電性層を介して前記支持基板に貼着されてい
ることを特徴とする固体撮像装置を提供する。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention has taken the following means. The present invention relates to a solid-state imaging device in which a solid-state imaging device is mounted on a flexible substrate, and a flexible substrate in which a wiring pattern is formed on a resin film, and the flexible substrate is supported. A support substrate, and a solid-state imaging device mounted so as to be electrically connected to the wiring pattern of the flexible substrate, wherein the flexible substrate is provided with a conductive layer via a conductive layer. A solid-state imaging device is provided which is attached to a solid-state imaging device.
【0006】この構成によれば、容易に小型化を図るこ
とができる。また、可撓性基板と支持基板とが導電性層
を介して接着剤などで貼り付けられるので、支持基板が
極性基の少ない樹脂フィルムと貼り付けられる場合に比
べて、長期間にわたって接着信頼性を維持することがで
きる。According to this structure, the size can be easily reduced. In addition, since the flexible substrate and the supporting substrate are attached with an adhesive or the like via a conductive layer, the bonding reliability can be maintained for a long time as compared with a case where the supporting substrate is attached with a resin film having few polar groups. Can be maintained.
【0007】また、本発明は、可撓性基板上に固体撮像
素子を実装してなる固体撮像装置の製造方法であって、
樹脂フィルム上に配線パターンを形成してなる可撓性基
板の前記樹脂フィルム上に導電性層を形成する工程と、
前記導電性層と支持基板とが接触するようにして、前記
可撓性基板を前記支持基板に貼着する工程と、前記可撓
性基板の前記配線パターン上に固体撮像素子を実装する
工程と、を具備することを特徴とする固体撮像装置の製
造方法を提供する。The present invention is also a method of manufacturing a solid-state imaging device having a solid-state imaging device mounted on a flexible substrate,
Forming a conductive layer on the resin film of a flexible substrate formed by forming a wiring pattern on the resin film,
Bonding the flexible substrate to the support substrate so that the conductive layer and the support substrate are in contact with each other; and mounting a solid-state imaging device on the wiring pattern of the flexible substrate. And a method of manufacturing a solid-state imaging device.
【0008】この方法によれば、小型で、長期間にわた
って接着信頼性を維持することができる固体撮像装置を
得ることができる。According to this method, it is possible to obtain a small-sized solid-state imaging device capable of maintaining adhesion reliability for a long period of time.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】本発明の骨子は、固体撮像素子を
実装した可撓性基板を支持基板に貼り付けてなる固体撮
像装置において、可撓性基板と支持基板との間に導電性
層を介在させて、長期間にわたって可撓性基板と支持基
板との間の接着信頼性を維持することである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The main point of the present invention is to provide a solid-state imaging device in which a flexible substrate on which a solid-state imaging device is mounted is attached to a support substrate. To maintain the bonding reliability between the flexible substrate and the supporting substrate for a long period of time.
【0010】以下、本発明の実施の形態について、添付
図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実
施の形態に係る固体撮像装置を示す平面図である。図2
は、一実施の形態に係る固体撮像装置を示す裏面図であ
る。図3は、本発明の一実施の形態に係る固体撮像装置
を示す断面図である。図4は、本発明の一実施の形態に
係る固体撮像装置のA−A’線に沿う拡大断面図であ
る。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view showing a solid-state imaging device according to one embodiment of the present invention. FIG.
1 is a back view showing a solid-state imaging device according to one embodiment. FIG. 3 is a sectional view showing the solid-state imaging device according to one embodiment of the present invention. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view taken along line AA ′ of the solid-state imaging device according to one embodiment of the present invention.
【0011】この固体撮像装置は、支持基板である透明
基板11に、固体撮像素子12を実装した可撓性基板で
あるフレキシブルプリント配線板(FPC)15又はT
AB(Tape Automated Bonding)基板を貼着してなる構
造を有する。In this solid-state imaging device, a flexible printed wiring board (FPC) 15 or a flexible printed circuit (FPC) 15 having a solid-state imaging device 12 mounted on a transparent substrate 11 as a support substrate.
It has a structure in which an AB (Tape Automated Bonding) substrate is attached.
【0012】このFPC15は、素子搭載部及び外部リ
ード16を含むリード部を有する。素子搭載部の固体撮
像素子12と反対側に光学的に透明な透明基板11が配
置され、外部リード部の固体撮像素子12と同じ側に
は、必要に応じてソケット対応用の補強板13が配置さ
れている。The FPC 15 has a lead portion including an element mounting portion and an external lead 16. An optically transparent transparent substrate 11 is arranged on the side opposite to the solid-state imaging device 12 of the element mounting portion, and a reinforcing plate 13 for a socket is provided on the same side of the external lead portion as the solid-state imaging device 12 if necessary. Are located.
【0013】FPC15の素子搭載部は、図4に示す構
成になっている。すなわち、透明基板11上には、接着
層A17を介してFPC15が貼着されている。具体的
には、接着層A17には、FPCを構成する樹脂フィル
ムであるポリイミドフィルム15aの一方の表面に形成
された導電性層であるCu箔15bが接触している。こ
のポリイミドフィルム15aの他方の表面にも導電性層
であるCu箔15bが貼り付けられている。すなわち、
このポリイミドフィルム15aは、Cu箔15bに挟ま
れている。The element mounting portion of the FPC 15 has the structure shown in FIG. That is, the FPC 15 is adhered on the transparent substrate 11 via the adhesive layer A17. Specifically, the adhesive layer A17 is in contact with a Cu foil 15b which is a conductive layer formed on one surface of a polyimide film 15a which is a resin film constituting the FPC. A Cu foil 15b, which is a conductive layer, is also attached to the other surface of the polyimide film 15a. That is,
This polyimide film 15a is sandwiched between Cu foils 15b.
【0014】この2つのCu箔15bにおいて、透明基
板11側のCu箔は、接着性向上用の層として機能し、
固体撮像素子12側のCu箔は、固体撮像素子やその他
の素子の実装用又は配線用のパターンを形成するための
層として機能する。In these two Cu foils 15b, the Cu foil on the transparent substrate 11 side functions as a layer for improving adhesion,
The Cu foil on the solid-state imaging element 12 side functions as a layer for forming a pattern for mounting or wiring the solid-state imaging element and other elements.
【0015】このCu箔15b上には、固体撮像素子1
2が実装されている。すなわち、固体撮像素子12の電
極パッド12bには、予めAuなどで構成されたバンプ
12aが形成されており、このバンプ12aを、Auメ
ッキが施されたCu箔15bで構成した配線パターン上
に当接させて加熱下で圧着することにより、配線パター
ンとバンプ12aとが電気的に接続して固体撮像素子1
2がFPC15に実装されている。また、バンプ12a
と接触するCu箔15bは、配線の引き回しにより外部
リード16に電気的に接続されている。On the Cu foil 15b, the solid-state imaging device 1
2 has been implemented. That is, a bump 12a made of Au or the like is formed in advance on the electrode pad 12b of the solid-state imaging device 12, and the bump 12a is applied to a wiring pattern made of a Cu foil 15b plated with Au. The wiring pattern and the bumps 12a are electrically connected to each other by being brought into contact and pressure-bonded under heating, so that the solid-state imaging device 1
2 is mounted on the FPC 15. Also, the bump 12a
Is electrically connected to the external lead 16 by routing the wiring.
【0016】透明基板11と固体撮像素子12との間に
は、接着層B14が設けられている。したがって、バン
プ12aとCu箔15bとの間の圧接状態は、接着剤B
14によって固体撮像素子12の固着と同時に保持され
る。このため、両者の電気的接続を保つようになってい
る。An adhesive layer B14 is provided between the transparent substrate 11 and the solid-state imaging device 12. Therefore, the pressure contact state between the bump 12a and the Cu foil 15b is determined by the adhesive B
By 14, the solid-state imaging device 12 is held at the same time as the fixation. For this reason, the electrical connection between them is maintained.
【0017】なお、固体撮像素子12の撮像面に対向す
るFPCの部分は、光を透過させるために予め切り取っ
て除去している。また、固体撮像装置においては、通常
オンチップマイクロレンズを使用しており、撮像素子の
感度の劣化を防ぐために、その撮像面と透明基板11と
の間のギャップは空隙としている。したがって、固体撮
像素子12の撮像面と透明基板11との間のギャップ
は、接着層B14により気密封止されており、長期的信
頼性を保つことができるようになっている。The portion of the FPC facing the imaging surface of the solid-state imaging device 12 has been cut out and removed in advance in order to transmit light. In a solid-state imaging device, an on-chip microlens is usually used, and a gap between the imaging surface and the transparent substrate 11 is a gap in order to prevent the sensitivity of the imaging device from deteriorating. Therefore, the gap between the imaging surface of the solid-state imaging device 12 and the transparent substrate 11 is hermetically sealed by the adhesive layer B14, so that long-term reliability can be maintained.
【0018】このように、固体撮像素子12を実装した
FPC15を透明基板11に貼着してなる固体撮像装置
が構成されている。As described above, a solid-state imaging device in which the FPC 15 on which the solid-state imaging device 12 is mounted is attached to the transparent substrate 11 is configured.
【0019】上記構成を有する固体撮像装置は、可撓性
基板と支持基板とが導電性層を介して接着剤などで貼り
付けられるので、小型であり、温度変化に対して、長期
間にわたって接着信頼性を維持することができる。The solid-state imaging device having the above configuration is small in size because the flexible substrate and the supporting substrate are bonded with an adhesive or the like via a conductive layer, and is adhered to a temperature change for a long time. Reliability can be maintained.
【0020】次に、上記構成を有する固体撮像装置の製
造方法について説明する。本実施の形態に係る固体撮像
装置の製造方法においては、FPCのポリイミドフィル
上にCu箔を形成し、前記Cu箔と透明基板とが接触す
るようにして、FPCを透明基板に貼着し、FPCの配
線パターン上に固体撮像素子を実装する。Next, a method of manufacturing the solid-state imaging device having the above-described configuration will be described. In the manufacturing method of the solid-state imaging device according to the present embodiment, a Cu foil is formed on the polyimide fill of the FPC, and the FPC is attached to the transparent substrate so that the Cu foil and the transparent substrate are in contact with each other. The solid-state imaging device is mounted on the wiring pattern of the FPC.
【0021】ポリイミドフィルム上にCu箔を形成する
方法としては特に制限はない。例えば、ポリイミドフィ
ルム上にメッキによりCu箔を形成しても良く、ポリイ
ミドフィルムにCu箔を貼り合わせても良い。いずれに
しても、FPC製造時にCu箔をポリイミドフィルムに
設けることが好ましい。なお、Cu箔には、Auメッキ
などの表面処理や粗面化を施しても良い。特にCu箔に
粗面化処理を施すことにより、透明基板との間の接触面
積を大きくすることができ、より接着力を向上させるこ
とができる。The method for forming the Cu foil on the polyimide film is not particularly limited. For example, a Cu foil may be formed on a polyimide film by plating, or a Cu foil may be bonded to the polyimide film. In any case, it is preferable to provide a Cu foil on the polyimide film at the time of manufacturing the FPC. The Cu foil may be subjected to a surface treatment such as Au plating or a surface roughening. In particular, by performing the surface roughening treatment on the Cu foil, the contact area between the Cu foil and the transparent substrate can be increased, and the adhesive strength can be further improved.
【0022】Cu箔と透明基板とが接触するようにし
て、FPCを透明基板に貼着する場合に使用する接着剤
としては、透明基板及びCu箔に対して接着力を有する
ものであれば特に制限はない。The adhesive used when the FPC is adhered to the transparent substrate so that the Cu foil and the transparent substrate are in contact with each other is not particularly limited as long as it has an adhesive force to the transparent substrate and the Cu foil. No restrictions.
【0023】また、透明基板とFPCとを接着層Aを介
して接着する場合、FPC全面をCu箔に加圧した状態
で、例えば150℃1時間程度加熱硬化するか又は紫外
線硬化することにより行う。When the transparent substrate and the FPC are adhered to each other via the adhesive layer A, the entire surface of the FPC is pressed against a Cu foil, for example, by heating at 150 ° C. for about 1 hour or by ultraviolet curing. .
【0024】この製造方法によれば、小型で、長期間に
わたって接着信頼性を維持することができる固体撮像装
置を得ることができる。According to this manufacturing method, it is possible to obtain a small-sized solid-state imaging device capable of maintaining adhesion reliability for a long period of time.
【0025】上記実施の形態では、可撓性基板と支持基
板との間に介在させる導電性層としてCu箔を用いた場
合について説明しているが、本発明では、導電性層とし
て他の金属層、例えばFPCやTABテープを構成し得
る金属膜などを用いることもできる。また、上記実施の
形態では、樹脂フィルムとしてポリイミドフィルムを用
いた場合について説明しているが、本発明では、樹脂フ
ィルムとして他の樹脂フィルムなどを用いても良い。In the above embodiment, the case where a Cu foil is used as the conductive layer interposed between the flexible substrate and the supporting substrate is described. However, in the present invention, another metal is used as the conductive layer. It is also possible to use a layer, for example, a metal film that can constitute an FPC or TAB tape. In the above embodiment, the case where a polyimide film is used as the resin film is described. However, in the present invention, another resin film or the like may be used as the resin film.
【0026】上記実施の形態では、可撓性基板としてF
PCを用いた場合について説明しているが、本発明は、
可撓性基板としてTAB基板を用いても良い。In the above embodiment, F is used as the flexible substrate.
The case where a PC is used has been described.
A TAB substrate may be used as the flexible substrate.
【0027】上記実施の形態では、可撓性基板と透明基
板との間に介在させる導電性層としてCu箔を用いた場
合について説明しているが、本発明では、導電性層とし
て他の金属層、例えばFPCやTABテープを構成し得
る金属膜などを用いることもできる。In the above embodiment, the case where a Cu foil is used as the conductive layer interposed between the flexible substrate and the transparent substrate has been described. However, in the present invention, another metal is used as the conductive layer. It is also possible to use a layer, for example, a metal film that can constitute an FPC or TAB tape.
【0028】本発明は上記実施の形態に限定されず、種
々変更して実施することが可能である。例えば、可撓性
基板への固体撮像素子の圧接では電気的に十分な接合が
取れない場合には、適宜Agペースト、異方性導電膜な
どの導電性材料を使用して電気的な接合を十分にしても
良い。また、各部材の寸法、数などについても、上記実
施の形態に限定されない。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented with various modifications. For example, if the solid-state imaging device cannot be sufficiently joined electrically by pressing the solid-state imaging device to the flexible substrate, the electrical joining is appropriately performed using a conductive material such as an Ag paste or an anisotropic conductive film. May be enough. Further, the dimensions, the number, and the like of each member are not limited to the above-described embodiment.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明したように本発明の固体撮像装
置は、可撓性基板と支持基板とが導電性層を介して接着
剤などで貼り付けられるので、小型であり、長期間にわ
たって接着信頼性を維持することができる。As described above, the solid-state imaging device according to the present invention is small in size because the flexible substrate and the supporting substrate are adhered to each other with an adhesive or the like via the conductive layer. Reliability can be maintained.
【0030】また、本発明の固体撮像装置の製造方法
は、長期間にわたって接着信頼性を維持することができ
る固体撮像装置を効率良く得ることができる。Further, according to the method of manufacturing a solid-state imaging device of the present invention, a solid-state imaging device capable of maintaining adhesion reliability for a long period of time can be efficiently obtained.
【図1】本発明の一実施の形態に係る固体撮像装置を示
す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施の形態に係る固体撮像装置を示
す裏面図である。FIG. 2 is a rear view showing the solid-state imaging device according to one embodiment of the present invention;
【図3】本発明の一実施の形態に係る固体撮像装置を示
す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a solid-state imaging device according to one embodiment of the present invention;
【図4】本発明の一実施の形態に係る固体撮像装置のA
−A’線に沿う拡大断面図である。FIG. 4 illustrates a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention;
It is an expanded sectional view which follows the -A 'line.
【図5】従来の固体撮像装置の構成を示す断面図であ
る。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a conventional solid-state imaging device.
11…透明基板、12…固体撮像素子、12a…バン
プ、12b…電極パッド、13…補強板、14…接着層
B、15…FPC、15a…ポリイミドフィルム、15
b…Cu箔、16…外部リード、17…接着層A。DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Transparent substrate, 12 ... Solid-state image sensor, 12a ... Bump, 12b ... Electrode pad, 13 ... Reinforcement plate, 14 ... Adhesive layer B, 15 ... FPC, 15a ... Polyimide film, 15
b: Cu foil, 16: external lead, 17: adhesive layer A.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚田 敦士 東京都品川区北品川6丁目7番35号ソニー 株式会社内 Fターム(参考) 4M118 AA08 AA10 AB01 HA02 HA24 HA26 HA27 HA31 5C024 AA01 CA31 FA01 FA11 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Atsushi Tsukada 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo F-term (reference) 4M118 AA08 AA10 AB01 HA02 HA24 HA26 HA27 HA31 5C024 AA01 CA31 FA01 FA11
Claims (2)
なる固体撮像装置であって、 樹脂フィルム上に配線パターンを形成してなる可撓性基
板と、 前記可撓性基板を支持する支持基板と、 前記可撓性基板の前記配線パターン上に電気的に接続す
るように実装された固体撮像素子と、を具備し、 前記可撓性基板は、導電性層を介して前記支持基板に貼
着されていることを特徴とする固体撮像装置。1. A solid-state imaging device having a solid-state imaging device mounted on a flexible substrate, comprising: a flexible substrate formed by forming a wiring pattern on a resin film; And a solid-state imaging device mounted so as to be electrically connected to the wiring pattern of the flexible substrate. The flexible substrate supports the support via a conductive layer. A solid-state imaging device which is attached to a substrate.
なる固体撮像装置の製造方法であって、 樹脂フィルム上に配線パターンを形成してなる可撓性基
板の前記樹脂フィルム上に導電性層を形成する工程と、 前記導電性層と支持基板とが接触するようにして、前記
可撓性基板を前記支持基板に貼着する工程と、 前記可撓性基板の前記配線パターン上に固体撮像素子を
実装する工程と、を具備することを特徴とする固体撮像
装置の製造方法。2. A method for manufacturing a solid-state imaging device comprising a flexible substrate and a solid-state imaging device mounted thereon, wherein the wiring pattern is formed on the resin film. A step of forming a conductive layer, a step of attaching the flexible substrate to the support substrate so that the conductive layer and the support substrate are in contact with each other, and a step of attaching the flexible substrate to the wiring pattern of the flexible substrate. Mounting a solid-state imaging device on the solid-state imaging device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25845799A JP2001085654A (en) | 1999-09-13 | 1999-09-13 | Solid-state image device and manufacturing method thereof |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2001085654A true JP2001085654A (en) | 2001-03-30 |
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ID=17320496
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JP (1) | JP2001085654A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100410946B1 (en) * | 2001-05-16 | 2003-12-18 | 삼성전기주식회사 | Image sensor module and manufacturing method for the same |
US7110033B2 (en) | 2000-04-07 | 2006-09-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Imaging device having an imaging element mounted on a substrate |
JP2015080253A (en) * | 2004-06-25 | 2015-04-23 | デジタルオプティクス コーポレーション | System and method in mounting of image pickup device on flexible substrate |
-
1999
- 1999-09-13 JP JP25845799A patent/JP2001085654A/en active Pending
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