JP3184987B2 - 高周波半導体装置 - Google Patents
高周波半導体装置Info
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- frequency semiconductor
- semiconductor device
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Description
し、特に高周波半導体素子裏面の接地を改良した高周波
半導体装置に関する。
PKGという)の基板実装には、図3(a)の平面図と
図3(b)のD−D断面図に示すように、基板7上のP
KG裏面に接触する接地用金属4とストリップライン5
とを有しており、その接地用金属4は他の接触部に比べ
てまったく同じ高さか、多少もり上がってないと接触し
なかったり接触が弱かったりする。この接地用金属4の
上に図4(a),(b)(図4(b)は図4(a)のE
−E断面図)に示すように、PKG2とリード6を取り
付けて接地用金属4とPKG2裏面との接触をはかって
いた。なお、接地自体はスルーホール3を通して基板7
の裏面の接地基板に接地される。
半導体装置は、基板実装におけるPKG裏面接地を接地
用金属にて取る場合に、PKGと金属の接触によるばら
つきが大きく、また、もり上がっているので、PKGに
クラックが起こるような欠点もある。したがって、高周
波特性に大きく影響して、不良品発生の原因となり歩留
りを下げる大きな欠点を有していた。
ったストリップライン形成し、当該ストリップラインに
リード端子を取り付けることで高周波半導体素子を実装
した高周波半導体装置において、前記高周波半導体素子
の裏面である基盤面を接地するために金属を格子状に編
んだ綾織金属クッションを前記基板面に接着することを
特徴とする高周波半導体装置。
る。図1(a),図2(a)はそれぞれ本発明の一実施
例の平面図、図1(b),図2(b)はそれぞれ図1
(a)のA−A断面図、図2(a)のB−B断面図であ
る。また、図1(a),(b)は接地用金属として綾織
クッション1を接着した状態を示し、図2(a),
(b)はこの綾織クッション1上にPKG2を搭載した
状態を示している。すなわち、裏面接地用金属が綾織金
属クッションタイプとなっている。この様にすると、P
KGの代りに使用される評価用治具などのようにPKG
評価用治具を何度も取りはずしする場合でも、綾織金属
クッション1が均一に格子状になり、常にPKGの裏面
と接地部分の接触を密にすることが出来る。したがって
接地によるばらつきが少なくなり、再現性にも優れる。
さらにPKGを実装して温度試験を行なう場合でも、綾
織金属クッションでは金属クッションの膨張による応力
を横方向に分けることが出来、接地用金属とPKG金属
の膨張係数のちがいによる不良品発生はなくなり高周波
特性を著しく改善することが出来る。
に周辺部を接着する方法としては、3種類の製造方法が
あり、第1の方法としては口一材で付ける方法、第2の
方法としては圧着して付ける方法、第3の方法としては
導電性の接着剤により接着する方法がある。
板実装に綾織金属クッションを使用する事により、実装
時の中央の盛り上がりもなくPKGクラックの発生等の
障害を低減出来る。またPKGの試験用治具の数度のテ
スト後でも、PKGのぶれや接地によるバラツキを低減
し、再現性もよくPKG品の評価用治具には特に優れて
いる。また温度試験時、接地用金属とPKGの膨張係数
のちがいによる不良を低減することも出来る。したがっ
て、高周波における周波数特性を著しく改善できるとい
う効果がある。
のA−A断面図(b)である。
図2(a)のB−B断面図である。
面図(b)である。
4(a)のE−E断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】基板上に所定の厚みをもったストリップラ
イン形成し、当該ストリップラインにリード端子を取り
付けることで高周波半導体素子を実装した高周波半導体
装置において、前記高周波半導体素子の裏面である基盤
面を接地するために金属を格子状に編んだ綾織金属クッ
ションを前記基板面に接着することを特徴とする高周波
半導体装置。 - 【請求項2】前記綾織金属クッションを基板上に固定す
る方法として口一材で接着する方法、前記綾織金属クッ
ションを導電性の接着剤で接着する方法のうちいずれか
一つの方法で固定する事を特徴とする請求項1記載の高
周波半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31119891A JP3184987B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 高周波半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31119891A JP3184987B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 高周波半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05152808A JPH05152808A (ja) | 1993-06-18 |
JP3184987B2 true JP3184987B2 (ja) | 2001-07-09 |
Family
ID=18014284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31119891A Expired - Fee Related JP3184987B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 高周波半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3184987B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6343931A (ja) * | 1986-08-12 | 1988-02-25 | Diafoil Co Ltd | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
WO2015073651A1 (en) | 2013-11-13 | 2015-05-21 | Brooks Automation, Inc. | Method and apparatus for brushless electrical machine control |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP31119891A patent/JP3184987B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05152808A (ja) | 1993-06-18 |
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