JP3203365B2 - ダイシング装置におけるワーク切断方法 - Google Patents

ダイシング装置におけるワーク切断方法

Info

Publication number
JP3203365B2
JP3203365B2 JP33215997A JP33215997A JP3203365B2 JP 3203365 B2 JP3203365 B2 JP 3203365B2 JP 33215997 A JP33215997 A JP 33215997A JP 33215997 A JP33215997 A JP 33215997A JP 3203365 B2 JP3203365 B2 JP 3203365B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutting
cut
blades
wafer
blade
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP33215997A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH11162887A (ja
Inventor
正照 長田
正幸 東
浩史 下田
フェリックス・コーエン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP33215997A priority Critical patent/JP3203365B2/ja
Priority to US09/203,611 priority patent/US6354912B1/en
Publication of JPH11162887A publication Critical patent/JPH11162887A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3203365B2 publication Critical patent/JP3203365B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/02Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
    • B28D5/022Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels
    • B28D5/029Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels with a plurality of cutting blades
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/02Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
    • B28D5/022Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels
    • B28D5/023Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels with a cutting blade mounted on a carriage

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Dicing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はダイシング装置にお
けるワーク切断方法に係り、特に2枚のブレードで半導
体ウェーハを碁盤目状に切断するダイシング装置におけ
るワーク切断方法に関する。
【0002】
【従来の技術】特開平8−25209号公報に開示され
たダイシング装置は、2本のスピンドルをY軸方向に平
行に配置し、2本のスピンドルと半導体ウェーハとを相
対的にX軸方向に移動させながら、2本のスピンドルに
装着された2枚のブレードで半導体ウェーハを切断線
(ストリート)に沿って切断する。また、前記2本のス
ピンドルのうち1本のスピンドルは、Y軸方向の位置を
位置調整できるように構成されており、そのスピンドル
をY軸方向に所定量移動して2枚のブレードの相対位置
をストリートのピッチ分ずらすことによって、2本のス
トリートを同時に切断するようにしている。
【0003】図9は、前記ダイシング装置のワーク切断
方法を示す遷移図である。図9(A)に示すように切断
前の2枚のブレード1、2は、ウェーハWの切断線の1
ピッチ分だけY方向にずれた位置に位置決めされてい
る。この2枚のブレード1、2で、例えば切断線L1、
L2を切断する場合には、まず、図上右側のブレード1
を切断線L1に合わせた後、2枚のブレード1、2又は
ウェーハWをX軸方向に移動させ、図9(B)に示すよ
うにブレード1で切断線L1の切断を開始すると共に、
これに後続させてブレード2で切断線L2の切断を開始
する。そして、前記X方向の移動を継続すると、ブレー
ド1による切断線L1の切断が終了し、その後、ブレー
ド2による切断線L2の切断が図9(C)に示すように
終了する。これによって、2本の切断線L1、L2を同
時に切断することができる。なお、符号3はブレード1
のモータであり、符号4は前記モータ3のスピンドルで
ある。また、符号5はブレード2のモータで、符号6は
モータ5のスピンドルである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のダイシング装置によるワーク切断方法は、2枚のブ
レード1、2を並設しているので、図9(C)上で破線
Dで囲まれた広範囲のエリアEでブレード1、2を移動
させなければ2本の切断線L1、L2を同時に切断する
ことができない。これにより、無駄切り部分が多くな
り、切断時間が長くなるという欠点がある。また、X方
向のストロークも大きくとる必要があり、装置の幅方向
サイズが大きくなってしまうという欠点がある。
【0005】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、ブレードによる無駄切り部分を極力少なくして
切断時間を短縮することができるダイシング装置におけ
るワーク切断方法を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】また、本発明は、前記目
的を達成するために、ワークを複数の切断エリアに分割
し、各々の切断エリアにおいて2枚のブレードを切断線
の複数ピッチ分の間隔を開けてY軸方向に対向配置し、
該2枚のブレードとワークとをX軸方向に相対的に移動
させながら、2枚のブレードで前記ワークの切断線を2
本同時に切断し、前記2本の切断線の切断終了後に、
記2枚のブレードの間隔を変えることなく2枚のブレー
ドをY軸方向に切断線の1ピッチ分だけ移動させて次の
切断線を2本同時に切断し、この切断動作を繰り返して
一つの切断エリアのワークの切断線を順次切断した後、
残りの切断エリア中の複数本の切断線を前記切断動作を
繰り返して切断エリア毎に順に切断することを特徴とし
ている。
【0007】
【0008】請求項1記載の発明によれば、2枚のブレ
ードを所定間隔をもってY軸方向に対向配置する。そし
て、2枚のブレードとワークとをX軸方向に相対的に移
動させながら、2枚のブレードでワークの切断線を2本
同時に切断し、この2本の切断線の切断が終了すると、
2枚のブレードをY軸方向に切断線の1ピッチ分だけ移
動させて次の切断線を2本同時に切断する。この切断動
作を繰り返してワークの切断線を順次切断する。本発明
によれば、2枚のブレードを対向配置して切断するよう
にしたので、X軸方向の相対的移動量を最小限に抑える
ことができ、よって、切断時間を短縮することができ
る。
【0009】また、請求項1記載の発明によれば、前記
ワークを複数の切断エリアに分割し、これらの切断エリ
ア中の複数本の切断線を切断エリア毎に順に切断するよ
うにしたので、X軸方向の相対的移動量を更に抑えるこ
とができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
るダイシング装置におけるワーク切断方法について詳説
する。図1は本発明が適用された半導体ウェーハのダイ
シング装置1の斜視図であり、図2はその平面図であ
る。図1に示すように、前記ダイシング装置1は、主と
して切断部10、洗浄部20、カセット収納部30、エ
レベータ部40、及び搬送装置50等から構成されてい
る。
【0011】このダイシング装置1によるウェーハWの
切断工程を説明すると、まず、カセット収納部30に複
数枚収納されている加工前のウェーハWは、エレベータ
部40によって順次引き出され、そして、引き出された
ウェーハWは図2に示す位置P4にセットされる。次
に、このウェーハWは、搬送装置50によって位置P1
のプリロードステージを介して切断部10のカッティン
グテーブル(位置P2)上に載置される。ここで、ウェ
ーハWはカッティングテーブルに吸着保持される。吸着
保持されたウェーハWは、アライメント部18、19に
よってウェーハW上のパターンが画像認識され、これに
基づいてアライメントされる。そして、アライメントさ
れたウェーハWは、切断部10の矢印A、Bで示すY軸
方向移動と、カッティングテーブルの矢印C、Dで示す
X軸方向移動とによって、2本のストリートが同時に切
断される。最初の2本のストリートが切断されると、切
断部10のスピンドルをストリートのピッチ分だけY軸
方向に移動させ、そして、カッティングテーブルを再び
X軸方向に移動させることにより次の2本のストリート
が切断される。この切断動作を繰り返して行い、一方向
(X方向)の全てのストリートの切断が終了すると、カ
ッティングテーブルを90°回動させて、前記切断した
ストリートに直交する他方向(図2上でY方向)のスト
リートを順次切断する。これにより、ウェーハWは最終
的に碁盤目状に切断される。なお、本実施の形態では、
アライメント部18、19を切断部10の上流側に設け
たが、これに限られるものではなく、切断部10の各キ
ャリッジ72、74に設けても良い。
【0012】切断終了したウェーハWは、カッティング
テーブルによって位置P2に戻された後、搬送装置50
によって位置P3の洗浄部20のスピナテーブルに搬送
される。ここでウェーハWは、洗浄水により洗浄された
後、エアブローによって乾燥される。乾燥したウェーハ
Wは、搬送装置50によって位置P4に搬送され、エレ
ベータ部40によってカセット部10に収納される。以
上が前記ダイシング装置1による1枚のウェーハWの切
断工程である。
【0013】次に、ダイシング装置1の切断部10につ
いて説明する。図3は切断部10の平面図である。同図
に示す切断部10の切断装置14、16は、モータ6
0、62、スピンドル64、66、及びスピンドル6
4、66の先端部に装着されたブレード68、70を有
している。これらの切断装置14、16は、スピンドル
移動機構によってY軸方向に各々独立して移動される。
【0014】前記スピンドル移動機構は図4に示すよう
に、モータ60、62が搭載されたキャリッジ72、7
4をY軸方向に移動自在にガイドするガイドレール9
0、92、及びキャリッジ72、74をY軸方向に移動
させるリニアモータ76を主な構成としている。前記リ
ニアモータ76は、マグネットレール78、及び2個の
コイルアセンブリ80、82から構成されており、マグ
ネットレール78は、ダイシング装置1に固定された支
持プレート84の側面にY軸方向に沿って水平に固着さ
れている。また、前記2個のコイルアセンブリ80、8
2のうち一方のコイルアセンブリ80はキャリッジ72
に、そして他方のコイルアセンブリ82はキャリッジ7
4に固着されている。
【0015】前記マグネットレール78は、リニアモー
タの固定部材を構成し、前記2個のコイルアセンブリ8
0、82はリニアモータの移動部材を構成している。前
記マグネットレール78とコイルアセンブリ80、82
とは図5に示すように(図5では一方のコイルアセンブ
リ80のみ図示)、所定の間隙を介して対向配置されて
いる。このリニアモータを駆動することによって前記キ
ャリッジ72、74は、共通のマグネットレール78に
沿ってY軸方向に各々独立して移動する。なお、リニア
モータの駆動原理については、周知であるので省略す
る。
【0016】図5に示すように前記キャリッジ72に
は、2個のスライダ86、88が固着されている。これ
らのスライダ86、88は、前記コイルアセンブリ80
を挟んで上部、及び下部に設けられており、前記スライ
ダ86はガイドレール90に摺動自在に支持され、前記
スライダ88はガイドレール92に摺動自在に支持され
ている。また、図示していないが、キャリッジ74も同
様に2個のスライダが固着され、その一方のスライダが
前記ガイドレール92に摺動自在に支持されると共に、
他方のスライダがガイドレール92に摺動自在に支持さ
れている。なお、前記ガイドレール90、92は同図の
如く、マグネットレール78と平行に固定され、2台の
キャリッジ72、74の共通のガイド部材として機能し
ている。
【0017】前記支持プレート84には、リニアエンコ
ーダを構成するモアレスケール94が取り付けられてい
る。このモアレスケール94は、キャリッジ72、74
に設けられた検出片96、98の位置を非接触で検出す
ることで、ブレード68、70の位置を間接的に検出す
るものであり、マグネットレール78と平行に固定され
ている。前記モアレスケール94で検出されたブレード
68、70の位置情報によって、前述したリニアモータ
76が図示しない制御装置によってフィードバック制御
されている。
【0018】一方、前記モータ60、62は図4に示す
ように、アーム100、102、及びZ軸移動機構10
4、106を介して前記キャリッジ72、74に連結さ
れている。したがって、Z軸移動機構104、106を
駆動すればモータ60、62をZ軸に沿って上下移動さ
せることができ、これによってブレード68、70を上
下移動させることができる。したがって、Z軸移動機構
104、106でブレード68、70の下降移動量を調
節することにより、ウェーハWの切断切込み量を設定す
ることができる。
【0019】次に、前記の如く構成されたダイシング装
置1のスピンドル移動機構の作用について説明する。ま
ず、前記スピンドル移動機構のリニアモータ76を駆動
して、図3に示す2枚のブレード68、70の間隔を設
定する。この場合、図示しない外部入力装置から前記間
隔設定値が入力されると、リニアモータ76が図示しな
い制御装置に制御されてキャリッジ72、74をY軸方
向に移動させる。その移動時におけるブレード68、7
0の位置情報がモアレスケール94から制御装置に出力
される。制御装置は、前記位置情報に基づいてリニアモ
ータ76をフィードバック制御し、前記間隔設定値の位
置に前記ブレード68、70を位置決めする。
【0020】各キャリッジ72、74の位置決めが終了
すると、Z軸移動機構104、106が駆動してブレー
ド68、70を下降移動し、ウェーハWの切断切込み量
を設定する。この後、モータ60、62でブレード6
8、70を回転させると共に、カッティングテーブルを
X軸方向に移動してウェーハWの最初の2本のストリー
トを前記ブレード68、70で切断する。
【0021】最初の2本のストリートの切断が終了する
と、前記スピンドル移動機構によってブレード68、7
0を、共通のガイド部材であるガイドレール90、92
に沿ってストリートのピッチ分だけY軸方向に移動させ
る。そして、カッティングテーブルをX軸方向に再び移
動させて次の2本のストリートを切断する。この切断動
作を繰り返して行い、X軸方向の全てのストリートの切
断が終了すると、カッティングテーブルを90°回動さ
せて、前記切断したストリートに直交するY方向のスト
リートを前述した手順を繰り返して切断する。これによ
り、ウェーハWは最終的に碁盤目状に切断される。
【0022】ここで、図6、図7、図8を参照して本実
施の形態のウェーハW切断方法の実施例について述べ
る。図6はウェーハWの切断手順を模式的に示したもの
で、特に、ウェーハWの切断エリアを〜エリアに分
割し、これらのエリア中の複数本のストリートを→
→→エリアの順で切断する方法である。この切断方
法は、例えば図6上において1−1で示すストリート
は、ブレード70で切断する1本目のストリートを示
し、2−1で示すストリートは、ブレード68で切断す
る1本目のストリートを示している。したがって、エ
リアによれば、ブレード68とブレード70とを3ピッ
チ分ずらして間隔設定し、まず1本目の1−1ストリー
トをブレード70で、そして2−1ストリートをブレー
ド68で同時に切断する。
【0023】次に、ブレード68、70の間隔を変える
ことなくブレード68、70をスピンドル移動機構によ
ってストリートの1ピッチ分ずらす。そして、2本目の
1−2ストリートをブレード70で、そして、2−2ス
トリートをブレード68で同時に切断する。この動作を
あと2回繰り返して行い、エリアの計8本のストリー
トを切断する。
【0024】エリアの全てのストリートの切断が終了
すると、エリア、エリアの各8本のストリートを同
様の手順で切断する。そして、エリアは残り5本のス
トリートなので、1−1ストリートをブレード70によ
って、そして2−1ストリートをブレード68によって
同時に切断した後、ブレード70のみで1−2〜1−4
ストリートを順に切断する。これにより、X方向の全て
のストリートの切断が終了する。
【0025】上記切断方法では、ブレード68、70の
間隔を変えることなく一定ピッチ移動させることでスト
リートを切断することができるので、ブレード68、7
0の位置制御が容易になり、また、切断ポイントも集中
しているのでコンタミが付き難くなる。なお、ウェーハ
Wの切断送り方向(X方向)は、一方向でも両方向でも
良い。
【0026】図7に示すウェーハWの切断方法も2枚の
ブレード68、70による同時切断方法であり、1−
1、2、3〜15ストリートをブレード70で順に切断
し、2−1、2、3〜15ストリートをブレード68で
順に切断する。この切断方法によれば、まず、ブレード
68とブレード70との間隔を全ピッチに対応する間隔
に設定し、一方側の1−1ストリートをブレード70
で、そして、他方側の2−1ストリートをブレード68
で同時に切断する。
【0027】次に、ブレード68を1ピッチ分だけブレ
ード70に向けて移動させると共に、ブレード70を1
ピッチ分だけブレード68に向けて移動させて、1−2
ストリートをブレード70で、2−2ストリートをブレ
ード68で切断する。この1ピッチ分互いに近づけて切
断する動作をあと9回繰り返して行う。そして、残りの
8本のストリートを図6に示した切断方法で切断する。
即ち、ブレード68とブレード70とを3ピッチ分ずら
して間隔設定し、1−12〜15ストリートをブレード
70で、そして2−12〜15ストリートをブレード6
8で同時に切断する。
【0028】上記切断方法では、ウェーハWの両側にあ
るストリートから中央にあるストリートに向けてストリ
ートを順に切断するため、テープのテンションに影響さ
れないでストリートを確実に切断することができる。ダ
イシング装置1で切断されるウェーハWは、通常、テー
プを介してフレームに接着されており、この際、テープ
にテンションかけた状態でウェーハWを接着している。
このため、ストリートを切断していくと、テープの復元
力でウェーハWの位置がずれる場合があり、このように
位置がずれてしまうとブレード68、70を1ピッチ移
動させたとしても、ブレード68、70が次のストリー
トに当たらず、チップを切断してしまうという虞が生じ
る。図7の切断方法は、上記不具合を防止することがで
きる。即ち、図7の切断方法では、切断した小片の長尺
状のウェーハの位置が前記テープの復元力でずれること
があっても、切断するウェーハW本体の位置はずれない
ので、ストリートを確実に切断することができる。
【0029】図8に示すウェーハWの切断方法も2枚の
ブレード68、70による同時切断方法であり、1−1
〜13ストリートをブレード70で順に切断すると共
に、2−1〜13ストリートをブレード68で順に切断
する。そして、残りの3本の1−14〜16ストリート
をブレード70で切断する方法である。上記切断方法
は、3本の1−14〜16ストリートを残した位置が、
ブレード68、70の最大接近位置であり、これらの1
−14〜16ストリートを2枚のブレード68、70で
同時切断することができないので、この場合には、一方
のブレード(本実施例ではブレード70)で1−14〜
16ストリートを順に切断する。
【0030】以上のように本実施の形態のワーク切断方
法を実施すれば、ウェーハWを切断するためのX方向移
動量を最小限に抑えることができる。したがって、ウェ
ーハWを短時間で効率良く切断することができる。ま
た、前記X方向移動量を最小限に抑えることで無駄切り
部分(図6〜図8上で破線Dで囲まれたエリア)を最小
限に押さえることができるので、ブレード68、70の
寿命や次のドレッシングまでの期間を延ばすことができ
る。
【0031】なお、本実施の形態のワーク切断方法は、
ウェーハWの切断手法である、フルカット、ハーフカッ
ト、セミフルカット、異種ブレードによるカット(同一
切削位置に対して2回以上の切り込みを行うカット)に
も適用することができる。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るダイシ
ング装置におけるワーク切断方法によれば、2枚のブレ
ードを対向配置してワークを切断するようにしたので、
X軸方向の相対的移動量を最小限に抑えることができ、
よって、ワークの切断時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用されたダイシング装置の斜視図
【図2】図1に示したダイシング装置の平面図
【図3】ダイシング装置の切断部の平面図
【図4】図3上4−4線から見た切断部の側面図
【図5】図3上5−5線から見た切断部の縦断面図
【図6】ウェーハ切断方法の第1実施例を示す説明図
【図7】ウェーハ切断方法の第2実施例を示す説明図
【図8】ウェーハ切断方法の第3実施例を示す説明図
【図9】従来のダイシング装置のワーク切断方法を示す
遷移図
【符号の説明】
1…ダイシング装置 10…切断部 60、62…モータ 64、66…スピンドル 68、70…ブレード 76…リニアモータ 90、92…ガイドレール W…ウェーハ
フロントページの続き (72)発明者 東 正幸 東京都三鷹市下連雀9丁目7番1号 株 式会社東京精密内 (72)発明者 下田 浩史 東京都三鷹市下連雀9丁目7番1号 株 式会社東京精密内 (72)発明者 フェリックス・コーエン イスラエル共和国、20187 グシュ・セ ゲブ、ミツペ・アビブ31 (56)参考文献 特開 平11−26402(JP,A) 特開 平4−141396(JP,A) 特開 平9−205071(JP,A) 特開 昭51−126760(JP,A) 特開 平8−25209(JP,A) 実開 平3−16343(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/301 B24B 27/06

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワークを複数の切断エリアに分割し、各々
    の切断エリアにおいて2枚のブレードを切断線の複数ピ
    ッチ分の間隔を開けてY軸方向に対向配置し、該2枚の
    ブレードとワークとをX軸方向に相対的に移動させなが
    ら、2枚のブレードで前記ワークの切断線を2本同時に
    切断し、 前記2本の切断線の切断終了後に、前記2枚のブレード
    の間隔を変えることなく2枚のブレードをY軸方向に切
    断線の1ピッチ分だけ移動させて次の切断線を2本同時
    に切断し、 この切断動作を繰り返して一つの切断エリアのワークの
    切断線を順次切断した後、残りの切断エリア中の複数本
    の切断線を前記切断動作を繰り返して切断エリア毎に順
    に切断することを特徴とするダイシング装置におけるワ
    ーク切断方法。
JP33215997A 1997-12-02 1997-12-02 ダイシング装置におけるワーク切断方法 Expired - Fee Related JP3203365B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33215997A JP3203365B2 (ja) 1997-12-02 1997-12-02 ダイシング装置におけるワーク切断方法
US09/203,611 US6354912B1 (en) 1997-12-02 1998-12-02 Workpiece cutting method for use with dicing machine

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33215997A JP3203365B2 (ja) 1997-12-02 1997-12-02 ダイシング装置におけるワーク切断方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15218399A Division JP4019159B2 (ja) 1999-05-31 1999-05-31 ダイシング装置におけるワーク切断方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11162887A JPH11162887A (ja) 1999-06-18
JP3203365B2 true JP3203365B2 (ja) 2001-08-27

Family

ID=18251820

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33215997A Expired - Fee Related JP3203365B2 (ja) 1997-12-02 1997-12-02 ダイシング装置におけるワーク切断方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6354912B1 (ja)
JP (1) JP3203365B2 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040112360A1 (en) * 1998-02-12 2004-06-17 Boucher John N. Substrate dicing method
US7267037B2 (en) * 2001-05-05 2007-09-11 David Walter Smith Bidirectional singulation saw and method
US6826986B2 (en) * 2001-05-05 2004-12-07 Ah Beng Lim Bi-directional singulation system and method
JP2003151924A (ja) 2001-08-28 2003-05-23 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング方法およびダイシング装置
US20030056628A1 (en) * 2001-09-27 2003-03-27 Eli Razon Coaxial spindle cutting saw
JP2003151920A (ja) * 2001-11-09 2003-05-23 Disco Abrasive Syst Ltd 切削機における被加工物位置合わせ方法
US6955914B2 (en) * 2002-04-10 2005-10-18 Geneohm Sciences, Inc. Method for making a molecularly smooth surface
NL1026079C2 (nl) * 2004-04-29 2005-11-01 Besi Singulation B V Inrichting en werkwijze voor het separeren van elektronische componenten met op twee roteerbare aandrijfassen bevestigde zaagbladen.
US9165573B1 (en) 2009-11-12 2015-10-20 Western Digital (Fremont), Llc Method for controlling camber on air bearing surface of a slider
US9242340B1 (en) 2013-03-12 2016-01-26 Western Digital Technologies, Inc. Method to stress relieve a magnetic recording head transducer utilizing ultrasonic cavitation
JP6119550B2 (ja) * 2013-10-16 2017-04-26 三星ダイヤモンド工業株式会社 エキスパンダ、破断装置及び分断方法
CN104647615A (zh) * 2013-11-15 2015-05-27 台湾暹劲股份有限公司 晶圆切割装置及其切割方法
JP6203011B2 (ja) * 2013-11-19 2017-09-27 株式会社ディスコ 切削方法
JP6571379B2 (ja) * 2015-04-28 2019-09-04 株式会社ディスコ 切削装置
JP6441737B2 (ja) * 2015-04-28 2018-12-19 株式会社ディスコ 切削装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3470177B2 (ja) 1994-07-18 2003-11-25 株式会社ディスコ 切削装置
US6250192B1 (en) * 1996-11-12 2001-06-26 Micron Technology, Inc. Method for sawing wafers employing multiple indexing techniques for multiple die dimensions
JP3493282B2 (ja) 1997-07-02 2004-02-03 株式会社ディスコ 切削方法
JP3203364B2 (ja) * 1997-12-01 2001-08-27 株式会社東京精密 アライメント方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11162887A (ja) 1999-06-18
US6354912B1 (en) 2002-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3203365B2 (ja) ダイシング装置におけるワーク切断方法
JP3223421B2 (ja) ダイシング装置
US6606985B2 (en) Dual-cutting method devoid of useless strokes
JP4447074B2 (ja) 切削装置
KR100624931B1 (ko) 반도체 웨이퍼의 분할방법
JP3493282B2 (ja) 切削方法
US20050115796A1 (en) Substrate processing apparatus
JP3294254B2 (ja) ダイシング装置のスピンドル移動機構
JP4019159B2 (ja) ダイシング装置におけるワーク切断方法
US6107163A (en) Method of manufacturing a semiconductor chip
JP2000343523A (ja) ダイシング装置のスピンドル移動機構
JP4027903B2 (ja) 半導体パッケージ作製工程用ソーイング装置及びその制御方法
JPH1174228A (ja) 精密切削装置
JP2002231660A (ja) ダイシング装置のスピンドル移動機構
JP3722271B2 (ja) ウェーハ切断装置及びその方法
JPH0825209A (ja) 切削装置
JP4363815B2 (ja) プリント基板加工装置
JP5372429B2 (ja) 板状物の分割方法
JP2003334751A (ja) 切削方法
EP1030347A1 (en) Device for treatment of a substrate
JPH07205141A (ja) ワイヤーソーのウェーハ切断方法及びその装置
JP2001319899A (ja) 半導体ウエーハの分割方法
EP0579227A1 (en) Method and apparatus for slicing semiconductor wafer
JP2004291200A (ja) 溝加工装置
JP3341889B2 (ja) ダイシング装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080629

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090629

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130629

Year of fee payment: 12

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees